KR20010080188A - 비스(4-히드록시아릴)알칸의 제조 방법 - Google Patents
비스(4-히드록시아릴)알칸의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20010080188A KR20010080188A KR1020017004787A KR20017004787A KR20010080188A KR 20010080188 A KR20010080188 A KR 20010080188A KR 1020017004787 A KR1020017004787 A KR 1020017004787A KR 20017004787 A KR20017004787 A KR 20017004787A KR 20010080188 A KR20010080188 A KR 20010080188A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- hydroxyaryl
- inert gas
- bis
- aromatic hydroxy
- gas stream
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/68—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation
- C07C37/70—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
본 발명은
a) 비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족 히드록시 화합물의 부가 생성물의 용융물로에 불활성 기체 스트림을 150 내지 230℃에서 통과시켜서 상기 용융물로부터 방향족 히드록시 화합물을 제거하는 단계,
b) 방향족 히드록시 화합물을 응축에 의해 불활성 기체 스트림으로부터 제거하는 단계, 및
c) 불활성 기체 스트림을 정제, 압축하여 단계 a)로 재순환시키는 단계
를 포함하는, 비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족 히드록시 화합물의 부가 생성물로부터 비스(4-히드록시아릴)알칸을 제조하는 방법에 관한 것이다.
Description
방향족 히드록시 화합물과 케톤의 산 촉매접촉 반응에 의한 비스(4-히드록시아릴)알칸의 합성은 예를 들어, US-A 2 775 620호 또는 EP-A 342 758호로부터 공지되어 있다. 일반적으로, 비스(4-히드록시아릴)알칸과, 출발 물질로 사용되는 방향족 히드록시 화합물과의 부가 생성물은 중간체로서 수득되고, 이어서 증류에 의해 방향족 히드록시 화합물로부터 유리된다. 산업상 대규모 제조의 가장 중요한 예는 비스페놀 A의 제조이며, 이 때 비스페놀 A(BPA)와 페놀의 부가 생성물이 중간체로서 수득된다. 예를 들어 재결정에 의한 정제 후에도, 이러한 부가 생성물은 사용된 산 촉매접촉 제조 경로로 인해 미량의 산(약 5 내지 10.10-6몰 산/몰 BPA)을 여전히 함유한다. 온도 상승과 관련된, 비스페놀 A로부터 페놀의 분리시 이러한 미량의 산은 비스페놀을 부분 분해시키고 부산물을 형성한다. 이러한 분해 반응의결과, 비스페놀의 순도 및 색질이 열화된다. 분해 반응은 또한 에폭시 수지, 폴리에스테르, 폴리에스테르 카보네이트 및 폴리카보네이트와 같은, 비스페놀로부터 제조된 생성물의 품질에 부정적인 영향을 미치며, 그 결과 색상 문제, 투명 제품의 열등한 광투과성, 또는 이러한 최종 생성물로부터 제조된 성형품의 표면에 핀홀의 형성 등이 초래된다. 비슷한 현상이 다른 비스(4-히드록시아릴)알칸의 제조에서도 발생한다.
비스(4-히드록시아릴)알칸으로부터 방향족 히드록시 화합물의 분리("스트리핑(stripping)"으로도 칭함)는 문헌에 공지되어 있으며, 예를 들어 EP-A 343 349호에 기재되어 있다. 본 명세서에서는 충전탑 내에서 약간 감압하에 160 내지 200℃에서 증기를 사용함으로써 비스(4-히드록시아릴)알칸으로부터 방향족 히드록시 화합물을 분리한다. 또한, 예를 들어 US-A 5,091,159호에는 비스(4-히드록시아릴)알칸으로부터 방향족 히드록시 화합물을 분리하는 동안 열분해 반응이 발생한다고 공지되어 있다.
본 발명은 방향족 히드록시 화합물과 케톤의 산 촉매접촉 반응에 의해 수득되는 비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족 히드록시 화합물의 부가 생성물로부터 비스(4-히드록시아릴)알칸을 제조하는 방법에 관한 것이다.
비스(4-히드록시아릴)알칸으로부터 방향족 히드록시 화합물("모노페놀")을 스트리핑하는 동안에 분해 반응을 강하게 억제하는 방법을 드디어 밝혀내었다. 이 방법의 과정에서 불활성 기체를 사용하여 비스(4-히드록시아릴)알칸으로부터 모노페놀을 분리시, 재순환된 불활성 기체는 모노페놀의 응축 후에 정제되어 비스(4-히드록시아릴)알칸의 분해를 피할 수 있다.
본 발명에 따른 방법에 사용될 수 있는, 비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족히드록시 화합물의 부가 생성물은, p-위치에서 치환되지 않고 시아노기, 카르복시기 또는 니트로기와 같은 이차 치환기를 포함하지 않는 방향족 히드록시 화합물, 예를 들어 페놀, o- 및 m-크레솔, 2,6-디메틸페놀, o-tert-부틸 페놀, 2-메틸-6-tert-부틸페놀, o-시클로헥실페놀, o-페닐페놀, o-이소프로필페놀, 2-메틸-6-시클로펜틸-페놀, o- 및 m-클로로페놀, 2,3,6-트리메틸페놀, 바람직하게는 페놀, o- 및 m-크레솔, 2,6-디메틸페놀, o-tert-부틸페놀 및 o-페닐-페놀, 가장 바람직하게는 페놀과, 카보닐 관능기에 1개 이상의 지방족 기를 포함하는 케톤류, 예를 들어 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 프로필 케톤, 메틸 이소프로필 케톤, 디에틸 케톤, 아세토페논, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 및 메틸-, 디메틸- 및 트리메틸시클로헥사논(예를 들어 3,3-디-메틸-5-메틸시클로헥사논(히드로이소포론)과 같이 이중 메틸기를 포함할 수도 있음), 바람직하게는 아세톤, 아세토페논, 시클로헥사논, 및 메틸기를 함유하는 이들의 동족체, 가장 바람직하게는 아세톤과의 반응에 의해 수득될 수 있다. 비스페놀 A와 페놀의 부가 생성물이 바람직하게는 출발 물질로 사용된다.
따라서, 본 발명은
a) 비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족 히드록시 화합물의 부가 생성물의 용융물에 불활성 기체 스트림을 통과시켜서 상기 용융물로부터 방향족 히드록시 화합물을 제거하는 단계,
b) 방향족 히드록시 화합물을 응축에 의해 불활성 기체 스트림으로부터 제거하는 단계, 및
c) 불활성 기체 스트림을 정제, 압축하여 단계 a)로 재순환시키는 단계
를 포함하는, 비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족 히드록시 화합물의 부가 생성물로부터 비스(4-히드록시아릴)알칸을 제조하는 방법에 관한 것이다.
비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족 히드록시 화합물의 부가 생성물로 된 용융물로부터 비스(4-히드록시아릴)알칸과 모노페놀로 분리하는 것은 150℃ 내지 230℃, 바람직하게는 170℃ 내지 210℃의 온도에서, 불활성 기체(예를 들어, 질소)를 도입시켜 모노페놀을 제거함으로써 수행된다. 부가 생성물에 대한 기체의 정량비는 바람직하게는 부가 생성물 1 톤 당 약 10 m3내지 1000 m3이다. 스트리핑은 임의로는 모노페놀의 분리에 사용되는 처리 유닛 내 압력을 감소시킴으로써 촉진될 수 있으나, 바람직하게는 상압에서 수행된다. 불활성 기체에 의한 모노페놀의 스트리핑은 공지된 장치, 예를 들어 충전, 플러딩(flooded) 탑에서 수행된다. 모노페놀은 예를 들어, 열교환기 상에서 응축에 의해 불활성 기체 순환 시스템으로부터 제거될 수 있다.
재순환된 불활성 기체는 이 기체를 고정층 흡착체(활성탄, 제올라이트 등) 위로 통과시키거나 또는 한 바람직한 실시양태로 강하게 세정(scrubbing)함으로써 정제될 수 있다. 이 세정 단계는 예를 들어, 기체 세정기 내에서 수행될 수 있다. 한 바람직한 실시양태에서는, 압축기 내에서 순환 유동하는 불활성 기체를 압축하는 데 사용되는 밀봉 액체를 세정 매질로 사용된다.
약알칼리성 수용액이 세정 매질로 사용된다. 사용되는 수용액의 pH 범위는7 내지 12, 바람직하게는 7.5 내지 11, 가장 바람직하게는 8 내지 10에 들어야 한다. 염기성을 나타내는 모든 물질이 이러한 수용액의 제조에 사용될 수 있다. 알칼리 및 알칼리토류 수산화물이 바람직하다. 한 바람직한 실시양태에서는, pH를 세정 전과 후에 모니터하여, 순환 기체의 정제 동안 알칼리 및 알칼리토류 수산화물의 과다 첨가 및 불충분한 첨가를 방지한다. 더욱이, 불활성 기체 스트림은 그후에 2차 세정 단계로 공급될 수 있다. 2차 세정 매질의 pH는 중성이 바람직하다.
본 발명에 따른 방법에 의해 제조된 비스(4-히드록시아릴)알칸은 매우 양호한 고유 색상 및 고순도를 특징으로 한다. 특히, 이것은 방향족 히드록시 화합물(100 ppm 미만, 바람직하게는 50 ppm 미만) 및 분해 생성물(예를 들어, 이소프로페닐페놀, 이량체 이소프로페닐페놀)을 낮은 함량 포함한다.
고유 색상을 덜 나타내는, 폴리카보네이트 또는 에폭시와 같은 중합체가 본 발명에 따른 방법에 의해 제조되는 비스(4-히드록시아릴)-알칸으로부터 생산될 수 있다.
실시예 1
BPA와 페놀(60/40 중량%)의 용융 혼합물을 1 톤/h의 속도로 제거기로 공급하였다. 질소(순환류로서)를 225 m3/h의 속도로 제거기에 연속적으로 보냈다. 페놀을 질소에 동반시키고, 이어서 열교환기로 응축하였다. 이어서 질소를 압축기에 공급하고, 압축기의 밀봉 액체는 매우 묽은 NaOH 용액(pH 10)기재로 사용하고, 이때 질소는 압축시켰다. 그 후 질소를, 탈이온화수를 사용하여 운전되는 기체 세정기 내로 주입하였다. 그 후, 이러한 방식으로 처리된 질소를 제거기에서 페놀의 스트리핑에 재사용하였다. 그 후, 용융 하젠(Hazen) 색도가 8이고 페놀 함량이 낮은(페놀 함량 40 ppm) 밝은 색상의 BPA 용융물을 수득하였다.
비교예 1
질소의 세정이 완전히 생략된 것을 것을 제외하고는 수순은 실시예 1과 같았다. 그 후 하젠 색도 17의 BPA가 수득되었다. BPA의 페놀 함량은 90 ppm이었으며, 이는 BPA가 분해되었음을 나타내었다.
비교예 2
중성의 탈이온화수(pH 6.9)를 질소 세정에 사용한 것을 제외하고는, 수순은 실시예 1과 같았다. 그 후 하젠 색도 14의 BPA이 수득되었다. BPA의 페놀 함량은 75 ppm이었으며, 이는 BPA가 분해되었음을 나타내었다.
비교예 3
희석된 NaOH 용액(pH 13)을 질소 세정에 사용하였다는 것을 제외하고, 수순은 실시예 1과 같았다. 그 후 하젠 색상 12을 갖는 BPA가 수득되었다. BPA의 페놀 함량은 60 ppm이었으며, 이는 BPA가 분해되었음을 나타내었다.
Claims (7)
- a) 비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족 히드록시 화합물의 부가 생성물의 용융물에 불활성 기체 스트림을 150 내지 230℃에서 통과시켜서 상기 용융물로부터 방향족 히드록시 화합물을 제거하는 단계,b) 방향족 히드록시 화합물을 응축에 의해 불활성 기체 스트림으로부터 제거하는 단계, 및c) 불활성 기체 스트림을 정제, 압축하여 단계 a)로 재순환시키는 단계를 포함하는, 비스(4-히드록시아릴)알칸과 방향족 히드록시 화합물의 부가 생성물로부터 비스(4-히드록시아릴)알칸을 제조하는 방법.
- 제1항에 있어서, 불활성 기체 스트림의 정제가 pH 7 내지 12의 수성 매질로 세정(scrubbing)하여 수행되는 방법.
- 제2항에 있어서, 불활성 기체의 압축에 사용되는 압축기의 밀봉 액체가 세정 매질로 사용되는 방법.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 불활성 기체를 알칼리성 물질로 세정한 후, 중성 pH의 수성 매질 중에서 2차 세정하고, 이어서 단계 a)로 재순환시키는 방법.
- 제1항에 있어서, 불활성 기체 스트림의 정제가 불활성 기체 스트림을 고정층 흡착체 위로 통과시킴으로써 수행되는 방법.
- 제5항에 있어서, 고정층 흡착체로 활성탄 또는 제올라이트를 사용하는 방법.
- 제1항에 따른 방법에 의해 수득될 수 있는, 방향족 히드록시 화합물의 함량이 50 ppm 미만인 비스(4-히드록시아릴)알칸.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19848026.1 | 1998-10-17 | ||
DE19848026A DE19848026A1 (de) | 1998-10-17 | 1998-10-17 | Verfahren zur Herstellung von Bis(4-hydroxyaryl)alkanen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010080188A true KR20010080188A (ko) | 2001-08-22 |
KR100608922B1 KR100608922B1 (ko) | 2006-08-04 |
Family
ID=7884875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020017004787A KR100608922B1 (ko) | 1998-10-17 | 1999-10-05 | 비스(4-히드록시아릴)알칸의 제조 방법 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6384288B1 (ko) |
EP (1) | EP1121339B1 (ko) |
JP (1) | JP2002527497A (ko) |
KR (1) | KR100608922B1 (ko) |
CN (1) | CN1173911C (ko) |
AU (1) | AU6089399A (ko) |
BR (1) | BR9914607A (ko) |
DE (2) | DE19848026A1 (ko) |
ES (1) | ES2190253T3 (ko) |
HK (1) | HK1042080A1 (ko) |
ID (1) | ID29771A (ko) |
MD (1) | MD2705B2 (ko) |
TW (1) | TW517046B (ko) |
WO (1) | WO2000023410A1 (ko) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3340510B2 (ja) * | 1993-05-19 | 2002-11-05 | 日本パイオニクス株式会社 | 有害ガスの浄化方法 |
DE19961566A1 (de) * | 1999-12-20 | 2001-06-21 | Bayer Ag | Bis(4-hydroxyaryl)alkane |
US6703530B2 (en) | 2002-02-28 | 2004-03-09 | General Electric Company | Chemical reactor system and process |
WO2005056669A1 (en) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Articles of manufacture comprising stiff and resilient ethylene copolymer compositions |
HUE064610T2 (hu) | 2003-12-23 | 2024-04-28 | Genentech Inc | Új anti-IL 13 antitestek és alkalmazásaik |
DE102004048096A1 (de) * | 2004-09-30 | 2006-04-27 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren zur Herstellung einer verspannten Schicht auf einem Substrat und Schichtstruktur |
DE102005025788A1 (de) * | 2005-06-04 | 2006-12-07 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Bisphenol A |
US7754837B1 (en) | 2007-03-09 | 2010-07-13 | Clemson University Research Foundation | Flourinated aryl ether polymers exhibiting dual fluoroolefin functionality and methods of forming same |
DE102007026548A1 (de) | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Bayer Materialscience Ag | Vermeidung von Feststoffablagerungen in Tropfenabscheidern durch Eindüsung von geeigneten Flüssigkeiten |
RU2671481C2 (ru) | 2013-09-13 | 2018-10-31 | Дженентек, Инк. | Способы и композиции, включающие очищенные рекомбинантные полипептиды |
RU2016107435A (ru) | 2013-09-13 | 2017-10-18 | Дженентек, Инк. | Композиции и способы обнаружения и количественного определения белка клеток-хозяев в клеточных линиях и рекомбинантные полипептидные продукты |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2775620A (en) * | 1954-07-12 | 1956-12-25 | Shell Dev | Production of bis (hydroxyaryl) substituted compounds |
US4931146A (en) | 1988-04-05 | 1990-06-05 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for obtaining high-purity bisphenol A |
US4859803A (en) | 1988-05-16 | 1989-08-22 | Shell Oil Company | Preparation of bisphenols |
US5091159A (en) | 1991-06-10 | 1992-02-25 | Nalco Chemical Company | Use of dextran as a filtration aid for thickener overflow filtration in Kelly filters in the Bayer process |
CN1050828C (zh) * | 1993-02-16 | 2000-03-29 | 中国石油化工总公司 | 制备高品位聚碳酸脂级双酚a的脱酚新方法 |
CN1080914A (zh) * | 1993-02-17 | 1994-01-19 | 中国石油化工总公司 | 一种2,2-二(4-羟基苯基)丙烷的制造方法 |
-
1998
- 1998-10-17 DE DE19848026A patent/DE19848026A1/de not_active Ceased
-
1999
- 1999-10-01 TW TW088116896A patent/TW517046B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-10-05 BR BR9914607-0A patent/BR9914607A/pt not_active IP Right Cessation
- 1999-10-05 DE DE59904188T patent/DE59904188D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-05 MD MDA20010161A patent/MD2705B2/ro unknown
- 1999-10-05 EP EP99947458A patent/EP1121339B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-05 CN CNB998122572A patent/CN1173911C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-10-05 ID IDW20010848A patent/ID29771A/id unknown
- 1999-10-05 ES ES99947458T patent/ES2190253T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-05 AU AU60893/99A patent/AU6089399A/en not_active Abandoned
- 1999-10-05 US US09/807,645 patent/US6384288B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-10-05 WO PCT/EP1999/007358 patent/WO2000023410A1/de active IP Right Grant
- 1999-10-05 JP JP2000577138A patent/JP2002527497A/ja active Pending
- 1999-10-05 KR KR1020017004787A patent/KR100608922B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-01-03 US US10/037,995 patent/US20020055661A1/en not_active Abandoned
- 2002-05-15 HK HK02103685.2A patent/HK1042080A1/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1121339A1 (de) | 2001-08-08 |
HK1042080A1 (zh) | 2002-08-02 |
MD2705B2 (ro) | 2005-02-28 |
ID29771A (id) | 2001-10-11 |
CN1323285A (zh) | 2001-11-21 |
ES2190253T3 (es) | 2003-07-16 |
CN1173911C (zh) | 2004-11-03 |
EP1121339B1 (de) | 2003-01-29 |
US6384288B1 (en) | 2002-05-07 |
BR9914607A (pt) | 2001-07-03 |
AU6089399A (en) | 2000-05-08 |
MD20010161A (en) | 2001-09-30 |
TW517046B (en) | 2003-01-11 |
DE19848026A1 (de) | 2000-04-20 |
US20020055661A1 (en) | 2002-05-09 |
DE59904188D1 (de) | 2003-03-06 |
KR100608922B1 (ko) | 2006-08-04 |
WO2000023410A1 (de) | 2000-04-27 |
JP2002527497A (ja) | 2002-08-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0558552B1 (en) | A process to obtain high-purity bisphenol a | |
KR100608922B1 (ko) | 비스(4-히드록시아릴)알칸의 제조 방법 | |
KR20060132895A (ko) | 비스페놀 a 제조 중 순환식 흐름의 탈수 | |
US6586637B2 (en) | Process for producing bisphenol A | |
US5210329A (en) | Process for preparing bisphenol-A | |
RU2402521C2 (ru) | Получение бисфенола а со сниженным образованием изомеров | |
US8236992B2 (en) | Preparation of purified hydroquinone | |
US7034192B2 (en) | Method for removal of acetol from phenol | |
KR910003253B1 (ko) | 고순도의 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판을 제조하는 방법 | |
US6307111B1 (en) | Method for continuous production of dihydroxydiarylalkanes | |
US5491268A (en) | Process for removal of acidic compounds from phenol process streams | |
KR100786042B1 (ko) | 비스페놀 a 의 제조 방법 | |
EP0350699B1 (en) | Process for puryfying dihydric phenols | |
TWI250144B (en) | Method for producing bisphenols | |
KR100841883B1 (ko) | 비스페놀 a를 함유하는 혼합물 | |
US20050137429A1 (en) | Methods for purification of phenol | |
US6294702B1 (en) | Method for continuous production of dihydroxydiphenylalkanes | |
MXPA01003769A (en) | Method for the production of bis(4-hydroxyaryl)alkanes | |
US6673973B1 (en) | Method of producing 1,1-bis-(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexane | |
RU2213723C2 (ru) | Способ получения бис-(4-гидроксиарил)алканов | |
KR20070110447A (ko) | 비스(4-히드록시아릴)알칸을 분리하는 방법 및 이를 위한장치 | |
US20040082817A1 (en) | Method of phenol and carbonyl production |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20100726 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |