KR20020066508A - 폴리이미드계 공중합체 - Google Patents
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Abstract
Description
구분 | 티타니아0 중량% | 티타니아27.3 중량% | 티타니아42.9 중량% | 티타니아52.9 중량% | 티타니아60 중량% |
투과도(400 nm, 0.35 ㎛ 두께) | 97 | 96 | 96 | 96 | 95 |
굴절율 | 1.554 | 1.701 | 1.755 | 1.862 | 1.924 |
Claims (16)
- 화학식 1로 표시되는 화합물, 화학식 2로 표시되는 화합물, 및 화학식 3으로 표시되는 화합물을 포함하는 폴리이미드계 공중합체:[화학식 1]상기 화학식 1에서,l은 1∼500의 정수이고,[화학식 2]상기 화학식 2에서,m은 1∼500의 정수이고,[화학식 3]상기 화학식 3에서,n은 0∼500의 정수이고,은,,,, 또는이고,은,,,,,, 또는이다.
- 제 1 항에 있어서,상기 폴리이미드계 공중합체의 고유점도가 0.3∼0.5 ㎗/g이고, 유리전이온도가 300∼370 ℃인 폴리이미드계 공중합체.
- 폴리이미드계 공중합체의 제조방법에 있어서,a) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 하기의 화학식 2로 표시되는 화합물, 및 하기의 화학식 3으로 표시되는 화합물을 용매에 용해시켜 아믹산 용액을 제조하는 단계; 및b) 상기 a) 단계의 아믹산 용액을 가열하여 축합 반응시키는 단계를 포함하는 폴리이미드계 공중합체의 제조방법:[화학식 1]상기 화학식 1에서,l은 1∼500의 정수이고,[화학식 2]상기 화학식 2에서,m은 1∼500의 정수이고,[화학식 3]상기 화학식 3에서,n은 0∼500의 정수이고,은,,,, 또는이고,은,,,,,, 또는이다.
- 제 3 항에 있어서,상기 a) 단계의 아믹산 용액의 농도가 5 내지 15 중량%인 폴리이미드계 공중합체의 제조방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 a) 단계의 용매가 메타-크레졸인 폴리이미드계 공중합체의 제조방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 a) 단계의 용매에 아믹산 용액의 1 내지 10 중량%의 촉매를 더욱 포함하는 폴리이미드계 공중합체의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 촉매가 퀴놀린계, 또는 그의 유도체인 폴리이미드계 공중합체의 제조방법.
- 제 3 항에 있어서,상기 b) 단계의 가열온도가 70∼200 ℃인 폴리이미드계 공중합체의 제조방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 가열이 70∼80 ℃에서 1 단계, 80∼150 ℃에서 2 단계, 및 150∼200 ℃에서 3 단계로 이루어지는 폴리이미드계 공중합체의 제조방법.
- 절연막 조성물에 있어서,a) 제 1 항 기재의 폴리이미드계 공중합체; 및b) 금속알콕시드, 산화금속입자, 또는 이들의 혼합물로부터 선택되는무기 재료를 포함하는 절연막 조성물.
- 제 10 항에 있어서,상기 절연막 조성물의 유전상수가 ε'-7인 절연막 조성물.
- 제 10 항에 있어서,상기 b) 단계의 금속알콕시드가 실리콘알콕시드, 티탄알콕시드, 티타튬테트라아이소프로폭사이드, 지르코늄알콕시드, 및 알루미늄알콕시드로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 절연막 조성물.
- 제 10 항에 있어서,상기 b) 단계의 산화금속입자가 실리카, 티타니아, 지르코니아, 및 알루미나로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 절연막 조성물.
- 절연막 제조방법에 있어서,a) 제 1 항 기재의 폴리이미드계 공중합체를 용매에 용해시키는 단계;b) 상기 a) 단계의 용액에 금속알콕시드, 산화금속입자, 또는 이들의 혼합물로부터 선택하여 첨가하는 단계;c) 상기 b) 단계의 무기 재료가 첨가된 폴리아믹산 용액을 피착제에 코팅하는 단계; 및d) 상기 c) 단계의 피착제를 가열하여 경화하는 단계를 포함하는 절연막 제조방법.
- 제 14 항에 있어서,상기 a) 단계의 용매에 아미노프로필실록산을 더욱 첨가하는 절연막 제조방법.
- 제 10 항 기재의 절연막을 포함하는 게이트막, 패시베이션막, 또는 오버코트막.
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US9406911B2 (en) | 2013-09-16 | 2016-08-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of manufacturing substrate for display device, substrate for display device, and display device |
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- 2001-02-12 KR KR10-2001-0006730A patent/KR100417083B1/ko active IP Right Grant
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