KR20020021629A - Process for electroplating a work piece coated with an electrically conducting polymer - Google Patents

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KR20020021629A
KR20020021629A KR1020017013256A KR20017013256A KR20020021629A KR 20020021629 A KR20020021629 A KR 20020021629A KR 1020017013256 A KR1020017013256 A KR 1020017013256A KR 20017013256 A KR20017013256 A KR 20017013256A KR 20020021629 A KR20020021629 A KR 20020021629A
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리차드 피. 뮐러
엔쏜 인코포레이티드
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Abstract

본 발명의 목적은 전기도금될 공작물로부터 독립적으로, 전류 밀도 감소와 전기도금 시간 단축이 동시에 가능한, 전기전도성 또는 개질 중합체로 코팅된 공작물(1)의 전기도금 공정을 제공하는 것이다. 본 발명은 제 1 단계로서, 공작물을 복합적인 인접 접촉 요소(5)로 전원(8)에 연결하고 접촉 요소에 의해 덮인 지점을 제외하고 얇은 금속 코트로 덮은 다음, 제 2 단계에서 접촉 요소를 제거하여 중단되지 않는 금속 코트(10)를 형성함을 포함한다.It is an object of the present invention to provide an electroplating process of a workpiece 1 coated with an electroconductive or modified polymer, which can simultaneously reduce current density and shorten electroplating time, independently from the workpiece to be electroplated. The invention is a first step, in which the workpiece is connected to the power source 8 with a complex adjacent contact element 5 and covered with a thin metal coat except for the point covered by the contact element, and then the contact element is removed in the second step. Thereby forming an uninterrupted metal coat 10.

Description

전기전도성 중합체로 코팅된 공작물의 전기도금 공정{PROCESS FOR ELECTROPLATING A WORK PIECE COATED WITH AN ELECTRICALLY CONDUCTING POLYMER}PROCESS FOR ELECTROPLATING A WORK PIECE COATED WITH AN ELECTRICALLY CONDUCTING POLYMER}

2차 및 3차 공작물의 표면 또는 표면 구조의 목적하는 변화를 위해, 전기도금은 비-금속 표면일 경우에도, 당분야에 상응하고 실제로 종종 사용되는 공정이다. 따라서, 예를 들어 회로판의 제조에서, 기본 재료의 금속화 및 완전한 접촉이 전기도금에 의해 달성된다. 일반적으로, 기본 재료는 전기도금될, 표면 대부분이 전기도금성 또는 개질 중합체로 코팅된 절연체로 구성된다.For the desired changes in the surface or surface structure of secondary and tertiary workpieces, electroplating is a process that corresponds to the art and is often used in practice, even when it is a non-metallic surface. Thus, for example in the manufacture of circuit boards, metallization and complete contact of the base material is achieved by electroplating. Generally, the base material consists of an insulator, most of the surface to be electroplated, coated with an electroplatable or modified polymer.

그러나, 전기전도성 중합체로 코팅된 절연체의 넓은 영역 상에서 전기도금에 의한 금속 코팅의 침착은 통상적으로 상당한 노력으로만 가능하다. 개질 중합체도 금속 물질과 비교하여 큰 고유 전기저항을 가지기 때문에, 전기도금될 공작물 표면의 전류 밀도는 불균일하게 분포되어 균일하게 강력한 전기장을 발달시키지는 않는다. 연속 금속 코트를 달성하기 위해서는 전류 밀도가 증가해야 하거나 전기도금 시간이 연장되어야 한다.However, the deposition of metal coatings by electroplating on large areas of insulators coated with electrically conductive polymers is typically only possible with considerable effort. Since modified polymers also have a large intrinsic electrical resistance compared to metallic materials, the current density of the workpiece surface to be electroplated is unevenly distributed and does not develop a uniformly strong electric field. To achieve a continuous metal coat, the current density must be increased or the electroplating time must be extended.

전기도금 시간 연장과 관련있는 단점을 회피하기 위해, 전류 밀도를 증가시키는 것이 당분야에 현재 알려져 있다. 그러나, 접촉 영역에서 지나친 전류 밀도는 전기전도성 중합체 코팅의 파괴를 초래한다. 이어서 전기도금된 금속 침착은 전기전도도 감소 때문에 더이상 일어날 수 없다. 이러한 중합체 코팅의 파괴를 회피하기 위해, 전기도금 시간의 연장 및 부수적인 단점을 초래하는 대략 작은 전류 밀도가 선택되어야 한다.In order to avoid the drawbacks associated with extending electroplating time, it is now known in the art to increase the current density. However, excessive current density in the contact region results in the destruction of the electrically conductive polymer coating. Electroplated metal deposition can then no longer occur due to reduced conductivity. To avoid breaking such polymer coatings, approximately small current densities should be chosen which lead to prolongation of electroplating time and ancillary disadvantages.

따라서 전기전도성 중합체로 코팅된 공작물의 전기도금은 공작물에 적당한 전류 밀도와 전기도금 시간을 결정하고 균형잡을 필요가 있다. 공극 없는 코팅을 수득하기 위해 한편으로는 지나친 전류 밀도와 다른 한편으로는 연장된 전기도금 시간 사이의 균형을 고려하여, 공작물-관련 파라미터를 다시 결정할 필요가 있다. 따라서 현재 당분야에 알려진 공정의 대규모 적용은 매우 시간-소모적인 조정이 행해져야 하거나 이러한 조정이 행해지지 않으면 높은 실패율이 초래되기 때문에 만족스럽지 않다.Therefore, electroplating of a workpiece coated with an electroconductive polymer needs to determine and balance the appropriate current density and electroplating time for the workpiece. In order to obtain a void-free coating, it is necessary to re-determine the work-related parameters, taking into account the balance between excessive current density on the one hand and extended electroplating time on the other. Therefore, large scale applications of processes currently known in the art are not satisfactory because very time-consuming adjustments have to be made or high failure rates are caused if such adjustments are not made.

따라서 언급된 단점을 회피하기 위해 전기도금될 공작물에 대해 독립적이고 동시에 전류 밀도를 감소시키면서 전기도금 시간을 단축하는 전기전도성 중합체로 코팅된 공작물의 전기도금 방법을 설명하는 것이 본 발명의 목적이다.It is therefore an object of the present invention to describe a method of electroplating a workpiece coated with an electroconductive polymer which is independent of the workpiece to be electroplated and at the same time reduces the current density while reducing the electroplating time in order to avoid the disadvantages mentioned.

본 발명에 따라 이 문제점은 공정의 제 1 단계에서 공작물을 복합적인 인접 접촉 요소로 전원과 연결하고 접촉 요소에 의해 덮인 접촉 위치를 제외하고 연속 금속 박막으로 코팅함으로써 해결된다. 접촉 요소는 제 2 공정 단계에서 제거되고, 중단되지 않는 연속 코트가 형성된다.According to the invention this problem is solved in the first step of the process by connecting the workpiece with the power supply with a complex adjacent contact element and coating it with a continuous thin metal film except for the contact position covered by the contact element. The contact element is removed in the second process step and an uninterrupted continuous coat is formed.

전기도금될 공작물을 다수의 인접 접촉 요소로 덮어 전기도금될 표면과 전원간의 다수의 전류-운반 연결이 이루어지는 것이 본 발명에 의해 추가로 제안된다. 이는 전기장이 표면을 전기도금하기에 충분한, 작은 전류 밀도만으로 균일하게 발생되는 장점을 가진다. 전기전도성 중합체 코팅은 전원과 연결되어 거의 균일한 전기장이 전기도금될 공작물의 전체 표면을 덮으면서 발생된다.It is further proposed by the present invention that a plurality of current-carrying connections between the power source and the surface to be electroplated is covered by covering the workpiece to be electroplated with a plurality of adjacent contact elements. This has the advantage that the electric field is generated uniformly with only a small current density sufficient to electroplate the surface. An electroconductive polymer coating is produced in connection with the power source, with a nearly uniform electric field covering the entire surface of the workpiece to be electroplated.

본 발명에 의해 설명된 공정의 제 1 단계에서, 접촉 요소를 전원에 연결한 후에, 금속 박막을 전기도금될 공작물의 전기전도성 중합체 코팅에 형성한다. 이 금속 막은 접촉 요소에 의해 덮인 접촉 지점을 제외하고는 중단되지 않는다. 접촉 요소는 공정의 제 1 단계에서 침착된 금속 막이 전체 표면에 걸쳐 연장하고 연속 금속 코트를 형성하도록 하는 방식으로 전기도금될 표면에 배치된다. 사용되는 다수의 접촉 요소 때문에, 금속 코트의 빌드-업은 비교적 단축된 전기도금 시간만을 요한다. 전류 밀도는 감소하지만 전기도금 시간은 연장되지 않는 것이 유리하다. 이와 반대로, 본 발명에 의해 설명된 공정은 또한 전류 밀도가 감소하여도 전기도금 시간을 단축하는 가능성을 제시한다. 지나친 전류 밀도 또는 연장된 전기도금 시간으로 인한 중합체 코팅의 파괴로 나타나는 당분야에 현재 알려진 공정의 단점은 본 발명에 설명된 공정의 사용으로 완전히 회피될 수 있다.In the first step of the process described by the present invention, after connecting the contact element to a power source, a thin metal film is formed on the electrically conductive polymer coating of the workpiece to be electroplated. This metal film is not interrupted except for the point of contact covered by the contact element. The contact element is disposed on the surface to be electroplated in such a way that the metal film deposited in the first step of the process extends over the entire surface and forms a continuous metal coat. Because of the large number of contact elements used, build-up of the metal coat only requires a relatively short electroplating time. It is advantageous that the current density is reduced but the electroplating time is not extended. On the contrary, the process described by the present invention also offers the possibility of shortening the electroplating time even if the current density is reduced. Disadvantages of the processes currently known in the art which result in breakage of the polymer coating due to excessive current density or extended electroplating time can be completely avoided with the use of the process described herein.

접촉 요소에 의해 덮인 지점을 제외한 연속 금속 코트의 침착 후에, 이들은 제 2 공정 단계에서 제거되고, 전기도금될 표면 영역은 제 1 공정 단계에서 형성된 금속 코트를 통해 전류로 하전된다. 이제 금속 침착물은 또한 제 1 공정 단계 동안 접촉 요소에 의해 덮여있는 접촉 지점에도 형성되어, 중단되지 않는 금속 코트가 전기도금될 공작물의 전체 표면에 걸쳐서 형성된다. 또한 이 제 2 전기도금 단계중에는 제 1 공정 단계에서 형성된 금속 코트가 표면 영역을 덮고 있기 때문에 비교적 작은 전류 밀도 및 단축된 전기도금 시간만이 필요하고, 따라서 일반적으로 균일한 전기장 또한 작은 전류 밀도로 발달된다. 또한, 중합체 코트와 달리, 금속 코트는 낮은 비저항으로 양호한 전기 전도체를 나타낸다.After the deposition of the continuous metal coat except for the points covered by the contact elements, they are removed in the second process step and the surface area to be electroplated is charged with current through the metal coat formed in the first process step. Metal deposits are now also formed at the contact points covered by the contact elements during the first process step, such that an uninterrupted metal coat is formed over the entire surface of the workpiece to be electroplated. In addition, during this second electroplating step, since the metal coat formed in the first process step covers the surface area, only a relatively small current density and a shorter electroplating time are required, so that a uniform electric field generally develops into a smaller current density. do. In addition, unlike polymer coats, metal coats exhibit good electrical conductors with low resistivity.

중단되지 않는 연속 금속 코트의 형성을 위한 제 2 공정 단계는 제 1 단계의 완료 후에 아직 덮여 있지 않는 접촉 지점에 금속 코팅을 제공하여 이러한 방식으로 여전히 개방 상태인 접촉 지점이 "폐쇄되고", 중단되지 않는 금속 코트가 제 2 공정 단계에서 형성되는 방식으로 수행될 수 있다. 제 2 공정 단계는 또한 제 1 공정 단계에서 형성된 금속 코트가 계속 성장하여 또한 접촉 지점을 덮고 있는 중단되지 않는 금속 코트를 형성하는 방식으로 수행될 수 있다. 제 2 공정 단계는 또한 예를 들면, 상이한 전해질 조성물을 사용하여 수행될 수 있다. 이 공정을 수행할 때, 코팅될 공작물이 복합적인 인접 접촉 요소에 의해 연결되어 일반적으로 균일한 전기장이 전체 표면에 걸쳐서 발달되는 것이 중요하다. 코팅될 표면의 접촉 요소에 의해 덮인 접촉 지점은 이어서 제 2 공정 단계에서 중단되지 않는 금속 코팅의 형성으로 폐쇄될 수 있다.The second process step for the formation of an uninterrupted continuous metal coat provides a metal coating at the point of contact which is not yet covered after completion of the first step so that the point of contact which is still open in this way is "closed" and is not interrupted. Metal coat may be performed in a manner that is formed in a second process step. The second process step may also be performed in such a way that the metal coat formed in the first process step continues to grow to form an uninterrupted metal coat that also covers the contact point. The second process step can also be performed using different electrolyte compositions, for example. When carrying out this process, it is important that the workpieces to be coated are connected by multiple adjacent contact elements so that a generally uniform electric field develops over the entire surface. The contact points covered by the contact elements of the surface to be coated can then be closed with the formation of a metal coating which is not interrupted in the second process step.

본 발명에 설명된 공정으로, 최초로 전기전도성 중합체 코팅된 2차 또는 3차 공작물에 전기도금에 의한 금속 코팅을 제공할 수 있어, 전류 밀도가 감소하여도 비교적 단축된 전기도금 시간만을 요하게 되었다. 따라서 지나친 전류 밀도 및 연장된 전기도금 시간으로 인한 중합체 코트의 파괴를 초래하는 당분야에 현재 알려진 공정의 단점이 회피될 수 있다. 본 발명에 설명된 것처럼 수행된 전기도금 공정은 전기도금된 공작물의 대량 생산을 허용하는데 그 이유는 세팅될 전류 밀도 및 선택될 전기도금 시간 측면에서, 전기도금될 공작물과의 최대 독립이 달성되고, 또한 각각의 신규 전기도금 공정을 개시하기에 앞서 이러한 공정 파라미터의 비용이 많이 드는 재조정이 거의 필요하지 않기 때문이다.The process described in the present invention allows for the first time to provide a metal coating by electroplating on an electrically conductive polymer coated secondary or tertiary workpiece, requiring only relatively short electroplating time even with reduced current density. Thus, the disadvantages of processes currently known in the art that result in the destruction of the polymer coat due to excessive current density and extended electroplating time can be avoided. The electroplating process carried out as described herein allows for mass production of electroplated workpieces, because in terms of the current density to be set and the electroplating time to be selected, maximum independence from the workpiece to be electroplated is achieved, In addition, costly reconditioning of these process parameters is rarely needed prior to starting each new electroplating process.

본 발명의 일 특징에 따라서, 전기도금될 표면의 각 접촉 요소는 서로 옆에 격자-모양으로 위치한다. 이러한 방식으로 코팅될 표면이 접촉 요소를 통해 전원에 연결되는 제 1 공정 단계 및 또한 전류 공급이 제 1 공정 단계에서 형성된 금속 코팅을 통해 일어나는 제 2 공정 단계 모두에서, 광범위하게 균일하게 형성된 전기장이 전기도금될 전체 표면 영역에 걸쳐 연장함이 달성된다. 또한, 제 1 공정 단계에서 형성될 금속 코트 자체가 연속 전기 전도체를 구성함이 달성된다. 따라서 이웃하는 접촉 요소가 등거리로 배치되면 특히 유리함이 설명되었다.According to one feature of the invention, each contact element of the surface to be electroplated is located grid-shaped next to each other. In this way, in both the first process step in which the surface to be coated is connected to the power source via a contact element and also in the second process step in which the current supply takes place via the metal coating formed in the first process step, a widely uniformly formed electric field is Extending over the entire surface area to be plated is achieved. It is also achieved that the metal coat itself to be formed in the first process step constitutes a continuous electrical conductor. Thus, it has been explained that it is particularly advantageous if neighboring contact elements are arranged equidistantly.

본 발명의 또다른 특징에 따라서, 다수의 접촉 요소를 포함하는, 접촉 요소 캐리어가 접촉 요소 배치를 위해 사용된다. 한편으로는, 전기도금될 표면에 접촉 요소의 신속한 배치가 이러한 방식으로 달성되고, 또다른 한편으로는, 접촉 요소 캐리어의 사용은 본 발명에 설명된 공정의 대규모 자동화를 허용한다. 접촉 요소 캐리어는 바람직하게는 조정을 위해 이들의 상대적인 위치로부터 이동할 수 있는 복합적인 인접 접촉 요소를 포함하여, 서로에 대해 및 접촉 요소 캐리어 자체에 대한 접촉 요소의 조정이 가능한 방식으로 설계된다. 전기도금될 공작물에 따라, 접촉 요소의 조정이 가능하여 전기도금될 공작물의 표면에 위치할 모든 요소는 실제로 전기도금될 공작물과 전원 간의 전기적 연결을 확립함을 보장할 수 있다. 이러한 방식으로, 공극이 형성될 금속 코팅에 나타나는 것이 회피될 수 있다.According to another feature of the invention, a contact element carrier comprising a plurality of contact elements is used for contact element placement. On the one hand, rapid placement of the contact element on the surface to be electroplated is achieved in this way, and on the other hand, the use of the contact element carrier allows large scale automation of the process described herein. The contact element carriers are preferably designed in such a way that the adjustment of the contact elements with respect to each other and to the contact element carrier itself is possible, including complex adjacent contact elements that can move from their relative positions for adjustment. Depending on the workpiece to be electroplated, the contact elements can be adjusted to ensure that all elements that will be placed on the surface of the workpiece to be electroplated actually establish an electrical connection between the workpiece to be electroplated and the power source. In this way, the appearance of voids in the metal coating to be formed can be avoided.

제 1 대안에 따라서, 접촉 요소가 고정된 프레임이 접촉 요소 캐리어로 사용된다. 이러한 프레임-모양의 접촉 요소 캐리어는 예를 들면, 회로판과 같은 2차 공작물의 전기도금에 특히 적당하다. 본 발명에 의해 설명된 것처럼, 이러한 프레임은 직사각형 모양이고 반면 적용 유형에 따라, 다른 형태도 고려될 수 있다. 복합적인 접촉 요소는 프레임을 형성하는 모든 성분 또는 각 성분에 위치하는 프레임에 고정된다. 전기도금될 표면의 전원과의 연결을 위해, 이는 프레임-모양의 접촉 요소 캐리어의 요소에 의해 접촉된다. 이 연결에서, 본 발명의 추가 특징에 따라, 넓은 피복면적을 위해, 다수의 프레임이 서로의 옆에 또는 전기도금될 공작물의 측면에 위치할 수 있다. 이는 회로판 경우에, 제 1 공정 단계의 과정으로 기본적인 열 회로판을 양측 모두에서 금속-코팅하는 데 특히 매력적이다.According to a first alternative, a frame in which the contact element is fixed is used as the contact element carrier. Such frame-shaped contact element carriers are particularly suitable for the electroplating of secondary workpieces, for example circuit boards. As explained by the present invention, such a frame is rectangular in shape while other shapes may be considered, depending on the type of application. The complex contact element is secured to all the components forming the frame or to the frame located at each component. For connection with a power source of the surface to be electroplated, it is contacted by an element of the frame-shaped contact element carrier. In this connection, according to a further feature of the invention, for a large coverage area, multiple frames can be located next to each other or on the side of the workpiece to be electroplated. This is particularly attractive in the case of circuit boards, in which the basic thermal circuit board is metal-coated on both sides in the course of the first process step.

본 발명의 추가 특징에 따라서, 복합적인 접촉 요소를 가지는 고정물이 접촉 요소 캐리어로 사용된다. 이 유형의 고정물은 특히 3차 공작물의 연결에 소용된다. 이는 이러한 목적으로 설계된 고정물에 삽입되고 고정물에 부착된 접촉 요소를 통해 전원에 연결된다. 이러한 방식으로 일 공정 단계로 형태적으로 복잡한 공작물의 중단되지 않고 균일한 전기도금이 가능해진다. 물론, 프레임 또는 고정물로서의 접촉 요소 캐리어의 설계 외의 다른 형태도 고려됨이 자명하다. 결정 인자는 전기도금될 공작물의 표면이 복합적인 접촉 요소를 가지는 접촉 요소 캐리어에 의해 넓게 덮일 수 있다는 것이다.According to a further feature of the invention, fixtures with complex contact elements are used as contact element carriers. This type of fixture is especially useful for the connection of tertiary workpieces. It is inserted into a fixture designed for this purpose and connected to the power source via a contact element attached to the fixture. In this way, uniform electroplating is possible without interruption of formally complex workpieces in one process step. Of course, other forms besides the design of the contact element carrier as a frame or fixture are also contemplated. The determining factor is that the surface of the workpiece to be electroplated can be widely covered by a contact element carrier having a complex contact element.

본 발명의 추가 특징에 따라서, 접촉 요소는 한편으로는 서로에 대해, 또다른 한편으로는 접촉 요소 캐리어에 대한 상대적인 위치에서 이동가능하도록 설계되고 이들은 공작물 형태에 따라, 전원과의 연결을 위한 전기도금될 공작물과의 접촉을 위해 조정될 수 있다. 따라서, 본 발명에 의해 설명된 공정에 의해 규칙적인 모양의 공작물 표면과 불규칙적인 모양의 복잡한 형태가 접촉 요소에 의해 전체 영역에 걸쳐 덮여질 수 있고, 전기도금될 공작물은 전원에 연결될 수 있음이 보장될 수 있다.According to a further feature of the invention, the contact elements are designed to be movable on the one hand relative to each other and on the other hand relative to the contact element carrier and they are electroplated for connection with a power source, depending on the workpiece type. It can be adjusted for contact with the workpiece to be made. Thus, the process described by the present invention ensures that the workpiece surface of the regular shape and the complex shape of the irregular shape can be covered by the contact element over the whole area, and that the workpiece to be electroplated can be connected to the power source. Can be.

본 발명의 추가 특징에 따라서, 금속 그레이트가 접촉 요소 캐리어로 사용된다. 금속 그레이트는 연속 공정 설비에서 수평 적용에 특히 적당하다. 이 금속 그레이트는 완전한 전기 전도체를 구성하여 전기도금될 표면에서의 이의 위치가 일반적이고 균일한 전기장의 빌드-업을 유도한다. 따라서, 비교적 단시간 내에, 낮은 전류 밀도만을 사용하며, 그리드의 음극을 기본적으로 구성하는 금속 코트가 형성될 수 있다. 달리 설명하면, 그리드에 의해 덮이지 않은 전기도금될 표면의 영역이 금속 막으로 덮인다. 공정의 제 2 단계에서, 이어서 그리드는 제거될 수 있고 폐쇄된 금속 코팅이 표면에 형성된다. 유리한 특징에 따라서, 전기도금될 표면은 그리드에 의해 접촉되고, 그리드와 함께 공작물은 전해질을 통해 공급된다. 따라서, 그리드는 또한 컨베이어로 동시에 소용된다. 이러한 방식으로, 짧은 순환 속도 및 자동화의 용이함으로, 공작물의 모든 재생가능한 표면 상에서 본 발명에 의해 설명된 공정에 따라 전기도금될 수 있다. 전기도금될 공작물에 위치하는 금속 그레이트가 제 1 금속 코팅의 침착 후에 기초 중합체 코트를 파괴하지 않고 제거될 수 있음을 보장하기 위해, 반대 양극이 제공되어 금속 그리드로부터 침착된 금속이 공작물로부터 느슨해지는 것이 본 발명의 또다른 특징이다.According to a further feature of the invention, metal grates are used as contact element carriers. Metal grates are particularly suitable for horizontal applications in continuous process equipment. This metal grate constitutes a complete electrical conductor so that its location on the surface to be electroplated leads to a build-up of an electric field which is common and uniform. Thus, within a relatively short time, a metal coat can be formed that uses only a low current density and basically constitutes the cathode of the grid. In other words, the area of the surface to be electroplated, which is not covered by the grid, is covered with a metal film. In the second step of the process, the grid can then be removed and a closed metal coating is formed on the surface. According to an advantageous feature, the surface to be electroplated is contacted by a grid, with which the workpiece is fed through the electrolyte. Thus, the grid is also used simultaneously with the conveyor. In this way, with a short circulation speed and ease of automation, it can be electroplated according to the process described by the invention on all reproducible surfaces of the workpiece. In order to ensure that the metal grate located in the workpiece to be electroplated can be removed without the destruction of the underlying polymer coat after deposition of the first metal coating, it is provided that the metal deposited from the metal grid is loosened from the workpiece. It is another feature of the present invention.

본 발명의 추가 특징에 따라서, 본 발명의 주제인, 공정에 의해 생산된 금속 코트의 두께가 명시될 수 있다. 이는 한편으로는, 공작물의 전해질에서의 체류시간에 의해, 또다른 한편으로는 연결된 전류 밀도에 의해 조정될 수 있다. 어쨌든, 마무리된 공작물의 후의 수요에 적당한 필요한 두께의 금속 코트를 발달시키는 것이 가능하다.According to a further feature of the invention, the thickness of the metal coat produced by the process, which is the subject of the invention, can be specified. This can be adjusted on the one hand by the residence time in the electrolyte of the workpiece and on the other hand by the connected current density. In any case, it is possible to develop a metal coat of the required thickness suitable for the later demands of the finished workpiece.

본 발명은 전기전도성 또는 개질 중합체로 코팅된, 공작물의 전기도금 공정에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이 공정을 수행하기 위한 장치를 보여준다.The present invention relates to an electroplating process of a workpiece, coated with an electrically conductive or modified polymer. The present invention also shows an apparatus for carrying out this process.

본 발명의 부가의 세부사항, 특징 및 장점은 첨부된 도면의 하기 설명에서 설명된다:Additional details, features and advantages of the invention are set forth in the following description of the accompanying drawings:

도 1은 수직 공정으로 회로판의 제조를 위한 본 발명에 의해 설명된 공정의 제 1 단계의 개략도이다.1 is a schematic diagram of the first stage of the process described by the present invention for the manufacture of a circuit board in a vertical process.

도 2는 수직 공정으로 회로판의 제조를 위한 본 발명에 의해 설명된 공정의 제 2 단계의 개략도이다.2 is a schematic diagram of a second step of the process described by the present invention for the manufacture of a circuit board in a vertical process.

도 3은 접촉 요소 캐리어로 소용되는 그레이트의 개략도이다.3 is a schematic view of a grate serving as a contact element carrier.

도 4는 수평 공정으로 회로판의 제조를 위한 본 발명에 의해 설명된 공정의 제 1 단계의 개략도이다.4 is a schematic diagram of the first stage of the process described by the present invention for the manufacture of a circuit board in a horizontal process.

도 5는 제 1 적용 설계에 따른 접촉 요소의 개략적인 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of a contact element according to a first application design.

도 6은 제 2 적용 설계에 따른 접촉 요소의 개략적인 단면도이다.6 is a schematic cross-sectional view of a contact element according to a second application design.

도 1은 본 발명에 설명된 공정에 따른 회로판(1)의 제조를 도시한다. 여기에서는, 공정의 제 1 단계가 도시되었다. 전해질 표면(3)에 일반적으로 수직인, 전해질(2)에, 절연체로 구성되고 전기전도성 또는 개질 중합체 층으로 코팅된 기본체(4)가 삽입된다. 기본체(4)가 전해질 표면(3)에 대해 일반적으로 수직으로 이동하기 때문에, 이 공정은 또한 수직 공정이라고 언급될 수 있다.1 shows the manufacture of a circuit board 1 according to the process described herein. Here, the first step of the process is shown. In the electrolyte 2, which is generally perpendicular to the electrolyte surface 3, a base 4 composed of an insulator and coated with an electrically conductive or modified polymer layer is inserted. Since the base body 4 generally moves vertically with respect to the electrolyte surface 3, this process may also be referred to as a vertical process.

기본체(4)는 복합적인 접촉 요소(5)를 통해 전원(8)에 연결된다. 이는 가지 전선(9)에 의해 달성된다. 도 1에서 개략적으로 도시될 수 있는 것처럼, 모든 접촉 요소(5)는 전기도금되고 접촉 요소 캐리어(7)에 의해 전원(8)과 전기적으로 접촉할 기본체(4) 상에 위치한다. 예를 들면, 도면은 각각에게 부착된 5 접촉 요소(5)를 지니는 3 프레임-모양의 접촉 요소 캐리어(7)를 도시한다. 접촉 요소(5)는 이들이 서로에 대해 및 접촉 요소 캐리어(7)에 대해 이동가능하여, 접촉 요소(5)의 각 조정이 전기도금될 기본체(4)의 크기 또는 형태에 따라 행해질 수 있도록 하는 방식으로 접촉 요소 캐리어 각각에 고정된다. 사용되는 복합적인 접촉 요소(5)를 통해, 전류를 적용한 후에, 전기도금될 기본체(4)의 전체 표면에 걸쳐서 연장하는 거의 균일한 전기장이 발달된다. 넓은 영역에 걸쳐 연장하는 균일한 전기장의 빌드-업의 결과로, 중단되지 않는 얇은 금속 코트(10)가 접촉 요소(5)에 의해 덮인, 접촉 지점(6)을 제외하고 비교적 작은 전류 밀도로 단시간 내에 형성된다. 복합적인 접촉 요소(5)의 사용으로 전기도금은 전류 밀도가 작아도 단축된 전기도금 시간 내에 일어날 수 있다.The base body 4 is connected to the power source 8 via a composite contact element 5. This is achieved by the branch wires 9. As can be shown schematically in FIG. 1, all contact elements 5 are electroplated and placed on a base 4 which is in electrical contact with the power source 8 by means of a contact element carrier 7. For example, the figure shows a three frame-shaped contact element carrier 7 with five contact elements 5 attached to each. The contact elements 5 are movable with respect to each other and with respect to the contact element carrier 7 so that each adjustment of the contact element 5 can be made according to the size or shape of the base 4 to be electroplated. Is fixed to each contact element carrier in a manner. Through the complex contact elements 5 used, after application of an electric current, an almost uniform electric field is developed that extends over the entire surface of the base 4 to be electroplated. As a result of the build-up of a uniform electric field extending over a large area, a short period of time with a relatively small current density except for the contact point 6, covered by a contact element 5, covered by a non-interrupting thin metal coat 10 It is formed within. The use of the composite contact element 5 allows electroplating to occur within a shorter electroplating time even at low current densities.

도 2는 본 발명에 설명된 것처럼 제 2 공정 단계를 도시한다. 접촉 요소(5)에 의해 덮인 접촉 지점(6)을 제외한 금속 코트(10)의 빌드-업 후에, 접촉 요소가제거되고 중단되지 않는 금속 코트가 형성된다. 이를 위해, 제 1 공정 단계에서 생산된 금속 코트는 전선(9)에 의해 전원(8)과 연결된다. 이러한 방식으로, 또한 금속 코트(10)의 공극점이 금속 침착에 의해 폐쇄되고, 중단되지 않는 금속 코트가 생성되는 거의 균일한 전기장이 발달된다. 명시된 층 두께의 금속 코트의 빌드-업 후에, 기본체(4)는 다시 전해질(2)로부터 제거된다.2 shows a second process step as described in the present invention. After the build-up of the metal coat 10 except for the contact point 6 covered by the contact element 5, a metal coat is formed in which the contact element is removed and not interrupted. For this purpose, the metal coat produced in the first process step is connected with the power source 8 by an electric wire 9. In this way, also an almost uniform electric field is developed in which the voids of the metal coat 10 are closed by metal deposition and an uninterrupted metal coat is produced. After build-up of the metal coat of the specified layer thickness, the base body 4 is again removed from the electrolyte 2.

도 3은 영역 접촉 요소로서 소용되고 접촉 지점을 제외하고 절연체가 제공된 금속 그레이트(11)의 대안을 도시한다. 제 1 공정 단계에서 전기도금될 공작물은 전기도금될 표면이 그레이트를 향하도록 그레이트(11) 상에 배치되어 전해질(2)을 통해 수평 공정으로 공급된다. 이는 도 4에 개략적으로 도시되었다. 이는 동시에 컨베이어로 소용되는 무한 밴드를 형성하는 그레이트(11)로 간주될 수 있다. 역전 롤(12)에 의해 그레이트(11)는 이동 방향(14)으로 구동 장치(13)에 의해 이동된다. 그레이트(11)는 예를 들면, 슬라이딩 접촉(15)에 의해 전원(8)에 연결된다. 예를 들어, 회로판의 제조를 위해, 기본체(4)는 로딩 스테이션(16)에서 그레이트(11) 상에 배치된다. 로딩 스테이션(6)은 전해질 탱크(17)의 외측에 위치한다. 그레이트(11)에 놓인 기본체(4)는 방향(14)으로 이동하여 전해질 탱크(17)에 삽입되고 전해질(2)에 담궈진다. 그레이트(11)가 일반적으로 전해질 표면(3)에 평행하게 이동하기 때문에 이 공정은 또한 전술한 수직 공정과 반대로, 수평 공정이라고 언급된다. 전기도금될 기본체(4) 표면의 넓은 피복면적 결과로, 비교적 작은 전류 밀도 및 단축된 전기도금 시간만이 제 1 금속 코트의 형성을 위해 요구된다. 이 금속 코트의 빌드-업 후에, 기본체(4)는 전해질 탱크(17)로부터 방향(14)으로 제거되고 비로딩 스테이션(18)으로 이동한다. 여기에서, 기본체(4)가 그레이트(11)로부터 제거된다. 접촉 지점의 영구적인 전기도금을 회피하기 위해, 침착된 금속이 반대 양극(19)에 의해 용해될 수 있다. 도 4에 따른 제 1 공정 단계 및 금속 코트의 빌드-업 완료 후에, 이미 전술한 수직 공정과 유사한 방식으로 중단되지 않는 금속 피복의 빌드-업이 일어난다.3 shows an alternative to the metal grate 11 which serves as the area contact element and is provided with an insulator except for the point of contact. The workpiece to be electroplated in the first process step is placed on the grate 11 so that the surface to be electroplated faces the grate and is fed in a horizontal process through the electrolyte 2. This is shown schematically in FIG. This can be regarded as a great 11 which simultaneously forms an endless band which serves as a conveyor. The great 11 is moved by the drive device 13 in the movement direction 14 by the reversing roll 12. The great 11 is connected to the power source 8 by, for example, a sliding contact 15. For example, for the manufacture of circuit boards, the base 4 is arranged on the grate 11 at the loading station 16. The loading station 6 is located outside of the electrolyte tank 17. The base 4 placed on the grate 11 moves in the direction 14 to be inserted into the electrolyte tank 17 and soaked in the electrolyte 2. This process is also referred to as a horizontal process, as opposed to the vertical process described above, since the grate 11 generally moves parallel to the electrolyte surface 3. As a result of the large coverage of the surface of the base 4 to be electroplated, only a relatively small current density and shortened electroplating time are required for the formation of the first metal coat. After build-up of this metal coat, the base body 4 is removed from the electrolyte tank 17 in the direction 14 and moves to the unloading station 18. Here, the base 4 is removed from the grate 11. In order to avoid permanent electroplating of the contact points, the deposited metal may be dissolved by the counter anode 19. After completion of the first process step and the build-up of the metal coat according to FIG. 4, a build-up of the metal sheath which does not stop in a manner similar to the vertical process already described above takes place.

도 5 및 6은 각각 접촉 요소 캐리어(7)에 위치하는 접촉 요소(5)의 두 가지 대안을 도시한다. 도 5 및 6에 도시된 접촉 요소는 리프팅 방향(20)으로의 상대적인 가동성 때문에 상이하다. 이는 적당한 스프링 요소에 의해 달성된다. 각각, 접촉 요소는 다음과 같이 설계된다: 전류-운반 접촉 핀(21)은 기본체(4)에 대해 방사상으로 이동한다(리프팅 방향, 20). 접촉 핀(21)은 절연체(22)에 의해 둘러싸이고 쓰레딩(threaded) 연결기(23)에 의해 접촉 요소 캐리어(7)에 부착된다. 이 설계는 또한 기본체(4)의 비-수준 표면에 접촉 요소(5)를 설비하는 장점을 가진다. 이 방법으로 복합적인 접촉 요소(5)가 기본체(4)와 접촉하여, 기본체(4)와 전원(6) 간의 전기적 연결이 확립됨이 보장된다.5 and 6 show two alternatives of the contact element 5 respectively located in the contact element carrier 7. The contact elements shown in FIGS. 5 and 6 are different because of their relative mobility in the lifting direction 20. This is achieved by means of suitable spring elements. Respectively, the contact element is designed as follows: The current-carrying contact pin 21 moves radially relative to the base 4 (lifting direction 20). The contact pin 21 is surrounded by an insulator 22 and attached to the contact element carrier 7 by a threaded connector 23. This design also has the advantage of installing the contact element 5 on the non-level surface of the base body 4. In this way the composite contact element 5 is in contact with the base 4, ensuring that an electrical connection between the base 4 and the power source 6 is established.

참조 단어 목록Reference word list

1 회로판1 circuit board

2 전해질2 electrolyte

3 전해질 표면3 electrolyte surface

4 기본체4 primitives

5 접촉 요소5 contact elements

6 접촉 지점6 contact points

7 접촉 요소 캐리어7 contact element carrier

8 전원8 power

9 전선9 wires

10 금속 코팅10 metal coating

11 그레이트11 great

12 역전 롤12 reversing rolls

13 구동 장치13 drive unit

14 수송 장치14 transport device

15 슬라이딩 접촉15 sliding contacts

16 로딩 스테이션16 loading stations

17 전해질 탱크17 electrolyte tank

18 제거 스테이션18 removal station

19 반대 양극19 counter anode

20 스트로크 방향20 stroke direction

21 접촉 핀21 contact pins

22 절연체22 insulator

23 연결 장치23 connecting devices

Claims (19)

제 1 공정 단계에서 공작물이 복합적인 인접 접촉 요소에 의해 전원에 연결되고 금속 박막으로 접촉 요소에 의해 덮인 접촉 지점을 제외하고 코팅된 다음, 제 2 공정 단계에서 접촉 요소가 제거되고 중단되지 않는 금속 코트가 형성됨을 특징으로 하는 전기전도성 또는 개질 중합체로 코팅된 공작물의 전기도금 공정.In the first process step, the workpiece is connected to the power supply by a complex adjacent contact element and coated with a thin film of metal except for the contact points covered by the contact element, and then in the second process step the contact element is removed and uninterrupted Electroplating process of a workpiece coated with an electroconductive or modified polymer, characterized in that is formed. 제 1 항에 있어서, 각 접촉 요소가 전기도금될 공작물의 표면에 서로의 옆에 격자-모양으로 배열됨을 특징으로 하는 공정.The process according to claim 1, wherein each contact element is arranged in a grid-shape next to each other on the surface of the workpiece to be electroplated. 제 1 항 및 2 항에 있어서, 인접 접촉 요소가 서로에 대해 등거리로 위치함을 특징으로 하는 공정.The process as claimed in claim 1 or 2, characterized in that adjacent contact elements are located equidistant from each other. 제 1 항 내지 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 접촉 요소의 배열을 위해 복합적인 접촉 요소를 가지는 접촉 요소 캐리어가 사용됨을 특징으로 하는 공정.4. Process according to any one of the preceding claims, characterized in that a contact element carrier having a complex contact element is used for the arrangement of the contact elements. 제 4 항에 있어서, 접촉 요소가 부착된 프레임이 접촉 요소 캐리어로 사용됨을 특징으로 하는 공정.The process according to claim 4, wherein the frame to which the contact element is attached is used as the contact element carrier. 제 5 항에 있어서, 다수의 프레임이 전기도금될 표면의 넓은 피복면적을 위해 서로의 옆에서 및/또는 전기도금될 공작물의 양측에서 사용됨을 특징으로 하는 공정.6. A process according to claim 5, wherein a plurality of frames are used next to each other and / or on both sides of the workpiece to be electroplated for a large coverage of the surface to be electroplated. 제 4 항에 있어서, 다수의 접촉 요소가 부착된 랙(rack)이 접촉 요소 캐리어로 사용됨을 특징으로 하는 공정.The process according to claim 4, wherein a rack with a plurality of contact elements attached is used as the contact element carrier. 제 1 항 내지 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 접촉 요소가 전기도금될 공작물과 전원의 연결을 위해 공작물 형태에 따라 접촉 요소 캐리어에 대한 상대적인 위치로 조정가능하고 위치함을 특징으로 하는 공정.8. Process according to any one of the preceding claims, characterized in that the contact element is adjustable and positioned relative to the contact element carrier in accordance with the workpiece form for the connection of the workpiece and the power source to be electroplated. 제 4 항에 있어서, 금속 그레이트가 접촉 요소 캐리어로 사용됨을 특징으로 하는 공정.The process according to claim 4, wherein the metal grates are used as contact element carriers. 제 9 항에 있어서, 그레이트가 전기도금될 공작물의 표면에 위치하고, 공작물이 그레이트와 함께 전해질을 통해 인도됨을 특징으로 하는 공정.10. The process according to claim 9, wherein the great is located on the surface of the workpiece to be electroplated and the workpiece is guided through the electrolyte with the great. 제 10 항에 있어서, 금속 접촉 지점에 침착된 금속이 반대 양극에 의해 용해됨을 특징으로 하는 공정.The process according to claim 10, wherein the metal deposited at the metal contact point is dissolved by the opposite anode. 제 1 항 내지 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 금속 코트가 선택될 수 있는두께로 형성됨을 특징으로 하는 공정.Process according to any of the preceding claims, characterized in that the metal coat is formed to a thickness that can be selected. 복합적인 인접 접촉 요소를 가지는 적어도 하나의 접촉 요소 캐리어가 전기도금될 공작물과 전원의 연결을 위해 제공됨을 특징으로 하는, 제 1 항 내지 12 항 중 어느 한 항에 따른 공정을 수행하기 위한 고정물.A fixture for carrying out the process according to any one of claims 1 to 12, characterized in that at least one contact element carrier having complex adjacent contact elements is provided for the connection of the workpiece and the power source to be electroplated. 제 13 항에 있어서, 각 접촉 요소가 접촉 요소 캐리어에서의 이들의 위치가 조정가능한 방식으로 접촉 요소 캐리어에 설비됨을 특징으로 하는 고정물.14. A fixture according to claim 13, wherein each contact element is fitted to the contact element carrier in such a way that their position in the contact element carrier is adjustable. 제 13 항 및 14 항에 있어서, 접촉 요소 캐리어가 프레임 또는 랙으로 설계됨을 특징으로 하는 고정물.The fixture of claim 13 or 14, wherein the contact element carrier is designed as a frame or rack. 제 13 항 및 14 항에 있어서, 접촉 요소 캐리어가 전기도금될 공작물이 위치할 수 있는 금속 그레이트임을 특징으로 하는 고정물.15. The fixture of claim 13 and 14, wherein the contact element carrier is a metal grate on which the workpiece to be electroplated can be located. 제 16 항에 있어서, 금속 그레이트가 무한 밴드를 형성함을 특징으로 하는 고정물.The fixture of claim 16 wherein the metal grates form an infinite band. 제 17 항에 있어서, 그레이트가 동시에 공작물 컨베이어로 소용됨을 특징으로 하는 고정물.18. The fixture of claim 17 wherein the grate is simultaneously used as a workpiece conveyor. 제 16 항 내지 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 반대 양극이 접촉 지점의 전기도금을 회피하기 위해 제공됨을 특징으로 하는 고정물.19. The fixture of any one of claims 16-18, wherein an opposite anode is provided to avoid electroplating at the point of contact.
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