KR20020009668A - 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법과 그 장치 - Google Patents

금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법과 그 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 직접적으로 용탕액적을 미립화시키면서 회전원반에 의해 더욱 미세하게 하여 더욱 좁은 입도 분포의 미세한 분말을 얻을 수 있으며, 비산되는 미립자 액적들의 응집을 방지시킬 수 있는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법과 그 장치를 제공한다.
그 제조방법은, 용탕노즐(9)의 출구부근에서 가스분사노즐수단(50,52,56)을 통해 고압으로 가스를 상기 회전원반(8)측으로 분사시킴으로써 더욱 미세한 액적 미립자들을 형성시켜 비산시키고, 비산되는 동안 냉각,응고시켜 더욱 미세한 분말을 제조하는 것을 특징으로 하며, 또한, 회전원반(8)으로부터 비산되는 액적 미립자들을 적어도 제2회전원반(61) 및 제3회전원반(63)에 재충돌시켜 액적 미립자들의 응집을 방지시키고 더욱 미세화시키는 것을 특징으로 한다.

Description

금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법과 그 장치{method and apparatus for producing fine powder from molten liquid by high-pressure spray}
본 발명은, 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법과 그 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 직접적으로 용탕액적을 미립화시키면서 회전원반에 의해 더욱 미세하게 하여 더욱 좁은 입도 분포의 미세한 분말을 얻을 수 있으며, 비산되는 미립자 액적들의 응집을 방지시킬 수 있는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법과 그 장치에 관한 것이다.
종래에는 금속용탕에서 금속분말을 제조할 때는 출탕되는 금속용탕에 고속유체를 계속 불어 그 전단력을 이용하여 금속용탁을 미립화하는 물 분무법 내지 가스 분무법과, 고속회전하는 컵이나 디스크의 원심력에 의해 미립화하는 원심분무법이 주요하게 사용되고 있다. 이들 방식은 소재금속을 사전에 미리 녹여 용탕으로 만든 후, 고속유체의 전단력과 고속 회전체의 원심력 등을 이용하여 미립화함으로써 분말을 얻을 수 있었다. 세라믹의 경우에도 이 방법이 적용된다.
그러나, 이 경우 제조되는 분말의 평균입경은 금속미립화 수단에의 단위 시간당 용탕 공급량과 정비례의 상관관계를 나타내고 공급량이 많게 되면, 분말의 평균입도는 커지게 되며, 반대로 공급량이 적어지면, 분말의 평균입도는 작아지게 된다. 따라서, 출탕량 변동에 의해 입도분포가 넓어져 전체적으로 수율이 낮아지는 문제점이 발생하게 되는 등의 문제를 해결하기 위해 본 발명자는, 금속(세라믹포함)분말의 제조 초기단계부터 제조 말기 단계까지 출탕량을 가급적 일정하게 하여 분말 평균 입도분포를 거의 일정하게 하도록 한 금속용탕 미립화 장치를 제공하며, 또한 생산성 향상을 위해 연속적으로 소재를 녹여가며 출탕할 수 있는 용해로의 설치 및 분말포집병에 금속분말이 찼을 경우 자동으로 교환될 수 있는 시스템을 구축하는, 도 1에 도시된 바와 같은 금속용탕 미립화 장치를 발명하여 출원한 바 있다.
도 1에서 그 미립화장치는, 크게 분무탱크(1), 미립화 수단(2), 연속출탕장치(3), 분말포집병(4)의 네 부분을 포함하여 구성된다. 연속출탕장치(3)는 다시 주 용해로(1a), 보조용해로(1b), 턴디쉬(1c)로 구성되며, 각 주 용해로(1a)와 보조용해로(1b)에는 용탕의 유출조절수단(5,5a,7a,7b)이 설치된다. 그 유출조절수단(5,5a,7a,7b)은, 일예로서 주 용해로(1a)와 보조용해로(1b)의 상부 각각에 피스톤 로드(5a)를 상하운동할 수 있게 하는 공압실린더(5)가 설치되고, 피스톤 로드(5a)에 연결된 스토퍼(7a,7b)를 제어함으로써 각각의 출탕량을 조절할 수 있도록 구성될 수 있다. 또한 외부공기의 유입을 막기 위해 진공실링(Vacuum Seal)이 되어 있다. 주 용해로(1a)에 도통센서(6a) 1개를 설치하여 용탕이 없을 시 자동으로 소재 재투입 용융시기를 알려주는 부저(도시 생략됨)를 설치하였으며, 보조용해로(1b)에 도통센서 2개가 설치된다. 그 하나인 상한센서(6b)는 보조용해로(1b)의 용탕의 상한 한계선을 제어할 목적으로 설치되며, 상한센서(6b)의 감지시 주 용해로(1a)의 스토퍼(7a)를 아래로 내려 주 용해로(1a)로부터 보조용해로(1b)로의 용탕의 공급을 차단한다. 또, 하한센서(6c)는 주 용해로(1a)에서부터 용탕을 공급받는 시기를 결정할 목적으로 설치되었으며, 감지시 주 용해로(1a)의 스토퍼(7a)를 위로 들어올려 용탕을 공급받도록 구성된다.
턴디쉬(1c)에도 도통센서 2개를 각각 설치하여 상술한 바와 유사하게 용탕액면을 일정하게 유지토록 구성되며, 이에 따라 상한센서(6d)는, 보조용해로(1b)로부터의 용탕공급을 차단하기 위해 보조용해로(1b)의 스토퍼(7b)를 내리고, 하한센서(6e)는 용탕공급의 개시를 위해 보조용해로(1b)의 스토퍼(7b)를 올리도록 구성된다.
또한, 분무탱크(1)는, 진공시스템(20)의 진공펌프(21)에 의해 작업초기 진공으로 되고, 불활성(환원성)가스공급장치(30)에 의해 불할성 가스 내지 환원성 가스로 충진된다. 또, 산소감지수단(16)에 의해 다량의 산소를 감지한 때에 진공시스템(20)에 의해 분무탱크(1)내를 진공으로 하면서, 불활성(환원성)가스공급장치(30)로부터 불할성 가스 내지 환원성 가스가 보충,충진된다.
이와 같이 하여 생산된 금속분말은, 그 디스크아래에 위치한 분말포집병(4)에 쌓이기 시작한다. 그 분말포집병(4)에 일정한 높이만큼 금속분말이 포집된 때에 자동으로 빈 분말포집병(4)으로 교환시키기 위한 포집병자동교환장치(12, 13, 14, 15)가 설치된다. 포집병자동교환장치(12, 13, 14, 15)는, 그 일예로서 위치센서(6f), 플랫밸브(11), 안내척(12), 위치결정수단(13) 및 에어실린더(14,15)를 포함하여 구성된다.
이와 같이 구성된 발명은, 좁은 입도 분포를 얻을 수 있고 생산성을 증대시킬 수는 있지만, 여전히 분말을 더욱 미세화시키지는 못하고 있으며, 나아가 비산하는 액적 미립자들의 응집을 방지시키지는 못하고 있다.
또, 미합중국특허 제5,855,642호에 개시된 미립화장치 및 방법은, 금속봉을 회전시키면서 일측의 전극으로 사용하여 아크를 발생시키고 용융시켜 원심방향으로 분출되는 용융물을 고압으로 가스를 분사시켜 미세한 미립자들을 비산시키고 냉각,응고시켜 분말을 형성하거나, 또는 회전원반상에 용탕을 유출시켜 필름을 형성시키면서 원심력에 의해 비산되는 미립자 액적들에 가스를 고압으로 분사시켜 더욱 미립자들을 형성시키고 있다.
그러나, 상기 미합중국특허에 있어서는 금속봉을 전극으로 사용하는 경우, 균일한 아크를 얻기 어려워 미립자 액적들의 입도 산포가 넓으며, 나아가 발생되는 아크의 비산을 방지시킬 수 없어 비산되는 미립자 액적들의 입도분포를 더욱 오염시키게 된다는 문제가 있으며, 회전원반을 이용하는 경우, 회전원반으로부터 비산되는 액적 미립자들이 더욱 미세화되기 위해서는 액체상태이어야 하기 때문에 회전원반을 높은 용융온도로 유지시켜야 하는 문제가 있으며, 나아가 비산되는 미립자 액적들의 응집을 방지하지는 못한다는 문제가 있다.
본 발명은 상술한 종래의 문제점들을 해결하기 위한 것으로, 직접적으로 용탕액적을 미립화시키면서 회전원반에 의해 더욱 미세하게 하여 더욱 좁은 입도 분포의 미세한 분말을 얻을 수 있으며, 비산되는 미립자 액적들의 응집을 방지시킬 수 있는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법과 그 장치를 제공하는 데에 그 목적이 있다.
도 1은 본 발명에 관련된 금속용탕 미립화 장치의 구성을 도시한 개략구성도,
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치의 구성을 도시한 개략구성도,
도 2b는 도 2a의 고압가스분사노즐의 구성을 상세히 도시한 부분단면도,
도 2c는 가스분사노즐이 용탕노즐에 일체로 형성된 구조의 일예를 도시한 부분단면도,
도 2d는 가스분사노즐이 용탕노즐에 일체로 형성된 구조의 다른 일예를 도시한 부분단면도,
도 2e에는 용탕노즐의 노즐공과 가스분사노즐의 노즐공의 형상과 배열상태를 도시한 평면도,
도 3a 내지 도 3b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 금속용탕 미립화 장치의 구성을 도시한 개략구성도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명>
1: 분무탱크 1a: 주 용해로
1b: 보조용해로 1c: 턴디쉬
2: 고속회전수단 3: 연속출탕장치
4: 분말포집병 5: 공압실린더
5a: 피스톤 로드 6a: 도통센서
6b,6d: 상한센서 6c,6e: 하한센서
6f: 위치센서 7a,7b: 스토퍼
8: 회전원반 9: 용탕노즐
10: 소재 투입구 11: 플랫밸브
12: 안내척 13: 위치결정수단
14,15: 에어실린더 16: 산소감지수단
17: 높이감지수단 18: 온도감지수단
20: 진공시스템 21: 진공펌프
30: 불활성(환원성)가스공급장치 50: 공기분사노즐
51: 가열장치 52,56: 가스분사노즐공
53: 정압쳄버 54: 어댑터
55: 가스공급파이프 61: 제2회전원반
62: 제2고속회전수단 63: 제3회전원반
64: 제3고속회전수단
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법은, 불활성 내지 환원성 분위기 속에서 고속회전수단에 의한 회전원반상에서의 전단력과 원심력 등을 이용하여 용탕노즐을 통해 출탕되는 용탕을 미립화시키고 응고시켜 미세분말을 제조하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법에 있어서, 상기 용탕노즐의 출구부근에서 가스분사노즐수단을 통해 고압으로 가스를 상기 회전원반측으로 분사시킴으로써 더욱 미세한 액적 미립자들을 형성시켜 비산시키고, 비산되는 동안 냉각,응고시켜 더욱 미세한 분말을 제조하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은, 불활성 내지 환원성 분위기 속에서 고속회전수단에 의한 회전원반상에서의 전단력과 원심력 등을 이용하여 용탕노즐을 통해 출탕되는 용탕을 미립화시키고 응고시켜 미세분말을 제조하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법에 있어서, 상기 회전원반으로부터 비산되는 액적 미립자들을 적어도 제2회전원반 및 제3회전원반에 재충돌시켜 액적 미립자들의 응집을 방지시키고 더욱 미세화시키는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법을 제공한다.
또, 본 발명은, 불활성 내지 환원성 분위기 속에서 고속회전수단에 의한 회전원반상에서의 전단력과 원심력 등을 이용하여 용탕노즐을 통해 출탕되는 용탕을 미립화시키고 응고시켜 미세분말을 제조하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치에 있어서: 상기 용탕노즐의 출구부근에서 고압으로 가스를 상기 회전원반측으로 분사시켜 더욱 미세한 액적 미립자들을 형성하기 위한 가스분사노즐수단을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치를 제공하며, 나아가, 상기 회전원반으로부터 비산되는 액적 미립자들을 재충돌시켜 미립자들의 응집을 방지시키고 더욱 미세화시키기 위한 적어도 제2회전원반 및 제3회전원반중 적어도 하나를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치도 제공한다.
상술한 가스분사노즐의 노즐공의 형상은, 미세한 오리피스공으로서 다양하게 변화될 수 있으며, 용탕노즐도 종래와 같이 원형단면일 수도 있으며, 가는 직사각단면이면서 파형을 부가시켜 용탕의 유출시부터 미세한 액적들로 유출되게 하는 것도 가능하다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2a 내지 도 2e에는 본 발명의 일실시예에 따른 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치가 도시되며, 도 1과 동일한 구성에 대해서는 그 구체적인 설명은 상술한 바와 같으며, 이하에서는 본 발명에 직접 관련된 구성에 대해서 설명하면 다음과 같다.
도 2a 및 도 2b에서 용탕노즐(9)를 둘러싸고 그 주위로부터 하부로 고압의 가스를 분사시키기 위한 가스분사노즐(50)을 구비한다. 그 가스분사노즐(50)로부터 분사되는 가스는 액적을 오염시키지 아니하도록 불활성 내지 환원성 가스인 것이 바람직하며, 나아가, 분사되는 가스는 온도가 액적을 액체상태로 유지할 수 있도록 해당 용융물의 융점에 가깝게 가열시키기 위한 가열장치(51)를 구비하는 것이 바람직하다.
이와 같이 가스분사노즐(50)에 의해 낙하하는 액적에 가스를 분사시킴으로써 더욱 미립화되는 액적 미립자들이 고속으로 회전원반(8)에 충돌하게 된다.
그 회전원반(8)에 충돌하는 액적 미립자들이 그 충돌력과 함께 회전원반(8)의 회전 원심력을 받아 더욱 미립화되어 비산되게 된다.
또한, 상술한 가스분사노즐(50)로부터 분사되는 가스가 각각의 노즐공으로부터 균일한 압력과 유량으로 분사될 수 있도록 정압쳄버(53)가 도 2b 내지 도 2c에서와 같이 형성되는 것이 바람직하며, 가스분사노즐공의 형상이나 배열은 용탕노즐(9)의 형상이나 배열에 따라 상이하게 되겠지만, 일예로서 도 2e에 도시된 바와 같이 용탕노즐(9)이 원형이거나 직사각형이거나, 그 주위에 배열된 다수의 노즐공으로 가스분사노즐(50)이 형성된다. 이 경우, 용탕노즐(9)에 가스공급파이프(55)가 연결되어 구성된다. 또, 정압쳄버(53)를 마련한 경우에는 가공상, 어댑터(54)를 개재하여 가스공급파이프(55)가 고정되는 것이 조립이나 제조상 편리할 것이다.
도 2c 및 도 2d에서는 가스분사노즐공(52,56)이 용탕노즐(9)에 일체로 형성된다. 그 가스분사노즐공(52,56)의 위치 및 수량은 여러 가지로 변경될 수 있으며, 도 2c에서는 가스분사노즐공(52)이 용탕노즐(9)의 출구를 향하여 형성되지만, 도 2d에서는 용탕노즐(9)의 출구 직전에 형성된다.
또한, 가스분사노즐수단(50,52,56)으로부터 분사되는 가스는 연속적으로 분사될 수도 있으며, 개폐수단 내지는 왕복가압수단에 의해 용탕노즐(9)로부터 낙하하기 직전이나 직후에 분사되고, 그 액적이 형성되는 주기마다 가스를 분사시키도록 구성될 수도 있다. 이 경우, 고압압축기용 모타의 회전수를 조절하여 토출 맥동을 그 주기에 일치시키는 것도 가능하다.
도 3a 및 도 3b에는 본 발명의 다른 실시예에 따른 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치가 도시된다.
도 3a 및 도 3b에서는 제2회전원반(61) 및 제3회전원반(63)이 용탕노즐(9) 및 회전원반(8)의 외주에 설치된다. 제2회전원반(61)은 회전원반(8)의 회전수단을 지지하는 동일한 지지대에 고정되고 외륜이 회전하는 회전수단(62)에 고정되어 함께 회전하는 것이 바람직하다. 제3회전원반(63)은, 상부로 지지되는 회전수단(63)의 회전자에 연결되어 회전됨으로써 비산되는 액적 미립자들의 장애가 되지 아니하도록 구성되는 것이 바람직하다. 이러한 회전수단(62,63)으로서 유체터빈모터가 고려되는 바, 그 유체터빈모터는 에어보다는 미량의 산소만을 함유한 불활성 가스 또는 환원성 가스에 의해 회전되는 것이, 불활성 분위기 내지는 환원성 분위기를 유지하면서, 비산되는 액적 미립자들의 표면응고를 촉진하여 서로의 응집을 방지시키기 위해 바람직할 것이다.
이와 같은 구성에 의해 1차적으로 회전원반(8)에 충돌하여 비산되는 액적 미립자들은 다시 제2회전원반(61) 및 제3회전원반(63)에 충돌하여 비산되게 됨으로써 액적 미립자들사이의 응집을 방지시킬 수 있게 되고, 더욱 미세화시킬 수 있게 된다.
특히, 도 2a 내지 도 2d의 구성과 함께 제2회전원반(61) 및 제3회전원반(63)이 설치된 때에는 분사되는 가스에 의해 더욱 고속으로 비산되게 되고 고온으로 가열된 가스에 의해 액체상태를 더욱 장시간 유지할 수 있게 되어 제2회전원반(61) 및 제3회전원반(63)에 충돌하여 원심력을 받은 때에도 이미 미립화된 액적이 더욱 미립화될 수 있게 되어 매우 미세한 분말을 형성할 수 있게 된다.
한편, 상술한 가스분사노즐수단(50,52,56)에 의해 고속 및 고압의 가스가 유입되게 됨으로써 분무탱크(1)내의 압력이 상승하게 되는 것을 방지하도록 정압유지밸브가 설치되는 것이 바람직하다(종래의 구성에서도 이러한 정압유지밸브는 다른 용도로 채용되고 있기 때문에 이 경우에는 별도로 채용될 필요는 없을 것이다).
이상의 실시예들에서는 도 1의 구성에 본 발명을 적용시켜 도시되고 설명되지만, 도 1과 상이한 구성이라도 불활성 내지 환원성 분위기 속에서 고속회전수단에 의한 회전원반(8)상에서의 전단력과 원심력 등을 이용하여 용탕노즐을 통해 출탕되는 용탕을 미립화시키고 응고시켜 미세분말을 제조하는 구성에는 본 발명은 적용될 수 있으며, 나아가, 분말의 형상이나 구형도, 입도의 분포 등에 따라 여러 가지로 변경될 수 있다.
일예로 분말의 형상을 구형 분말로 하거나, 납짝한 인편상 분말(flaky powder)로 형성하는 것은, 가스의 분사압력, 회전원반(8)의 회전속도 및 상부면의 형상, 액적의 낙하 및 가스 분사의 회전원반(8)과의 상대적 위치(충돌위치)의 관계에 의해 결정된다.
이상에서 설명한 본 발명의 실시예들에 따른 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법과 그 장치의 구성과 작용에 의하면, 가스분사노즐수단(50,52,56) 및/또는 제2회전원반(61)과 제3회전원반(63)의 제공에 의해 더욱 미세하고도 응집을 방지시켜 더욱 좁은 입도 분포의 분말뿐만 아니라, 다양한 형상의 분말을 얻을 수 있는 등의 효과가 있다.

Claims (7)

  1. 불활성 내지 환원성 분위기 속에서 고속회전수단(2)에 의한 회전원반(8)상에서의 전단력과 원심력 등을 이용하여 용탕노즐(9)을 통해 출탕되는 용탕을 미립화시키고 응고시켜 미세분말을 제조하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법에 있어서,
    상기 용탕노즐(9)의 출구부근에서 가스분사노즐수단(50,52,56)을 통해 고압으로 가스를 상기 회전원반(8)측으로 분사시킴으로써 더욱 미세한 액적 미립자들을 형성시켜 비산시키고, 비산되는 동안 냉각,응고시켜 더욱 미세한 분말을 제조하는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법.
  2. 불활성 내지 환원성 분위기 속에서 고속회전수단(2)에 의한 회전원반(8)상에서의 전단력과 원심력 등을 이용하여 용탕노즐(9)을 통해 출탕되는 용탕을 미립화시키고 응고시켜 미세분말을 제조하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법에 있어서,
    상기 회전원반(8)으로부터 비산되는 액적 미립자들을 적어도 제2회전원반(61) 및 제3회전원반(63)에 재충돌시켜 액적 미립자들의 응집을 방지시키고 더욱 미세화시키는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 분사되는 가스는, 용탕노즐(9)로부터 낙하하기 직전에 액적이 형성되는 주기마다 용탕노즐(9)의 출구내의 인접위치로부터 분사되며, 적어도 출탕되는 용탕이 미세화될 수 있는 액체상태를 유지하도록 가열장치(51)에 의해 고온으로 가열되어 분사되며;
    가스의 분사압력, 회전원반(8)의 회전속도 및 상부면의 형상, 액적의 낙하 및 가스 분사의 회전원반(8)과의 상대적 위치(충돌위치)의 관계로 구형 및 인편상을 포함하는 다양한 형상의 금속분말을 형성하는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조방법.
  4. 불활성 내지 환원성 분위기 속에서 고속회전수단(2)에 의한 회전원반(8)상에서의 전단력과 원심력 등을 이용하여 용탕노즐(9)을 통해 출탕되는 용탕을 미립화시키고 응고시켜 미세분말을 제조하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치에 있어서:
    상기 용탕노즐(9)의 출구부근에서 고압으로 가스를 상기 회전원반(8)측으로 분사시켜 더욱 미세한 액적 미립자들을 형성하기 위한 다수의 가스분사노즐수단(50,52,56)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치.
  5. 불활성 내지 환원성 분위기 속에서 고속회전수단(2)에 의한 회전원반(8)상에서의 전단력과 원심력 등을 이용하여 용탕노즐(9)을 통해 출탕되는 용탕을 미립화시키고 응고시켜 미세분말을 제조하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치에 있어서,
    상기 회전원반(8)으로부터 비산되는 액적 미립자들을 재충돌시켜 미립자들의 응집을 방지시키고 더욱 미세화시키기 위한 적어도 제2회전원반(61) 및 제3회전원반(63)중 적어도 하나를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 용탕노즐(9)의 출구부근에서 고압으로 가스를 상기 회전원반(8)측으로 분사시켜 더욱 미세한 액적 미립자들을 형성하기 위한 가스분사노즐수단(50,52,56)을 추가로 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치.
  7. 제 4 항 또는 제 6 항에 있어서, 적어도 출탕되는 용탕이 미세화될 수 있는 액체상태를 유지하도록 분사되는 가스를 고온으로 가열시키기 위한 가열장치(51)와, 균일한 압력과 유량으로 가스를 분사시키기 위한 정압쳄버(53)를 추가로 포함하며;
    상기 가스분사노즐수단은, 상기 용탕노즐(9)로부터 낙하하기 직전에 액적이 형성되는 주기마다 용탕노즐(9)의 출구내의 인접위치로부터 가스를 분사시키도록 용탕노즐(9)에 가스공급파이프(55)가 연결되어 형성되는 가스분사노즐공(56)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 금속용탕으로부터의 금속분말 제조장치.
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