KR200159400Y1 - 항온수 순환 장치 - Google Patents

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Abstract

본 고안은 제조 장치에서 배출되어 열 교환 장치로 순환하는 항온수의 온도를 검출하여 열 교환 장치를 제어함으로써 항온수의 온도를 제조 장치에서 필요한 온도에 근접하게 제어할 수 있으며 열 교환 장치와 제조 장치 사이에 유량 검출 센서를 설치하여 정확한 양의 급수가 이루어지도록 하는 항온수 순환 장치에 관한 것으로, 열 교환 장치를 이용하여 반도체 제조 장치에 항상 일정한 온도의 항온수를 공급토록 하는 항온수 순환 장치에 있어서, 반도체 제조 장치의 항온수 배출관에 설치되어 상기 반도체 제조장치에서 소정의 공정이 완료된 후 배출되는 항온수의 온도를 검출하는 온도 센서와; 온도센서에서 검출된 항온수의 온도를 전달받아 항온수의 온도를 일정하게 유지시키도록 열 교환 장치를 제어하는 제어부와; 제어부에 의해 제어되는 열 교환 장치를 통과하면서 열교환된 항온수를 반도체 제조 장치에 공급하는 항온수 공급관에 설치되어 공급되는 항온수의 유량을 검출하여 적절한 유량의 항온수가 공급되지 않는 경우에는 반도체 제조 장치의 가동을 중단시키는 인터록 신호를 발생시키는 유량 검출 센서를 포함하여 이루어진다.

Description

항온수 순환 장치
제1도는 종래의 항온수 순환 장치를 나타낸 도면.
제2도는 본 고안의 항온수 순환 장치를 나타낸 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
100, 200 : 열 교환 장치 110, 210 : 온도 제어 장치
120, 220 : 가열 장치 121, 221 : 냉각 장치
130, 280 : 온도 검출 센서 140, 240 : 펌프
150, 250 : 항온수 저장 탱크 160, 260 : 제조 장치
270 : 유량 검출 센서
본 고안은 반도체 제조 장치의 항온수 순환 장치에 관한 것으로, 특히 제조 장치에서 배출되어 열 교환 장치로 순환되는 항온수의 온도를 검출하여 열 교환 장치를 제어함으로써 항온수의 온도를 제조 장치에서 필요한 온도에 근접하게 제어할 수 있으며 열 교환 장치와 제조 장치 사이에 유량 검출 센서를 설치하여 정확한 양의 급수가 이루어지도록 하는 항온수 순환 장치에 관한 것이다.
일반적인 항온수 순환 장치의 구성을 제1도를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
제1도는 종래의 항온수 순환 장치를 나타낸 도면이다.
제1도에 나타낸 바와 같이 열 교환 장치(100)에는 제조 장치에 필요한 항온수를 공급하기 위하여 항온수 공급관이 설치되도록 이루어진다.
이와 같은 항온수 공급관의 연장된 부분이 제조 장치(160)에도 연결되어 제조 장치(160)에서 소정의 역할이 이루어진 다음 다시 열 교환 장치(100)로 순환되도록 이루어진다.
항온수 공급관에는 항온수 저장 탱크(150)가 설치되어 항온수가 공급되도록 이루어지며, 펌프(140)를 통하여 항온수 저장 탱크(150)에 저장되어 있는 항온수의 흐름을 발생시키도록 이루어진다.
항온수 공급관의 열 교환 장치(100) 내에 설치된 일부분에는 공급되는 항온수의 온도를 높이기 위한 가열 장치(120)가 설치되어 있으며, 가열 장치(120)에는 과열 방지용 냉각 장치(121)가 설치되어 냉각수 공급관을 통해 냉각수를 공급받아 열이 발산되도록 이루어진다.
가열 장치(120)를 통과한 항온수 공급관에는 온도 검출 센서(130)가 설치되어 제조 장치에 공급되는 항온수의 온도를 검출하도록 이루어진다.
가열 장치(120)와 온도 검출 센서(130)는 온도 제어 장치(110)에 연결되어 있어, 온도 검출 센서(130)를 통해 검출된 항온수의 온도에 따라 가열 장치(120)의 동작을 제어하도록 이루어진다.
이와 같이 이루어진 종래의 항온수 순환 장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.
공정이 시작되면 항온수 저장 탱크(150)에 저장되어 있는 항온수가 펌프(140)의 동작에 의해 항온수 공급관을 통해 공급된다.
항온수 공급관을 통해 공급되는 항온수는 가열 장치(120)가 설치되어 있는 부분을 통과하면서 가열 장치(120)에 의하여 소정의 온도로 가열된 다음 제조 장치(160)에 공급된다.
제조 장치(160)에 공급되어 소정의 역할이 이루어진 항온수는 다시 열 교환 장치(100)의 항온수 저장 탱크(150)로의 순환이 이루어진다.
이때 가열 장치(120)를 통해 가열된 항온수가 제조 장치(160)로 공급되기 전에 온도 검출 센서(130)를 통해 항온수의 온도가 검출되고, 검출된 항온수의 온도에 대한 정보가 제어 장치(110)에 전달된다.
항온수의 온도에 대한 정보를 전달되면 제어 장치(110)는 가열 장치(120)와 냉각 장치(121)에 소정의 제어 신호를 보내어 적절한 가열과 냉각이 이루어지도록 제어한다.
이와 같은 항온수의 순환은 외부에서 항온수의 순환을 멈추도록 하는 별도의 조작이 가해질 때까지 계속된다.
그러나 이와 같은 항온수의 순환 동작은 제조 장치(160)에 공급되는 항온수의 온도를 검출하는 온도 검출 센서(130)가 열 교환 장치(100) 내에 설치되어 있어 실제로 제조 장치(160)에 공급되는 항온수 온도를 검출하지 못한다.
따라서 제조 장치(160)에서 요구하는 항온수의 온도를 정확히 구현하지 못하는 경우가 급하기 위하여 항온수 공급관이 설치되도록 이루어진다.
이와 같은 항온수 공급관의 연장된 부분이 제조 장치(260)에도 연결되어 제조 장치(260)에서 소정의 역할이 이루어진 다음 다시 열 교환 장치(200)로 순환되도록 이루어진다.
항온수 공급관에는 항온수 저장 탱크(250)가 설치되어 항온수가 공급되도록 이루어지며, 펌프(240)를 통하여 항온수 저장 탱크(250)에 저장되어 있는 항온수의 흐름을 발생시키도록 이루어진다.
항온수 공급관의 열 교환 장치(200) 내에 설치된 일부분에는 공급되는 항온수의 온도를 높이기 위한 가열 장치(220)가 설치되어 있으며, 가열 장치(220)에는 과열 방지용 냉각 장치(221)가 설치되어 냉각수 공급관을 통해 냉각수를 공급받아 열이 발산되도록 이루어진다.
제조 장치(260)에 연결된 부분의 항온수 공급관에는 유량 검출 센서(270)가 설치되어 있어 제조 장치(260)에 공급되는 항온수의 양을 검출하도록 이루어진다.
제조 장치(260)에서 항온수를 항온수 저장탱크(250)로 배출하는 항온수 배출관에는 온도 검출 센서(280)가 설치되어 제조 장치(260)에서 배출되는 항온수의 온도를 검출하도록 이루어진다.
가열 장치(220)와 온도 검출 센서(280)는 온도 제어 장치(210)에 연결되어 있어, 온도 검출 센서(280)를 통해 검출된 항온수의 온도에 따라 가열 장치(220)의 동작을 제어하도록 이루어진다.
이와 같이 구성된 본 고안의 동작을 설명하면 다음과 같다.
공정이 시작되면 항온수 저장 탱크(250)에 저장되어 있는 항온수가 펌프(240)의 동작에 의해 항온수 공급관을 통해 공급된다.
항온수 공급관을 통해 공급되는 항온수는 가열 장치(220)가 설치되어 있는 부분을 통과하면서 가열 장치(220)에 의하여 소정의 온도로 가열된 다음 제조 장치(260)에 공급된다.
제조 장치(260)에 공급되어 소정의 역할이 이루어진 항온수는 다시 열 교환 장치(200)의 항온수 저장 탱크(250)로의 순환이 이루어진다.
이때 가열 장치(220)를 통해 가열된 항온수가 제조 장치(260)로 공급되는 입구에 설치된 유량 검출 센서(270)를 통해 제조 장치(260)로 공급되는 항온수의 양을 검출하게 되고, 검출된 항온수의 유량이 적절하지 않을 때에는 제어 장치(260)의 동작을 멈추기 위한 동작 중지 신호(Inter lock signal)를 발생시킨다.
또한 제조 장치(260)의 항온수 배출관에 설치된 온도 검출 센서(280)를 통해 항온수의 온도가 검출되어 항온수의 온도에 대한 정보가 제어 장치(210)에 전달되면 제어 장치(210)는 가열 장치(220)와 냉각 장치(221)에 소정의 제어 신호를 보내어 적절한 가열과 냉각이 이루어지도록 제어한다.
이와 같은 항온수의 손환은 외부에서 항온수의 순환을 멈추도록 하는 별도의 조작이 가해질 때까지 계속된다.
따라서 본 고안은 제조 장치에서 배출되어 열 교환 장치로 순환하는 항온수의 온도를 검출하여 열 교환 장치를 제어함으로써 항온수의 온도를 제조 장치에서 필요한 온도에 근접하게 제어할 수 있으며 열 교환 장치와 제조 장치 사이에 유량 검출 센서를 설치하여 정확한 양의 급수가 이루어지도록 하는 효과가 제공된다.

Claims (1)

  1. 열 교환 장치를 이용하여 반도체 제조 장치에 항상 일정한 온도의 항온수를 공급토록 하는 항온수 순환 장치에 있어서, 상기 반도체 제조 장치의 항온수 배출관에 설치되어 상기 반도체 제조장치에서 소정의 공정이 완료된 후 배출되는 항온수의 온도를 검출하는 온도 센서와; 상기 온도센서에서 검출된 항온수의 온도를 전달받아 항온수의 온도를 일정하게 유지 시키도록 상기 열 교환 장치를 제어하는 제어부와; 상기 제어부에 의해 제어되는 상기 열 교환 장치를 통과하면서 열교환된 항온수를 상기 반도체 제조 장치에 공급하는 항온수 공급관에 설치되어 공급되는 항온수의 유량을 검출하여 적절한 유량의 항온수가 공급되지 않는 경우에는 반도체 제조 장치의 가동을 중단시키는 인터록 신호를 발생시키는 유량 검출 센서를 포함하는 것이 특징인 항온수 순환 장치.
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