KR20020067611A - 이소티아졸카복실산 유도체 및 살미생물제로서의 그의 용도 - Google Patents

이소티아졸카복실산 유도체 및 살미생물제로서의 그의 용도 Download PDF

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기타가와요시노리
이시카와고이치
사와다하루코
아라키야스오
아스만루츠
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니혼 바이엘 아그로켐 케이. 케이.
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Abstract

본 발명은 신규한 하기 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체, 그의 제조방법 및 살미생물제로서의 그의 용도에 관한 것이다:
상기 식에서,
A, Q, Z 및 k는 명세서에 언급된 의미를 갖는다.

Description

이소티아졸카복실산 유도체 및 살미생물제로서의 그의 용도{Isothiazolecarboxylic acid derivatives and their use as microbicides}
본 발명은 신규한 이소티아졸카복실산 유도체, 그의 제조방법 및 살미생물제 (microbicide)로서의 그의 용도에 관한 것이다.
특정의 이소티아졸카복실산 유도체가 식물 해충을 구제하기 위해 사용될 수 있음은 이미 알려져 있다(참조: JP-A 59 024/1993, DE-A 1 97 50 011 및 DE-A 197 50 012). 그러나, 이들 공지된 화합물의 살진균 활성이 반드시 만족스러운 것은 아니다.
본 발명에 따라 하기 일반식 (I)의 신규한 이소티아졸카복실산 유도체가 밝혀졌다:
상기 식에서,
A는 산소 원자, 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
여기에서,
R1은 수소 원자, C1-4알킬, C3-6사이클로알킬, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
Q는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R2는 수소 원자, C1-4알킬, C1-4할로알킬, C7-9아르알킬 또는 C1-4알콕시카보닐에 의해 치환될 수 있는 페녹시메틸을 나타내며,
R3는 할로겐, C1-4알킬, C1-4할로알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알콕시, 페녹시, 벤질옥시, 시아노, 옥시디메틸렌 및/또는 니트로에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내거나, 나프틸을 나타내고,
k는 0 또는 1을 나타내며,
Z는 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알콕시, C3-6사이클로알콕시, C2-4알케닐, 페닐, 할로페닐, 옥소 및/또는 스피로-결합된 C3-6알리사이클릭 그룹중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있고 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원(membered) 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Z는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Z는 시아노 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R4는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내거나, 각각 할로겐 및/또는 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
R4는 C1-4알킬에 의해 치환될 수 있는 테트라졸-5-일-티오메틸을 나타내며,
R5는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 3,4-디클로로이소티아졸-5-일-카보닐, C1-4알킬설포닐 또는 페닐설포닐을 나타내거나,
R5는 할로겐 및 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로치환된 페닐카보닐을 나타내고,
R6은 수소 원자, C1-4알킬, C1-4할로알킬, 벤질, 할로겐-치환된 벤질, 페닐, 할로겐-치환된 페닐, C1-4알킬카보닐, 벤조일, C1-4할로알킬-치환된 벤조일, 페닐카바모일 또는 C1-4할로알킬-치환된 페닐카바모일을 나타내며,
R7은 C1-4알킬을 나타내거나, 각각 C1-4알킬 및/또는 할로겐중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
R7은 테트라졸-5-일을 나타내거나,
R7은 C1-4알킬 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 티아디아졸-2-일을 나타내거나,
R7은 2-티아졸린-2-일, C1-4알킬카보닐 또는 벤조일을 나타내고,
m은 0, 1 또는 2를 나타내며,
R8은 C1-4알킬을 나타내거나,
A가그룹을 나타내는 경우,
R1, Q 및 Z는 C1-4알킬, C1-4할로알킬, 하이드록시, 옥소, 하이드록시메틸및 페닐(이들은 각각 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 치환될 수 있다) 중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 임의로 치환된 질소 원자 1 내지 3의 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타낼 수 있거나,
-(Q)k-Z는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
n은 1 또는 2를 나타내며,
R9는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내고,
R10은 수소 원자, 하이드록시메틸 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자에 의해 치환될 수 있는 벤질을 나타내며,
R11은 수소 원자, C1-4알킬 또는 페닐을 나타내고,
R12는 수소 원자, C1-4알킬 또는 페닐을 나타내거나, 두 R12래디칼은 이들이결합된 탄소 원자와 함께, 5- 또는 6-원 탄화수소 환을 형성할 수 있으며,
R13은 수소 원자, C1-9알킬, C3-6사이클로알킬, C7-8아릴알킬, C3-6사이클로알킬-C1-4알킬, C1-4알콕시-C1-4알킬 또는 디-(C1-4알콕시)-메틸을 나타내거나, 두 R13래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 C5-6알리사이클릭 환을 형성하거나,
-A-(Q)k-Z는 -SH 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
여기에서,
R9는 상기 언급된 바와 같으며,
R14는 C1-4알킬, C3-6사이클로알킬 또는 하이드록시-치환된 C2-4알킬을 나타내고,
j는 2, 3 또는 4를 나타내거나,
A가를 나타내고,
Q가를 나타내며,
Z는를 나타내는 경우,
이들 래디칼은 함께, 일반식의 그룹을 나타낼 수 있으며,
여기에서,
R15및 R16은 서로 독립적으로 C1-4알킬 또는 페닐을 나타내거나,
R15및 R16은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 적어도 하나의 질소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 형성하나,
단,
Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
A는를 나타내고,
여기에서,
R17은 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내며,
Z는 시아노를 나타내고,
Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
A는 -NH를 나타내며,
Z는 시아노를 나타내고,
-(Q)k-Z가 2,3-디하이드록시프로필을 나타내는 경우,
A는 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내며,
-(Q)k-Z가 2-하이드록시에틸을 나타내고,
A가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
R1은 C1-4알킬, C3-6사이클로알킬, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
A가 구조식의 그룹을 나타내는 경우,
Q는 -CH2-를 나타내고,
Z는 일반식의 그룹을 나타내며,
여기에서,
R4는 수소 원자를 나타내거나, 각각 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내고,
R5는 포르밀을 나타내며,
또한,
A가 산소 또는 황을 나타내고,
k가 0인 경우,
Z는 시아노 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내지 않는다.
또한, 본 발명에 따라 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체가 여러 방법에 의해 제조될 수 있음이 밝혀졌다.
즉, a) -A-(Q)k-Z가 구조식의 그룹을 나타내는 일반식 (I)의 화합물은 구조식 (II)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복사미드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 구조식 (III)의 포르밀아민과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
b) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R1b는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내며, R2b는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내고, Zb는중에서 선택되며, 여기에서, R4, R5, R6및 R7은 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (IV)의 이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하 및경우에 따라 상-전이 촉매의 존재하에서 일반식 (V)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
c) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R1b및 R8은 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (IVa)의 이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하에서 일반식 (VI)의 인 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
d) -A-(Q)k-Z가 일반식 -Ad-CH2-Zd의 그룹을 나타내고, 여기에서 Ad는또는 황 원자를 나타내며, 여기에서, R1은 상기 언급된 의미를 갖고, Zd는 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, C2-4알케닐 및 페닐중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나, Zd는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나, Zd는중에서 선택된 그룹을 나타내며, 여기에서, R4, R5, R7및 R8은 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (VII)의 이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (VIII)의 클로로메틸 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
e) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R2는 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 구조식 (II)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복사미드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (IX)의 포르밀 화합물 및 구조식 (X)의 1H-벤조트리아졸과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
f) -A-(Q)k-Z가 -SH 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내고, 여기에서 A, Q, Z, j, k, n, R1, R2, R3, R4, R5, R9, R10, R11, R12, R14는 상기 언급된 의미를 가지며, Zf1은 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, C2-4알케닐, 페닐, 할로페닐, 옥소 및/또는 스피로-결합된 C3-6알리사이클릭 그룹중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있고 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나, Zf1은 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내고, Zf2는 C1-4알킬 및/또는 옥소에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 또는 2의 5-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며, Z5f는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 또는 할로겐 및 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내는 일반식 (I)의 화합물은 구조식 (XI)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카보닐 클로라이드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XII)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
g) -A-(Q)k-Z가
중에서 선택된 그룹을 나타내고, 여기에서 Zf1, j, n, R2, R3, R9, R10, R11, R12, R14및 R5f는 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (XIII)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복실산 에스테르를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XIV)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
h) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 Rh1은 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내는 일반식 (I)의 화합물은 구조식 (XV)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카보하이드라지드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (XVI)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
i) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 Ri1은 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내거나, 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내며, Ri2는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내는 일반식 (I)의 화합물은 구조식 (XV)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카보하이드라지드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XVII)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
j) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R3은 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 구조식 (XV)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카보하이드라지드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (XVIII)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
k) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R1,R2및 R7은 상기 언급된 의미를 가지며, p는 1 또는 2를 나타내는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (Ia)의 이소티아졸카복실산 유도체를 불활성 희석제의 존재하에서 산소를 제공하기에 적합한 산화제와 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
l) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R15는 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 구조식 (II)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복사미드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (XIX)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
m) -(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R9, R12및 n은 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (Ib)의 이소티아졸카복실산 유도체를 물의 존재하 및, 및 경우에 따라 불활성 유기 희석제의 존재하에서 산소를 제공하기에 적합한 산화제와 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
n) -(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R9, R12, R13및 n은 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (Ic)의 이소티아졸카복실산 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 촉매의 존재하에서 일반식 (XX)의 카보닐 유도체와 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
o) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R3은 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물은 구조식 (II)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복사미드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XXI)의 시아노 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
p) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R1b는 상기 언급된 의미를 가지며, R2p는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내고, R6p는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (XXII)의 3,4-디클로로-이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XXIII)의 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
q) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R1b는 상기 언급된 의미를 가지며, R6q는 C1-4알킬카보닐 또는 C1-4할로알킬에 의해 치환될 수 있는 벤조일을 나타내는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (Id)의 3,4-디클로로-이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XXIV)의 클로로-치환된 화합물과 반응시킴으로써 제조될 수 있거나,
r) -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R1b는 상기 언급된 의미를 가지며, R6r은 페닐카바모일 또는 C1-4할로알킬-치환된 페닐카바모일을 나타내는 일반식 (I)의 화합물은 일반식 (Id)의 3,4-디클로로-이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하 및 경우에 따라 염기 촉매의 존재하에서 일반식 (XXV)의 이소시아네이트와 반응시킴으로써 제조될 수 있음이 밝혀졌다:
M-Zb(V)
P(OR8)3(VI)
Cl-CH2-Zd(VIII)
R2-CHO(IX)
M-Y1(XII)
H-Y2(XIV)
Cl-R6q(XXIV)
O=C=N-Rr(XXV)
상기 식에서,
A, n, R1, R2, R3, R7, R8, R9, R12, R13및 R15는 상기 언급된 의미를 갖고,
R1b는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내며,
R2b는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내고,
X는 클로로 또는 브로모를 나타내며,
Zb는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R4, R5, R6및 R7은 상기 언급된 의미를 가지며,
M은 수소 원자, 리튬, 소듐 또는 포타슘을 나타내고,
Ad는또는 황 원자를 나타내며,
여기에서,
R1은 상기 언급된 의미를 갖고,
Zd는 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, C2-4알케닐 및 페닐중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zd는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zd는중에서 선택된 그룹을 나타내며,
여기에서,
R4, R5, R7및 R8은 상기 언급된 의미를 갖고,
Y1은 -SH 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내며,
여기에서,
A, Q, Z, j, k, n, R1, R2, R3, R4, R5, R9, R10, R11, R12및 R14는 상기 언급된 의미를 갖고,
Zf1은 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, C2-4알케닐, 페닐, 할로페닐, 옥소 및/또는 스피로-결합된 C3-6알리사이클릭 그룹중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있고 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zf1은 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내며,
Zf2는 C1-4알킬 및/또는 옥소에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 또는 2의 5-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타내고,
Z5f는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 또는 할로겐 및 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내며,
Rg는 C1-4알킬을 나타내고,
Y2는
중에서 선택된 그룹을 나타내며,
여기에서,
Zf1, j, n, R2, R3, R9, R10, R11, R12, R14및 R5f는 상기 언급된 의미를 갖고,
Rh1은 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내며,
Rh2는 C1-4알킬을 나타내고,
Rh3은 시아노 또는 -COORh2를 나타내며,
Ri1은 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내거나, 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내고,
Ri2는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내며,
T1은 C1-4알콕시를 나타내고,
T2는 C1-4알콕시를 나타내거나, 두 T2래디칼은 함께, 옥소 그룹을 나타내며,
R2p는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내고,
T3은 하이드록시를 나타내며,
T4는 C1-4알콕시를 나타내거나,
T3및 T4는 함께, 옥소 그룹을 나타내고,
R6q는 C1-4알킬카보닐 또는 C1-4할로알킬에 의해 치환될 수 있는 벤조일을 나타내며,
Rr은 페닐 또는 C1-4할로알킬-치환된 페닐을 나타낸다.
최종적으로, 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체는 농업 및 원예에서 살미생물제로서, 특히 식물 질병을 직접 구제하거나, 식물에게 식물 병원균에 대한 내성을 제공하기 위한 살진균제로서 매우 활성적임이 밝혀졌다.
놀랍게도, 본 발명에 따른 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체는 구조적으로 가장 유사하고 작용 양태가 동일한 공지 화합물 보다 훨씬 뛰어난 살미생물 활성을 나타낸다.
본 명세서에서, "할로겐"은 플루오로, 클로로, 브로모 및 요오도를 나타낸다.
"알킬"은 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필, n-, 이소-, sec- 또는 t-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, t-아밀, 펜탄-3-일, 네오펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-펜타데실 및 n-헥사데실 등과 같은 직쇄 또는 측쇄 그룹을 나타낸다.
"알콕시"는 메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시, n-, 이소-, sec- 또는 t-부톡시 등과 같은 직쇄 또는 측쇄 그룹을 나타낸다.
"사이클로알킬"은 사이클릭 알킬 그룹을 나타내며, 예를 들어 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸 등을 포함한다.
"할로알킬"은 하나 이상의 할로겐 원자, 바람직하게는 플루오로, 클로로 및/또는 브로모에 의해 치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹을 나타낸다. 이들의 예로 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 2-플루오로에틸, 2-클로로에틸, 2-브로모에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2,2,2-트리클로로에틸, 3-클로로프로필, 3-브로모프로필, 1-클로로프로판-2-일, 1-브로모프로판-2-일, 1,3-디플루오로프로판-2-일, 2,3-디브로모프로필, 2,2-디클로로-3,3,3-트리플루오로프로필 등이 언급될 수 있다.
"할로알콕시"는 하나 이상의 할로겐 원자, 바람직하게는 플루오로, 클로로 및/또는 브로모에 의해 치환된 직쇄 또는 측쇄 알콕시 그룹을 나타낸다. 이들의 예로 디플루오로메톡시, 트리플루오로메톡시, 2-플루오로에톡시, 2-클로로에톡시, 2-브로모에톡시, 2,2,2-트리플루오로에톡시, 2,2,2-트리클로로에톡시, 3-클로로프로폭시 등이 언급될 수 있다.
"알케닐"은 직쇄 또는 측쇄 그룹을 나타내며, 예를 들어, 비닐, 알릴, 이소프로페닐, 1-프로페닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 1-메틸-1-프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐 등을 포함한다.
"아르알킬"은 직쇄 또는 측쇄 알킬 그룹을 포함하는 유형의 그룹을 나타내며, 이들의 예로 벤질, 2-펜에틸, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질, 2-페닐프로필, 3-페닐프로필, α-에틸-벤질 등이 포함된다.
"5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹"은 질소, 산소 및 황 중에서 선택된 1 내지 4개의 헤테로 원자를 갖는 5-원, 6-원 또는 7-원 포화 헤테로사이클릭 그룹, 또는 5-원 불포화 헤테로사이클릭 그룹, 또는 5-원 또는 6-원 방향족 헤테로사이클릭 그룹을 나타낸다.
"5-원, 6-원 또는 7-원 포화 헤테로사이클릭 그룹"으로서, 예를 들어 피롤리딘, 테트라하이드로푸란, 이미다졸리딘, 피라졸리딘, 옥사졸리딘, 티아졸리딘, 피페리딘, 테트라하이드로피란, 피페라진, 모르폴린, 1,3-디옥솔란, 1,3-디옥산, 헥사메틸렌이민 등과 같은 1가 그룹이 언급될 수 있다. 이들 헤테로사이클릭 그룹은 예를 들어 하이드록시, 할로겐(예를 들어 플루오로, 클로로, 브로모 등), 옥소, 티옥소, 알킬(예를 들어 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필, n-, sec-, 이소- 또는 t-부틸 등), 알콕시(메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시 등), 알킬티오(예를 들어 메틸티오, 에틸티오, n- 또는 이소-프로필티오 등), 알콕시알킬(예를 들어 메톡시메틸, 에톡시메틸 등), 알킬티오알킬(예를 들어 메틸티오메틸, 에틸티오메틸 등)중에서 선택된 하나 이상의 래디칼에 의해 치환될 수 있으며, 두개 이상의 치환체가 존재하는 경우, 이들은 동일하거나 상이할 수 있다.
"5-원 불포화 헤테로사이클릭 그룹"으로서, 예를 들어 2-피롤린, 2-피라졸린, 3-피라졸린, 2-이미다졸린, 2-옥사졸린 등과 같은 1가 그룹이 언급될 수 있다. 이들 헤테로사이클릭 그룹은 예를 들어 하이드록시, 할로겐(예를 들어 플루오로, 클로로, 브로모 등), 옥소, 티옥소, 알킬(예를 들어 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필, n-, sec-, 이소- 또는 t-부틸 등), 알콕시(메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시 등), 알킬티오(예를 들어 메틸티오, 에틸티오, n- 또는 이소-프로필티오 등), 알콕시알킬(예를 들어 메톡시메틸, 에톡시메틸 등), 알킬티오알킬(예를 들어 메틸티오메틸, 에틸티오메틸 등)중에서 선택된 하나 이상의 래디칼에 의해 치환될 수 있으며, 두개 이상의 치환체가 존재하는 경우, 이들은 동일하거나 상이할 수 있다.
"5- 또는 6-원 방향족 헤테로사이클릭 그룹"으로서, 예를 들어 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 옥사졸, 이속사졸, 티아졸, 이소티아졸, 1,2,4-트리아졸, 1,3,4-티아디아졸, 테트라졸, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진 등과 같은 1가 그룹이 언급될 수 있다.
이들 헤테로사이클릭 그룹은 예를 들어 하이드록시, 옥소, 티옥소, 시아노, 니트로, 할로겐(예를 들어 플루오로, 클로로, 브로모 등), 알킬(예를 들어 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필, n-, sec-, 이소- 또는 t-부틸 등), 알콕시(메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시 등), 알킬티오(예를 들어 메틸티오, 에틸티오, n- 또는 이소-프로필티오 등), 할로알킬(예를 들어 트리플루오로메틸 등), 할로알콕시(예를 들어 트리플루오로메톡시 등), 시아노알킬(예를 들어 시아노메틸, 1-시아노에틸, 1-시아노프로필 등), 알콕시카보닐(예를 들어 메톡시카보닐, 에톡시카보닐 등), 알콕시알킬(예를 들어 메톡시메틸, 에톡시메틸 등), 알킬티오알킬(예를 들어 메틸티오메틸, 에틸티오메틸 등)중에서 선택된 하나 이상의 래디칼에 의해 치환될 수 있으며, 두개 이상의 치환체가 존재하는 경우, 이들은 동일하거나 상이할 수 있다.
"벤조-축합된 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹"은 "5- 또는 6-원 방향족 헤테로사이클릭 그룹"과 동일한 상기 언급된 그룹의 벤조-축합된 헤테로사이클릭 환을 나타내며, 벤조[b]티오펜, 벤조티아졸, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸, 퀴놀린 등중에서 선택된 1가 그룹이 포함된다. 이들 벤조-축합된 헤테로사이클릭 그룹은 시아노, 니트로, 할로겐(예를 들어 플루오로, 클로로, 브로모 등), 알킬(예를 들어 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필, n-, sec-, 이소- 또는 t-부틸 등), 알콕시(예를 들어 메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시 등), 알킬티오(예를 들어 메틸티오, 에틸티오, n- 또는 이소-프로필티오 등), 알콕시알킬(예를 들어 메톡시메틸, 에톡시메틸 등), 알킬티오알킬(예를 들어 메틸티오메틸, 에틸티오메틸 등)중에서 선택된 하나 이상의 래디칼에 의해 치환될 수 있으며, 두개 이상의 치환체가 존재하는 경우, 이들은 동일하거나 상이할 수 있다.
일반식 (I)은 본 발명에 따른 이소티아졸카복실산 유도체의 일반 정의를 제공한다.
A가 산소 원자, 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
여기에서,
R1은 수소 원자, C1-3알킬, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
Q는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R2는 수소 원자, C1-6알킬, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, C7-8아르알킬 또는 C1-3알콕시카보닐에 의해 일- 또는 이-치환될 수 있는 페녹시메틸을 나타내며,
R3는 플루오로, 클로로, 브로모, C1-3알킬, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, C1-3알콕시, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알콕시, 페녹시, 벤질옥시, 시아노 및/또는 니트로중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있거나, 옥시디메틸렌에 의해 일치환될 수 있는 페닐을 나타내거나, 나프틸을 나타내고,
k는 0 또는 1을 나타내며,
Z는 불소, 염소, 브롬, C1-3알킬, 메톡시, 에톡시, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, C3-4알케닐, 페닐 및/또는 1 내지 3개의 불소 및/또는 염소 원자를 갖는 할로페닐중에서 선택된 3개 이하의 치환체에 의해 치환될 수 있고 옥소 또는 스피로-결합된 C3-5알리사이클릭 그룹에 의해 또한 일- 또는 이치환될 수 있으며 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Z는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-3알킬 및/또는 페닐중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있으며 1 또는 2개의 옥소 그룹에 의해 또한 치환될 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Z는 시아노 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R4는 수소 원자 또는 C1-3알킬을 나타내거나, 각각 불소, 염소, 메틸 및/또는 에틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
R4는 C1-3알킬에 의해 치환될 수 있는 테트라졸-5-일-티오메틸을 나타내며,
R5는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 3,4-디클로로이소티아졸-5-일-카보닐, C1-2알킬설포닐 또는 페닐설포닐을 나타내거나,
R5는 불소, 염소 및/또는 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내고,
R6은 수소 원자, C1-3알킬 또는 C1-3플루오로알킬을 나타내거나, 각각 불소 및/또는 염소중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 벤질 또는 페닐을 나타내거나, 아세틸 또는 프로피오닐을 나타내거나, 각각 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 3개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 벤조일 또는 페닐카바모일을 나타내며,
R7은 C1-3알킬을 나타내거나, 각각 C1-3알킬, 불소 및/또는 염소중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
R7은 테트라졸-5-일을 나타내거나,
R7은 C1-3알킬 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 티아디아졸-2-일을 나타내거나,
R7은 2-티아졸린-2-일, C1-2알킬카보닐 또는 벤조일을 나타내고,
m은 0 또는 2를 나타내며,
R8은 메틸 또는 에틸을 나타내거나,
A가그룹을 나타내는 경우,
R1, Q 및 Z는그룹의 질소 원자와 함께, C1-4알킬, 1 내지 3 개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, 하이드록시, 옥소, 하이드록시메틸 및/또는 페닐(이들은 각각 불소, 염소 및/또는 C1-3알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있다) 중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 임의로 치환된 질소 원자 1 내지 3의 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타낼 수 있거나,
-(Q)k-Z는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
n은 1 또는 2를 나타내며,
R9는 수소 원자 또는 C1-3알킬을 나타내고,
R10은 수소 원자, 하이드록시메틸 또는 1 내지 3개의 염소 원자에 의해 치환될 수 있는 벤질을 나타내며,
R11은 수소 원자, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, t-부틸 또는 페닐을 나타내고,
R12는 수소 원자, C1-3알킬 또는 페닐을 나타내거나, 두 R12래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, 5- 또는 6-원 탄화수소 환을 형성할 수 있으며,
R13은 수소 원자, C1-6알킬, 사이클로헥실, 2-페닐에틸, α-메틸벤질, 2-사이클로헥실에틸, C1-3알콕시-C1-3알킬 또는 디(C1-2알콕시)메틸을 나타내거나, 두 R13래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, C1-3알킬에 의해 임의로 치환된 C5-6알리사이클릭 환을 형성하거나,
-A-(Q)k-Z는 -SH 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
여기에서,
R9는 상기 언급된 바와 같으며,
R14는 C1-3알킬, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 또는 하이드록시-치환된 C2-3알킬을 나타내고,
j는 2, 3 또는 4를 나타내거나,
A가를 나타내고,
Q가를 나타내며,
Z는를 나타내는 경우,
이들 래디칼은 함께, 일반식의 그룹을 나타낼 수 있으며,
여기에서,
R15및 R16은 서로 독립적으로 C1-3알킬 또는 페닐을 나타내거나,
R15및 R16은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 적어도 하나의 질소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 형성하나,
단,
Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
A는를 나타내고,
여기에서,
R17은 수소 원자 또는 C1-3알킬을 나타내며,
Z는 시아노를 나타내고,
Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
A는 -NH를 나타내며,
Z는 시아노를 나타내고,
-(Q)k-Z가 2,3-디하이드록시프로필을 나타내는 경우,
A는 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내며,
-(Q)k-Z가 2-하이드록시에틸을 나타내고,
A가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
R1은 C1-3알킬, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
A가 구조식의 그룹을 나타내는 경우,
Q는 -CH2-를 나타내고,
Z는 일반식의 그룹을 나타내며,
여기에서,
R4는 수소 원자를 나타내거나, 각각 불소, 염소, 메틸 및/또는 에틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내고,
R5는 포르밀을 나타내며,
또한,
A가 산소 또는 황을 나타내고,
k가 0인 경우,
Z는 시아노 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내지 않는 일반식 (I)의 화합물이 바람직하다.
A는 산소 원자, 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
여기에서,
R1은 수소 원자, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
Q는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R2는 수소 원자, C1-6알킬, 트리플루오로메틸, 트리클로로메틸, 2-페닐에틸 또는 메톡시카보닐에 의해 치환될 수 있는 페녹시메틸을 나타내며,
R3는 플루오로, 클로로, 메틸, 에틸, 트리플루오로메틸, 메톡시, 트리플루오로메톡시, 페녹시, 벤질옥시, 시아노 및/또는 니트로중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있거나, 옥시디메틸렌에 의해 일치환될 수 있는 페닐을 나타내고,
k는 0 또는 1을 나타내며,
Z는 불소, 염소, 메틸, 에틸, 프로필, 메톡시, 트리플루오로메틸, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 2-메틸-1-프로페닐 및/또는 1 내지 3개의 불소 및/또는 염소 원자에 의해 임의로 치환된 페닐중에서 선택된 3개 이하의 치환체에 의해 치환될 수 있고 옥소 또는 스피로-결합된 C3-5알리사이클릭 그룹에 의해 또한 일- 또는이치환될 수 있으며 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Z는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, 메틸 및/또는 페닐중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있으며 1 또는 2개의 옥소 그룹에 의해 또한 치환될 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Z는 시아노 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R4는 수소 원자, 메틸, 에틸 또는 프로필을 나타내거나, 각각 불소, 염소, 메틸 및/또는 에틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
R4는 메틸에 의해 치환될 수 있는 테트라졸-5-일-티오메틸을 나타내며,
R5는 포르밀, 아세틸, 피발로일, 3,4-디클로로이소티아졸-5-일-카보닐, 메틸설포닐 또는 페닐설포닐을 나타내거나,
R5는 불소, 염소 및/또는 메틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내고,
R6은 수소 원자, 메틸, 에틸 또는 2,2,3,3-테트라플루오로프로필을 나타내거나, 각각 불소 및 염소중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 벤질 또는 페닐을 나타내거나, 각각 트리플루오로메틸에 의해 치환될 수 있는 벤조일 또는 페닐카바모일을 나타내거나, 아세틸 또는 프로피오닐을 나타내며,
R7은 메틸 또는 에틸을 나타내거나, 각각 메틸, 불소 및/또는 염소중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐 또는 벤질을 나타내거나,
R7은 테트라졸-5-일을 나타내거나,
R7은 메틸 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 티아디아졸-2-일을 나타내거나,
R7은 2-티아졸린-2-일, 메틸카보닐 또는 벤조일을 나타내고,
m은 0 또는 2를 나타내며,
R8은 메틸 또는 에틸을 나타내거나,
A가그룹을 나타내는 경우,
R1, Q 및 Z는그룹의 질소 원자와 함께, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, t-부틸, 트리플루오로메틸, 하이드록시, 옥소, 하이드록시메틸 및/또는 페닐(이들은 각각 불소, 염소 및/또는 메틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있다) 중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 임의로 치환된 질소 원자 1 또는 2의 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타낼 수 있거나,
-(Q)k-Z는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
n은 1 또는 2를 나타내며,
R9는 수소 원자, 메틸 또는 에틸을 나타내고,
R10은 수소 원자, 하이드록시메틸 또는 염소에 의해 치환될 수 있는 벤질을 나타내며,
R11은 수소 원자, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, t-부틸 또는 페닐을 나타내고,
R12는 수소 원자, 메틸 또는 페닐을 나타내거나, 두 R12래디칼은 이들이 결합된 원자와 함께, 5- 또는 6-원 탄화수소 환을 형성할 수 있으며,
R13은 수소 원자, C1-4알킬, 사이클로헥실, 2-페닐에틸, α-메틸벤질, 2-사이클로헥실에틸, 에톡시메틸, 2-에톡시에틸 또는 디메톡시메틸을 나타내거나, 두 R13래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, C1-3알킬에 의해 임의로 치환된 C5-6알리사이클릭 환을 형성하거나,
-A-(Q)k-Z는 -SH 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
여기에서,
R9는 상기 언급된 바와 같으며,
R14는 메틸, 에틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 또는 하이드록시에틸을 나타내고,
j는 2 또는 3을 나타내거나,
A가를 나타내고,
Q가를 나타내며,
Z는를 나타내는 경우,
이들 래디칼은 함께, 일반식의 그룹을 나타낼 수 있으며,
여기에서,
R15및 R16은 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 페닐을 나타내거나,
R15및 R16은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 적어도 하나의 질소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 형성하나,
단,
Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
A는 -NH- 또는를 나타내고,
Z는 시아노를 나타내며,
Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
A는 -NH를 나타내며,
Z는 시아노를 나타내고,
-(Q)k-Z가 2,3-디하이드록시프로필을 나타내는 경우,
A는 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내며,
-(Q)k-Z가 2-하이드록시에틸을 나타내고,
A가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
R1은 메틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
A가 구조식의 그룹을 나타내는 경우,
Q는 -CH2-를 나타내고,
Z는 일반식의 그룹을 나타내며,
여기에서,
R4는 수소 원자를 나타내거나, 각각 불소, 염소, 메틸 및/또는 에틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내고,
R5는 포르밀을 나타내며,
또한,
A가 산소 또는 황을 나타내고,
k가 0인 경우,
Z는 시아노 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내지 않는 일반식 (I)의 화합물이 특히 바람직하다.
3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 N-벤질-N-하이드록시메틸포름아미드가 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (a)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
N-클로로메틸-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 4-클로로티오페놀의 소듐염이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (b)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
N-클로로메틸-N-메틸-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 트리에틸포스파이트가 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (c)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 클로로메틸메틸에스테르가 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (d)는 하기 반응식으로 나타내어질 수있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드, 부티르알데하이드 및 벤조트리아졸이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (e)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카보닐 클로라이드 및 N-(1-아미노부틸)-아세트아미드가 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (f)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-메틸 카복실레이트 및 3-아미노-1,2-프로판디올이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (g)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카보하이드라지드 및 디에틸 (4-클로로벤질리덴)말로네이트가 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (h)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카보하이드라지드 및 2-메틸-3-페닐-2-프로페노일 클로라이드가 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (i)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카보하이드라지드 및 2-포르밀-2-페닐아세토니트릴이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (j)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
N-페닐티오메틸-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 m-클로로퍼벤조산이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (k)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 N,N-디메틸포름아미드 디메틸아세탈이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (l)은 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
N-알킬-N-페닐-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드가 출발물질로 사용되고 산화오스뮴(VIII)이 산화제로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (m)은 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
N-(2,3-디하이드록시프로필)-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 아세톤 디메틸아세탈이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (n)은 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 2-클로로-2-(4-트리플루오로메틸페닐이미노)-아세토니트릴이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (o)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 트리플루오로아세트알데하이드 헤미-에틸아세탈이 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (p)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
N-하이드록시메틸-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 4-트리플루오로메틸벤조일 클로라이드가 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (q)는 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
N-하이드록시메틸-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드 및 4-트리플루오로메틸페닐 이소시아네이트가 출발물질로 사용되는 경우, 본 발명에 따른 방법 (r)은 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
구조식 (II)는 본 발명에 따른 방법 (a), (e), (l), (o) 및 (p)를 수행하는데 출발물질로 필요한 3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드를 특정한다. 3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드는 공지되었다(참조: US-A 5,240,951),
구조식 (III)은 본 발명에 따른 방법 (a)를 수행하는데 출발물질로 또한 필요한 포르밀아민의 정의를 제공한다. 이 화합물은 이미 알려졌다(참조: Synth. Commun. 18 (1988), 425-432). 구조식 (III) 화합물의 화학명은 N-벤질-N-하이드록시메틸포름아미드이다.
일반식 (IV)는 본 발명에 따른 방법 (b)를 수행하는데 출발물질로 필요한 이소티아졸 유도체의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R1b는 바람직하게는 수소 원자 또는 C1-3알킬을 나타내고, R2b는 바람직하게는 수소 원자 또는 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소 및/또는 염소 원자를 갖는 할로알킬을 나타내며, X는 바람직하게는 클로로를 나타낸다.
일반식 (IV)의 이소티아졸 유도체는 문헌에 아직 개시되지 않았다. 이들은하기 일반식 (XXVI)의 이소티아졸 유도체를 할로겐화제, 예를 들어 티오닐 클로라이드, 옥시염화인, 티오닐 브로마이드, 옥시브롬화인 등과 반응시켜 제조할 수 있다:
상기 식에서, R1b및 R2b는 상기 언급된 의미를 갖는다.
상기 언급된 일반식 (XXVI)의 화합물은 상기 언급된 본 발명의 일반식 (I)에 포함되며, 상기 언급된 제조방법 (p)에 따라 상기 언급된 일반식 (XXII)의 공지된 화합물로부터 용이하게 제조될 수 있다.
R1b및 R2b가 둘다 수소를 나타내는 일반식 (IV)의 이소티아졸 유도체는 문헌 [Tetrahedron Letters Vol. 38, p. 7107-7110(1994)]에 기술된 방법에 따라 상기 언급된 일반식 (XXII)의 화합물로부터 용이하게 제조될 수 있다.
하기 화합물이 일반식 (IV)의 이소티아졸 유도체의 예로 언급될 수 있다:
N-클로로메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드,
N-클로로메틸-N-메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드,
N-(1-클로로메틸-2,2,2-트리플루오로에틸)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드.
일반식 (V)는 본 발명에 따른 방법 (b)를 수행하는데 반응 성분으로 필요한 화합물의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, Zb는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R4, R5, R6및 R7은 바람직하게는 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 가지며, M은 바람직하게는 수소 원자, 리튬 또는 소듐을 나타낸다.
하기 화합물들이 일반식 (V) 물질의 예로 언급될 수 있다:
4-클로로페놀,
티오페놀,
피페리딘,
소듐 벤젠설피네이트.
일반식 (V)의 화합물은 공지되었다.
일반식 (VIa)는 본 발명에 따른 방법 (c)를 수행하는데 출발물질로 필요한 이소티아졸 유도체의 일반 정의를 제공한다. 이러한 유형의 화합물은 본 발명에 따른 방법 (b)와 관련하여 이미 설명되었다.
일반식 (VI)는 본 발명에 따른 방법 (c)를 수행하는데 반응 성분으로 필요한 인 화합물의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R8은 바람직하게는 이 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.
일반식 (VI)의 인 화합물은 이미 알려졌다. 트리에틸 포스파이트가 일반식 (VI)의 인 화합물의 예로 언급될 수 있다.
일반식 (VII)은 본 발명에 따른 방법 (d)를 수행하는데 출발물질로 필요한 이소티아졸 유도체의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, Ad는 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서, R1은 바람직하게는 이 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.
Ad가 황 원자를 나타내는 일반식 (VII)의 화합물은 신규하며, 일반식 (I)에 포함된다. 이는 본 발명에 따른 방법 (f)에 의해 제조될 수 있다.
Ad가를 나타내는 일반식 (VII)의 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법으로 제조될 수 있다(참조: US-A 5,240,951).
하기 화합물들이 일반식 (VII)의 이소티아졸 유도체의 예로 언급될 수 있다:
3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드,
N-메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드.
일반식 (VIII)은 본 발명에 따른 방법 (d)를 수행하는데 반응 성분으로 필요한 클로로메틸 화합물의 일반 정의를 제공한다.
이 일반식에서,
Zd는 바람직하게는 불소, 염소, 브롬, C1-3알킬, 메톡시, 에톡시, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, C3-4알케닐, 페닐 및/또는 1 내지 3개의 불소 및/또는 염소 원자를 갖는 할로페닐중에서 선택된 3개 이하의 치환체에 의해 치환될 수 있고 옥소 또는 스피로-결합된 C3-5알리사이클릭 그룹에 의해 또한 일- 또는 이치환될 수 있으며 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zd는 바람직하게는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-3알킬 및/또는 페닐중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있으며 1 또는 2개의 옥소 그룹에 의해 또한 치환될 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zd는 시아노 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R4, R5, R6및 R7은 바람직하게는 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.
Zd가 불소, 염소, 메틸, 에틸, 프로필, 메톡시, 트리플루오로메틸, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 2-메틸-1-프로페닐 및/또는 1 내지 3개의 불소 및/또는 염소 원자에 의해 임의로 치환된 페닐중에서 선택된 3개 이하의 치환체에 의해 치환될 수 있고 옥소 또는 스피로-결합된 C3-5알리사이클릭 그룹에 의해 또한 일- 또는 이치환될 수 있으며 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zd는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, 메틸 및/또는 페닐중에서 선택된 1내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있으며 1 또는 2개의 옥소 그룹에 의해 또한 치환될 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zd는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서,
R4, R5, R6및 R7은 특히 바람직하게는 이들 래디칼에 대해 상기 특히 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는 일반식 (VIII)의 화합물이 특히 바람직하다.
하기 화합물들이 일반식 (VIII)의 클로로메틸 화합물의 예로 언급될 수 있다:
N-클로로메틸-N-메틸아세트아미드,
클로로메틸 에틸 에테르,
클로로메틸 메틸 티오에테르.
일반식 (VIII)의 클로로메틸 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 따라 제조될 수 있다(참조: Tetrahedron Letters 38(1994) 7107-7110).
일반식 (IX)는 본 발명에 따른 방법 (e)를 수행하는데 출발물질로 필요한 포르밀 화합물의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R2는 바람직하게는 이 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.
하기 화합물들이 일반식 (IX)의 포르밀 화합물의 예로 언급될 수 있다:
포름알데하이드,
n-부티르알데하이드.
일반식 (IX)의 포르밀 화합물은 공지되었다.
구조식 (X)의 1H-벤조트리아졸은 본 발명에 따른 방법 (e)를 수행하는데 반응 성분으로 필요하다. 이 화합물 역시 공지되었다.
일반식 (XI)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카보닐클로라이드는 본 발명에 따른 방법 (f)를 수행하는데 출발물질로 필요하다. 이 화합물 또한 공지되었다(참조: JP-A 59024-1993).
일반식 (XII)는 본 발명에 따른 방법 (f)를 수행하는데 출발물질로 또한 필요한 화합물의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, M은 바람직하게는 이 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.
Y1은 -SH 또는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서 A, Q, Z, j, k, n, R1, R2, R3, R4, R5, R9, R10, R11, R12, R14는 바람직하게는 이들 래디칼에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 가지며,
Zf1은 바람직하게는 불소, 염소, 브롬, C1-3알킬, 메톡시, 에톡시, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, C3-4알케닐, 페닐 및/또는 1 내지 3개의 불소 및/또는 염소 원자를 갖는 할로페닐중에서 선택된 3개 이하의 치환체에 의해 치환될 수 있고, 옥소 또는 스피로-결합된 C3-5알리사이클릭에 의해 또한 일- 또는 이치환될 수 있으며 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zf1은 바람직하게는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-3알킬 및/또는 페닐중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있고 1 또는 2개의 옥소에 의해 또한 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내고,
Zf2는 바람직하게는 C1-3알킬 및/또는 옥소중에서 선택된 3개 이하의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 또는 2의 5-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며,
Z5f는 바람직하게는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 또는 불소, 염소 및/또는 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타낸다.
Zf1은 특히 바람직하게는 불소, 염소, 메틸, 에틸, 프로필, 메톡시, 트리플루오로메틸, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 2-메틸-1-프로페닐 및/또는 1 내지 3개의 불소 및/또는 염소 원자에 의해 임의로 치환된 페닐중에서 선택된 3개 이하의 치환체에 의해 치환될 수 있고, 옥소 또는 스피로-결합된 C3-5알리사이클릭에 의해 또한 일- 또는 이치환될 수 있으며 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
Zf1은 특히 바람직하게는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, 메틸 및/또는 페닐중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있고 1 또는 2개의 옥소에 의해 또한 치환될 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 나타내고,
Zf2는 특히 바람직하게는 메틸, 에틸, n-프로필 및/또는 옥소중에서 선택된 3개 이하의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 또는 2의 5-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며,
Z5f는 특히 바람직하게는 포르밀, 아세틸, 피발로일, 또는 불소, 염소 및/또는 메틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타낸다.
하기 화합물들이 일반식 (XII)의 화합물의 예로 언급될 수 있다:
황화수소,
N-(1-아미노부틸)아세트아미드,
N-(2-시아노-2-페닐비닐)-N-메틸하이드라진,
5-페닐-2,3-디하이드로-1H-피라졸론,
2-아미노메틸-1-메틸피롤리딘,
N-알릴아닐린,
N,N-디메틸에틸렌디아민,
1-하이드록시메틸-3,5-디메틸피라졸,
1-하이드록시메틸-4-메틸-3-트리플루오로메틸-4,5-디하이드로-1H-1,2,4-트리아졸-5-온,
3-하이드록시-1-메틸피롤리딘-2,5-디온,
비스 (2-하이드록시에틸)아민,
알릴아민,
3-아미노-1,2-프로판디올.
일반식 (XII)의 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다(참조: J. Org. Chem. 55(1990), 2206-2214).
일반식 (XIII)은 본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는데 출발물질로 필요한3,4-디클로로이소티아졸-5-카복실산 에스테르의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R8은 바람직하게는 메틸 또는 에틸을 나타낸다. 따라서, 하기 화합물들이 일반식 (XIII)의 에스테르의 예로 언급될 수 있다:
메틸 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복실레이트,
에틸 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복실레이트.
일반식 (XIII)의 에스테르는 공지되었다(참조: JP-A 59024-1993).
일반식 (XIV)는 본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는데 반응 성분으로 필요한 화합물의 일반 정의를 제공한다.
이 일반식에서,
Y2는
중에서 선택된 그룹을 나타내고,
여기에서 Zf1, j, n, R2, R3, R9, R10, R11, R12, R14및 R5f는 바람직하게는 이들 래디칼 및 지수에 대해 상기 바람직한 것으로 언급된 의미를 갖는다.
하기 화합물들이 일반식 (XIV)의 화합물의 예로 언급될 수 있다:
2-아미노메틸-1-메틸피롤리딘,
N-메틸에틸렌디아민,
2-아미노프로판올,
3-아미노-1,2-프로판디올,
알릴아민.
이미 상기에서 언급한 바와 같이, 일반식 (XIV)의 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다.
구조식 (XV)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카보하이드라지드는 본 발명에 따른 방법 (h), (i) 및 (j)를 수행하는데 출발물질로 필요하다. 이 화합물은 이미 알려졌다(참조: DE-A 2 634 053).
일반식 (XVI)는 본 발명에 따른 방법 (h)를 수행하는데 반응 성분으로 필요한 화합물의 일반 정의를 제공한다.
이 일반식에서,
Rh1은 바람직하게는 불소, 염소 및/또는 C1-3알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 페닐을 나타내고,
Rh2는 바람직하게는 메틸 또는 에틸을 나타내며,
Rh3은 바람직하게는 시아노, 메톡시카보닐 또는 에톡시카보닐을 나타낸다.
디에틸 4-클로로페닐에틸리덴말로네이트가 일반식 (XVI)의 화합물의 예로 언급될 수 있다.
일반식 (XVI)의 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다(참조: Organic Reactions 15, 204-599).
일반식 (XVII)은 본 발명에 따른 방법 (i)를 수행하는데 반응 성분으로 필요한 화합물의 일반 정의를 제공한다.
이 일반식에서,
Ri1은 바람직하게는 수소 원자, C1-4알킬, 또는 불소, 염소 및 C1-3알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 페닐을 나타내고,
Ri2는 바람직하게는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타낸다.
2-메틸-3-페닐-2-프로페노일 클로라이드가 일반식 (XVII)의 화합물의 예로 언급될 수 있다.
일반식 (XVII)의 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다(참조: SHIN JIKKEN KAGAKU KOUZA (New Lecture of Experimental Chemistry), Vol. 14, p. 1104-1120, Maruzen 발행).
일반식 (XVIII)은 본 발명에 따른 방법 (j)를 수행하는데 반응 성분으로 필요한 화합물의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R3은 바람직하게는 이 래디칼에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
2-포르밀-2-페닐아세토니트릴이 일반식 (XVIII)의 화합물의 예로 언급될 수 있다.
일반식 (XVIII)의 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다(참조: US-A 4,209,621).
본 발명에 따른 방법 (k)를 수행하는 경우, 일반식 (Ia)의 이소티아졸카복실산 유도체가 출발물질로 필요하다. 이 일반식에서, R1, R2및 R7은 바람직하게는 이들 래디칼에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
N-페닐머캅토메틸-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드가 일반식 (Ia)의 화합물의 예로 언급될 수 있다.
일반식 (Ia)의 화합물은 본 발명에 따른 방법 (b) 및 (d)에 의해 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (k)를 수행하는데 적합한 산화제는 과산화수소 및 m-클로로퍼벤조산이다.
일반식 (XIX)는 본 발명에 따른 방법 (l)을 수행하는데 반응 성분으로 필요한 화합물의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R15는 바람직하게는 이 래디칼에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 가지며, T1은 바람직하게는 메톡시또는 에톡시를 나타낸다.
디메틸포름아미드 디메틸아세탈이 일반식 (XIX)의 화합물의 예로 언급될 수 있다.
일반식 (XIX)의 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다(참조: Chem. Ber. 89(1956), 2060; Chem. Ber 96(1963), 1350; Chem. Ber. 101(1968), 41; Chem. Ber. 104(1971), 3475 및 Liebigs Ann. Chem. 641(1961), 1).
본 발명에 따른 방법 (m)을 수행하는 경우, 일반식 (Ib)의 이소티아졸카복실산 유도체가 출발물질로 필요하다. 이 일반식에서, A, R9, R12및 n은 바람직하게는 이들 래디칼 및 지수에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
N-알릴-N-페닐-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드가 일반식 (Ib)의 화합물의 예로 언급될 수 있다.
일반식 (Ib)의 화합물은 본 발명에 따른 방법 (f)에 의해 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (m)을 수행하는데 적합한 산화제는 C=C 이중결합에 산소를 제공할 수 있는 물질이다. 이러한 형태의 바람직한 산화제는 산화오스뮴 (VIII)이다.
본 발명에 따른 방법 (n)을 수행하는 경우, 일반식 (Ic)의 이소티아졸카복실산 유도체가 출발물질로 필요하다. 이 일반식에서, A, R9, R12및 n은 바람직하게는 이들 래디칼 및 지수에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
N-(2,3-디하이드록시프로필)-3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드가 일반식 (Ic)의 화합물의 예로 언급될 수 있다.
일반식 (Ic)의 화합물은 본 발명에 따른 방법 (f) 및 (m)에 의해 제조될 수 있다.
일반식 (XX)는 본 발명에 따른 방법 (n)을 수행하는데 출발물질로 필요한 카보닐 유도체의 일반 정의를 제공하다. 이 일반식에서, R13은 바람직하게는 이 래디칼에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 가지며, T2는 바람직하게는 메톡시 또는 에톡시를 나타내거나, 두 T2래디칼이 함께, 옥소 그룹을 나타낸다.
하기 화합물들이 일반식 (XX)의 카보닐 유도체의 예로 언급될 수 있다:
아세톤 디메틸아세탈,
사이클로헥사논.
일반식 (XX)의 카보닐 유도체는 공지되었다.
일반식 (XXI)는 본 발명에 따른 방법 (o)을 수행하는데 반응 성분으로 필요한 시아노 화합물의 일반 정의를 제공하다. 이 일반식에서, R3은 바람직하게는 이 래디칼에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
N-(클로로시아노메틸리덴)-4-트리플루오로메틸아닐린이 일반식 (XXI)의 시아노 화합물의 예로 언급될 수 있다:
일반식 (XXI)의 시아노 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될수 있다(참조: J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1(1997), 201).
일반식 (XXII)는 본 발명에 따른 방법 (p)을 수행하는데 출발물질로 필요한 3,4-디클로로이소티아졸 유도체의 일반 정의를 제공하다. 이 일반식에서, R1b는 바람직하게는 이 래디칼에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
일반식 (XXII)의 3,4-디클로로이소티아졸 유도체는 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다(참조: US-A 5,240,951).
일반식 (XXIII)은 본 발명에 따른 방법 (p)을 수행하는데 반응 성분으로 필요한 화합물의 일반 정의를 제공하다.
이 일반식에서, R2p는 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소 및/또는 염소 원자를 갖는 할로알킬을 나타내거나, 수소 원자를 나타내고,
T3은 하이드록시를 나타내며,
T4는 바람직하게는 메톡시 또는 에톡시를 나타내거나,
T3및 T4는 함께, 옥소 그룹을 나타낸다.
하기 화합물들이 일반식 (XXIII)의 화합물의 예로 언급될 수 있다:
파라포름알데하이드,
트리플루오로아세트알데하이드 헤미에틸아세탈.
일반식 (XXIII)의 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (q) 및 (r)을 수행하는 경우, 일반식 (Id)의 3,4-디클로로이소티아졸 유도체가 출발물질로 필요하다. 이 일반식에서, R1b는 바람직하게는 이 래디칼에 대해 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
일반식 (Id)의 화합물은 공지되었거나, 본 발명에 따른 방법 (d)에 의해 제조될 수 있다.
일반식 (XXIV)는 본 발명에 따른 방법 (q)를 수행하는데 반응 성분으로 필요한 화합물의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, R6d는 바람직하게는 알킬 그룹에 1 내지 3개의 탄소 원자를 갖는 알킬카보닐을 나타내거나, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소 및/또는 염소 원자를 갖는 할로알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있는 벤조일을 나타낸다.
일반식 (XXIV)의 클로로-치환된 화합물은 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다.
일반식 (XXV)는 본 발명에 따른 방법 (r)을 수행하는데 반응 성분으로 필요한 이소시아네이트의 일반 정의를 제공한다. 이 일반식에서, Rr은 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소 및/또는 염소 원자를 갖는 할로알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있는 페닐을 나타낸다.
일반식 (XXV)의 이소시아네이트는 공지되었거나, 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (a)를 수행하는데 적합한 희석제는 지방족 카복실산,예를 들어 아세트산 등이다.
본 발명에 따른 방법 (a)를 수행하는데 적합한 촉매는 통상 사용되는 모든 산 촉매이다. 이러한 촉매의 예로 무기산, 예를 들어 황산이 언급될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (a)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 0 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 10 내지 약 130 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (a)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (a)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 구조식 (II)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드를 희석제, 예를 들어 아세트산의 존재하 및 촉매, 예를 들어 황산의 존재하에서 1 내지 1.5 몰의 구조식 (III)의 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (b)는 희석제의 존재하에서 수행될 수 있다. 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 (DGM) 등; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소프로필 케톤,메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등; 및 염기, 예를 들어 피리딘 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (b)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 무기 염기로는 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 수산화물, 탄산염, 중탄산염 등, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등; 무기 알칼리 금속 아미드, 예를 들어 리튬 아미드, 소듐 아미드, 포타슘 아미드 등이 바람직하고; 바람직한 유기 염기는 알콜레이트, 삼급 아민, 디알킬아미노아닐린 및 피리딘, 예를 들어 트리에틸아민, 1,1,4,4-테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA), N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP), 1,4-디아자비사이클로[2,2,2]옥탄(DABCO) 및 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]운덱-7-엔(DBU) 등; 유기 리튬 화합물, 예를 들어 메틸 리튬, n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬, t-부틸 리튬, 페닐 리튬, 디메틸 코퍼 리튬, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 사이클로헥실이소프로필아미드, 리튬 디사이클로헥실아미드, n-부틸 리튬-DABCO, n-부틸 리튬-DBU, n-부틸 리튬-TMEDA 등이다.
본 발명에 따른 방법 (b)는 또한 상-전이 촉매의 존재하에서 수행될 수 있다. 이 경우 적합한 희석제는 물, 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 (DGM) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등이다.
상-전이 촉매의 예로서 사급 이온, 예를 들어 테트라메틸암모늄 브로마이드, 테트라프로필암모늄 브로마이드, 테트라부틸암모늄 브로마이드, 테트라부틸암모늄 하이드로젠 설페이트, 테트라부틸암모늄 요오다이드, 트리옥틸메틸암모늄 클로라이드, 벤질트리에틸암모늄 브로마이드, 부틸피리디늄 브로마이드, 헵틸피리디늄 브로마이드, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드 등; 크라운 에테르, 예를 들어 디벤조-18-크라운-6, 디사이클로헥실-18-크라운-6, 18-크라운-6 등; 크립탄드, 예를 들어 [2.2.2]-크립테이트, [2.1.1]-크립테이트, [2.2.1]-크립테이트, [2.2.B]-크립테이트, [2020S]-크립테이트, [3.2.2]-크립테이트 등이 언급될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (b)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -80 내지 약 +200 ℃, 바람직하게는 약 -10 내지 약 +130 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (b)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (b)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (IV)의 이소티아졸 유도체를 희석제, 예를 들어 디메틸포름아미드의 존재하 및 1 내지 1.5 몰의 산 결합제, 예를 들어 수소화나트륨의 존재하에서 1 내지 1.5 몰의 일반식 (V)의 화합물과 반응시킨다.
특정 예에서, 본 발명에 따른 방법 (b)는 또한 일반식 (XXVI)의 화합물을 출발물질로 하여 이를 일반식 (IV)의 화합물로 전환시키고, 이를 사전 분리없이 일반식 (V)의 화합물과 반응시킴으로써 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (c)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등; 및 염기, 예를 들어 피리딘 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (c)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 0 내지 약 200 ℃, 바람직하게는 약 20 내지 약 150 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (c)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (c)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (IVa)의 이소티아졸 유도체를 1 내지 50 몰의 일반식 (VI)의 인 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (d)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란 (THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등; 및 염기, 예를 들어 피리딘 등이 바람직하게사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (d)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 이들로는 바람직하게는 무기 염기, 예를 들어 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 수산화물, 탄산염, 중탄산염 등, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등; 무기 알칼리 금속 아미드, 예를 들어 리튬 아미드, 소듐 아미드, 포타슘 아미드 등; 유기 염기, 예를 들어 알콜레이트, 삼급 아민, 디알킬아미노아닐린 및 피리딘, 예를 들어 트리에틸아민, 1,1,4,4-테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA), N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP), 1,4-디아자비사이클로[2,2,2]옥탄(DABCO), 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]운덱-7-엔(DBU) 등; 유기 리튬 화합물, 예를 들어 메틸 리튬, n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬, t-부틸 리튬, 페닐 리튬, 디메틸 코퍼 리튬, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 사이클로헥실이소프로필아미드, 리튬 디사이클로헥실아미드, n-부틸 리튬-DABCO, n-부틸 리튬-DBU, n-부틸 리튬-TMEDA 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (d)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -80 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 -20 내지 약 +100 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (d)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (d)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (VII)의 이소티아졸 유도체를 희석제, 예를 들어 디메틸포름아미드의 존재하 및 산 결합제, 예를 들어 수소화나트륨의 존재하에서 1 내지 1.5 몰의 일반식 (VIII)의 클로로메틸 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (e)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (e)를 수행하는데 적합한 촉매는 모든 통상의 산 촉매이다.
이러한 형태로 바람직한 촉매는 무기산, 예를 들어 염산, 황산, 질산, 브롬화수소산, 아황산수소나트륨 등; 유기산, 예를 들어 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 프로피온산, 메탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산 등; 유기 아민 하이드로클로라이드, 예를 들어 피리딘 하이드로클로라이드, 트리에틸아민 하이드로클로라이드 등; 아민 설포네이트, 예를 들어 피리딘 p-톨루엔설포네이트, 트리에틸아민 p-톨루엔설포네이트 등이다.
본 발명에 따른 방법 (e)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -20 내지 약 +200 ℃, 바람직하게는 약 20 내지 약 150 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (e)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (e)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 구조식 (II)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드를 희석제, 예를 들어 톨루엔의 존재하 및 산 촉매, 예를 들어 p-톨루엔설폰산 모노하이드레이트의 존재하에서 1 내지 1.5 몰의 일반식 (IX)의 포르밀 화합물 및 1 내지 1.5 몰의 구조식 (X)의 1H-벤조트리아졸과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (f)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매 및 물이다. 이들로는 바람직하게는 물, 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄 (DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (f)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 이들로는 바람직하게는 무기 염기, 예를 들어 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 수산화물, 탄산염, 중탄산염 등, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등; 무기 알칼리 금속 아미드, 예를 들어 리튬 아미드, 소듐 아미드, 포타슘 아미드 등; 유기 염기, 예를 들어 알콜레이트, 삼급 아민, 디알킬아미노아닐린 및 피리딘, 예를 들어 트리에틸아민, 1,1,4,4-테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA), N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP), 1,4-디아자비사이클로[2,2,2]옥탄(DABCO), 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]운덱-7-엔(DBU) 등; 유기 리튬 화합물, 예를 들어 메틸 리튬, n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬, t-부틸 리튬, 페닐 리튬, 디메틸 코퍼 리튬, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 사이클로헥실이소프로필아미드, 리튬 디사이클로헥실아미드, n-부틸 리튬-DABCO, n-부틸 리튬-DBU, n-부틸 리튬-TMEDA 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (f)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -80 내지 약 +200 ℃, 바람직하게는 약 -300 내지 약 +100 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (f)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (f)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 구조식 (XI)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카보닐클로라이드를 희석제, 예를 들어 메틸렌 클로라이드의 존재하 및 산 결합제, 예를 들어 트리에틸아민의 존재하에서 일반식 (XII)의 화합물과 반응시킨다.
특정 예에서, 본 발명에 따른 방법 (f)는 또한
Y1이 일반식의 그룹을 나타내는 일반식 (XII)의 화합물을 문헌 [J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 2339-2344(1988)]에 기술된 방법에 의해 제조한 후, 이를 사전 분리없이 3,4-디클로로이소티아졸-5-카보닐 클로라이드와 반응시킴으로써 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매 및 물이다. 이들로는 바람직하게는 물, 임의로 염소화될 수 있는지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄 (DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 이들로는 바람직하게는 무기 염기, 예를 들어 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 수산화물, 탄산염, 중탄산염 등, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등; 무기 알칼리 금속 아미드, 예를 들어 리튬 아미드, 소듐 아미드, 포타슘 아미드 등; 유기 염기, 예를 들어 알콜레이트, 삼급 아민, 디알킬아미노아닐린 및 피리딘, 예를 들어 트리에틸아민, 1,1,4,4-테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA), N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP), 1,4-디아자비사이클로[2,2,2]옥탄(DABCO), 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]운덱-7-엔(DBU) 등; 유기 리튬 화합물, 예를 들어 메틸 리튬, n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬, t-부틸 리튬, 페닐 리튬, 디메틸 코퍼 리튬, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 사이클로헥실이소프로필아미드, 리튬 디사이클로헥실아미드, n-부틸 리튬-DABCO, n-부틸 리튬-DBU, n-부틸 리튬-TMEDA 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -80 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 -20 내지 약 +100 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (g)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (g)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (XIII)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카복실산 에스테르를 희석제, 예를 들어 메탄올의 존재하에서 1 내지 1.5 몰의 일반식 (XIV)의 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (h)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매 및 물이다. 이들로는 바람직하게는 물, 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등; 염기, 예를 들어 피리딘 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (h)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 이들로는 바람직하게는 무기 염기, 예를 들어 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수산화물, 탄산염, 중탄산염, 아세테이트 등, 예를 들어 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 소듐 아세테이트 등; 유기 염기, 예를 들어 삼급 아민, 디알킬아미노아닐린 및 피리딘, 예를 들어 트리에틸아민, 1,1,4,4-테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA), N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP), 1,4-디아자비사이클로[2,2,2]옥탄(DABCO), 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]운덱-7-엔(DBU) 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (h)를 수행하는데 적합한 촉매는 모든 통상의 산 촉매이다. 이러한 형태로 바람직한 촉매는 무기산, 예를 들어 염산, 황산, 질산, 브롬화수소산, 아황산수소나트륨 등; 유기산, 예를 들어 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 프로피온산, 메탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산 등; 유기 아민 하이드로클로라이드, 예를 들어 피리딘 하이드로클로라이드, 트리에틸아민 하이드로클로라이드 등; 아민 설포네이트, 예를 들어 피리딘 p-톨루엔설포네이트, 트리에틸아민 p-톨루엔설포네이트 등이다.
본 발명에 따른 방법 (h)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -20 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 약 120 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (h)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (h)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 구조식 (XV)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카보하이드라지드를 희석제, 예를 들어 에탄올의 존재하 및 산 결합제, 예를 들어 소듐 아세테이트의 존재하에서 1 내지 1.5 몰의 일반식 (XVI)의 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (i)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (i)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 이들로는 바람직하게는 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬 등; 무기 알칼리 금속 아미드, 예를 들어 리튬 아미드, 소듐 아미드, 포타슘 아미드 등; 유기 리튬 화합물, 예를 들어 메틸 리튬, n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬, t-부틸 리튬, 페닐 리튬, 디메틸 코퍼 리튬, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 사이클로헥실이소프로필아미드, 리튬 디사이클로헥실아미드, n-부틸 리튬-DABCO, n-부틸 리튬-DBU, n-부틸 리튬-TMEDA 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (i)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -80 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 -20 내지 약 +50 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (i)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (i)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 구조식 (XV)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카보하이드라지드를 희석제, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드의 존재하 및 산 결합제, 예를 들어 수소화나트륨의 존재하에서 1 내지 1.2 몰의 일반식 (XVII)의 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (j)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매 및 물이다. 이들로는 바람직하게는 물, 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄 (DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (j)를 수행하는데 적합한 촉매는 모든 통상의 산 촉매이다. 이러한 형태로 바람직한 촉매는 무기산, 예를 들어 염산, 황산, 질산, 브롬화수소산, 아황산수소나트륨 등; 유기산, 예를 들어 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 프로피온산, 메탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산 등; 유기 아민 하이드로클로라이드, 예를 들어 피리딘 하이드로클로라이드, 트리에틸아민 하이드로클로라이드 등; 아민 설포네이트, 예를 들어 피리딘 p-톨루엔설포네이트, 트리에틸아민 p-톨루엔설포네이트 등이다.
본 발명에 따른 방법 (j)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -20 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 약 100 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (j)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (j)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 구조식 (XV)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카보하이드라지드를 희석제, 예를 들어 에탄올의 존재하에서 1 내지 1.2 몰의 일반식 (XVIII)의 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (k)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (k)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -20 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 약 100 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (k)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (k)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (Ia)의 이소티아졸카복실산 유도체를 희석제, 예를 들어 메틸렌 클로라이드의 존재하에서 1 내지 2 몰의 산화제, 예를 들어 m-클로로퍼벤조산과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (l)을 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등; 및 염기, 예를 들어 피리딘 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (l)을 수행하는데 적합한 촉매는 통상의 모든 산 촉매이다. 이러한 유형의 바람직한 촉매는 무기산, 예를 들어 염산, 황산, 질산, 브롬화수소산, 아황산수소나트륨 등; 유기산, 예를 들어 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 프로피온산, 메탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산 등; 유기 아민 하이드로클로라이드, 예를 들어 피리딘 하이드로클로라이드, 트리에틸아민 하이드로클로라이드 등; 아민 설포네이트, 예를 들어 피리딘 p-톨루엔설포네이트, 트리에틸아민 p-톨루엔설포네이트 등이다.
본 발명에 따른 방법 (l)을 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 0 내지 약 200 ℃, 바람직하게는 약 20 내지 약 150 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (l)은 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (l)을 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 구조식 (II)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드를 1 내지 100 몰의 일반식 (XIX)의 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (m)을 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매 및 물이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등; 및 염기, 예를 들어 피리딘 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (m)을 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -20 내지 약 +100 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 약 50 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (m)은 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (m)을 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (Ib)의 이소티아졸카복실산 유도체를 산화오스뮴(VIII)의 존재하 및 희석제, 예를 들어 수성 테트라하이드로푸란(물:테트라하이드로푸란 = 1:30)의 존재하에서 1 내지 2 몰의 산화제, 예를 들어 트리메틸아민 N-옥사이드와 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (n)을 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드 (DMSO), 설폴란 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (n)을 수행하는데 적합한 촉매는 모든 통상의 산 촉매이다. 이러한 형태로 바람직한 촉매는 무기산, 예를 들어 염산, 황산, 질산, 브롬화수소산, 아황산수소나트륨 등; 유기산, 예를 들어 포름산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 프로피온산, 메탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산 등; 유기 아민 하이드로클로라이드, 예를 들어 피리딘 하이드로클로라이드, 트리에틸아민 하이드로클로라이드 등; 아민 설포네이트, 예를 들어 피리딘 p-톨루엔설포네이트, 트리에틸아민 p-톨루엔설포네이트 등이다.
본 발명에 따른 방법 (n)을 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -20 내지 약 +200 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 약 150 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (n)은 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (n)을 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (Ic)의 이소티아졸카복실산 유도체를 희석제의 존재하 및 촉매, 예를 들어 p-톨루엔설폰산의 존재하에서 1 내지 2 몰의 일반식 (XX)의 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (o)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드 (DMSO), 설폴란 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (o)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 이들로는 바람직하게는 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬 등; 무기 알칼리 금속 아미드, 예를 들어 리튬 아미드, 소듐 아미드, 포타슘 아미드 등; 유기 리튬 화합물, 예를 들어 메틸 리튬, n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬, t-부틸 리튬, 페닐 리튬, 디메틸 코퍼 리튬, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 사이클로헥실이소프로필아미드, 리튬 디사이클로헥실아미드, n-부틸 리튬-DABCO, n-부틸 리튬-DBU, n-부틸 리튬-TMEDA 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (o)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -80 내지 약 +100 ℃, 바람직하게는 약 -20 내지 약 +80 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (o)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (o)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 구조식 (II)의 3,4-디클로로이소티아졸-5-카복사미드를 희석제, 예를 들어 테트라하이드로푸란의 존재하 및 산 결합제, 예를 들어 수소화나트륨의 존재하에서 1 내지 1.2 몰의 일반식 (XXI)의 시아노 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (p)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 에틸렌 글리콜 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드 (DMSO), 설폴란 등; 및 염기, 예를 들어 피리딘 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (p)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 이들로는 바람직하게는 무기 염기, 예를 들어 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 수산화물, 탄산염, 중탄산염 등, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘 등; 무기 알칼리 금속 아미드, 예를 들어 리튬 아미드, 소듐 아미드, 포타슘 아미드 등; 유기 염기, 예를 들어 알콜레이트, 삼급 아민, 디알킬아미노아닐린 및 피리딘, 예를 들어 트리에틸아민, 1,1,4,4-테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA), N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP), 1,4-디아자비사이클로[2,2,2]옥탄(DABCO), 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]운덱-7-엔(DBU) 등; 유기 리튬 화합물, 예를 들어 메틸 리튬, n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬, t-부틸 리튬, 페닐 리튬, 디메틸 코퍼 리튬, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 사이클로헥실이소프로필아미드, 리튬 디사이클로헥실아미드, n-부틸 리튬-DABCO, n-부틸 리튬-DBU, n-부틸 리튬-TMEDA 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (p)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -20 내지 약 +200 ℃, 바람직하게는 약 0 내지 약 150 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (p)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (p)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (XXII)의 3,4-디클로로이소티아졸 유도체를 희석제, 예를 들어 톨루엔의 존재하 및 1 내지 1.2 몰의 산 결합제, 예를 들어 4-디메틸아미노피리딘의 존재하에서 1 내지 2 몰의 일반식 (XIII)의 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (q)를 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매 및 물이다. 이들로는 바람직하게는 물, 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄 (DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 (DGM) 등; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등; 및 염기, 예를 들어 피리딘 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (q)를 수행하는데 적합한 산 결합제는 모든 통상의 무기 및 유기 염기이다. 이들로는 바람직하게는 무기 염기, 예를 들어 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 수산화물, 탄산염, 중탄산염 등, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 유기 염기, 예를 들어 알콜레이트, 삼급 아민, 디알킬아미노아닐린 및 피리딘, 예를 들어 트리에틸아민, 1,1,4,4-테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA), N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘(DMAP), 1,4-디아자비사이클로 [2,2,2]옥탄(DABCO), 1,8-디아자비사이클로[5,4,0]운덱-7-엔(DBU) 등; 유기 리튬 화합물, 예를 들어 메틸 리튬, n-부틸 리튬, sec-부틸 리튬, t-부틸 리튬, 페닐 리튬, 디메틸 코퍼 리튬, 리튬 디이소프로필아미드, 리튬 사이클로헥실이소프로필아미드, 리튬 디사이클로헥실아미드, n-부틸 리튬-DABCO, n-부틸 리튬-DBU, n-부틸 리튬-TMEDA 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (q)를 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -80 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 -10 내지 약 +100 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (q)는 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (q)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (Id)의 3,4-디클로로이소티아졸 유도체를 희석제, 예를 들어 메틸렌 클로라이드의 존재하 및 산 결합제, 예를 들어 트리에틸아민의 존재하에서 1 내지 1.2 몰의 일반식 (XXIV)의 클로로-치환된 화합물과 반응시킨다.
본 발명에 따른 방법 (r)을 수행하는데 적합한 희석제는 통상적인 모든 불활성 유기 용매이다. 이들로는 바람직하게는 임의로 염소화될 수 있는 지방족, 지환식 및 방향족 탄화수소, 예를 들어, 펜탄, 헥산, 사이클로헥산, 석유 에테르, 리그로인, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등; 에테르, 예를 들어, 에틸 에테르, 메틸 에틸 에테르, 이소프로필 에테르, 부틸 에테르, 디옥산, 디메톡시에탄(DME), 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르(DGM) 등; 케톤, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 아크릴로니트릴 등; 에스테르, 예를 들어 에틸 아세테이트, 아밀 아세테이트 등; 산 아미드, 예를 들어, 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸아세트아미드(DMA), N-메틸피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭 트리아미드(HMPA) 등; 설폰 및 설폭사이드, 예를 들어 디메틸 설폭사이드(DMSO), 설폴란 등; 및 염기, 예를 들어 피리딘 등이 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (r)을 수행하는데 적합한 산 결합제는 무기 염기, 예를들어 알칼리 금속 및 알칼리 토금속의 수소화물, 탄산염 및 중탄산염, 예를 들어 수소화나트륨, 수소화리튬, 탄산나트륨 등이다.
본 발명에 따른 방법 (r)을 수행하는데 적합한 촉매는 삼급 아민, 디알킬아미노아닐린 및 피리딘, 예를 들어 트리에틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘(DAMP) 등이다.
본 발명에 따른 방법 (r)을 수행하는 경우, 반응 온도는 실질적으로 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 반응은 일반적으로, 약 -80 내지 약 +150 ℃, 바람직하게는 약 -10 내지 약 +100 ℃ 의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법 (r)은 일반적으로 대기압하에서 수행되지만, 경우에 따라 또한 승압 또는 감압하에서 수행될 수도 있다.
본 발명에 따른 방법 (r)를 수행하는 경우, 일반적으로 1 몰의 일반식 (Id)의 3,4-디클로로이소티아졸 유도체를 희석제, 예를 들어 메틸렌 클로라이드의 존재하 및 촉매량의 촉매, 예를 들어 피리딘의 존재하에서 1 내지 1.2 몰의 일반식 (XXV)의 이소시아네이트와 반응시킨다.
상기 언급된 방법에 의해 제조된 일반식 (I)의 화합물은 각 경우 통상적인 방법에 의해 반응 혼합물로부터 분리될 수 있으며, 공지된 방법, 예를 들어 결정화, 크로마토그래피 등에 의해 정제될 수 있다.
본 발명에 따른 화합물은 강력한 살미생물 활성을 나타낸다. 따라서, 이들은 농업 및 원예에서 식물병원성 진균 및 박테리아와 같은 원치않는 미생물을 구제하기 위해 사용될 수 있다. 이 화합물은 원치않는 미생물을 직접 구제하기 위해서 뿐만 아니라 원치않는 식물 병원균에 의한 침습에 대해 식물에게 내성이 생기도록 하는데 적합하다.
본 명세서에서 내성-유도 물질은 처리 식물에 원치않는 미생물을 접종하였을 때 이들 미생물에 대해 실질적인 내성이 생기도록 식물의 방어 시스템을 유도할 수 있는 물질을 의미한다.
이때, 원치않는 미생물은 식물병원성 진균 및 박테리아이다. 따라서, 본 발명에 따른 물질은 식물을 처리한 후 특정 기간내에 상기 언급된 유해 유기체의 침습으로부터 내성이 생기도록 하기 위해 사용될 수 있다. 내성이 유도되는 기간은 식물을 활성 화합물로 처리한 후, 일반적으로 1 내지 10 일, 바람직하게는 1 내지 7 일이다.
일반적으로, 본 발명에 따른 화합물은 식물병원성 진균, 예를 들어 플라스모디오포로마이세테스(Plasmodiophoromycetes), 오오마이세테스(Oomycetes), 키트리디오마이세테스(Chytridiomycetes), 지고마이세테스(Zygomycetes), 아스코마이세테스(Ascomycetes), 바시디오마이세테스(Basidiomycetes) 및 듀테로마이세테스 (Deuteromycetes)를 구제하기 위한 살진균제, 및 또한 박테리아, 예를 들어 슈도모노아다세아(Pseudomonoadaceae), 리조비아세아(Rhizobiaceae), 엔테로박테리아세아 (Enterobacteriaceae), 코리네박테리아세아(Corynebacteriaceae) 및 스트렙토마이세타세아(Streptomycetaceae)를 구제하기 위한 살균제(bactericide)로서 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 화합물은 특히 피리쿨라리아 오리자에(Pyricularia oryzae),피토프토라 인페스탄스(Phythophthora infestans) 등과 같은 식물 병원균에 의해 식물이 감염되는 것에 대해 내성이 생기도록 하는데 적합하다.
식물 질병을 구제하는데 필요한 농도에서 식물이 활성 화합물에 대해 우수한 내약성을 가짐으로써 식물의 지상부, 영양 번식 줄기 및 종자, 및 토양 처리가 가능하다.
본 발명에 따른 활성 화합물은 온혈동물에 저독성을 가지며, 따라서 안전하게 사용될 수 있다.
활성 화합물은 용액제, 유제, 수화성 분제, 현탁제, 분제, 포움제, 페이스트, 과립제, 정제, 에어로졸, 활성 화합물이 함침된 천연 및 합성 물질, 중합 물질 중의 극미세 캅셀제, 종자용 피복 조성물, 및 훈증 캐트리지, 훈증 캔 및 훈증 코일과 같은 연소 장치와 함께 사용되는 제제와 같은 통상의 제제, 및 ULV 냉무제 및 온무제로 전환시킬 수 있다.
이들 제제는 공지된 방법으로, 예를 들어, 임의로 계면활성제, 즉 유화제 및/또는 분산제 및/또는 포움-형성제를 사용하여 활성 화합물을 증량제, 즉 액상 또는 액화가스 또는 고형 희석제 또는 담체와 혼합하여 제조한다. 증량제로서 물이 사용된 경우에는, 유기용매가 또한 보조 용매로 사용될 수 있다.
액상 용매 희석제 또는 담체로는, 주로 크실렌, 톨루엔 또는 알킬나프탈렌과 같은 방향족 탄화수소; 클로로벤젠, 클로로에틸렌 또는 메틸렌 클로라이드와 같은 염소화 방향족 또는 염소화 지방족 탄화수소; 사이클로헥산 또는 파라핀, 예를 들어, 광유 분획물과 같은 지방족 탄화수소; 부탄올 또는 글리콜과 같은 알콜 및 그들의 에테르 및 에스테르; 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 또는 사이클로헥사논과 같은 케톤; 디메틸포름아미드 및 디메틸설폭사이드와 같은 강한 극성 용매, 및 물이 적합하다.
액화가스 희석제 또는 담체란 상온 및 상압하에서 가스 상태인 액체를 의미하며, 예로서 할로겐화 탄화수소, 및 부탄, 프로판, 질소 및 이산화탄소와 같은 에어로졸 추진제가 있다.
고형 담체로서 예를 들어 카올린, 점토, 활석, 쵸크, 석영, 아타펄기트, 몬모릴로나이트 또는 규조토와 같은 분쇄된 천연 광물, 및 고분산 규산, 알루미나 및 실리케이트와 같은 분쇄된 합성 광물이 사용될 수 있다. 과립제용 고형 담체로는 예를 들어 방해석, 대리석, 경석, 해포석 및 백운석과 같은 분쇄 및 분류된 천연 암석, 및 무기 및 유기가루의 합성과립, 및 톱밥, 코코넛 껍질, 옥수수 속대 및 담배줄기와 같은 유기물질의 과립이 사용될 수 있다.
유화제 및/또는 포움-형성제로는 예를 들어 비이온성 및 음이온성 유화제, 예를 들어 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 알킬아릴 폴리글리콜 에테르와 같은 폴리옥시에틸렌 지방 알콜 에테르, 알킬설포네이트, 알킬설페이트, 아릴설포네이트 및 알부민 가수분해 생성물이 사용될 수 있다.
분산제에는 예를 들어 리그린 설파이트 폐액 및 메틸셀룰로오즈가 포함된다.
점착제, 예를 들어 카복시메틸셀룰로오즈, 및 아라비아고무, 폴리비닐 알콜 및 폴리비닐 아세테이트와 같은 분말, 과립 또는 라텍스 형태의 천연 및 합성 중합체가 제제에 사용될 수 있다.
착색제, 예를 들어 산화철, 산화티탄 및 프루시안 블루와 같은 무기안료, 및 알리자린 염료, 아조 염료 또는 금속 프탈로시아닌 염료와 같은 유기염료, 및 철, 망간, 붕소, 구리, 코발트, 몰리브덴 및 아연의 염과 같은 미량 영양소가 사용될 수도 있다.
제제는 일반적으로 0.1 내지 95 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 90 중량%의 활성 화합물을 함유한다.
본 발명에 따른 활성 화합물은 제제중에 또는 각종 사용 형태중에, 그밖의 다른 공지된 활성 화합물, 예를 들어 살진균제, 살균제, 살충제, 살비제, 살선충제, 제초제, 조류 기피제, 성장 인자, 식물 영양제 및 토양구조개선제와의 혼합물로서 존재할 수 있다.
많은 경우에 상승 효과가 관찰되는데, 즉, 혼합물의 활성은 개별 성분들의 활성을 능가한다.
혼합물중의 공-성분 예로 다음과 같은 화합물이 있다:
살진균제:
알디모르프, 암프로필포스, 암프로필포스 포타슘, 안도프림, 아닐라진, 아자코나졸, 아족시스트로빈,
벤알락실, 베노다닐, 베노밀, 벤자마크릴, 벤자마크릴-이소부틸, 비알라포스, 비나파크릴, 비페닐, 비터탄올, 블라스티시딘-S, 브로무코나졸, 부피리메이트, 부티오베이트,
칼슘 폴리설파이드, 캅시마이신, 캅타폴, 캅탄, 카벤다짐, 카복신, 카르본,퀴노메티오네이트, 클로벤티아존, 클로르페나졸, 클로로네브, 클로로피크린, 클로로탈로닐, 클로졸리네이트, 클로질라콘, 쿠프라네브, 시목사닐, 사이프로코나졸, 사이프로디닐, 사이프로푸람, 카프로파미드,
데바카브, 디클로로펜, 디클로부트라졸, 디클로플루아니드, 디클로메진, 디클로란, 디에토펜카브, 디페노코나졸, 디메티리몰, 디메토모르프, 디니코나졸, 디니코나졸-M, 디노캅, 디페닐아민, 디피리티온, 디탈림포스, 디티아논, 도데모르프, 도딘, 드라족솔론,
에디펜포스, 에폭시코나졸, 에타코나졸, 에티리몰, 에트리디아졸,
파목사돈, 페나파닐, 페나리몰, 펜부코나졸, 펜푸람, 페니트로판, 펜피클로닐, 펜프로피딘, 펜프로피모르프, 펜틴 아세테이트, 수산화 펜틴, 페르밤, 페림존, 플루아지남, 플루메토버, 플루오로미드, 플루퀸코나졸, 플루프리미돌, 플루실라졸, 플루설파미드, 플루톨라닐, 플루트리아폴, 폴펫, 포세틸-알루미늄, 포세틸-소듐, 프탈리드, 푸베리다졸, 푸랄락실, 푸라메트피르, 푸르카보닐, 푸르코나졸, 푸르코나졸-시스, 푸르메사이클록스, 펜헥사미드,
구아자틴,
헥사클로로벤젠, 헥사코나졸, 하이멕사졸,
이마잘릴, 이미벤코나졸, 이미녹타딘, 이미녹타딘 알베실레이트, 이미녹타딘 트리아세테이트, 요오도카브, 이프코나졸, 이프로벤포스(IBP), 이프로디온, 이루마마이신, 이소프로티올란, 이소발레디온, 이프로발리카브,
카수가마이신, 크레속심-메틸, 구리 제제, 예를 들어 수산화 구리, 코퍼 나프테네이트, 옥시염화구리, 황산구리, 산화구리, 옥신-구리 및 보르도(Bordeaux) 혼합물,
만코퍼, 만코제브, 마네브, 메페림존, 메파니피림, 메프로닐, 메탈락실, 메트코나졸, 메타설포카브, 메트푸록삼, 메티람, 메토메클람, 메트설포박스, 밀디오마이신, 마이클로부타닐, 마이클로졸린,
니켈 디메틸디티오카바메이트, 니트로탈-이소프로필, 누아리몰,
오푸라스, 옥사딕실, 옥사모카브, 옥솔린산, 옥시카복심, 옥시펜틴,
파클로부트라졸, 페푸라조에이트, 펜코나졸, 펜시쿠론, 포스디펜, 피마리신, 피페랄린, 폴리옥신, 폴리옥소림, 프로베나졸, 프로클로라즈, 프로사이미돈, 프로파모카브, 프로파노신-소듐, 프로피코나졸, 프로피네브, 피라조포스, 피리페녹스, 피리메타닐, 피로퀼론, 피록시푸르,
퀸코나졸, 퀸토젠(PCNB), 퀴녹시펜,
황 및 황 제제, 스피록사민,
테부코나졸, 테클로프탈람, 테크나젠, 테트사이클라시스, 테트라코나졸, 티아벤다졸, 티사이오펜, 티플루자미드, 티오파네이트-메틸, 티람, 티옥시미드, 톨클로포스-메틸, 톨릴플루아니드, 트리아디메폰, 트리아디메놀, 트리아즈부틸, 트리아족사이드, 트리클라미드, 트리사이클라졸, 트리데모르프, 트리플루미졸, 트리포린, 트리티코나졸, 트리플록시스트로빈,
유니코나졸,
발리다마이신 A, 빈클로졸린, 비니코나졸,
자릴라미드, 지네브, 지람, 및 또한
다거(Dagger) G,
OK-8705,
OK-8801,
α-(1,1-디메틸에틸)-β-(2-페녹시에틸)-1H-1,2,4-트리아졸-1-에탄올,
α-(2,4-디클로로페닐)-β-플루오로-β-프로필-1H-1,2,4-트리아졸-1-에탄올,
α-(2,4-디클로로페닐)-β-메톡시-α-메틸-1H-1,2,4-트리아졸-1-에탄올,
α-(5-메틸-1,3-디옥산-5-일)-β-[[4-(트리플루오로메틸)페닐]메틸렌]-1H-1,2,4-트리아졸-1-에탄올,
(5RS,6RS)-6-하이드록시-2,2,7,7-테트라메틸-5-(1H-1,2,4-트리아졸-1-일)-3-옥타논,
(E)-α-(메톡시이미노)-N-메틸-2-페녹시-페닐아세트아미드,
1-(2,4-디클로로페닐)-2-(1H-1,2,4-트리아졸-1-일)-에타논 O-(페닐메틸)-옥심,
1-(2-메틸-1-나프탈레닐)-1H-피롤-2,5-디온,
1-(3,5-디클로로페닐)-3-(2-프로페닐)-2,5-피롤리딘디온,
1-[(디요오도메틸)설포닐]-4-메틸벤젠,
1-[[2-(2,4-디클로로페닐)-1,3-디옥솔란-2-일]메틸]-1H-이미다졸,
1-[[2-(4-클로로페닐)-3-페닐옥시라닐]메틸]-1H-1,2,4-트리아졸,
1-[1-[2-[(2,4-디클로로페닐)메톡시]페닐]에테닐]-1H-이미다졸,
1-메틸-5-노닐-2-(페닐메틸)-3-피롤리디놀,
2',6'-디브로모-2-메틸-4'-트리플루오로메톡시-4'-트리플루오로메틸-1,3-티아졸-5-카복스아닐리드,
2,6-디클로로-5-(메틸티오)-4-피리미디닐 티오시아네이트,
2,6-디클로로-N-(4-트리플루오로메틸벤질)-벤즈아미드,
2,6-디클로로-N-[[4-(트리플루오로메틸)페닐]메틸]벤즈아미드,
2-(2,3,3-트리요오도-2-프로페닐)-2H-테트라졸,
2-[(1-메틸에틸)설포닐]-5-(트리클로로메틸)-1,3,4-티아디아졸,
2-[[6-데옥시-4-O-(4-O-메틸-β-D-글리코피라노실)-α-D-글루코피라노실]아미노]-4-메톡시-1H-피롤로[2,3-d]피리미딘-5-카보니트릴,
2-아미노부탄,
2-브로모-2-(브로모메틸)펜탄디니트릴,
2-클로로-N-(2,3-디하이드로-1,1,3-트리메틸-1H-인덴-4-일)-3-피리딘카복사미드,
2-클로로-N-(2,6-디메틸페닐)-N-(이소티오시아네이토메틸)아세트아미드,
2-페닐페놀(OPP),
3,4-디클로로-1-[4-(디플루오로메톡시)페닐]-1H-피롤-2,5-디온,
3,5-디클로로-N-[시아노-[(1-메틸-2-프로피닐)옥시]메틸]벤즈아미드,
3-(1,1-디메틸프로필)-1-옥소-1H-인덴-2-카보니트릴,
3-[2-(4-클로로페닐)-5-에톡시-3-이속사졸리디닐]피리딘,
4-클로로-2-시아노-N,N-디메틸-5-(4-메틸페닐)-1H-이미다졸-1-설폰아미드,
4-메틸테트라졸로[1,5-a]퀴나졸린-5(4H)-온,
8-하이드록시퀴놀린 설페이트,
9H-크산텐-2-[(페닐아미노)카보닐]-9-카복실산 하이드라지드,
비스-(1-메틸에틸)-3-메틸-4-[(3-메틸벤조일)옥시]-2,5-티오펜디카복실레이트,
시스-1-(4-클로로페닐)-2-(1H-1,2,4-트리아졸-1-일)-사이클로헵탄올,
시스-4-[3-[4-(1,1-디메틸프로필)페닐-2-메틸프로필]-2,6-디메틸모르폴린 하이드로클로라이드,
에틸 [(4-클로로페닐)아조]시아노아세테이트,
탄산수소칼륨,
메탄테트라티올 소듐염,
메틸 1-(2,3-디하이드로-2,2-디메틸-1H-인덴-1-일)-1H-이미다졸-5-카복실레이트,
메틸 N-(2,6-디메틸페닐)-N-(5-이속사졸릴카보닐)-DL-알라니네이트,
메틸 N-(클로로아세틸)-N-(2,6-디메틸페닐)-DL-알라니네이트,
N-(2,6-디메틸페닐)-2-메톡시-N-(테트라하이드로-2-옥소-3-푸라닐)-아세트아미드,
N-(2,6-디메틸페닐)-2-메톡시-N-(테트라하이드로-2-옥소-3-티에닐)-아세트아미드,
N-(2-클로로-4-니트로페닐)-4-메틸-3-니트로-벤젠설폰아미드,
N-(4-사이클로헥실페닐)-1,4,5,6-테트라하이드로-2-피리미딘아민,
N-(4-헥실페닐)-1,4,5,6-테트라하이드로-2-피리미딘아민,
N-(5-클로로-2-메틸페닐)-2-메톡시-N-(2-옥소-3-옥사졸리디닐)-아세트아미드,
N-(6-메톡시)-3-피리디닐-사이클로프로판카복사미드,
N-[2,2,2-트리클로로-1-[(클로로아세틸)아미노]에틸]벤즈아미드,
N-[3-클로로-4,5-비스(2-프로피닐옥시)페닐)-N'-메톡시-메탄이미드아미드,
N-포르밀-N-하이드록시-DL-알라닌-소듐염,
O,O-디에틸 [2-(디프로필아미노)-2-옥소에틸]-에틸포스포르아미도티오에이트,
O-메틸 S-페닐 페닐프로필포스포르아미도티오에이트,
S-메틸 1,2,3-벤조티아디아졸-7-카보티오에이트,
스피로[2H]-1-벤조피란-2,1'(3'H)-이소벤조푸란-3'-온.
살균제:
브로노폴, 디클로로펜, 니트라피린, 니켈 디메틸디티오카바메이트, 카수가마이신, 옥틸리논, 푸란카복실산, 옥시테트라사이클린, 프로베나졸, 스트렙토마이신, 테클로프탈람, 황산구리 및 다른 구리 제제.
살충제 / 살비제 / 살선충제:
아바멕틴, 아세페이트, 아세트아미프리드, 아크리나트린, 알라니카브, 알디카브, 알독시카브, 알파사이퍼메트린, 알파메트린, 아미트라즈, 아버멕틴, AZ 60541, 아자디라크틴, 아자메티포스, 아진포스 A, 아진포스 M, 아조사이클로틴,
바실러스 포필리아에, 바실러스 스파에리쿠스, 바실러스 서브틸리스, 바실러스 투린기엔시스, 바쿨로바이러세스, 뷰베리아 바시아나, 뷰베리아 테넬라, 벤디오카브, 벤푸라카브, 벤설탑, 벤족시메이트, 베타사이플루트린, 비페나제이트, 비펜트린, 비오에타노메트린, 비오퍼메트린, BPMC, 브로모포스 A, 부펜카브, 부프로페진, 부타티오포스, 부토카복심, 부틸피리다벤,
카두사포스, 카바릴, 카보푸란, 카보페노티온, 카보설판, 카탑, 클로에토카브, 클로르에톡시포스, 클로르페나피르, 클로르펜빈포스, 클로르플루아주론, 클로르메포스, 클로르피리포스, 클로르피리포스 M, 클로바포트린, 시스-레스메트린, 시스퍼메트린, 클로사이트린, 클로에토카브, 클로펜테진, 시아노포스, 사이클로프렌, 사이클로프로트린, 사이플루트린, 사이할로트린, 사이헥사틴, 사이퍼메트린, 사이로마진,
델타메트린, 데메톤 M, 데메톤 S, 데메톤-S-메틸, 디아펜티우론, 디아지논, 디클로르보스, 디플루벤주론, 디메토에이트, 디메틸빈포스, 디오페놀란, 디설포톤, 도쿠사트-소듐, 도페나파인,
에플루실라네이트, 에마멕틴, 엠펜트린, 엔도설판, 엔토모프토라 종(spp.), 에스펜발레레이트, 에티오펜카브, 에티온, 에토프로포스, 에토펜프록스, 에톡사졸, 에트림포스,
펜아미포스, 펜아자퀸, 산화 펜부타틴, 페니트로티온, 페노티오카브, 페녹사크림, 페녹시카브, 펜프로파트린, 펜피라드, 펜피리트린, 펜피록시메이트, 펜발레레이트, 피프로닐, 플루아주론, 플루브로사이트리네이트, 플루사이클록수론, 플루사이트리네이트, 플루페녹수론, 플루텐진, 플루발리네이트, 포노포스, 포스메틸란, 포스티아제이트, 푸브펜프록스, 푸라티오카브,
그라눌로시스 바이러세스,
할로페노지드, HCH, 헵테노포스, 헥사플루무론, 헥시티아족스, 하이드로프렌,
이미다클로프리드, 이사조포스, 이소펜포스, 이속사티온, 이버멕틴,
람다-사이할로트린, 루페누론,
말라티온, 메카르밤, 메트알데하이드, 메트아미도포스, 메타리지움 아니소플리아에, 메타리지움 플라보비리데, 메티다티온, 메티오카브, 메토밀, 메톡시페노지드, 메톨카브, 메톡사디아존, 메빈포스, 밀베멕틴, 모노크로토포스,
날레드, 니텐피람, 니티아진, 노발루론, 뉴클레아 폴리헤드로시스 바이러세스,
오메토에이트, 옥사밀, 옥시데메톤 M,
파에실로마이세스 푸모소로세우스, 파라티온 A, 파라티온 M, 퍼메트린, 펜토에이트, 포레이트, 포살론, 포스메트, 포스파미돈, 폭심, 피리미카브, 피리미포스 A, 피리미포스 M, 프로페노포스, 프로메카브, 프로폭수르, 프로티오포스, 프로토에이트, 피메트로진, 피라클로포스, 피레스메트린, 피레트럼, 피리다벤, 피리다티온, 피리미디펜, 피리프록시펜,
퀴날포스,
리바비린,
살리티온, 세부포스, 실라플루오펜, 스피노사드, 설포텝, 설프로포스,
타우-플루발리네이트, 테부페노지드, 테부펜피라드, 테부피리미포스, 테플루벤주론, 테플루트린, 테메포스, 테미빈포스, 테르부포스, 테트라클로르빈포스, 테타-사이퍼메트린, 티아메톡삼, 티아프로닐, 티아트리포스, 티오시클람 하이드로젠 옥살레이트, 티오디카브, 티오파녹스, 투린기엔신, 트랄로사이트린, 트랄로메트린, 트리아라텐, 트리아자메이트, 트리아조포스, 트리아주론, 트리클로페니딘, 트리클로르폰, 트리플루무론, 트리메타카브, 티아클로프리드,
바미도티온, 바닐리프롤, 버티실리움 레카니,
YI 5302,
제타-사이퍼메트린, 졸라프로포스,
(1R-시스)-[5-(페닐메틸)-3-푸라닐]-메틸-3-[(디하이드로-2-옥소-3(2H)-푸라닐리덴)-메틸] 2,2-디메틸사이클로프로판카복실레이트,
(3-페녹시페닐)-메틸 2,2,3,3-테트라메틸사이클로프로판카복실레이트,
1-[(2-클로로-5-티아졸릴)메틸]테트라하이드로-3,5-디메틸-N-니트로-1,3,5-트리아진-2(1H)-이민,
2-(2-클로로-6-플루오로페닐)-4-[4-(1,1-디메틸에틸)페닐]-4,5-디하이드로-옥사졸,
2-(아세틸옥시)-3-도데실-1,4-나프탈렌디온,
2-클로로-N-[[[4-(1-페닐에톡시)-페닐]-아미노]-카보닐]-벤즈아미드,
2-클로로-N-[[[4-(2,2-디클로로-1,1-디플루오로에톡시)-페닐]-아미노]-카보닐]-벤즈아미드,
3-메틸페닐 프로필카바메이트,
4-[4-(4-에톡시페닐)-4-메틸페닐]-1-플루오로-2-페녹시-벤젠,
4-클로로-2-(1,1-디메틸에틸)-5-[[2-(2,6-디메틸-4-페녹시페녹시)에틸]티오]-3(2H)-피리다지논,
4-클로로-2-(2-클로로-2-메틸프로필)-5-[(6-요오도-3-피리디닐)메톡시]-3(2H)-피리다지논,
4-클로로-5-[(6-클로로-3-피리디닐)메톡시]-2-(3,4-디클로로페닐)-3(2H)-피리다지논,
바실러스 투린기엔시스 스트레인 EG-2348,
2-벤조일-1-(1,1-디메틸에틸)-하이드라지노벤조산,
2,2-디메틸-3-(2,4-디클로로페닐)-2-옥소-1-옥사스피로[4.5]덱-3-엔-4-일 부타노에이트,
[3-[(6-클로로-3-피리디닐)메틸]-2-티아졸리디닐리덴]-시안아미드,
디하이드로-2-(니트로메틸렌)-2H-1,3-티아진-3(4H)-카복스알데하이드,
에틸 [2-[1,6-디하이드로-6-옥소-1-(페닐메틸)-4-피리다지닐]옥시]에틸]-카바메이트,
N-(3,4,4-트리플루오로-1-옥소-3-부테닐)-글리신,
N-(4-클로로페닐)-3-[4-(디플루오로메톡시)페닐]-4,5-디하이드로-4-페닐-1H-피라졸-1-카복사미드,
N-[(2-클로로-5-티아졸릴)메틸]-N'-메틸-N"-니트로-구아니딘,
N-메틸-N'-(1-메틸-2-프로페닐)-1,2-하이드라진디카보티오아미드,
N-메틸-N'-2-프로페닐-1,2-하이드라진디카보티오아미드,
O,O-디에틸 [2-(디프로필아미노)-2-옥소에틸]-에틸포스포르아미도티오에이트.
활성 화합물은 그 자체로, 그의 제제 형태로, 또는 이들을 추가 희석하여 제조된 사용 형태, 예를 들어 즉시 사용형(ready-to-use) 용액, 유제, 현탁제, 분제, 정제, 페이스트, 마이크로캅셀제 및 과립제로서 사용될 수 있다. 이들은 통상의 방법, 예를 들어 급수, 침지, 분무, 분사, 연무, 기화, 주입, 슬러리 형성, 브러싱, 살포, 산포, 건조 드레싱, 모이스트 드레싱(moist dressing), 습윤 드레싱, 슬러리 드레싱 또는 외피형성(encrusting)으로 사용된다.
식물의 일부를 처리하는 경우, 사용 형태중의 활성 화합물 농도는 상당한 범위내에서 변할 수 있다. 이는 일반적으로 1 내지 0.0001 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 0.001 중량% 이다.
종자 처리시에는, 종자 1㎏ 당 일반적으로 0.001 내지 50 g, 특히 0.01 내지 10 g의 활성 화합물 양이 필요하다.
토양 처리시, 일반적으로 0.00001 내지 0.1 중량%, 특히 0.0001 내지 0.02 중량% 의 활성 화합물 농도가 작용 부위에 사용된다.
상기 언급된 바와 같이, 본 발명에 따라 모든 식물 및 식물의 일부가 처리될 수 있다. 바람직한 구체예에서, 자연 발생 식물종 및 식물 품종 또는 통상적인 생물학적 육종법, 예를 들어 교잡육종 또는 원형체 유합(protoplast fusion)에 의해 얻어진 식물종 및 식물 품종뿐 아니라 이들 식물의 일부가 처리된다. 또 다른 바람직한 구체예에서, 가능하다면 통상적인 방법과 함께 유전자공학 방법에 의해 얻어진 유전자이식 식물(transgenic plant) 및 식물 품종(일반적으로 변형 유기체) 및 이들 식물의 일부가 처리된다. 용어 "일부", "식물의 일부" 또는 "식물 부분"은 상술한 바와 같다.
본 발명에 따라, 시판되거나 특정 시기에 이용되는 식물 또는 식물 품종이 매우 바람직하게 처리된다. 식물 품종이라는 것은 통상적인 육종 기술, 돌연변이형성 기술 또는 재조합 DNA 기술에 의해 얻어지고 있는 특수성("특성")을 갖는 식물로 이해된다. 이들은 품종(variety), 생리형(biotype) 또는 유전자형 (genotype)일 수 있다.
식물 종 또는 품종, 이들의 위치 및 성장 조건(토양 형태, 기후, 생장기 및 관련 사료)에 따라, 본 발명에 따라 처리함으로써 상가("상승")적 효과가 나타날 수 있다. 예를 들어 본 발명에 따라 사용할 수 있는 화합물 및 조성물의 적용비율의 감소 및/또는 활성 스펙트럼의 확대 및/또는 활성 증가, 식물 성장성 향상, 고온 또는 저온 내성 증가, 건조 조건, 또는 물 또는 땅의 염 함량에 대한 내성 증가, 개화량 증가, 수확 용이성, 성숙성 촉진, 작화량 증가, 수확 작물의 질 향상 및/또는 영양가 증대, 및 수확 작물의 저장 품질 및/또는 처리성 증대와 같은 효과가 실제 기대되는 것 이상으로 나타날 수 있다.
본 발명에 따라 처리되는 바람직한 유전자이식 식물 또는 식물 품종(유전자공학으로 얻어진)은 관련 유전자 변형의 결과, 식물에 특히 유리한 유용성("특성")을 제공하는 용인된 유전자 물질을 갖는 모든 식물을 포함한다. 이러한 특성의 예로는 식물 성장성 향상, 고온 또는 저온 내성 증가, 건조 조건, 또는 물 또는 땅의 염 함량에 대한 내성 증가, 개화량 증가, 수확 용이성, 성숙성 촉진, 작화량 증가, 수확 작물의 질 향상 및/또는 영양가 증대, 및 수확 작물의 저장 품질 및/또는 처리성 증대가 포함된다. 추가적으로 특히 주목할만한 상기 특성의 예로는 동물 및 미생물 해충, 예를 들어 곤충, 응애, 식물병원성 진균, 박테리아 및/또는 바이러스에 대한 식물의 내성 증가 및 특정 제초 활성 화합물에 대한 식물의 내약성 증가가 포함된다. 유전자이식 식물의 예로 곡물(밀 및 보리), 옥수수, 대두, 감자, 목화, 유채 및 과수 식물(사과, 배, 감귤 및 포도 생산)이 언급될 수 있으며, 작물 옥수수, 대두, 감자, 목화 및 유채가 특히 주목된다. 특히 중요한 성질("특성")은 식물에 형성된 독소, 특히 바실러스 투린기엔시스(Bacillus Thuringiensis)로부터 얻은 유전자 물질(예를 들어 유전자 CrylA(a), CrylA(b), CrylA(c), CryllA, CryIIIB2, Cry9c, Cry2Ab, Cry3Bb 및 CryIF 및 이들 조합)에 의해 식물(이후 "Bt 식물"로 언급)에 형성된 독소로 인해 곤충에 대한 식물의 내성이 증가한 것이다. 특히 중요한 성질("특성")은 전신적으로 획득한 내성(SAR), 시스테민, 피토알렉신, 엘리시터 및 내성 유전자 및 상응하게 발현된 단백질 및 독소로 인해 진균, 박테리아 및 바이러스에 대한 식물의 내성이 증가한 것이다. 특히 중요한 성질("특성")은 또한 특정 제초 활성 화합물, 예를 들어 이미다졸리논, 설포닐우레아, 글리포세이트 또는 포스피노트리신(예를 들어 "PAT" 유전자)에 대한 식물의 내약성 증가다. 필요한 성질("특성")을 부여하는 상응하는 유전자가 또한 상호 조합으로 유전자 식물에 생길 수 있다. "Bt 식물"의 예로 YIELD GARDR(예: 옥수수, 목화, 대두), KnockOutR(예: 옥수수), StarLinkR(예: 옥수수), BollgardR(예: 목화), NucotnR(예: 목화) 및 NewLeafR(예: 감자) 상품명으로 시판되고 있는 옥수수, 목화, 대두 및 감자 품종이 언급될 수 있다. 제초제-내약성 식물의 예로 Roundup ReadyR(글리포세이트 내약성, 예: 옥수수, 목화, 대두), Liberty LinkR(포스피노트리신 내약성, 예: 유채), IMIR(이미다졸리논 내약성) 및 STSR(설포닐우레아 내약성, 예: 옥수수) 상품명으로 시판되고 있는 옥수수, 목화 및 대두 품종이 언급될 수 있다. 제초제-내약성 식물(통상적인 방법으로 제초제 내약성을 위해 육종된)의 예로 ClearfieldR명으로 시판되고 있는 품종(예: 옥수수)가 또한 언급될 수 있다. 상기 설명은 물론 또한 미래에 개발될 수 있거나 미래에 상품화될 수 있으며 상술된 유전적 성질("특성")을 갖거나 미래에 개발되는 어떠한 식물 품종에도 적용될 수 있다.
본 발명에 따라, 상기 언급된 식물들이 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물 또는 활성 배합물로 특히 유리하게 처리될 수 있다. 활성 화합물 또는 혼합물에 대해 상기 언급된 바람직한 범위가 또한 이들 식물을 처리하는데 적용된다. 본명세서에 구체적으로 기술된 화합물 또는 혼합물로 식물을 처리하는 것이 특히 유리하다.
본 발명이 이후 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명될 것이다. 그러나, 본 발명이 이들 실시예로 한정되는 것은 절대 아니다.
실시예
합성 실시예 1
방법 (a):
아세트산(50 ㎖)중의 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(2.0 g) 및 N-벤질-N-하이드록시메틸포름아미드(1.7 g)의 현탁액에 황산(2.2 g)을 첨가하고, 혼합물을 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물을 물에 붓고 메틸렌 클로라이드로 추출하였다. 유기층을 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 물로 연속 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 헥산/에틸 아세테이트 = 2/3)에 의해 정제하여 융점 102 내지 103 ℃인 N-[(벤질포름아미도)-메틸]-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.6 g)를 수득하였다.
합성 실시예 2
방법 (b):
테트라하이드로푸란(50 ㎖)중의 60% 수소화나트륨(0.16 g)의 현탁액에 4-클로로티오페놀(0.53 g)을 첨가하고, 혼합물을 15 분동안 교반하였다. N-클로로메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.90 g)를 첨가한 후, 혼합물을 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물을 물에 붓고 메틸렌 클로라이드로 추출하였다. 유기층을 묽은 염산 및 염화나트륨 포화 수용액으로 연속 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 클로로포름/에틸 아세테이트 = 4/1)에 의해 정제하여 융점 106 내지 107 ℃인 N-(4-클로로페닐티오메틸)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.42 g)를 수득하였다.
합성 실시예 3
방법 (b):
티오닐 클로라이드(10 ㎖)중의 N-(2,2,2-트리플루오로-1-하이드록시에틸)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.00 g)의 용액에 N,N-디메틸포름아미드 1 적을 첨가하였다. 혼합물을 4 시간동안 가열환류시킨 후, 티오닐 클로라이드를 감압하에서 증류시켰다. N,N-디메틸포름아미드(30 ㎖) 중의 60% 수소화나트륨 (0.14 g) 현탁액에 5-페닐-1,3,4-티아디아졸-2-티올(0.62 g)을 첨가하고 15 분동안 교반하여 수득한 용액에 상기 잔류물을 첨가하고, 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 감압하에서 용매를 증류시킨 후, 잔류물에 물을 가하고, 형성된 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기층을 염화나트륨 포화 수용액으로 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 헥산/에틸 아세테이트 = 2/1)에 의해 정제하여 융점 124 내지 127 ℃인 N-[2,2,2-트리플루오로-1-(5-페닐-1,3,4-티아디아졸-2-일티오)-에틸]-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.09 g)를 수득하였다.
합성 실시예 4
방법 (b):
N,N-디메틸포름아미드(30 ㎖) 중의 60% 수소화나트륨 (0.18 g) 현탁액에 5-머캅토-1-메틸테트라졸(0.47 g)을 첨가하고, 혼합물을 15 분동안 교반하였다. 그후, N-클로로메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.00 g)을 첨가하고, 혼합물을 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 반응 용액을 물에 붓고, 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기층을 염화나트륨 포화 용액, 물로 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 헥산/에틸 아세테이트 = 2/1)에 의해 정제하여 N-(1-메틸-5-테트라졸티오메틸)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.40 g, 융점 176 내지 177 ℃) 및 N-[(3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미도)-메틸]-N-(1-메틸-5-테트라졸티오메틸)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.26 g, 융점 185 내지 188 ℃)를 수득하였다.
합성 실시예 5
방법 (b):
디메톡시에탄중의 N-클로로메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.00 g) 및 소듐 벤젠설피네이트 디하이드레이트(0.90 g)의 현탁액에 테트라부틸암모늄브로마이드(0.05 g)를 첨가하고, 혼합물을 6 시간동안 가열환류시켰다. 반응 혼합물을 물에 붓고, 침전된 결정을 여과하여 융점 175 내지 176 ℃ N-페닐설포닐메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.00 g)를 수득하였다.
합성 실시예 6
방법 (c):
N-클로로메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.2 g) 및 트리에틸 포스파이트(10 ㎖)의 혼합 용액을 80 ℃에서 4 시간동안 교반하였다. 용매를 감압하에서 증류시키고, 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(헥산/에틸 아세테이트 = 1/1 에서 1/4로 구배 용출)에 의해 정제하여 nD 201.5292인 디에틸 N-메틸-N-(3,4-디클로로-5-이소티아졸카보닐)-아미노메틸포스포네이트(1.1 g)를 수득하였다.
합성 실시예 7
방법 (d):
테트라하이드로푸란(100 ㎖)중의 60% 수소화나트륨(0.45 g)의 현탁액에 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(2.00 g)를 빙냉하에 첨가한 후, 혼합물을 15 분동안 교반하였다. 클로로메틸 메틸 에테르(0.82 g)를 첨가하고, 형성된 혼합물을 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물을 물에 붓고 메틸렌 클로라이드로 추출하였다. 유기층을 묽은 염산 및 염화나트륨 포화 수용액으로 연속 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 클로로포름/에틸 아세테이트 = 4/1)에 의해 정제하여 융점 79 내지 87 ℃인 N-메톡시메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.35 g)를 수득하였다.
합성 실시예 8
방법 (d):
3,4-디클로로-5-이소티아졸카보티오익 O-산(1.0 g)을 테트라하이드로푸란(50 ㎖)중의 60% 수소화나트륨(0.2 g)의 현탁액에 첨가하고, 혼합물을 15 분동안 교반하였다. N-클로로메틸-N-메틸아세트아미드(0.6 g)를 첨가한 후, 혼합물을 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물을 물에 붓고 메틸렌 클로라이드로 추출하였다. 유기층을 염화나트륨 포화 수용액으로 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시키고, 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 헥산/에틸 아세테이트 = 2/1)에 의해 정제하여 nD 201.6012인 N-메틸아세트아미도메틸 (3,4-디클로로-5-이소티아졸카보티오에이트(0.7 g)를 수득하였다.
합성 실시예 9
방법 (e):
톨루엔중의 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.0 g), 부티르알데하이드 (0.4 g) 및 벤조트리아졸(0.6 g)의 용액에 촉매량의 p-톨루엔설폰산 모노하이드레이트를 첨가한 후, 혼합물을 5 시간동안 가열환류시켜 발생되는 물을 제거하였다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 클로로포름)에 의해 정제하여 nD 201.5759인 N-(1-벤조트리아졸-1-일부틸)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.1 g)를 수득하였다.
합성 실시예 10
방법 (f):
톨루엔중의 아세트아미드(3.0 g), 부티르알데하이드(3.6 g) 및 벤조트리아졸 (6.0 g)의 용액에 촉매량의 p-톨루엔설폰산 모노하이드레이트를 첨가한 후, 혼합물을 5 시간동안 가열환류시켜 발생되는 물을 제거하였다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 헥산/에틸 아세테이트 = 2/1)에 의해 정제하여 N-(1-벤조트리아졸-1-일부틸)-아세트아미드(4.2 g)를 수득하였다. 메탄올(50 ㎖)중의 상기 수득한 N-(1-벤조트리아졸-1-일부틸)-아세트아미드(4.2 g) 및 탄산칼륨(10.0 g)의 용액을 빙냉하에 암모니아 가스로 포화시키고, 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 고체를 여과하고, 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물(1.6 g)을 메틸렌 클로라이드(10 ㎖)에 용해시켰다. 그후, 트리에틸아민(2 ㎖) 및 3,4-디클로로-5-이소티아졸카보닐 클로라이드(2.0 g)를 실온에서 첨가하였다. 반응 용액을 물로 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시키고, 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 헥산/에틸아세테이트 = 1/1)에 의해 정제하여 융점 162 내지 165 ℃인 N-[1-(아세트아미도)부틸]-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.5 g)를 수득하였다.
합성 실시예 11
방법 (f):
메틸렌 클로라이드중의 3,5-디메틸-1-피라졸릴메탄올(0.58 g) 및 트리에틸아민 (0.47 g)의 용액에 3,4-디클로로-5-이소티아졸카보닐 클로라이드(1.00 g)를 첨가한 후, 혼합물을 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물을 물에 붓고 메틸렌 클로라이드로 추출하였다. 유기층을 물로 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 에틸 아세테이트/헥산 = 1/2)에 의해 정제하여 융점 80 내지 81 ℃인 3,5-디메틸피라졸-1-일메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복실레이트 (1.05 g)를 수득하였다.
합성 실시예 12
방법 (h):
N,N-디메틸포름아미드(20 ㎖) 중의 5-(4-클로로페닐)-피라졸리딘-3-온(1.1 g) 및 60% 수소화나트륨 (0.2 g)의 용액에 1 시간동안 교반후 테트라하이드로푸란(10 ㎖)중의 3,4-디클로로이소티아졸-5-일카보닐 클로라이드(1.00 g)의 용액을 0 ℃에서 첨가하고, 혼합물을 70 ℃에서 5 시간동안 교반하였다. 용매를 감압하에서 증류시킨 후, 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 메틸렌 클로라이드/에탄올 = 99/1)에 의해 정제하여 융점 164 내지 167 ℃인 2-(3,4-디클로로-5-이소티아졸카보닐)-5-(4-클로로페닐)-피라졸리딘-3-온(0.4 g)을 수득하였다.
합성 실시예 13
방법 (f):
메틸렌 클로라이드(20 ㎖)중의 N'-(2-시아노-2-페닐비닐)-N-메틸하이드라진 (1.0 g) 및 트리에틸아민(0.6 g)의 용액에 3,4-디클로로이소티아졸-5-일카보닐 클로라이드(1.1 g)를 첨가한 후, 혼합물을 실온에서 4 시간동안 교반하였다. 용매를 감압하에서 증류시키고, 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 클로로포름)에 의해 정제하여 융점 130 내지 139 ℃인 N'-(2-시아노-2-페닐비닐)-N-메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카보하이드라지드(0.6 g)를 수득하였다.
합성 실시예 14
방법 (f):
0 ℃에서 황화수소로 포화된 에탄올(50 ㎖)중의 수산화칼륨(6.1 g)의 용액에 3,4-디클로로-5-이소티아졸카보닐 클로라이드(10.0 g)를 15 ℃ 미만의 온도에서 1 시간이상 첨가한 후, 혼합물을 2 시간동안 교반하였다. 침전물을 여과하고, 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 냉수에 용해시킨 후, 벤젠으로 세척하였다. 수용액을 진한 염산으로 산성화시키고, 에테르로 추출한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시키고, 용매를 감압하에서 증류시켜 융점 79 내지 80 ℃인 3,4-디클로로-5-이소티아졸카보티오익 O-산(8.1 g)을 수득하였다.
합성 실시예 15
방법 (g):
메탄올중의 3-아미노-1,2-프로판디올(3.2 g)의 용액에 메틸 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복실레이트(6.4 g)를 빙냉하에 첨가한 후, 혼합물을 실온에서 18 시간동안 교반하였다. 감압하에서 메탄올을 증류시켜 수득한 잔류물에 에틸 아세테이트를 첨가하고, 유기층을 묽은 염산, 염화나트륨 포화 수용액, 탄산수소나트륨 포화 수용액 및 염화나트륨 수용액으로 연속세척하였다. 유기층을 무수 황산마그네슘상에서 건조시키고, 용매를 감압하에서 증류시켜 융점 68 내지 72 ℃인 N-(2,3-디하이드록시프로필)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(6.6 g)를 수득하였다.
합성 실시예 16
방법 (h):
에틸 아세테이트(30 ㎖)중의 디에틸 (4-클로로벤질리덴)-말로네이트(1.33 g) 및 3,4-디클로로-5-이소티아졸카보하이드라지드(1.00 g)의 용액에 소듐 아세테이트 (0.39 g)를 첨가하고, 혼합물을 6 시간동안 가열환류시켰다. 반응 혼합물에 물을 첨가하여 침전된 결정을 여과하고, 에틸 아세테이트로 세척하여 융점 250 ℃ 이상인 2-(3,4-디클로로-5-이소티아졸카보닐)-5-(4-클로로페닐)-피라졸-3-온(1.37 g)을 수득하였다.
합성 실시예 17
방법 (i):
N,N-디메틸포름아미드중의 60% 수소화나트륨(0.2 g)을 N,N-디메틸포름아미드중의 3,4-디클로로-5-이소티아졸카보하이드라지드(1.00 g)의 용액에 첨가하고 10 분동안 교반한 후, 2-메틸-3-페닐-2-프로페노일 클로라이드(0.9 g)를 빙냉하에 첨가하여 혼합물을 16 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물에 물 및 에틸 아세테이트를 첨가하여 침전된 결정을 여과하고, 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(클로로포름에서 클로로포름/에탄올 = 98/2로 구배 용출)에 의해 정제하여 융점 190 내지 191 ℃인 2-(3,4-디클로로-5-이소티아졸카보닐)-4-메틸-5-페닐피라졸-3-온(0.4 g)를 수득하였다.
합성 실시예 18
방법 (j):
에탄올(40 ㎖)중의 3,4-디클로로-5-이소티아졸카보하이드라지드(0.6 g) 및2-포르밀-2-페닐아세토니트릴(0.4 g)의 용액에 촉매량의 아세트산을 첨가한 후, 혼합물을 3 시간동안 가열환류시켰다. 자연 냉각후, 침전된 결정을 여과하고, 에탄올로 세척하여 융점 212 내지 214 ℃인 N'-(2-시아노-2-페닐비닐)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카보하이드라지드(0.9 g)를 수득하였다.
합성 실시예 19
방법 (l):
3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.0 g) 및 N,N-디메틸포름아미드 디메틸아세탈(5 ㎖)의 혼합 용액을 100 ℃에서 6 시간동안 교반하였다. 침전물을 물로 세척하여 융점 196 내지 197 ℃인 N-디메틸아미노메틸리덴-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.1 g)를 수득하였다.
합성 실시예 20
방법 (m):
물-테트라하이드로푸란(1 ㎖/30 ㎖)중의 N-알릴-N-페닐-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.94 g) 및 트리메틸아민 N-옥사이드 디하이드레이트(0.45 g)의 용액에 촉매량의 산화오스뮴(VIII)을 첨가한 후, 형성된 혼합물을 실온에서 18 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물에 티오황산나트륨 수용액을 첨가하여 에틸 아세테이트로 추출한 후, 염화나트륨 포화 수용액으로 세척하고, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시키고, 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(메틸렌 클로라이드에서 에틸 아세테이트로 구배 용출)에 의해 정제하여 nD 201.5962인 N-(2,3-디하이드록시프로필)-N-페닐-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.0 g)를 수득하였다.
합성 실시예 21
방법 (n):
1,2-디클로로에탄(30 ㎖)중의 N-(2,3-디하이드록시프로필)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.4 g) 및 아세톤 디메틸아세탈(0.7 g)의 용액에 촉매량의 p-톨루엔설폰산 모노하이드레이트를 첨가한 후, 혼합물을 2 시간동안 가열환류시켰다. 감압하에서 용매를 증류시키고, 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 메틸렌 클로라이드/에탄올 = 96/4)에 의해 정제하여 융점 132 내지 133 ℃인N-[(2,2-디메틸-1,3-디옥솔란-4-일)-메틸]-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.9 g)를 수득하였다.
합성 실시예 22
방법 (o):
3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.8 g)를 0 ℃에서 테트라하이드로푸란(30 ㎖)중의 60% 수소화나트륨(0.2 g)의 현탁액에 첨가하고, 혼합물을 30 분동안 교반하였다. 그후, 2-클로로-2-(트리플루오로메틸페닐)이미노-아세토니트릴(1.0 g)을 0 ℃에서 첨가하고, 혼합물을 실온에서 16 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물을 얼음과 묽은 염산의 혼합물에 붓고 메틸렌 클로라이드로 추출한 다음, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시키고, 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 클로로포름/에틸 아세테이트 = 98/2)에 의해 정제하여 융점 151 내지 153 ℃인 N-[시아노-(4-트리플루오로메틸페닐이미노)-메틸]-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.6 g)를 수득하였다.
합성 실시예 23
방법 (p):
톨루엔중의 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(2.00 g) 및 트리플루오로아세트알데하이드 헤미에틸아세탈(1.63 g)의 용액에 4-디메틸아미노피리딘(1.24 g)을 첨가하고, 혼합물을 3 시간동안 가열환류시켰다. 반응 혼합물을 물에 붓고 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기층을 염화나트륨 포화 수용액으로 세척한 후, 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 에틸 아세테이트/헥산 = 1/2)에 의해 정제하여 N-(2,2,2-트리플루오로-1-하이드록시에틸)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.50 g, 융점 90 내지 93 ℃) 및 N-(2,2,2-트리플루오로-1-에톡시에틸)-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.58 g, 융점 99 내지 101 ℃)를 수득하였다.
합성 실시예 24
방법 (p):
아세토니트릴(300 ㎖)중의 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(10.0 g) 및 파라포름알데하이드(1.80 g)의 용액에 탄산칼륨(8.0 g)을 첨가한 후, 혼합물을 실온에서 5 시간동안 교반하였다. 반응 혼합물을 물에 붓고, 침전된 결정을 여과한 후, 물로 세척하고, 건조시켜 융점 90 내지 93 ℃인 N-하이드록시메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(6.3 g)를 수득하였다.
합성 실시예 25
방법 (q):
메틸렌 클로라이드중의 N-하이드록시메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.0 g) 및 트리에틸아민(0.5 g)의 용액을 0 ℃로 냉각하였다. 4-트리플루오로메틸벤조일 클로라이드(0.9 g)를 첨가하고, 혼합물을 하루동안 교반하였다. 반응 혼합물을 물로 세척한 후, 유기층을 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 감압하에서 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 메틸렌 클로라이드)에 의해 정제하여 융점 120 내지 121 ℃인 N-(4-트리플루오로메틸벤조일옥시)-메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.2 g)를 수득하였다.
합성 실시예 26
방법 (r):
메틸렌 클로라이드(50 ㎖)중의 N-하이드록시메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(1.0 g)의 용액에 피리딘 3 적 및 4-트리플루오로메틸페닐 이소시아네이트(0.8 g)를 첨가하고, 혼합물을 0 ℃에서 하루동안 교반하였다. 반응 용액을 물로 세척한 후, 유기층을 무수 황산마그네슘상에서 건조시켰다. 용매를 증류시켜 수득한 잔류물을 실리카겔 칼럼 크로마토그래피(용리제: 에틸 아세테이트:헥산 = 1:3)에 의해 정제하여 융점 117 내지 119 ℃인 N-[N-(4-트리플루오로메틸페닐)-카바모일옥시메틸]-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(0.7 g)를 수득하였다.
상기 언급된 합성 실시예 1 내지 26에서 합성된 화합물과 함께, 이들 합성 실시예 1 내지 26과 유사한 방법으로 수득된 화합물을 하기 표 1 내지 7에 나타내었다.
표 1
표 2
표 3
표 4
표 5
표 6
표 7
중간체의 제조
합성 실시예 27
클로로트리메틸실란(20 ㎖)에 3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(2.0 g) 및 파라포름알데하이드(0.3 g)을 첨가하여 수득한 현탁액을 밀봉관에서 3 시간동안 가열환류시켰다. 용매를 증류시킨 후, 메틸렌 클로라이드를 첨가하고, 불용성 생성물을 여과하였다. 용매를 감압하에서 증류시켜 융점 98 내지 99 ℃인 N-클로로메틸-3,4-디클로로-5-이소티아졸카복사미드(2.0 g)를 수득하였다.
상기 언급된 합성 실시예 27에서 합성된 화합물과 함께, 이 합성 실시예 27과 유사한 방법으로 수득된 화합물을 하기 표 8에 나타내었다.
표 8
생물학적 시험예
시험예 A
피리쿨라리아 오리자에(Pyricularia oryzae)에 대한 잎 분무 효과 시험
시험 화합물 제제의 제조
활성 화합물: 30 내지 40 중량부
담 체 : 규조토와 카올린의 혼합물(1:5) 55 내지 65 중량부
유화제 : 폴리옥시에틸렌 알킬 페닐 에테르 5 중량부
상기 언급된 양의 활성 화합물, 담체 및 유화제를 분쇄하고 혼합하여 수화성 분제를 수득하였다. 소정량의 활성 화합물을 함유하는 수화성 분제 일부를 물로 희석하여 시험에 사용하였다.
시험 방법
논벼모(쿠사부에(Kusabue) 품종)를 직경 각 6 cm의 플라스틱 포트에서 재배하였다. 미리 제조해 놓은 소정 농도의 활성 화합물 용액을 1.5-2 엽 단계의 모에 3 포트당 20 ㎖의 비율로 분무하였다. 적용일로부터 5 일후, 인공 배양한 피리쿨라리아 오리자에의 포자 현탁액을 모에 한차례 분무-접종시키고, 모를 감염되도록 25 ℃ 및 100% 상대습도에서 유지시켰다. 접종 7 일후, 포트당 감염비를 하기 기준에 따라 분류하여 평가한 후, 구제값(%)을 산정하였다. 동시에 식물독성에 대해서도 시험하였다. 이 시험은 세번의 결과를 평균낸 것이다. 감염비의 평가 및 구제값의 산정 방법은 시험예 A 내지 D의 각 경우에 동일하다.
감염비 병변 영역 퍼센트(%)
00.512345 02 미만2 이상 5 미만5 이상 10 미만10 이상 20 미만20 이상 40 미만40 초과
시험 결과
제 7, 26, 32, 34, 37, 38, 45, 48, 52, 59, 65, 67, 71, 73, 75, 76, 89, 93, 98, 100, 101, 103, 104, 105, 106, 107, 108, 112, 113, 121, 128, 151 및 153번 화합물이 500 ppm의 활성 화합물 농도에서 80% 이상의 구제값을 나타내었다. 식물독성은 관찰되지 않았다.
시험예 B
피리쿨라리아 오리자에에 대한 수면 적용 효과 시험
시험 방법
1.5엽 단계의 논벼모(쿠사부에 품종)를 직경 각 6 cm의 플라스틱 포트에서 재배하였다. 그후, 모를 직경 각 10 ㎝의 관개(irrigated) 플라스틱 컵에 포트당 모 하나씩 이식하고, 토양을 덮을 정도로 물을 가하였다. 시험예 A와 유사한 방법으로 제조된 소정 농도의 활성 화합물 용액을 피펫으로 포트당 5 ㎖의 비율로 수면에 적하하였다. 화학약품으로 처리하고 7 일후, 인공 배양한 피리쿨라리아 오리자에의 포자 현탁액을 모에 한차례 분무접종하고, 모를 25 ℃의 온도 및 100% 상대대기습도에서 유지시켰다. 접종 7 일후, 포트당 감염비를 등급을 매겨 평가하고, 구제값(%)을 산정하였다. 동시에 식물독성에 대해서도 시험하였다. 이 시험은 세번의 결과를 평균낸 것이다.
시험 결과
제 1, 7, 22, 26, 30, 38, 48, 49, 67, 73, 75, 76, 92, 98, 100, 101, 103, 104, 105, 106, 107, 108, 112, 113, 121, 122, 128, 137 및 154번 화합물이 8 ㎏/㏊의 활성 화합물 농도에서 80% 이상의 구제값을 나타내었다. 식물독성은 관찰되지 않았다.
시험예 C
피리쿨라리아 오리자에에 대한 종자 처리 효과 시험
시험 방법
논벼모(쿠사부에 품종)를 소정 농도의 활성 화합물 희석 용액에 담그었다. 종자 150 낟알당 시험예 A와 유사한 방법으로 제조된 용액 5 ㎖를 사용하였다. 20 ℃의 온도에서 5 일간 담가 두었다. 그후, 공기건조된 종자를 직경 각 9 ㎝의 두개의 플라스틱 포트에 파종하고, 포트를 가온 모 상자(32 ℃)에 3 일간 놓아 두어 발아시켰다. 모를 2 주동안 재배하였더니 2 내지 2.5 엽 단계에 이르렀다. 인공 배양한 피리쿨라리아 오리자에의 포자 현탁액을 모에 한차례 분무하고, 모를감염되도록 25 ℃의 온도 및 100% 상대대기습도에서 유지시켰다. 접종 7 일후, 포트당 감염비를 등급을 매겨 평가하고, 구제값(%)을 산정하였다. 동시에 식물독성에 대해서도 시험하였다. 이 시험은 두번의 결과를 평균낸 것이다.
시험 결과
제 1, 7, 26, 30, 38, 49, 58, 76, 89, 92, 93, 106, 108, 109, 110, 112, 113, 121, 126, 128, 137, 150, 153, 154, 288 및 290번 화합물이 500 ppm의 활성 화합물 농도에서 80% 이상의 구제값을 나타내었다. 식물독성은 관찰되지 않았다.
시험예 D
피토프토라 인페스탄스(Phythophthora infestans)에 대한 분무 시험
시험 방법
토마토 종자(레기나(Regina) 품종) 약 1개를 직경 6 ㎝의 각 플라스틱 포트에 파종하고, 온실(15 내지 25 ℃)에서 육성하였다. 제조해 놓은 시험 화합물 제제를 상기 소정 농도로 희석시켜 수득한 용액을 4 엽 단계의 작은 묘목에 3 포트당 20 ㎖의 비율로 분무하였다. 피토프토라 인페스탄스로 미리 감염시킨 토마토 식물의 병변상에 형성된 유주자(Zoosporangia)를 증류수에서 솔을 이용하여 세척하여 현탁액을 수득하였다. 토마토 식물에 활성 화합물 용액을 분무하고 5 일후, 식물에 현탁액을 한번 더 분무하여 접종시키고, 처리 식물을 20 ℃의 온도 및 100% 상대대기습도에서 유지시켰다. 접종 4 일후, 포트당 감염비를 등급매기고, 구제값(%)을 산정하였다. 동시에 식물독성에 대해서도 시험하였다. 이 시험은세번의 결과를 평균낸 것이다.
시험 결과
제 22, 30, 34, 37, 38, 45, 52, 58, 65, 69, 71, 89, 90, 92, 93, 100, 103, 104, 106, 107, 108, 113, 137, 150, 151, 153 및 290번 화합물이 500 ppm의 활성 화합물 농도에서 80% 이상의 구제값을 나타내었다. 식물독성은 관찰되지 않았다.
제제예
제제예 I (과립제)
물 25 중량부를 본 발명에 따른 제 30 번 화합물 10 중량부, 벤토나이트(몬모릴로나이트) 30 중량부, 활석 58 중량부 및 리그닌 설폰산염 2 중량부의 혼합물에 첨가하고, 혼합물을 잘 혼합하였다. 생성물을 압출 제립기의 수단으로 과립화하여 10 내지 40 메쉬 크기의 과립을 수득하였다. 과립을 40 내지 50 ℃의 온도에서 건조시켰다.
제제예 II (과립제)
0.2 내지 2 ㎜ 범위의 입도 분포를 갖는 점토 광물 95 중량부를 회전 믹서에 도입하였다. 이 생성물에 본 발명에 따른 제 38 번 화합물 5 중량부 및 액체 희석제의 혼합물을 회전하에 분무하여 균일하게 습윤시켰다. 이렇게 수득한 과립을 40 내지 50 ℃의 온도에서 건조시켰다.
제제예 III (유화성 농축액)
본 발명에 따른 제 106 번 화합물 30 중량부, 크실렌 5 중량부, 폴리옥시에틸렌 알킬 페닐 에테르 8 중량부 및 칼슘 알킬벤젠 설포네이트 7 중량부를 교반혼합하여 유화성 농축액을 제조하였다.
제제예 IV (수화성 분제)
본 발명에 따른 제 108 번 화합물 15 중량부, 화이트 카본(White Carbon)(수화된 비결정성 이산화규소의 미분)과 분말상 점토의 혼합물(1:5) 80 중량부, 소듐 알킬벤젠 설포네이트 2 중량부 및 소듐 알킬나프탈렌 설포네이트와 포름알데하이드의 축합물 3 중량부를 분말 상태로 완전히 혼합하여 수화성 분제를 제조하였다.
제제예 V (수화성 과립제)
본 발명에 따른 제 113번 화합물 20 중량부, 소듐 리그닌 설포네이트 30 중량부, 벤토나이트 15 중량부 및 하소 규조토 분말 35 중량부를 물과 완전히 혼합하였다. 생성물을 0.3 ㎜ 스크린을 통해 압출하여 과립화하였다. 생성물을 건조시킨 후, 수화성 과립제를 수득하였다.

Claims (9)

  1. 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체:
    상기 식에서,
    A는 산소 원자, 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1은 수소 원자, C1-4알킬, C3-6사이클로알킬, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
    Q는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R2는 수소 원자, C1-4알킬, C1-4할로알킬, C7-9아르알킬 또는 C1-4알콕시카보닐에 의해 치환될 수 있는 페녹시메틸을 나타내며,
    R3는 할로겐, C1-4알킬, C1-4할로알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알콕시, 페녹시,벤질옥시, 시아노, 옥시디메틸렌 및/또는 니트로에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내거나, 나프틸을 나타내고,
    k는 0 또는 1을 나타내며,
    Z는 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알콕시, C3-6사이클로알콕시, C2-4알케닐, 페닐, 할로페닐, 옥소 및/또는 스피로-결합된 C3-6알리사이클릭 그룹중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있고 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원(membered) 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Z는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Z는 시아노 또는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R4는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내거나, 각각 할로겐 및/또는 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
    R4는 C1-4알킬에 의해 치환될 수 있는 테트라졸-5-일-티오메틸을 나타내며,
    R5는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 3,4-디클로로이소티아졸-5-일-카보닐, C1-4알킬설포닐 또는 페닐설포닐을 나타내거나,
    R5는 할로겐 및 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내고,
    R6은 수소 원자, C1-4알킬, C1-4할로알킬, 벤질, 할로겐-치환된 벤질, 페닐, 할로겐-치환된 페닐, C1-4알킬카보닐, 벤조일, C1-4할로알킬-치환된 벤조일, 페닐카바모일 또는 C1-4할로알킬-치환된 페닐카바모일을 나타내며,
    R7은 C1-4알킬을 나타내거나, 각각 C1-4알킬 및/또는 할로겐중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
    R7은 테트라졸-5-일을 나타내거나,
    R7은 C1-4알킬 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 티아디아졸-2-일을 나타내거나,
    R7은 2-티아졸린-2-일, C1-4알킬카보닐 또는 벤조일을 나타내고,
    m은 0, 1 또는 2를 나타내며,
    R8은 C1-4알킬을 나타내거나,
    A가그룹을 나타내는 경우,
    R1, Q 및 Z는 C1-4알킬, C1-4할로알킬, 하이드록시, 옥소, 하이드록시메틸 및 페닐(이들은 각각 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 치환될 수 있다) 중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 임의로 치환된 질소 원자 1 내지 3의 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타낼 수 있거나,
    -(Q)k-Z는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    n은 1 또는 2를 나타내며,
    R9는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내고,
    R10은 수소 원자, 하이드록시메틸 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자에 의해 치환될 수 있는 벤질을 나타내며,
    R11은 수소 원자, C1-4알킬 또는 페닐을 나타내고,
    R12는 수소 원자, C1-4알킬 또는 페닐을 나타내거나, 두 R12래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, 5- 또는 6-원 탄화수소 환을 형성할 수 있으며,
    R13은 수소 원자, C1-9알킬, C3-6사이클로알킬, C7-8아릴알킬, C3-6사이클로알킬-C1-4알킬, C1-4알콕시-C1-4알킬 또는 디-(C1-4알콕시)-메틸을 나타내거나, 두 R13래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 C5-6알리사이클릭 환을 형성하거나,
    -A-(Q)k-Z는 -SH 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R9는 상기 언급된 바와 같으며,
    R14는 C1-4알킬, C3-6사이클로알킬 또는 하이드록시-치환된 C2-4알킬을 나타내고,
    j는 2, 3 또는 4를 나타내거나,
    A가를 나타내고,
    Q가를 나타내며,
    Z는를 나타내는 경우,
    이들 래디칼은 함께, 일반식의 그룹을 나타낼 수 있으며,
    여기에서,
    R15및 R16은 서로 독립적으로 C1-4알킬 또는 페닐을 나타내거나,
    R15및 R16은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 적어도 하나의 질소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 형성하나,
    단,
    Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    A는를 나타내고,
    여기에서,
    R17은 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내며,
    Z는 시아노를 나타내고,
    Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    A는 -NH를 나타내며,
    Z는 시아노를 나타내고,
    -(Q)k-Z가 2,3-디하이드록시프로필을 나타내는 경우,
    A는 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내며,
    -(Q)k-Z가 2-하이드록시에틸을 나타내고,
    A가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    R1은 C1-4알킬, C3-6사이클로알킬, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
    A가 구조식의 그룹을 나타내는 경우,
    Q는 -CH2-를 나타내고,
    Z는 일반식의 그룹을 나타내며,
    여기에서,
    R4는 수소 원자를 나타내거나, 각각 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내고,
    또한,
    A가 산소 또는 황을 나타내고,
    k가 0인 경우,
    Z는 시아노 또는
    중에서 선택된 그룹을 나타내지 않는다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    A가 산소 원자, 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1은 수소 원자, C1-3알킬, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
    Q는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R2는 수소 원자, C1-6알킬, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, C7-8아르알킬 또는 C1-3알콕시카보닐에 의해 일- 또는 이-치환될 수 있는 페녹시메틸을 나타내며,
    R3는 플루오로, 클로로, 브로모, C1-3알킬, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, C1-3알콕시, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알콕시, 페녹시, 벤질옥시, 시아노 및/또는 니트로중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있거나, 옥시디메틸렌에 의해 일치환될 수 있는 페닐을 나타내거나, 나프틸을 나타내고,
    k는 0 또는 1을 나타내며,
    Z는 불소, 염소, 브롬, C1-3알킬, 메톡시, 에톡시, 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, C3-4알케닐, 페닐 및/또는 1 내지 3개의 불소 및/또는 염소 원자를갖는 할로페닐중에서 선택된 3개 이하의 치환체에 의해 치환될 수 있고 옥소 또는 스피로-결합된 C3-5알리사이클릭 그룹에 의해 또한 일- 또는 이치환될 수 있으며 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Z는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-3알킬 및/또는 페닐중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있으며 1 또는 2개의 옥소 그룹에 의해 또한 치환될 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Z는 시아노 또는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R4는 수소 원자 또는 C1-3알킬을 나타내거나, 각각 불소, 염소, 메틸 및/또는 에틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
    R4는 C1-3알킬에 의해 치환될 수 있는 테트라졸-5-일-티오메틸을 나타내며,
    R5는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 3,4-디클로로이소티아졸-5-일카보닐, C1-4알킬설포닐 또는 페닐설포닐을 나타내거나,
    R5는 불소, 염소 및/또는 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내고,
    R6은 수소 원자, C1-3알킬 또는 C1-3플루오로알킬을 나타내거나, 각각 불소 및/또는 염소중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 벤질 또는 페닐을 나타내거나, 아세틸 또는 프로피오닐을 나타내거나, 각각 1 내지 3개의 탄소 원자 및 1 내지 3개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 벤조일 또는 페닐카바모일을 나타내며,
    R7은 C1-3알킬을 나타내거나, 각각 C1-3알킬, 불소 및/또는 염소중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
    R7은 테트라졸-5-일을 나타내거나,
    R7은 C1-3알킬 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 티아디아졸-2-일을 나타내거나,
    R7은 2-티아졸린-2-일, C1-2알킬카보닐 또는 벤조일을 나타내고,
    m은 0 또는 2를 나타내며,
    R8은 메틸 또는 에틸을 나타내거나,
    A가그룹을 나타내는 경우,
    R1, Q 및 Z는그룹의 질소 원자와 함께, C1-4알킬, 1 내지 3 개의 탄소 원자 및 1 내지 5개의 불소, 염소 및/또는 브롬 원자를 갖는 할로알킬, 하이드록시, 옥소, 하이드록시메틸 및/또는 페닐(이들은 각각 불소, 염소 및/또는 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있다) 중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 임의로 치환된 질소 원자 1 내지 3의 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타낼 수 있거나,
    -(Q)k-Z는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    n은 1 또는 2를 나타내며,
    R9는 수소 원자 또는 C1-3알킬을 나타내고,
    R10은 수소 원자, 하이드록시메틸 또는 1 내지 3개의 염소 원자에 의해 치환될 수 있는 벤질을 나타내며,
    R11은 수소 원자, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, t-부틸 또는 페닐을 나타내고,
    R12는 수소 원자, C1-3알킬 또는 페닐을 나타내거나, 두 R12래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, 5- 또는 6-원 탄화수소 환을 형성할 수 있으며,
    R13은 수소 원자, C1-6알킬, 사이클로헥실, 2-페닐에틸, α-메틸벤질, 2-사이클로헥실에틸, C1-3알콕시-C1-3알킬 또는 디(C1-2알콕시)메틸을 나타내거나, 두 R13래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, C1-3알킬에 의해 임의로 치환된 C5-6알리사이클릭 환을 형성하거나,
    -A-(Q)k-Z는 -SH 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R9는 상기 언급된 바와 같으며,
    R14는 C1-3알킬, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 또는 하이드록시-치환된 C2-3알킬을 나타내고,
    j는 2, 3 또는 4를 나타내거나,
    A가를 나타내고,
    Q가를 나타내며,
    Z는를 나타내는 경우,
    이들 래디칼은 함께, 일반식의 그룹을 나타낼 수 있으며,
    여기에서,
    R15및 R16은 서로 독립적으로 C1-3알킬 또는 페닐을 나타내거나,
    R15및 R16은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 적어도 하나의 질소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 형성하나,
    단,
    Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    A는를 나타내고,
    여기에서,
    R17은 수소 원자 또는 C1-3알킬을 나타내며,
    Z는 시아노를 나타내고,
    Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    A는 -NH를 나타내며,
    Z는 시아노를 나타내고,
    -(Q)k-Z가 2,3-디하이드록시프로필을 나타내는 경우,
    A는 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내며,
    -(Q)k-Z가 2-하이드록시에틸을 나타내고,
    A가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    R1은 C1-3알킬, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
    A가 구조식의 그룹을 나타내는 경우,
    Q는 -CH2-를 나타내고,
    Z는 일반식의 그룹을 나타내며,
    여기에서,
    R4는 수소 원자를 나타내거나, 각각 불소, 염소, 메틸 및/또는 에틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내고,
    R5는 포르밀을 나타내며,
    또한,
    A가 산소 또는 황을 나타내고,
    k가 0인 경우,
    Z는 시아노 또는
    중에서 선택된 그룹을 나타내지 않는 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체.
  3. 제 1 항에 있어서,
    A는 산소 원자, 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1은 수소 원자, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
    Q는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R2는 수소 원자, C1-6알킬, 트리플루오로메틸, 트리클로로메틸, 2-페닐에틸 또는 메톡시카보닐에 의해 치환될 수 있는 페녹시메틸을 나타내며,
    R3는 플루오로, 클로로, 메틸, 에틸, 트리플루오로메틸, 메톡시, 트리플루오로메톡시, 페녹시, 벤질옥시, 시아노 및/또는 니트로중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있거나, 옥시디메틸렌에 의해 일치환될 수 있는 페닐을 나타내고,
    k는 0 또는 1을 나타내며,
    Z는 불소, 염소, 메틸, 에틸, 프로필, 메톡시, 트리플루오로메틸, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 2-메틸-1-프로페닐 및/또는 1 내지 3개의 불소 및/또는 염소 원자에 의해 임의로 치환된 페닐중에서 선택된 3개 이하의 치환체에 의해 치환될 수 있고 옥소 또는 스피로-결합된 C3-5알리사이클릭 그룹에 의해 또한 일- 또는이치환될 수 있으며 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Z는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, 메틸 및/또는 페닐중에서 선택된 1 내지 3개의 치환체에 의해 치환될 수 있으며 1 또는 2개의 옥소 그룹에 의해 또한 치환될 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Z는 시아노 또는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R4는 수소 원자, 메틸, 에틸 또는 프로필을 나타내거나, 각각 불소, 염소, 메틸 및/또는 에틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내거나,
    R4는 메틸에 의해 치환될 수 있는 테트라졸-5-일-티오메틸을 나타내며,
    R5는 포르밀, 아세틸, 피발로일, 3,4-디클로로이소티아졸-5-일-카보닐, 메틸설포닐 또는 페닐설포닐을 나타내거나,
    R5는 불소, 염소 및/또는 메틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내고,
    R6은 수소 원자, 메틸, 에틸 또는 2,2,3,3-테트라플루오로프로필을 나타내거나, 각각 불소 및 염소중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있는 벤질 또는 페닐을 나타내거나, 각각 트리플루오로메틸에 의해 치환될 수 있는 벤조일 또는 페닐카바모일을 나타내거나, 아세틸 또는 프로피오닐을 나타내며,
    R7은 메틸 또는 에틸을 나타내거나, 각각 메틸, 불소 및/또는 염소중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐 또는 벤질을 나타내거나,
    R7은 테트라졸-5-일을 나타내거나,
    R7은 메틸 또는 페닐에 의해 임의로 치환된 티아디아졸-2-일을 나타내거나,
    R7은 2-티아졸린-2-일, 메틸카보닐 또는 벤조일을 나타내고,
    m은 0 또는 2를 나타내며,
    R8은 메틸 또는 에틸을 나타내거나,
    A가그룹을 나타내는 경우,
    R1, Q 및 Z는그룹의 질소 원자와 함께, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, t-부틸, 트리플루오로메틸, 하이드록시, 옥소, 하이드록시메틸 및/또는 페닐(이들은 각각 불소, 염소 및/또는 메틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 치환될 수 있다) 중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 임의로 치환된 질소 원자 1 또는 2의 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타낼 수 있거나,
    -(Q)k-Z는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    n은 1 또는 2를 나타내며,
    R9는 수소 원자, 메틸 또는 에틸을 나타내고,
    R10은 수소 원자, 하이드록시메틸 또는 염소에 의해 치환될 수 있는 벤질을 나타내며,
    R11은 수소 원자, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, t-부틸 또는 페닐을 나타내고,
    R12는 수소 원자, 메틸 또는 페닐을 나타내거나, 두 R12래디칼은 이들이 결합된 원자와 함께, 5- 또는 6-원 탄화수소 환을 형성할 수 있으며,
    R13은 수소 원자, C1-4알킬, 사이클로헥실, 2-페닐에틸, α-메틸벤질, 2-사이클로헥실에틸, 에톡시메틸, 2-에톡시에틸 또는 디메톡시메틸을 나타내거나, 두 R13래디칼은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께, C1-3알킬에 의해 임의로 치환된 C5-6알리사이클릭 환을 형성하거나,
    -A-(Q)k-Z는 -SH 또는 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R9는 상기 언급된 바와 같으며,
    R14는 메틸, 에틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 또는 하이드록시에틸을 나타내고,
    j는 2 또는 3을 나타내거나,
    A가를 나타내고,
    Q가를 나타내며,
    Z는를 나타내는 경우,
    이들 래디칼은 함께, 일반식의 그룹을 나타낼 수 있으며,
    여기에서,
    R15및 R16은 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 페닐을 나타내거나,
    R15및 R16은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 적어도 하나의 질소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하는 5- 또는 6-원 헤테로사이클릭 그룹을 형성하나,
    단,
    Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    A는 -NH- 또는를 나타내고,
    Z는 시아노를 나타내며,
    Q가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    A는 -NH를 나타내며,
    Z는 시아노를 나타내고,
    -(Q)k-Z가 2,3-디하이드록시프로필을 나타내는 경우,
    A는 황 원자 또는 일반식의 그룹을 나타내며,
    -(Q)k-Z가 2-하이드록시에틸을 나타내고,
    A가 일반식의 그룹을 나타내는 경우,
    R1은 메틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 페닐 또는 2-하이드록시에틸을 나타내며,
    A가 구조식의 그룹을 나타내는 경우,
    Q는 -CH2-를 나타내고,
    Z는 일반식의 그룹을 나타내며,
    여기에서,
    R4는 수소 원자를 나타내거나, 각각 불소, 염소, 메틸 및/또는 에틸중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 벤질 또는 페닐을 나타내고,
    R5는 포르밀을 나타내며,
    또한,
    A가 산소 또는 황을 나타내고,
    k가 0인 경우,
    Z는 시아노 또는
    중에서 선택된 그룹을 나타내지 않는 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체.
  4. a) 구조식 (II)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복사미드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 구조식 (III)의 포르밀아민과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 구조식의 그룹을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    b) 일반식 (IV)의 이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하 및 경우에 따라 상-전이 촉매의 존재하에서 일반식 (V)의 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1b는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내며,
    R2b는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내고,
    Zb는중에서 선택되며, 여기에서, R4,R5, R6및 R7은 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    c) 일반식 (IVa)의 이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하에서 일반식 (VI)의 인 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1b는 상기 언급된 의미를 가지며,
    R8은 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    d) 일반식 (VII)의 이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (VIII)의 클로로메틸 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식 -Ad-CH2-Zd의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    Ad는또는 황 원자를 나타내며, 여기에서, R1은 제 1 항에 언급된 의미를 갖고,
    Zd는 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, C2-4알케닐 및 페닐중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Zd는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Zd는중에서 선택된 그룹을 나타내며, 여기에서, R4, R5, R7및 R8은 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    e) 구조식 (II)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복사미드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (IX)의 포르밀 화합물 및 구조식 (X)의 1H-벤조트리아졸과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서, R2는 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    f) 구조식 (XI)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카보닐 클로라이드를 불활성희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XII)의 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 -SH 또는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    A, Q, Z, j, k, n, R1, R2, R3, R4, R5, R9, R10, R11, R12, R14는 제 1 항에 언급된 의미를 가지며,
    Zf1은 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, C2-4알케닐, 페닐, 할로페닐, 옥소 및/또는 스피로-결합된 C3-6알리사이클릭 그룹중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있고 벤젠 또는 사이클로헥센 환과축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Zf1은 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내고,
    Zf2는 C1-4알킬 및/또는 옥소에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 또는 2의 5-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며,
    Z5f는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 또는 할로겐 및 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    g) 일반식 (XIII)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복실산 에스테르를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XIV)의 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    j, n, R2, R3, R9, R10, R11, R12및 R14는 제 1 항에 언급된 의미를 갖고, Zf1및 R5f는 상기 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    h) 구조식 (XV)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카보하이드라지드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (XVI)의 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 Rh1은 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    i) 구조식 (XV)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카보하이드라지드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XVII)의 화합물과반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    Ri1은 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내거나, 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내며,
    Ri2는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    j) 구조식 (XV)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카보하이드라지드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (XVIII)의 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R3은 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    k) 일반식 (Ia)의 이소티아졸카복실산 유도체를 불활성 희석제의 존재하에서 산소를 제공하기에 적합한 산화제와 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1, R2및 R7은 제 1 항에 언급된 의미를 가지며,
    p는 1 또는 2를 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    l) 구조식 (II)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복사미드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 촉매의 존재하에서 일반식 (XIX)의 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R15는 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    m) 일반식 (Ib)의 이소티아졸카복실산 유도체를 물의 존재하 및, 및 경우에 따라 불활성 유기 희석제의 존재하에서 산소를 제공하기에 적합한 산화제와 반응시켜
    -(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R9, R12및 n은 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    n) 일반식 (Ic)의 이소티아졸카복실산 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 촉매의 존재하에서 일반식 (XX)의 카보닐 유도체와 반응시켜
    -(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R9, R12, R13및 n은 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    o) 구조식 (II)의 3,4-디클로로-이소티아졸-5-카복사미드를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XXI)의 시아노 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고, 여기에서 R3은 제 1 항에 언급된 의미를 갖는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    p) 일반식 (XXII)의 3,4-디클로로-이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XXIII)의 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1b는 상기 언급된 의미를 가지며,
    R2p는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내고,
    R6p는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    q) 일반식 (Id)의 3,4-디클로로-이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하에서 일반식 (XXIV)의 클로로-치환된 화합물과 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1b는 상기 언급된 의미를 가지며,
    R6q는 C1-4알킬카보닐 또는 C1-4할로알킬에 의해 치환될 수 있는 벤조일을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조하거나,
    r) 일반식 (Id)의 3,4-디클로로-이소티아졸 유도체를 불활성 희석제의 존재하, 및 경우에 따라 산 결합제의 존재하 및 경우에 따라 염기 촉매의 존재하에서 일반식 (XXV)의 이소시아네이트와 반응시켜
    -A-(Q)k-Z가 일반식의 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R1b는 상기 언급된 의미를 가지며,
    R6r은 페닐카바모일 또는 C1-4할로알킬-치환된 페닐카바모일을 나타내는 일반식 (I)의 화합물을 제조함을 특징으로 하여 제 1 항에 따른 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체를 제조하는 방법:
    M-Zb(V)
    P(OR8)3(VI)
    Cl-CH2-Zd(VIII)
    R2-CHO(IX)
    M-Y1(XII)
    H-Y2(XIV)
    Cl-R6q(XXIV)
    O=C=N-Rr(XXV)
    상기 식에서,
    A, n, R1, R2, R3, R7, R8, R9, R12, R13및 R15는 제 1 항에 언급된 의미를 가지며,
    R1b는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내고,
    R2b는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내며,
    X는 클로로 또는 브로모를 나타내고,
    Zb는중에서 선택된 그룹을 나타내며,
    여기에서, R4, R5, R6및 R7은 제 1 항에 언급된 의미를 갖고,
    M은 수소 원자, 리튬, 소듐 또는 포타슘을 나타내며,
    Ad는또는 황 원자를 나타내고,
    여기에서,
    R1은 상기 언급된 의미를 가지며,
    Zd는 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, C2-4알케닐 및 페닐중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Zd는 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Zd는중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    R4, R5, R7및 R8은 제 1 항에 언급된 의미를 가지며,
    Y1은 -SH 또는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    A, Q, Z, j, k, n, R1, R2, R3, R4, R5, R9, R10, R11, R12및 R14는 제 1 항에 언급된 의미를 가지며,
    Zf1은 할로겐, C1-4알킬, C1-4알콕시, C1-4할로알킬, C3-6사이클로알킬, C2-4알케닐, 페닐, 할로페닐, 옥소 및/또는 스피로-결합된 C3-6알리사이클릭 그룹중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있고 벤젠 또는 사이클로헥센 환과 축합될 수 있는 질소 원자 1 내지 4의 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내거나,
    Zf1은 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 산소 원자를 포함하거나 적어도 하나의 질소 원자 및 하나의 황 원자를 포함하며, C1-4알킬, 페닐 및/또는 옥소중에서 선택된 하나 이상의 치환체에 의해 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클릭 환을 나타내고,
    Zf2는 C1-4알킬 및/또는 옥소에 의해 치환될 수 있는 질소 원자 1 또는 2의 5-원 헤테로사이클릭 그룹을 나타내며,
    Z5f는 포르밀, C1-4알킬카보닐, 또는 할로겐 및 C1-4알킬중에서 선택된 1 내지 3개의 래디칼에 의해 임의로 치환된 페닐카보닐을 나타내고,
    Rg는 C1-4알킬을 나타내며,
    Y2는
    중에서 선택된 그룹을 나타내고,
    여기에서,
    j, n, R2, R3, R9, R10, R11, R12및 R14는 제 1 항에 언급된 의미를 가지며, Zf1및 R5f는 상기 언급된 의미를 갖고,
    Rh1은 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내며,
    Rh2는 C1-4알킬을 나타내고,
    Rh3은 시아노 또는 -COORh2를 나타내며,
    Ri1은 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내거나, 할로겐 및/또는 C1-4알킬에 의해 임의로 치환된 페닐을 나타내고,
    Ri2는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내며,
    T1은 C1-4알콕시를 나타내고,
    T2는 C1-4알콕시를 나타내거나, 두 T2래디칼은 함께, 옥소 그룹을 나타내며,
    R2p는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내고,
    T3은 하이드록시를 나타내며,
    T4는 C1-4알콕시를 나타내거나,
    T3및 T4는 함께, 옥소 그룹을 나타내고,
    R6q는 C1-4알킬카보닐 또는 C1-4할로알킬에 의해 치환될 수 있는 벤조일을 나타내며,
    Rr은 페닐 또는 C1-4할로알킬-치환된 페닐을 나타낸다.
  5. 증량제 및/또는 계면활성제와 함께, 적어도 하나의 제 1 항에 따른 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체를 함유함을 특징으로 하는 살미생물제 (microbicidal) 조성물.
  6. 제 1 항에 따른 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체를 미생물 및/또는 이들의 서식지에 적용시킴을 특징으로 하여 원치않는 미생물을 구제하는 방법.
  7. 원치않는 미생물을 구제하기 위한 제 1 항에 따른 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체의 용도.
  8. 제 1 항에 따른 일반식 (I)의 이소티아졸카복실산 유도체를 증량제 및/또는계면활성제와 혼합함을 특징으로 하여 살미생물제 조성물을 제조하는 방법.
  9. 일반식 (IV)의 이소티아졸카복실산 유도체:
    상기 식에서,
    R1b는 수소 원자 또는 C1-4알킬을 나타내고,
    R2b는 수소 원자 또는 C1-4할로알킬을 나타내며,
    X는 클로로 또는 브로모를 나타낸다.
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