KR20010087665A - 반도체 제조 설비의 그리스 주입 장치 - Google Patents

반도체 제조 설비의 그리스 주입 장치 Download PDF

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KR20010087665A
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이명석
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윤종용
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Abstract

본 발명은 반도체 노광설비의 스테이지 유니트 내에 설치된 리드 스크류의 원활한 동작을 유지할 수 있도록 그리스를 자동으로 주입할 수 있는 반도체 제조 설비의 그리스 주입장치에 관한 것이다. 그리스 자동 주입 장치는 정량의 그리스가 저장된 용기와, 용기에 저장된 그리스를 운동부위에 주입하기 위하여 운동부위에 연결되는 노즐을 갖는 주입관 및 용기에 저장된 그리스가 주입관을 통해 운동부위로 공급되도록 용기 내부에 공기압을 가하기 위한 에어 라인을 갖는 가압 장치를 구비한다.

Description

반도체 제조 설비의 그리스 주입 장치{A GREASE INJECTION APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE EQUIPMENT}
본 발명은 반도체 노광설비의 스테이지 유니트 내에 설치된 리드 스크류의 원활한 동작을 유지할 수 있도록 그리스를 자동으로 주입할 수 있는 반도체 제조설비의 그리스 주입장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 노광설비의 핵심 부위인 스테이지를 구동시키는 장치는 스테핑 모터와 리드 스크류(볼 스크류) 그리고 여러 베어링으로 이루어진다. 여기서 가장 많이 움직이는 리드 스크류의 경우 정기적으로 오염된 윤활류와 그리스를 제거하고 다시 깨끗한 윤활류와 그리스를 골고루 발라 주어야 한다.
현재에는 이 모든 작업이 작업자 직접 스테핑 모터를 돌리면서 손으로 그리스를 닦고, 새 그리스를 바를 때에도 마찬가지로 작업자가 직접 손으로 칠하는 수작업으로 이루어지고 있다.
이와 같은 그리스 주입작업이 수작업으로 이루어지는데 따른 문제점들은 다음과 같다.
반도체 노광 설비의 커버를 열어 놓고 장시간 작업을 하기 때문에 내부 공조가 원활하지 못하며, 외부 공기가 유입되어 오염을 유발시킨다. 작업자가 직접 설비 안으로 몸을 밀어 넣어야 하므로 작업자세가 불편하고 작업자에 의한 오염 물질이 유입된다. 상기 그리스 주입작업시 작업자는 반도체 생산라인에서 착용하는 비닐 장갑을 벗어야만 작업이 가능하므로 역시 설비 내부를 오염시킨다. 그리스를 닦아낼 때나 또는 바를 때 좁은 공간에서 불편한 자세로 작업이 이루어지므로 스테이지 주변이나 스테이지 위치계측에 중요한 이동경(위치계측용 레이저 빛이 반사되는 거울)을 오염시키는 원인이 된다. 작업자에 따라 그리스의 사용량과 스크류에 칠해지는 양 등이 수시로 변한다. 손으로 그리스를 직접 묻혀 작업을 하기 때문에 스크류에 미세한 먼지 등의 오염물질이 달라붙어 미세한 구동 오차를 발생시킬 수있다.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 리드 스크류와 같은 구동 부품에 신속하고 간편하게 그리스를 주입할 수 있도록 한 새로운 형태의 반도체 제조 설비의 그리스 주입 장치를 제공하는데 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 그리스 주입 장치를 보여주는 도면;
도 2는 본 발명에 따른 그리스 주입 장치가 설치된 반도체 스텝퍼 설비의 스테이지를 보여주는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
12 : 용기 14 : 주입관
14a : 노즐 16 : 에어 공급 라인
18 : 가압 장치 20 : 차단 밸브
22 : 제어부 122 : 스테핑 모터
124 : 리드 스크류 126 : 베어링부
126a : 홀
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 윤활이 필요한 운동부위에 그리스를 공급하기 위한 반도체 제조 설비의 그리스 자동 주입 장치에 있어서: 일정량의 그리스가 저장된 용기와; 상기 용기에 저장된 그리스를 운동부위에 주입하기 위하여 상기 운동부위에 연결되는 노즐을 갖는 주입관 및; 상기 용기에 저장된 그리스가 상기 주입관을 통해 상기 운동부위로 공급되도록 상기 용기 내부에 공기압을 가하기 위한 에어 라인을 갖는 가압 장치를 포함한다.
이와 같은 본 발명에서 상기 운동부위에는 그리스가 운동부위의 내부로 주입되도록 상기 주입관의 노즐이 연결되는 구멍이 형성될 수 있다.
이와 같은 본 발명에서 상기 에어 라인에는 제어부에 의해 작동되는 차단밸브가 설치될 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 2에 의거하여 상세히 설명한다. 또, 상기 도면들에서 동일한 기능을 수행하는 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 병기한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 그리스 주입 장치를 보여주는 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 그리스 주입 장치가 설치된 반도체 스텝퍼 설비의 스테이지를 보여주는 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 그리스 주입 장치(10)는 용기(12)와, 주입관(14), 에어 공급 라인(16), 가압 장치(18), 차단 밸브(20)로 이루어진다. 상기 용기(12)에는 윤활이 필요한 운동부위에 주입할 그리스(30)가 저장되어 있다. 상기 용기(12)에는 상단에 상기 에어 공급 라인(16)이 연결되어 있고, 하단에는 주입관(14)이 연결되어 있다. 상기 주입관(14)은 상기 용기(12)에 저장된 그리스를 운동부위에 주입하기 위하여 상기 운동부위에 연결되는 노즐(14a)을 구비한다. 상기 에어 공급 라인(16)에는 상기 차단 밸브(20)가 설치되어 있으며, 상기 가입 장치(18)에 연결되어 있다. 상기 가압 장치(18)는 상기 용기(12)에 저당된 그리스가 상기 주입관(14)을 통해 운동부위로 공급되도록 상기 용기(12) 내부에 공기압을 가하기 위한 것이다. 예컨대, 상기 차단 밸브(20)는 제어부(22)에 의해 제어된다.
도 2는 본 발명에 따른 그리스 주입 장치가 설치된 반도체 스텝퍼 설비의 스테이지를 보여주는 도면이다.
도 2에서 보인 바와 같이, 반도체 노광설비(100)의 핵심 부위인 스테이지(110)는 스테핑 모터(122)와 리드 스크류(볼 스크류;124) 그리고 여러 베어링으로 이루어진 X,Y축 구동장치(120)에 의해 이동된다. 여기서, 가장 많이 움직이는 상기 X축, Y축 리드 스크류(124)의 베어링부(126)에는 운동부위 내부로 그리스가 주입될 수 있도록 홀(126a)이 형성되어 있다. 상기 홀(126a)에는 상기 그리스 주입장치(10)의 주입관의 노즐(14a)이 연결되어 설치된다. 그리스의 주입은제어부(22)에 의해 온/오프되는 상기 차단 밸브(20)에 의해 자동으로 이루어지도록 되어 있다.
예컨대, 상기 그리스 자동 주입장치는 리드 스크류를 이용한 모든 이동장치에 적용할 수 있다.
이러한 구성의 본 발명은 반복적인 노광공정에 의해 스테이지 유니트의 X축,Y축 리드 스크류(124)가 반복적으로 장기간 동작하게 되면, 이 X축,Y축 리드 스크류(124)의 원활한 동작을 위해 충징되었던 그리스가 말라버리거나 소모되어지므로 그리스가 충분히 제기능을 수행할 수 있도록 말라버리거나 소모되지 않도록 일정 시간이 되면 자동적으로 제어부(22)에 의해 상기 차단 밸브(20)가 오픈되도록 한다. 따라서, 상기 차단 밸브(20)의 오픈되면 공기압이 상기 용기(12)로 주입되게 되고, 이로서 상기 용기(12)내의 그리스가 가압되어 상기 주입관(14)의 노즐(14a)을 통해 베어링부(126) 내부로 주입되는 것이다. 이와 같이, 그리스의 주입 작업이 매우 간단하게 이루어짐과 동시에 자동적으로 이루어지게 되며, 이로써 X축,Y축 리드 스크류(124)는 원활한 동작을 지속적으로 수행할 수 있게 된다.
이상에서, 본 발명에 따른 그리스 자동 주입장치의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
이와 같은 본 발명의 그리스 자동 주입장치에 의하면, 노광 설비의 공조를방해하지 않고 이에 따라 외부 공기 유입을 차단하여 설비의 초첨이 변화되는 원인을 발생시키지 않는다. 작업자가 직접 작업을 하지 않아도 되기 때문에 작업 시간을 단축시킬 수가 있으며, 또한 인적 요소에 의한 설비의 오염을 방지할 수 있다. 또한, 그리스가 필요한 부위만 주입되어 칠해지기 때문에 타부위를 오염시킬 염려가 없다. 모든 설비가 동일한 양만큼 그리고 같은 방법으로 작업이 이루어지므로 설비간의 특성을 유발시키지 않으며, 그 만큼 설비들의 편차가 줄어든다.

Claims (3)

  1. 윤활이 필요한 운동부위에 그리스를 공급하기 위한 반도체 제조 설비의 그리스 자동 주입 장치에 있어서:
    일정량의 그리스가 저장된 용기와;
    상기 용기에 저장된 그리스를 운동부위에 주입하기 위하여 상기 운동부위에 연결되는 노즐을 갖는 주입관 및;
    상기 용기에 저장된 그리스가 상기 주입관을 통해 상기 운동부위로 공급되도록 상기 용기 내부에 공기압을 가하기 위한 에어 라인을 갖는 가압 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 설비의 그리스 자동 주입장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 운동부위에는 그리스가 운동부위의 내부로 주입되도록 상기 주입관의 노즐이 연결되는 구멍이 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 설비의 그리스 자동 주입장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 에어 라인에는 제어부에 의해 작동되는 차단밸브가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 설비의 그리스 자동 주입장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100783098B1 (ko) * 2006-09-11 2007-12-07 임화용 무한궤도의 링크연결용 부쉬의 그리스 주입방법 및 그 장치

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