KR20020068915A - An electroplating apparatus and electroplating method - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A rotating barrel type electroplating apparatus is provided which uniformizes plating thickness, external appearance and current distribution and optimizes contact points of the cathode during plating of a non-conductive object to be plated in a rotating barrel, and an electroplating method using the apparatus is provided. CONSTITUTION: In a rotating barrel type electroplating apparatus plating the objects to be plated by agitating and mixing small objects to be plated(16) with a plating solution in a plating vessel(1), the apparatus comprises a barrel(10) in which the objects to be plated(16) are received; a rotating means for rotating the barrel(10) in the plating solution to a certain rotation speed; and a plurality of dummy electrodes(30) which are received in the barrel(10) together with the objects to be plated(16) so as to be agitated and mixed with the plating solution, wherein the rotating means comprises a driving shaft(20) on which a first driving gear(21a) and a second driving gear(21b) are formed, which penetrates supports(14) of the barrel(10), and which is driven by a driving means on the outer part of the plating vessel(1); and a driven gear(22) which is installed in the barrel(10) in such a way that the driven gear(22) is engaged with the second driving gear(21b) of the driving shaft(20).

Description

배럴형 전기 도금장치 및 이를 이용한 도금방법{An electroplating apparatus and electroplating method}Barrel type electroplating apparatus and plating method using the same {An electroplating apparatus and electroplating method}

본 발명은 회전 배럴형 전기 도금장치 및 이를 이용한 도금방법에 관한 것으로서, 특히, 더미 전극을 사용하여 비도전성인 세라믹으로 된 도금체에 열압착된 몰리브텐 표면으로 니켈을 전기 도금하는 과정에서 니켈 도금의 도금 두께 균일도 및 도금효율을 향상시키기 위한 회전 배럴형 전기 도금장치 및 이를 이용한 도금방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rotating barrel type electroplating apparatus and a plating method using the same, in particular, nickel plating in the process of electroplating nickel on a molybdenum surface that is thermocompressed to a plate made of a non-conductive ceramic using a dummy electrode. It relates to a rotating barrel type electroplating apparatus and a plating method using the same to improve the plating thickness uniformity and plating efficiency of the.

일반적으로 도금(plating)은 물질의 표면 상태를 개선할 목적으로 물질의 표면에 다른 물질로 된 박막을 피복하는 것을 말하며, 이러한 도금의 목적은 여러 가지가 있으나 대표적으로 첫째 원재료의 내식성 부족을 보완하고자 특정한 환경 속에서도 견딜 수 있는 금속박막을 입히는 방식(防蝕), 둘째 마모에 견딜 수 있도록 원재료보다 단단한 금속박막을 입히는 표면경화, 셋째 원재료의 표면에 귀금속 또는 색채가 아름다운 금속 합금의 박막을 붙이는 표면 미화, 넷째 빛 또는 열의 반사율을 높인다든지 또는 평활한 표면과 광택을 위해 금속 박막을 붙이는 표면의 평활화 및 반사율 개선을 위해 사용된다.In general, plating refers to coating a thin film of a different material on the surface of a material for the purpose of improving the surface condition of the material. The purpose of such plating is various, but the first is to compensate for the lack of corrosion resistance of the first raw material. The method of coating a metal thin film that can withstand a specific environment (second), the surface hardening of a metal thin film harder than the raw material to withstand the wear, the third surface beautification of the thin film of precious metal or beautiful metal alloy on the surface of the raw material, Fourth, it is used to increase the reflectance of light or heat, or to improve the reflectivity and smoothing of the surface to which the metal thin film is applied for smooth surface and gloss.

이러한 목적을 가지는 도금의 종류로는 전기 도금, 융해금속 침지도금, 용사분무도금, 증착도금, 음극분무도금 등으로 나뉘며, 이중 전기도금이 가장 널리 쓰이고 있다,Types of plating having this purpose are divided into electroplating, molten metal immersion plating, spray spray plating, evaporation plating, cathode spray plating, etc., dual electroplating is most widely used.

전기 도금은 도금 탱크 내부에 전해용액을 충전시킨 다음 도금하고자 하는 금속(도금체)을 음극(캐소드)으로 하고, 전착시키고자 하는 금속(피도금체)를 양극(애노드)으로 하여, 전착시키고자 하는 금속의 이온을 함유한 전해용액속에 넣고, 통전하여 전해함으로써 바라는 금속 이온이 피도금체의 표면에 전해 석출되는 것을 이용한 것이다.In electroplating, the electrolytic solution is filled in a plating tank, and then the electrode (cathode) is used as the metal (plating body) to be plated, and the electrode (anode) is used as the anode (anode). It is used in that the desired metal ions are electrolytically precipitated on the surface of the plated body by being placed in an electrolytic solution containing metal ions to be applied and energized.

또한, 전기 도금의 종류로는 대개 자동차 펌퍼나 토스터 같이 상당한 크기의 부품을 도금 탱크에서 랙(rack)에 걸어 도금하는 랙 방식과 와셔, 너트, 볼트 및 나사못같이 크기가 작은 부품들을 회전 배럴(barrel)내에 채워넣고 도금조 내에서 회전하면서 도금하는 배럴방식이 있다.In addition, electroplating is a rack-type method in which a large amount of parts, such as an automobile pump or toaster, is usually hung from a plating tank to a rack, and small parts such as washers, nuts, bolts, and screws are barreled. Barrel method is to fill the inside and to rotate while plating in the plating tank.

특히, 배럴 방식을 채택한 전기 도금장치는 소형 부품을 대량으로 도금하기에 적합하여 랙 방식에 비해 인건비, 단위 시간당 생산성 면에서 큰 이점이 있으나, 많은 수의 소형 부품을 한꺼번에 도금하므로 회전 배럴 내의 위치에 따라 통전성, 전류 분포의 편차가 발생되어 외관, 도금 두께가 균일하지 못하고 큰 편차가 발생되는 문제점이 있어왔다.In particular, the electroplating apparatus adopting the barrel method has a great advantage in terms of labor cost and productivity per unit time compared to the rack method because it is suitable for plating a large number of small parts, but because a large number of small parts are plated at once, Accordingly, there has been a problem in that a great variation occurs in appearance and plating thickness due to variations in current conduction and current distribution.

또한, 도금하고자 하는 부품이 세라믹 또는 비철금속 등 비전도성인 경우, 회전 배럴 내에서 도금액과 교반 혼합하는 과정에서 음극과 양극 사이에 통전성이 저하되어 도금 두께가 불균일해지는 문제점이 있어왔다.In addition, when the component to be plated is non-conductive, such as ceramic or non-ferrous metal, there has been a problem that the plating thickness is uneven because the conduction is reduced between the cathode and the anode during stirring and mixing with the plating solution in the rotating barrel.

이를 해소하기 위해 회전 배럴 내에 위치된 도금체를 균일하게 롤링시키거나 혼합되도록 하거나, 또는 전류 분포를 균일하게 하도록 하거나 음극 접점을 최적화하는 등 많은 노력이 있어왔다.To address this, many efforts have been made, such as to uniformly roll or mix the plates located in the rotating barrel, to make the current distribution uniform, or to optimize the cathode contact.

따라서, 본 발명은 회전 배럴 내에서 비전도성 도금체를 도금하는 과정에서 도금 두께, 외관을 균일하게 할 뿐만 아니라 전류 분포의 균일 및 음극 접점이 최적화되도록 개선된 회전 배럴형 전기 도금장치 및 이를 이용한 전기 도금방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention provides a rotating barrel type electroplating apparatus and an electric apparatus using the same, which not only make the plating thickness and appearance uniform in the process of plating the non-conductive plating body in the rotating barrel, but also optimize the uniformity of the current distribution and the cathode contact. The purpose is to provide a plating method.

상기 목적을 이루기 위해 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치는 크기가 작은 도금체를 도금조의 도금용액과 교반 혼합시켜 도금하는 회전 배럴형 전기 도금장치에 있어서, 내부에 도금체가 수납되는 배럴과, 배럴을 도금 용액 내부에서 소정의 속도로 회전시키기 위한 회전수단과, 배럴 내에 도금체와 동시에 수납되어 도금용액과 함께 교반 혼합되는 다수개의 더미 전극을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention is a rotating barrel type electroplating apparatus for plating by mixing a small plated body with a plating solution of a plating bath, the barrel containing the plated body therein; And rotating means for rotating the barrel at a predetermined speed in the plating solution, and a plurality of dummy electrodes accommodated in the barrel at the same time as the plating body and stirred together with the plating solution.

또한, 본 발명에 따른 도금방법은 도금하고자 하는 도금체가 배럴 내부에 수납되어 도금조의 도금용액 내부에서 교반 혼합되면서 도금이 이루어지는 회전 배럴형 전기 도금장치를 이용한 도금방법에 있어서, 배럴 내부에 수납시킨 다수개의 더미 전극을 도금체와 동시에 교반 혼합시켜 도금하는 것을 특징으로 한다.In addition, the plating method according to the present invention is a plating method using a rotating barrel type electroplating apparatus in which the plating to be plated is accommodated in the barrel, stirred and mixed in the plating solution of the plating bath, and the plating is performed. Two dummy electrodes are simultaneously stirred and mixed with the plated body to be plated.

도 1 은 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치를 설명하기 위한 평면도.1 is a plan view for explaining a rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention.

도 2 는 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치를 설명하기 위한 단면도.Figure 2 is a cross-sectional view for explaining a rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention.

도 3 은 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치에 사용되는 더미 전극을 설명하기 위한 정면도.3 is a front view for explaining a dummy electrode used in the rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention.

도 4 는 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치에 사용되는 더미 전극을 설명하기 위한 측면도.Figure 4 is a side view for explaining the dummy electrode used in the rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ※※ Explanation of code about main part of drawing ※

1 : 도금조 10 : 배럴(barrel)1: plating bath 10: barrel

11 : 음극봉 14 : 지지대11 cathode electrode 14 support

15 : 니켈판 16 : 도금체15 nickel plate 16 plating

20 : 구동축 21a,21b : 제1,2구동기어20: drive shaft 21a, 21b: first and second drive gear

22 : 피구동기어 30 : 더미전극22: driven gear 30: dummy electrode

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치의 바람직한 일실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of a rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention.

도 1 은 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치의 평면도이고, 도 2 는 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치의 단면도이다.1 is a plan view of a rotating barrel electroplating apparatus according to the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view of a rotating barrel electroplating apparatus according to the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치는 세라믹 또는 비철금속 등의 비도전성 도금체를 도금하기 위한 것으로서, 도금 장치의 배럴(10)은 엘리베이터(미도시)에 의해 상하 방향으로 도금조(1)내부로 리프팅되도록 좌우로 입설된 지지대(14)에 연결 설치되되, 지지대(4)와 양단부가 베어링 장치로 회동 가능하게 연결 설치된다.As shown, the rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention is for plating a non-conductive plating material such as ceramic or non-ferrous metal, the barrel 10 of the plating apparatus is plated in the vertical direction by an elevator (not shown) It is connected to the support 14 placed in the left and right to be lifted into the jaw (1), the support 4 and both ends are rotatably connected to the bearing device.

여기서, 지지대(14)의 상단부에는 엘리베이터의 걸개에 걸려지는 고리부(16)가 형성되어 엘리베이터에 의해 배럴(10)은 리프팅된다.Here, the upper end of the support 14 is formed with a ring portion 16 to be caught on the hook of the elevator, the barrel 10 is lifted by the elevator.

이러한 배럴(10)은 통상적으로 단면의 형태가 원형 또는 다각형으로 형성되나, 롤링과정에서 롤링 효과를 좋게 하기 위해 다각형으로 형성되고, 다각형 외부 표면에 도금액이 입출되는 다수개의 구멍이 형성되어 있어 도금조(1)에 리프팅되면 도금용액이 내부로 유입되도록 되어 있다.The barrel 10 is typically formed in a circular or polygonal cross-section, but is formed in a polygon to improve the rolling effect in the rolling process, and the plating bath is formed by forming a plurality of holes through which the plating liquid is drawn on the outer surface of the polygon. When it is lifted on (1), the plating solution is allowed to flow inside.

여기서, 도금조(1)내부에는 피도금체의 역할을 하여 도금체(16)의 표면에 니켈 도금을 하기 위해 양극의 전류가 인가되는 전류판으로써 니켈판(15)이 일측에 위치된다.Here, the nickel plate 15 is located at one side as a current plate to which a positive current is applied to the inside of the plating tank 1 to perform nickel plating on the surface of the plated body 16 as a plated body.

그리고, 배럴(10)에는 도금체(16)와 도금용액이 서로 교반 혼합되도록 하기 위해 배럴을 도금조(1)내부에서 소정의 속도로 회전시키는 회전 수단이 구비된다.Then, the barrel 10 is provided with a rotating means for rotating the barrel at a predetermined speed in the plating bath 1 in order to stir and mix the plating 16 and the plating solution with each other.

여기서, 회전수단으로는 지지대(14)에 관통되게 설치되고 일단부에 도금조(1) 외부에 형성된 구동수단에 의해 구동되는 제1구동기어(21a) 및 중단부에 제2구동기어(21b)가 형성된 구동축(20)과, 구동축(20)의 제2구동기어(21b)와 맞물리게 배럴(10)의 일단부에 설치된 피구동기어(22)를 포함하여 구성된다.Here, the rotating means is installed to penetrate through the support 14, the first driving gear 21a driven by the driving means formed on the outside of the plating tank 1 at one end and the second driving gear 21b at the stop portion. And a driven gear 22 provided at one end of the barrel 10 in engagement with the second driving gear 21b of the driving shaft 20.

따라서, 엘리베이터에 의해 배럴(10)이 도금조(1)내부에 리프팅되면 도금조 외부에 설치된 구동수단과 구동축의 제1구동기어(21a)가 서로 맞물려 회전하게 되고, 이에 따라 구동축의 제2구동기어(21b)가 배럴의 피구동기어(22)와 맞물려 회전하면서 배럴(10)이 소정 속도로 회전하게 된다.Therefore, when the barrel 10 is lifted inside the plating tank 1 by the elevator, the driving means installed outside the plating tank and the first driving gear 21a of the driving shaft are engaged with each other to rotate, and accordingly, the second driving of the driving shaft is performed. As the gear 21b rotates in engagement with the driven gear 22 of the barrel, the barrel 10 rotates at a predetermined speed.

또한, 배럴(10)의 양단에는 전기 도금을 위해 내부의 전류를 단속하면서 공급하기 위한 음극봉(11)이 각각 설치된다.In addition, both ends of the barrel 10 are provided with a cathode rod 11 for supplying while intermittently internal current for electroplating.

여기서, 음극봉(11)은 배럴(10)의 양단에 각각 플랜지(12)를 설치하고, 플랜지(12)내부에 음극봉을 삽입 설치하여 전류를 공급하거나 단속하도록 한다.Here, the cathode rods 11 are provided with flanges 12 at both ends of the barrel 10, and the cathode rods are inserted into the flange 12 to supply or interrupt the current.

이때, 음극봉(11)은 절연체(13)를 사용하여 배럴의 양단에서 배럴의 중심으로 1/3 또는 1/4 지점까지 돌출되게 절연시켜 위치되도록 한다.At this time, the cathode rod 11 is insulated so as to protrude from the both ends of the barrel to the center of the barrel 1/3 or 1/4 point using the insulator 13 to be insulated.

이와 같이 음극봉(11)을 배럴의 양단에서 배럴의 중심으로 1/3 또는 1/4 지점까지 돌출되게 절연시켜 위치되도록 하는 것은 음극봉이 배럴의 양단에 근접되게 위치하는 경우 배럴의 양단에서의 통전성은 좋으나, 배럴의 중심에서의 통전성은 떨어지게 되는 것을 해결하기 위해 배럴 내부의 통전성을 균일하게 하기에 적합한 위치이기 때문이다.In this way, the cathode rod 11 is positioned so as to protrude from the both ends of the barrel to the center of the barrel by 1/3 or 1/4 so that the cathode rod 11 is positioned at both ends of the barrel when the cathode rod is positioned near both ends of the barrel. Is good, but it is because it is a position suitable for making the conductance inside the barrel uniform in order to solve that the conduction at the center of the barrel falls.

그리고, 배럴(10)의 내부에는 수납된 도금체(16)의 도금효율을 향상시키기 위해 비도전성 도금체와 별개로 전도성 더미전극(30)이 소형 도금체와 함께 수납되어 도금액과 교반 혼합된다.In addition, in order to improve plating efficiency of the plated body 16, the conductive dummy electrode 30 is housed together with the small plated body and mixed with the plating solution in the barrel 10 to improve the plating efficiency of the plated body 16.

도 3 과 도 4를 참조하면, 더미전극(30)은 평탄하게 형성된 머리부(31)와, 머리부에 수직하게 입설되고 머리부의 길이보다 더 길게 형성된 돌기부(32)를 포함하여 이루어져 단면의 형태가 'T'자 형태가 되도록 한다.3 and 4, the dummy electrode 30 includes a flat head 31 and a protrusion 32 vertically inserted into the head and formed longer than the length of the head. Let 'be the' T 'form.

또한, 더미전극(30)은 머리부의 세로방향 길이(a)와 돌기부의 가로방향 길이(b)가 3 : 4 비율이 되도록 하며, 머리부의 세로방향 길이(a)가 3mm 가 되도록 하고, 돌기부의 가로방향 길이(b)가 4mm가 되도록 하는 것이 바람직하다.In addition, the dummy electrode 30 is such that the longitudinal length (a) of the head portion and the transverse length (b) of the protrusion is 3: 4 ratio, the longitudinal length (a) of the head portion is 3mm, and the protrusion portion It is preferable to make the horizontal length b 4 mm.

여기서, 배럴(10)내에 도금체(16)와 더미전극(30)을 함께 넣어 교반 혼합시키는 것은 배럴 내부의 전류 분포의 정도를 균일하게 함과 동시에 통전성을 좋게 하여 도금효율을 향상시키기 위한 것이다.Here, the mixing of the plating body 16 and the dummy electrode 30 in the barrel 10 together and stirring is to improve the plating efficiency by making the degree of current distribution inside the barrel uniform and at the same time good conduction.

즉, 배럴(10)을 회전시켜 도금체(16)와 더미전극(30)을 동시에 교반 혼합시킴에 따라 도금체와 도금체 사이에 더미전극이 위치하게 되어 도금체(16)가 표면층으로 신속하게 나올 수 있도록 도금체를 밀어 내는 역할을 할 뿐만 아니라, 음극의 전류가 인가되는 음극봉(11)과 양극의 전류가 인가되는 양극인 니켈판(15)사이의 통전성을 향상시키게 된다.That is, as the barrel 10 is rotated to simultaneously stir and mix the plated body 16 and the dummy electrode 30, the dummy electrode is positioned between the plated body and the plated body so that the plated body 16 quickly becomes a surface layer. Not only serves to push out the plated body to come out, but also improves the electrical conductivity between the cathode rod 11 to which the current of the cathode is applied and the nickel plate 15 as the anode to which the current of the anode is applied.

따라서, 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치는 배럴(10)내부에 도금체(16)와는 별개의 더미 전극을 수납한 상태에서 도금체와 더미 전극을 도금 용액 내에서 교반 혼합시킴으로써 전류 분포를 균일하게 하고, 통전성을 향상시켜 균일한 도금두께를 얻을 수 있게 된다.Therefore, in the rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention, a current distribution is obtained by stirring and mixing the plating body and the dummy electrode in the plating solution in a state in which the dummy electrode separate from the plating body 16 is stored in the barrel 10. It becomes uniform and improves electricity supply, and can obtain a uniform plating thickness.

또한, 본 발명에 따른 회전 배럴형 전기 도금장치는 음극봉을 배럴의 양단에서 일정거리 돌출시킴으로써 배럴 내부의 통전성을 향상시켜 균일한 도금 두께를 얻을 수 있게 된다.In addition, in the rotating barrel type electroplating apparatus according to the present invention, the cathode rod is protruded from both ends of the barrel by a certain distance, thereby improving current conduction inside the barrel, thereby obtaining a uniform plating thickness.

상기에서 상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 회전 배럴 전기도금장치는 더미 전극을 사용함으로써 도금체와 도금액의 교반 혼합과정에서 배럴 내부에 균일한 전류 분포 및 통전성을 유지하도록 하여 비도전성이며 소형으로 된 다수개의 도금체 표면에 균일한 두께를 가지는 도금이 가능하게 되고, 이에 따라 도금효율을 향상시킬수 있게 된다.As described above, the rotating barrel electroplating apparatus according to the present invention uses a dummy electrode to maintain a uniform current distribution and current conduction inside the barrel during stirring and mixing of the plating body and the plating liquid, thereby making it non-conductive and compact. Plating having a uniform thickness on the surface of the plurality of plating bodies is possible, thereby improving the plating efficiency.

또한, 배럴 내부에 음극봉이 배럴의 중심에 근접되게 설치되므로써 배럴의 양단과 중심 위치에 따른 통전성 불균일을 방지하여 도금체 표면에 균일한 두께의 도금이 가능하도록 한다.In addition, since the cathode rod is installed in the barrel to be close to the center of the barrel, it is possible to prevent uniformity of conduction according to both ends and the center position of the barrel, thereby enabling plating of a uniform thickness on the surface of the plated body.

Claims (10)

크기가 작은 도금체를 도금조의 도금용액과 교반혼합시켜 도금하는 회전 배럴형 전기 도금장치에 있어서,In a rotating barrel type electroplating apparatus for plating a small plated body by stirring and plating with a plating solution of a plating bath, 내부에 도금체가 수납되는 배럴과;A barrel in which the plating body is stored; 상기 배럴을 도금 용액 내부에서 소정의 속도로 회전시키기 위한 회전수단과;Rotating means for rotating the barrel at a predetermined speed inside the plating solution; 상기 배럴 내에 도금체와 동시에 수납되어 도금용액과 함께 교반혼합되는 다수개의 더미 전극을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치.Rotating barrel-type electroplating apparatus characterized in that it comprises a plurality of dummy electrodes accommodated in the barrel and mixed with the plating solution at the same time. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 회전수단은 상기 배럴의 지지대에 관통되게 설치되고 상기 도금조 외부의 구동수단에 의해 구동되는 제1구동기어 및 제2구동기어가 형성된 구동축과;The rotating means includes a drive shaft installed to penetrate the support of the barrel and the first drive gear and the second drive gear is driven by a drive means outside the plating tank; 상기 구동축의 제2구동기어와 맞물리게 상기 배럴에 설치된 피구동기어로 이루어진 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치.A rotating barrel type electroplating apparatus, comprising: a driven gear installed in the barrel to mesh with a second driving gear of the drive shaft. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 더미전극은 머리부와; 상기 머리부의 길이보다 더 길게 상기 머리부에 수직하게 입설된 돌기부를 포함하여 이루어져 단면의 형태가 'T' 자 형태인 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치.The dummy electrode has a head; Rotating barrel-type electroplating apparatus, characterized in that the cross-section is formed in a 'T' shape comprising a projection vertically entered into the head longer than the length of the head. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 'T'자형 더미 전극의 머리부와 돌기부의 길이바가 3 : 4 비율인 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치.Rotating barrel-type electroplating apparatus, characterized in that the length bar of the 'T'-shaped dummy electrode and the projection portion has a 3: 4 ratio. 제3 항 또는 제4항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 더미전극은 상기 머리부의 세로방향 길이가 3mm이고, 상기 돌기부의 가로방향 길이가 4mm인 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치.The dummy electrode has a longitudinal length of the head portion of 3mm, the horizontal length of the projection portion of the rotating barrel type electroplating apparatus, characterized in that 4mm. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 배럴 내부 양단에는 상기 도금조 내부에 설치된 양극판과의 통전을 위해 절연체에 의해 절연되고, 상기 배럴 내부의 중심으로 1/3 또는 1/4 지점까지 돌출되게 음극봉이 형성된 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기도금장치.Rotating barrel type, characterized in that the both ends of the barrel is insulated by an insulator for energization with the positive electrode plate installed in the plating bath, the cathode rod is formed to protrude to 1/3 or 1/4 point to the center of the barrel Electroplating device. 도금하고자 하는 도금체가 배럴 내부에 수납되어 도금조의 도금 용액 내부에서 교반 혼합되면서 도금이 이루어지는 회전 배럴형 전기 도금장치를 이용한 도금방법에 있어서,In the plating method using a rotating barrel-type electroplating apparatus in which the plating to be plated is accommodated in the barrel and stirred while mixing in the plating solution of the plating bath. 상기 배럴 내부에 수납시킨 다수개의 더미 전극을 상기 도금체와 동시에 교반 혼합시켜 도금하는 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치를 이용한 도금방법.Plating method using a rotating barrel type electroplating apparatus, characterized in that the plating by stirring and mixing the plurality of dummy electrodes accommodated in the barrel at the same time with the plating body. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 더미전극을 평탄하게 형성된 머리부 및 상기 머리부에 수직하게 입설된 돌기부로 형성하여 단면의 형태가 'T'자 형태이고, 상기 머리부와 돌기부의 길이가 3 : 4 비율인 것을 사용하여 도금하는 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치를 이용한 도금방법.The dummy electrode is formed of a flat head and a protrusion vertically inserted into the head, and the cross section is formed in a 'T' shape, and the head and the protrusion are plated using a ratio of 3: 4 in length. Plating method using a rotating barrel type electroplating apparatus, characterized in that. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 머리부의 세로방향 길이가 3mm 이고, 상기 돌기부의 가로방향 길이가 4mm인 것을 사용하여 도금하는 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치를 이용한 도금방법.Plating method using a rotating barrel-type electroplating apparatus characterized in that the plating using the longitudinal length of the head portion is 3mm, the transverse length of the protrusion is 4mm. 제7항에 있어서, 상기 음극봉을 상기 배럴 양단에서 상기 배럴 중심으로 1/3 또는 1/4 지점까지 돌출되게 형성하여 도금하는 것을 특징으로 하는 회전 배럴형 전기 도금장치를 이용한 도금방법.8. The plating method according to claim 7, wherein the cathode rod is formed to protrude from the both ends of the barrel to the center of the barrel by 1/3 or 1/4 points and plated.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160003043U (en) * 2016-08-16 2016-09-05 윤희주 Coin-plated device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56165068U (en) * 1980-05-12 1981-12-07
JPS6111771U (en) * 1984-06-27 1986-01-23 株式会社 キヨ−クロ Barrel work unloading device
JPH01136996A (en) * 1987-11-21 1989-05-30 Toshiba Corp Plating method
JPH0261095A (en) * 1988-08-24 1990-03-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for plating chip parts
JPH05222592A (en) * 1992-02-07 1993-08-31 Murata Mfg Co Ltd Dummy for barrel plating

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56165068U (en) * 1980-05-12 1981-12-07
JPS6111771U (en) * 1984-06-27 1986-01-23 株式会社 キヨ−クロ Barrel work unloading device
JPH01136996A (en) * 1987-11-21 1989-05-30 Toshiba Corp Plating method
JPH0261095A (en) * 1988-08-24 1990-03-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for plating chip parts
JPH05222592A (en) * 1992-02-07 1993-08-31 Murata Mfg Co Ltd Dummy for barrel plating

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160003043U (en) * 2016-08-16 2016-09-05 윤희주 Coin-plated device

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