KR20010083429A - Lapping work device for using in-process electrolytic dressing - Google Patents

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KR20010083429A
KR20010083429A KR1020000007194A KR20000007194A KR20010083429A KR 20010083429 A KR20010083429 A KR 20010083429A KR 1020000007194 A KR1020000007194 A KR 1020000007194A KR 20000007194 A KR20000007194 A KR 20000007194A KR 20010083429 A KR20010083429 A KR 20010083429A
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이은상
김도윤
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이연택
최재영
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이은상
김도윤
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Abstract

PURPOSE: A wrapping machine using in-process electrolytic dressing is provided to accomplish micro mirror surface grinding by using electrolytic devices and to reduce cost on processing. CONSTITUTION: A wrapping machine(100) composed of a surface plate(10) whereon many wrapping wheels(12) are distributed has a power supply unit(1) for supplying pulse voltage. A graphite brush(16) connected to the power supply unit is attached to the surface plate. A copper electrode(14) is fixed on the upper face of the surface plate. The grinding efficiency of the wrapping wheel made of the diamond grinding material and a bonding material is degraded due to the planarized surface. The bonding material is eluted via initial electrolytic dressing, and the grinding material is protruded. After the bonding material is finely eluted, an insulating layer is formed on the surface of the wrapping wheel. Upon starting wrapping, the workpiece contacts to the insulating layer and the layer is peeled off as much as the grinding material is work out. New grinding material is protruded by an in-process electrolytic dressing cycle. Thus, stable processing is progressed. Micro processing is maintained by the self-control of the in-process electrolytic dressing wrapping.

Description

연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치.{LAPPING WORK DEVICE FOR USING IN-PROCESS ELECTROLYTIC DRESSING}LAPPING WORK DEVICE FOR USING IN-PROCESS ELECTROLYTIC DRESSING}

본 발명은 정밀가공 장치에 관한 것으로서, 간단한 전해용 장치를 기존의 일반 래핑기에 장착하여 가공함으로서 단시간에 고경도성 난삭재들을 초경면의 가공품질로 완성하기 위한 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치에 관한 것이다.The present invention relates to a precision processing apparatus, and to a lapping processing apparatus using a continuous electrolytic dressing to complete a high hardness hard machining materials in a short time by mounting a simple electrolytic device to the existing general lapping machine in a short time will be.

통상적으로, 래핑 가공장치란 랩이라고 하는 공구와 공작물의 다듬질할 면 사이에 적당한 입자(지립)를 넣고, 공작물을 적당한 압력으로 공구에 눌러대고 상대 운동을 시킴으로서, 입자로 하여금 공작물의 표면으로부터 극히 미량의 칩을 깍아 내게 하여 표면을 평탄하게 다듬는 가공을 하는 장치이다. 또한 여기에는 가공 시작 전 상기 래핑 입자가 래핑숫돌 위로 고르게 나오도록 하기 위하여 날생김 작업이라고 하는 드레싱 작업을 해야하며, 일정 시간 가공 후에 상기 드레싱 작업을 하지 않으면, 래핑숫돌 표면의 래핑 입자들의 날이 무디어지고, 상기 래핑숫돌의 기공에는 가공 중에 생성된 칩에 의한 날막힘 현상이 발생하여 래핑 가공에 문제가 있었다. 특히, 고강도성 난삭재등의 초정밀가공은 연삭, 래핑, 폴리싱 등의 여러 단계를 거치게 되고, 그에 따라 상당히 오랜 시간이 소요되어 대량 생산에 적합하지 못하며, 초연마재에 대한 드레싱의 한계로 초정밀 경면 가공에 한계가 있었다.In general, a lapping machine is a device called a wrap and puts an appropriate particle (granule) between the surface to be finished and presses the workpiece at a suitable pressure on the tool to perform relative motion, thereby causing the particles to be extremely small from the surface of the workpiece. It is a device to cut the chip of chip and to smooth the surface. In addition, there must be a dressing work called a roughing work in order to make the lapping particles appear evenly on the lapping grindstone before the start of processing, and if the dressing work is not performed after a certain time of processing, the blade of lapping particles on the lapping grindstone surface is blunt. In the pores of the lapping grindstone, clogging due to chips generated during the machining occurred, thereby causing a problem in lapping. In particular, the ultra-precision processing of high-strength hard materials, etc. go through several stages such as grinding, lapping, polishing, etc. Therefore, it takes quite a long time and is not suitable for mass production. There was a limit to.

한편, 연속 전해 드레싱(In-process Electrolytic Dressing)이란, 약전도성 전해액에 의해 전해 드레싱에 연속성을 부여함으로써 초지립 지석을 안정적으로 가공에 이용할 수 있는 것인바, 종래에 연속 전해 드레싱을 적용한 연삭 방법이 개발되어 가공을 수행하면서, 상기한 문제점들을 해결하였으나, 연삭기 형태의 특이성으로 전해장치 장착의 어려움과 고가라는 단점을 가지고 있다.On the other hand, continuous electrolytic dressing (In-process Electrolytic Dressing) is to use the super abrasive grains in the stable processing by imparting continuity to the electrolytic dressing with a weakly conductive electrolyte, the conventional grinding method applied continuous electrolytic dressing While developing and processing, the above problems have been solved, but the specificity of the grinder type has the disadvantages of difficulty in installing an electrolytic device and high cost.

따라서, 본 발명의 목적은 기존의 일반 단면 및 양면 래핑기에 간단한 전해장치들을 적절한 위치에 장착하고, 금속 결합제 초정밀 경면 연삭을 이루기 위한 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치를 제공함에 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a lapping processing apparatus using a continuous electrolytic dressing for mounting a simple electrolytic devices in a proper position in a conventional general single-sided and double-sided lapping machine, and to achieve a metal binder ultra-precision mirror grinding.

본 발명의 다른 목적은, 기존의 연속 전해 드레싱 연삭기에 대한 전해 장치 장착의 어려움과 고가의 단점을 해결할 수 있는 연속 전해 드레싱을 적용한 가공장치를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a processing apparatus applying continuous electrolytic dressing that can solve the difficulty and expensive disadvantages of mounting an electrolytic device on a conventional continuous electrolytic dressing grinding machine.

제1도는 본 고안의 일실시예에 따른 단면용 래핑 가공장치의 사시도.1 is a perspective view of a wrapping apparatus for cross section according to an embodiment of the present invention.

제2도는 본 고안 래핑 가공장치에서 숫돌이 변화되는 상태를 예시한 참고도.2 is a reference diagram illustrating a state in which the grinding wheel is changed in the present invention lapping processing apparatus.

제3도는 본 고안의 다른 실시예에 따른 양면용 래핑 가공장치의 사시도.3 is a perspective view of a double-side lapping processing apparatus according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1:전원공급부 2,2':공작물1: power supply 2,2 ': workpiece

3:지그 4:가이드3: Jig 4: Guide

10:정반 12,22:래핑숫돌10: plate 12, 22: lapping grinding wheel

12a:연마재 12b:결합재12a: abrasive 12b: binder

12c:절연층 · 14,24:전극12c: insulating layer 14, 24: electrode

16,26,26a:흑연브러쉬 18:노즐16, 26, 26a: graphite brush 18: nozzle

20:하부정반 20a:상부정반20: lower surface plate 20a: upper surface plate

25:접점 28:전해액유입구멍25: contact 28: electrolyte inlet hole

30:지그 32:인터널기어30: Jig 32: Internal Gear

34:캐리어 35:구멍34: The carrier 35: Hole

36:선기어 100:단면 래핑기36: Sun gear 100: Single side wrapping machine

200:양면 래핑기200: double-sided lapping machine

이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 우선, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐트릴 수 있는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First, in describing the present invention, detailed descriptions of related well-known functions or configurations will be omitted if they may obscure the gist of the present invention.

제1도는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치의 구성을 도시한 사시도로서, 통상의 단면 래핑기(100)에 펄스 전압을 공급하는 전원 공급부(1)를 구비하고 있다. 더욱 자세하게는, 상기 단면 래핑기(100)는 공작물의 일측면을 가공하는 것으로 내부에 다수의 래핑숫돌(12)이 분포된 정반(10)으로 되어 있으며, 상부에 공작물(2)을 지지하면서 가압하는 지그(3)와 가이드(4)가 있다. 여기서 상기 래핑숫돌(12)은 연속 전해 드레싱용 금속 결합제에 의해서 다이아몬드 및 CBN이 결합되어 있다. 그리고, 상기 정반(10)의 일측면에는 소정의 펄스 전압을 공급하는 전원공급부(1)로부터 양극이 연결되는 흑연 브러쉬(16)가 부착되고, 상면에는 구리로 된 전극(14)이 래핑숫돌(12)과 소정의 간격을 유지하면서 고정된다. 상기 전극(14)은 래핑숫돌(12) 상부 면적에서 1/8 정도의 크기에 해당하는 사다리꼴의 모양으로 된 것으로, 이는 필요에 따라 래핑숫돌(12)의 원주 방향으로 그 위치가 변할 수 있다.1 is a perspective view showing a configuration of a lapping processing apparatus using a continuous electrolytic dressing according to a preferred embodiment of the present invention, and includes a power supply unit 1 for supplying a pulse voltage to a conventional cross-section wrapping machine 100. have. In more detail, the cross section lapping machine 100 is a surface plate 10 in which a plurality of lapping grindstones 12 are distributed therein by processing one side of the workpiece, and pressurizes the workpiece 2 while supporting the workpiece 2 thereon. There is a jig 3 and a guide 4. Here, the lapping grindstone 12 is diamond and CBN are bonded by a metal binder for continuous electrolytic dressing. In addition, one side of the surface plate 10 is attached with a graphite brush 16 is connected to the anode from the power supply 1 for supplying a predetermined pulse voltage, the upper surface of the copper electrode 14 is a lapping grindstone ( 12) is fixed while maintaining a predetermined interval. The electrode 14 has a trapezoidal shape corresponding to about 1/8 of the size of the lapping grindstone 12, which may be changed in the circumferential direction of the lapping grindstone 12 as necessary.

한편 상기 래핑숫돌(12)의 상부에는 수용성 형태로 물과 적절한 비율로 희석된 전해액을 분사하기 위한 노즐(18)이 위치하고 있는데 이는, 래핑숫돌(12)과 전극(14) 사이에 전해액을 넓고 고르게 분사하도록 하기 위해 하단부가 일자형으로 확장되어 있다.On the other hand, a nozzle 18 for injecting an electrolyte diluted in an appropriate ratio with water in a water-soluble form is positioned above the lapping grindstone 12, which widely and evenly distributes the electrolyte between the lapping grindstone 12 and the electrode 14. The lower end extends in a straight line to allow injection.

이하는, 상기와 같은 구조의 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치에 의해 가공을 하게 될 때, 래핑숫돌(12)의 표면이 마모되는 상태를 제2도를 참조하여 설명한다.Hereinafter, a state in which the surface of the lapping grindstone 12 is worn out when the lapping processing apparatus using the continuous electrolytic dressing having the above structure is processed will be described with reference to FIG. 2.

미세한 다이아몬드의 연마재(12a)와 금속성분을 가진 결합재(12b)로 된 래핑숫돌(12)은 제1단계(A)에서 표면이 평탄화 되어 있고, 이는 연마성아 저하된다. 이에 따라 제2단계(B)에서는 초기 전해 드레싱을 통하여 결합재(12b)를 용출하여 연마재(12a)를 돌출시킨다. 그리고 제3단계(C)의 전해현상에서는 래핑숫돌의 결합재가 미세하게 용출한 후 빠르게 부도체 피막(수산화철, 산화철 등)에 의한 절연층이 래핑숫돌 표면에 형성되고 과도한 용출은 방지된다. 이어서 래핑을 시작하면 제4단계(D)에서와 같이 공작물이 이 부도체 피막과 접촉하여 연마재가 마멸된 분량만큼피막이 벗겨진다. 다음의 제5단계에서(E)에서는 천이 상태 즉, 연속 전해 드레싱 사이클에 의해 새로운 연마재가 돌출 되어져 안정된 가공이 진행된다. 이러한 연속전해 드레싱 래핑의 자율적인 제어기능에 의해 초정밀의 가공이 유지된다.The lapping grindstone 12 made of the fine diamond abrasive 12a and the binder 12b having a metal component has a flat surface in the first step (A), which degrades abrasiveness. Accordingly, in the second step (B), the binder 12b is eluted through the initial electrolytic dressing to protrude the abrasive 12a. In the electrolysis of the third step (C), after the binding material of the lapping grindstone is finely eluted, an insulating layer formed by a non-conductive coating (iron hydroxide, iron oxide, etc.) is quickly formed on the lapping grindstone surface, and excessive dissolution is prevented. Subsequently, when lapping is started, as in the fourth step (D), the workpiece comes into contact with the non-conductive coating to peel off the coating by the amount of abrasive wear. In the next step (E), the new abrasive is protruded by the transition state, that is, the continuous electrolytic dressing cycle, and stable processing proceeds. Ultra-precision processing is maintained by the autonomous control of the continuous electrolytic dressing wrapping.

제3도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치의 구성을 도시한 사시도로서, 공작물의 양면을 동시에 가공하는 통상의 양면 래핑기(200)에 전원공급부(1)가 부착된 것으로, 더욱 자세하게 설명하면 다음과 같다. 상기 양면 래핑기(200)는, 내부에 다수의 래핑숫돌(22)이 분포되어 있는 상부정반(20a)과 하부정반(20)이 있으며 그 사이에는 공작물을 지지하는 지그(30)가 위치하고 있다. 상기 래핑숫돌(22)은 역시, 연속 전해 드레싱용 금속 결합제에 의해서 다이아몬드 및 CBN이 결합되어 있다. 위에서 상부정반(20a)과 하부정반(20)의 각 일측면에는 소정의 펄스전압을 공급하는 전원공급부(1)로부터 양극이 연결되는 흑연브러쉬(26a,26)가 부착되어 있고, 상부정반(20a)의 상면에는 소정의 전해액 유입구멍(28)이 뚫려 있다. 상기 전해액 유입구멍(28)으로는 연마 작업시에 전해액이 투입된다.3 is a perspective view showing the configuration of a lapping processing apparatus using a continuous electrolytic dressing according to another embodiment of the present invention, wherein the power supply unit 1 is attached to a conventional double-side lapping machine 200 for simultaneously processing both sides of a workpiece. In more detail, it is as follows. The double-sided lapping machine 200 has an upper surface plate 20a and a lower surface plate 20 in which a plurality of lapping grindstones 22 are distributed, and a jig 30 for supporting a workpiece is located therebetween. The lapping grindstone 22 is also bonded to diamond and CBN by a metal binder for continuous electrolytic dressing. On one side of the upper surface plate 20a and the lower surface plate 20, graphite brushes 26a and 26 are connected to the anodes from the power supply unit 1 for supplying a predetermined pulse voltage, and the upper surface plate 20a. A predetermined electrolyte inflow hole 28 is drilled in the upper surface of The electrolyte is introduced into the electrolyte inflow hole 28 during the polishing operation.

그리고, 상기 지그(30)는 외부의 인터널기어(32)와 중심의 선기어(36) 사이에서 캐리어(34)가 유성기어식으로 회전하고 있다. 상기 캐리어(34)는, 절연성으로서 일정한 간격으로 소정의 공작물(2')을 고정시키는데 각 공작물(2')사이에 구리판으로 된 전극(24)이 캐리어(34)의 내부로부터 상기 인터널기어(32)와 접촉할 수 있도록 상, 하로 부착되어 있다. 한편 상기 인터널기어(32)는 일측에 접점(25)부를 두고 전원공급부(1)로부터 음극이 연결된 것으로 상기 캐리어(34)의 회전을 안내하며, 전극(24)으로 전원을 통하게 한다. 또, 캐리어(34)에는 소정의 구멍(35)이 형성되면서 상기 상부정반(20a)의 전해액 유입구멍(28)을 통해 유입되는 전해액이 상기 하부정반(20)까지 고르고 원활하게 유입되도록 한다.In the jig 30, the carrier 34 rotates in the form of a planetary gear between an external internal gear 32 and a central sun gear 36. The carrier 34 is insulating and fixes a predetermined work piece 2 'at regular intervals. An electrode 24 made of a copper plate between each work piece 2' is provided from the inside of the carrier 34. It is attached up and down so that it can come into contact with 32. On the other hand, the internal gear 32 has a contact portion 25 on one side and the cathode is connected from the power supply unit 1 to guide the rotation of the carrier 34, and to supply power to the electrode 24. In addition, while the predetermined hole 35 is formed in the carrier 34, the electrolyte flowing through the electrolyte inflow hole 28 of the upper surface plate 20a is evenly and smoothly introduced to the lower surface plate 20.

이하 본 발명의 바람직한 최상의 실시예에 의거 상세히 설명한다.Hereinafter will be described in detail based on the preferred best embodiment of the present invention.

[실시예 1]Example 1

기존의 일반 단면 래핑가공기에 제1도와 같은 소정의 펄스 전압을 공급받는 연속 전해 드레싱용 전원공급부(1), 연속 전해 드레싱용 다이아몬드를 금속결합제로 결합한 래핑숫돌(12), 전원공급부(1)의 양극으로부터 연결되는 흑연브러쉬(16), 전원공급부(1)의 음극으로부터 연결되는 구리 전극(14), 전해액분사를 위한 노즐(18) 및 솔루션형으로 물과 적절한 비율로 희석시킨 전해액을 장착한다. 이때 상기 공작물(2)의 재질은 세라믹재AL 2O3이고, 상기 전극(14)은 래핑숫돌(23)과 약 0.4 mm의 전극 간극을 유지한다. 이후, 연속 전해 드레싱용 전원 공급부(1)의 최고 전류값을 5A로 설정하며, 시간 지연 켜짐 꺼짐을 10㎲로 약 20분 동안 장입시킨다. 그리고, 상기 전해액을 래핑숫돌(12)과 전극(14) 사이에 노즐(18)을 통하여 고르게 분사시키면서 초기 드레싱을 실시한다. 그 이후, 무게 2kg의 지그(22) 사이에 공작물(2)를 넣고, 연속 전해 드레싱용 전원공급부(1)의 최고전류값을 15A, 시간 지연 켜짐 꺼짐을 10㎲로 하여 30분 동안 가공하여 상기 가공물(2)의 초경면 표면을 이루었다.The power supply unit 1 for continuous electrolytic dressing, which is supplied with a predetermined pulse voltage as shown in FIG. 1 to a conventional general cross-section lapping machine, the lapping grindstone 12 that combines diamond for continuous electrolytic dressing with a metal binder, and the power supply unit 1 The graphite brush 16 connected from the positive electrode, the copper electrode 14 connected from the negative electrode of the power supply unit 1, the nozzle 18 for electrolytic solution injection, and an electrolyte diluted with water in an appropriate ratio are mounted. In this case, the material of the workpiece 2 is a ceramic material AL 2 O 3 , and the electrode 14 maintains an electrode gap of about 0.4 mm with the lapping grindstone 23. Thereafter, the highest current value of the power supply 1 for continuous electrolytic dressing is set to 5 A, and the time delay on-off is charged at 10 ㎲ for about 20 minutes. Then, the initial dressing is performed while spraying the electrolyte evenly through the nozzle 18 between the lapping grindstone 12 and the electrode 14. Thereafter, the workpiece 2 is placed between the jigs 22 having a weight of 2 kg, and the maximum current value of the power supply unit 1 for continuous electrolytic dressing is 15 A and the time delay is turned off to 10 ㎲ for 30 minutes. The super mirror surface of the workpiece 2 was formed.

이상으로 살펴본 바와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해서 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도내에서 즉, 고경도성 난삭재들인 고탄소강, 페라이트류, 내열합금강, 반도체 웨이퍼, 화합물 반도체, 유리제, 세라믹재 등의 초정밀 경면 가공을 필요로 하는 모든 산업 분야에서 사용 가능하다.As described above, in the detailed description of the present invention has been described with respect to specific embodiments, that is, without departing from the scope of the present invention, that is, high-hardness hard materials, such as high carbon steel, ferrites, heat-resistant alloy steel, semiconductor wafers, compounds It can be used in all industrial fields that require ultra-precision mirror processing such as semiconductor, glass and ceramic materials.

이상으로 살펴본 바와 같이, 본 발명은 고경도성 난삭재 표면의 초정밀 래핑가공에 있어서, 적절한 전해 조건으로 단시간 내에 가공물 표면의 경면 가공을 완료할 수 있고, 단면 래핑기의 경우, 사다리꼴 형태의 구리판으로 된 전극에 의해서 넓은 래핑숫돌 표면에 고른 전해 현상을 유발되게 된다. 또한 저렴하고 취급이 쉬운 전해액과 기존의 일반 래핑기에 전극을 장착함으로서 경제성이 뛰어나고 작업이 용이한 장점을 지니고 있다.As described above, the present invention, in the ultra-precision lapping of the surface of high hardness hard material, can finish the mirror surface processing of the workpiece surface within a short time under appropriate electrolytic conditions, and in the case of the single-side lapping machine, the trapezoidal copper plate Electrodes cause even electrolysis on the surface of the wide lapping grindstone. In addition, it is economical and easy to work by mounting electrodes on cheap and easy-to-handle electrolytes and existing general wrapping machines.

한편 양면 래핑기의 경우는, 전극을 캐리어에 부착하고, 인터널 기어로 캐리어에 장착된 구리 전극에 전압을 걸어 주며, 전극의 간격을 조절할 수 있는 장치를 장착하며, 또 상부정반으로부터 하부정반으로의 원활한 전해액 유입을 위해 캐리어상에 적절한 개수의 구멍을 내는 방법으로서, 상기 단면 래핑기보다는 고능률의 표면효과를 얻을 수 있다는 장점이 있다.On the other hand, in the case of the double-side lapping machine, the electrode is attached to the carrier, the internal gear is applied to the copper electrode mounted on the carrier, and the device for adjusting the gap of the electrode is mounted. As a method of puncturing the appropriate number of holes on the carrier for smooth inflow of the electrolyte, there is an advantage that a high efficiency surface effect can be obtained than the end face wrapping machine.

그리고, 본 발명은 일반 래핑 가공으로는 어려운 고강도성 난삭재의 초정밀 경면 가공에 있어서, 연속 전해 드레싱 장치를 새롭게 래핑기에 장착하여 단시간 내에 초정밀 경면 가공을 이룰 수 있는 특징을 가지고 있다. 또한 연속 전해 드레싱 장치가 기존의 전해 연속 드레싱 연삭기 보다 간단하고, 저렴하므로 가공 원가가 절감되는 효과가 있다.In addition, the present invention has a feature that, in the ultra-precision mirror processing of a high-strength hard-working material difficult to general lapping, the continuous electrolytic dressing apparatus is newly attached to the wrapping machine to achieve ultra-precision mirror processing within a short time. In addition, since the continuous electrolytic dressing device is simpler and cheaper than the conventional electrolytic continuous dressing grinding machine, there is an effect of reducing the processing cost.

Claims (4)

내부에 다수의 래핑숫돌(12)이 분포 된 정반(10)으로 되어 있으며, 상부에 공작물(2)을 지지하면서 가압하는 지그(3)와 가이드(4)를 가진 단면 래핑기에 있어서;In the cross-sectional wrapping machine having a jig (3) and a guide (4) for pressing while supporting the workpiece (2) in the upper plate 10 is a plurality of lapping grindstone 12 is distributed therein; 소정의 펄스 전압을 공급하는 전원공급부(1)와;A power supply unit 1 for supplying a predetermined pulse voltage; 상기 전원공급부(1)의 양극에 연결되며 래핑숫돌(12)의 측면에 접촉하는 흑연 브러쉬(16)와;A graphite brush 16 connected to the anode of the power supply 1 and in contact with the side of the lapping grindstone 12; 상기 전원공급부(2)의 음극에 연결되며 래핑숫돌의 상부에서 전기분해를 일으키는 전극(14)과;An electrode 14 connected to the cathode of the power supply unit 2 and causing electrolysis on the top of the lapping grindstone; 상기 래핑숫돌(12)과 공작물(2) 사이로 전해액을 주입하는 노즐(18)을 구비한 것을 특징으로 하는 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치.And a nozzle (18) for injecting an electrolyte solution between the lapping grindstone (12) and the work piece (2). 내부에 다수의 래핑숫돌(22)이 분포 된 상부정반(20a)과 하부정반(20)으로 되어 있으며, 그 사이에는 공작물(2')을 지지하는 소정의 캐리어(34)가 인터널기어(32)에 내접하면서 회전하는 지그(30)를 구비한 양면 래핑기(200)에 있어서;It consists of an upper surface plate 20a and a lower surface plate 20 in which a plurality of lapping grindstones 22 are distributed, and a predetermined carrier 34 supporting the work piece 2 'is an internal gear 32 therebetween. A double-sided wrapping machine (200) having a jig (30) rotating while inscribed therein; 상부정반(20a)과 하부정반(20)의 각 일측면에 소정의 펄스전압을 공급하는 전원공급부(1)로부터 양극이 연결되는 흑연브러쉬(26)와;A graphite brush 26 to which an anode is connected from a power supply unit 1 for supplying a predetermined pulse voltage to each side of the upper surface plate 20a and the lower surface plate 20; 상기 캐리어(34)에 고정된 공작물(2') 사이에 상, 하로 위치하며 캐리어(34)의 내부로부터 상기 인터널기어(32)와 접촉할 수 있도록 부착된 전극(24)과;An electrode 24 positioned up and down between the workpiece 2 'fixed to the carrier 34 and attached to contact the internal gear 32 from the inside of the carrier 34; 상기 인터널기어(32)의 일측에 전원공급부(1)로부터 음극이 연결되는 접점(25)을 가진 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치.Lapping processing apparatus using a continuous electrolytic dressing having a contact point (25) connected to the cathode from the power supply (1) on one side of the internal gear (32). 제2항에 있어서, 상기 캐리어(34)에는 상부정반(20a)으로 유입된 전해액이 하부정반(20)까지 원활하게 유입시키기 위해 소정의 구멍(35)을 구비한 것을 특징으로 하는 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치.3. The continuous electrolytic dressing according to claim 2, wherein the carrier (34) is provided with a predetermined hole (35) to smoothly flow the electrolyte flowing into the upper surface plate (20a) to the lower surface plate (20). Lapping processing equipment used. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 래핑숫돌(12)은 연속 전해 드레싱용 금속 결합제에 의해서 다이아몬드 및 CBN이 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 연속 전해 드레싱을 이용한 래핑 가공장치.The lapping processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the lapping grindstone (12) has diamond and CBN bonded by a metal binder for continuous electrolytic dressing.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103373809A (en) * 2012-04-24 2013-10-30 韶阳科技股份有限公司 Carving mills machine with two horizontal axles carousel formula of a vertical scroll
CN104759717A (en) * 2015-04-07 2015-07-08 海安欣凯富机械科技有限公司 Finishing machining method for metal rotation surface based on dual-peak pulse current and electrochemical machinery

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62127730U (en) * 1986-02-04 1987-08-13
JPH07285071A (en) * 1994-04-18 1995-10-31 Rikagaku Kenkyusho Electrolytic dressing grinding method and device
JPH09207064A (en) * 1996-02-01 1997-08-12 Shin Etsu Handotai Co Ltd Carrier for double side polisher and method for polishing both faces of work using the carrier
JPH11320359A (en) * 1998-05-19 1999-11-24 Rikagaku Kenkyusho Mirror machining device and method for magnetic disc substrate

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62127730U (en) * 1986-02-04 1987-08-13
JPH07285071A (en) * 1994-04-18 1995-10-31 Rikagaku Kenkyusho Electrolytic dressing grinding method and device
JPH09207064A (en) * 1996-02-01 1997-08-12 Shin Etsu Handotai Co Ltd Carrier for double side polisher and method for polishing both faces of work using the carrier
JPH11320359A (en) * 1998-05-19 1999-11-24 Rikagaku Kenkyusho Mirror machining device and method for magnetic disc substrate

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103373809A (en) * 2012-04-24 2013-10-30 韶阳科技股份有限公司 Carving mills machine with two horizontal axles carousel formula of a vertical scroll
CN104759717A (en) * 2015-04-07 2015-07-08 海安欣凯富机械科技有限公司 Finishing machining method for metal rotation surface based on dual-peak pulse current and electrochemical machinery
CN104759717B (en) * 2015-04-07 2018-12-28 海安欣凯富机械科技有限公司 The polishing processing method in the metallic rotary face based on double peak pulse current electrochemical copolymerization machinery

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