KR20010074958A - 액정 디스플레이용 인산 배치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 포토루미네센스 액정 디스플레이에 관한 것으로, 이러한 디스플레이는 입력광을 변조시키기 위해 두 개의 투명 기판(1, 21) 사이에 샌드위치된 액정(31), 액정을 제어하는 제어 전극(13, 23) 및 액정에 의해 변조된 입력광으로부터 가시광 이미지를 생성하기 위한 인산과 같은 포토루미네센스 재료(3)와 통합된 디스플레이 출력 수단을 포함한다. 인산은 전면 기판(1)의 내부면(16)에 위치하지만 대략 300㎛ 이하의 두께를 가진 얇은 투명 보조 기판(7)에 의해 액정으로부터 분리된다. 이는 장치의 전기광학 효과를 저해함없이 인산이 액정층(31)에 인접하도록 하고, 크로스토크를 최소화시킨다.

Description

액정 디스플레이용 인산 배치 {PHOSPHOR ARRANGEMENT FOR LIQUID-CRYSTAL DISPLAYS}

PLLCD 장치는 액정(LC)을 사용하여 여기광(excitation light) 전형적으로, 자외선광(UV)을 변조시킨다. LC를 통과한 UV광은 장치의 전면상에 위치하는 포토루미네센스 인산상에 투사된다. 가장 간단한 경우로, 인산은 예를 들면 WO 95/27920(크로스랜드 등)에 개시된 바와 같이, 장치의 후면상에서 실질적으로 시준된 근-UV 백라이트(backlight)로 조립된 LCD 패널의 전면상에 위치한다. 하지만, 이러한 간단한 배치를 사용하여, LC층을 통과하는 UV광은 인산 화소에 부딪치기 전에 셀의 전면 유리판의 두께를 통과해야만 한다. 이러한 유리는 대략 1.1mm 두께를 가지며, 이러한 두께는 표준 LCD 제조시 일반적인 유리 두께이다. 고해상도 PLLCD를 제조하기 위해, 인산염 화소는 매우 작고 매우 밀집되게 패킹되어야 한다. 이러한 배치에서, UV광(완전히 시준되지 않았다면)은 원하는 인산 화소뿐만 아니라 인접한 인산 화소상에 투사될 가능성이 있다. 이러한 효과는 크로스토크(crosstalk)라 불리며 일반적으로 디스플레이된 이미지의'흐려짐(blurring)'을 야기한다. 더욱이, 여러 컬러의 인산 화소 사이의 크로스토크의 경우, 흐려짐은 관측된 컬러의 소정의 불포화에 의해 이루어질 것이다.

PLLCD내 크로스토크의 레벨을 방지 또는 적어도 감소시키는 고려할 만한 여러 방법이 있다.

첫 번째 방법은 UV 여기광에 대한 시준을 개선시키거나 또는 높은 각도로 인산 스크린을 향해 이동하는 여기광을 제거하는 것이다. 이는 또한 장치의 전체 콘트라스트비를 개선시키는데, 그 이유는 활성화된 광이 높은 콘트라스트를 제공하는 LC 셀을 통한 방향의 범위에 한정되기 때문이다. 하지만, 고레벨의 시준은 전형적으로 소스로부터 이용 가능한 광의 상당량을 소모시킴으로써 달성된다.

다른 방법은 인산 화소의 크기에 대한 액정 전극 전형적으로, 인듐 주석 산화물(ITO)로 구성된 전극의 크기를 감소시키는 것이다. 예를 들면 WO 97/25650을 참조한다. 크로스토크의 전체 제거에 필요한 인산 화소에 대한 ITO 전극 크기의 비는 활성화된 광의 발산 및 전극과 인산 사이의 거리에 의해 결정된다. 이는 UV광이 통과할 수 있는 개구의 크기를 감소시키고, 이에 따라 장치의 효율을 감소시킨다.

세 번째로, 인접한 인산 화소 사이의 거리를 증가시키고 인산 도트(dot) 주위의 광역의 블랙 매트릭스를 제공하는 것이 가능하다. 인산에 부딪치지 않은 활성화된 광은 인접한 인산 화소를 활성화시키는 것을 제외하고 흑체 흡수 재료상에 입사할 것이다. 이는 인산 그 자체의 크기를 감소시킬 것이고, 흑체 마스크상에 입사하는 UV광이 소모될 것이고, 이에 따라 효율 또한 감소될 것이다.

따라서, 크로스토크를 감소시키는 모든 이러한 방법은 일반적으로 효율성의 견지에서 관련된 문제점을 가진다.

본 발명의 일 특징에 따르면, 두 개의 투명 기판 사이에 샌드위치된 입력광을 변조시키는 액정, 액정을 조절하기 위한 전극 및 액정에 의해 변조된 입력광으로부터 시청가능한 이미지를 생성하기 위해 포토루미네센스 재료 등과 통합된 디스플레이 출력 수단을 포함하는 포토루미네센스 액정 디스플레이가 제공되고, 여기서 포토루미네센스 재료는 전면 기판의 내면에 위치하지만 300㎛ 이하의 두께를 가진 얇은 투명 보조 기판에 의해 액정으로부터 분리된다.

본 발명에 따른 배치는 포토루미네센스 화소와 액정층 사이의 거리가 감소되는 장점을 가지고, 이는 액정 셀의 내부에서 인산 화소를 가진 종래의 배치가 가진 문제점을 발생시킴없이 인접 화소 사이의 크로스토크를 상당히 감소시킨다. 예를 들면, 출원된 특허 출원서(WO 97/40416)에는 최종 인산층의 평탄화 방법을 포함하며, LC 셀 내부에 통합될 수 있는 인산에 관해 개시되어 있다. 하지만, 심지어 유기 포토루미네센스 재료 또는 유기 재료내 인산 입자 경계는 용이하게 평탄화되지 않으며, 게다가 증착이 전극 및 전면 유리의 내부상에 증착될 필요가 있는 정렬층을 방해한다.

"셀내 인산"에 따른 추가의 문제점은 고휘도 및 높은 콘트라스트를 가진 디스플레이를 제조하고 '후광(halo)' 효과를 방지하기 위해, 루미네센스층은 장치내 광의 전체 내부 반사가 최소화되는 방식으로 전면 유리 기판의 내부상에 증착되어야 한다. 고레벨의 전체 내부 반사는 예를 들면, 유리와 유사한 굴절률을 가진 바인더를 사용하여 루미네센스 재료가 유리 기판에 결합될 때 발생할 것이다. 만일 이 경우, 전면 유리/공기 계면에 도달하는 인산으로부터의 상당량의 광이 이러한 계면에 대한 임계각보다 큰 각도로 입사될 것이다. 이러한 광은 루미네센스층을 향해 유리 기판으로 재반사되고 기판으로부터 나와 산란 현상을 일으킨다. 이는 종종 방출 화소 주위에서 '후광'으로서 나타난다.

본 발명은 액정 디스플레이(LCD) 특히, PLLCD로 공지된 포토루미네센스 액정 디스플레이에 관한 것이다.

도 1은 본 발명에 다른 PLLCD 장치의 개략적인 구조를 도시하는 도면.

이러한 문제점을 해결하기 위해, 포토루미네센스 재료 바람직하게는, 인산이 층내에 배치되거나 또는 투명 기판의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가진 층에 의해 주 전면 기판으로부터 분리된다. 가장 손쉽고 저가인 방법으로 이러한 기판은 공기이다. 이러한 형태의 장치에서 이를 달성하는 것이 가능한데, 그 이유는 보조 기판이 공기 갭의 제공을 가능케 하기 때문이다.

공기 갭은 후광 효과를 상당히 감소시키고, 이에 대해서는 이제부터 설명될 것이다. 포토루미네센스 재료에 의해 약간의 광이 기판에 수직하게 방출된다. 이러한 광은 어떠한 어려움없이 기판을 통해 관측자에게 도달한다. 하지만, 포토루미네센스 재료는 전형적으로 확산 방출기이고, 약간의 광이 수직한 방향에 대해 상당한 각도로 전방 및 후방으로 방출된다. 이러한 확산광의 대부분은 전면 또는 보조 기판중 어느 하나에 도달하기 전에 공기를 통과하고, (공기로부터) 유리 기판에 도달함과 동시에 유리 기판 내부로 효과적으로 굴절된다. 유리 내부에서, 굴절된 광은 전면(관측자측) 유리/공기 계면에서 내부 반사를 실질적으로 방지하는 각도 범위이고(그렇지 않을 경우 유리로 입사되지 않기 때문에), 이에 따라 후광 효과가감소된다. 광의 대부분이 유리 외부로부터 굴절되어, 확산 방출기의 전체 시청각 특성을 제공한다. 낮은 굴절률을 가진 다른 재료 및 공기를 사용하여서도 동일한 효과가 얻어질 수 있다는 것을 알 수 있다.

얇은 기판을 사용하는 것에 따른 또다른 장점은 불완전하게 시준된 광에 의해 야기된 화소간의 크로스토크를 감소시키면서도 액정 셀에 대해 매끄러운 내부 표면을 제공한다는 것이다.

인산은 일반적으로 바인더와 함께 증착되고, 이러한 바인더는 전소(burnt off)되어 낮은 굴절률을 가진 층내에 인산을 남겨두어, 상술된 바와 같이 후광 효과를 감소시킨다. 하지만, 약한 결합제로도 인산을 덮는 층을 제공하기에 충분한 음극선관의 고진공 환경과는 달리, 인산이 기판에 적절하게 부착되도록 하기 위해 바인더가 필요하기 때문에, 종래 기술(WO 97/40416에 개시된 바와 같이)의 내부-인산 디스플레이내 바인더를 전소시키는 것은 불가능하다. 인산 바인더의 전소는 두 개의 기판 사이에 인산이 샌드위치되는 본 발명의 배치에 의한 결과와 같은 액정 장치에서만 가능하고, 이는 인산상에 전극, 정렬층 또는 평탄화층을 직접 증착시키는 것이 불필요하다는 것을 의미한다. 인산을 몇몇 종래 기술의 장치에 삽입하는데 사용된 합성수지는 유리의 굴절률과 필적하는 굴절률을 가지며: 따라서, 이러한 합성수지는 후광 효과를 현저히 감소시키기에는 불충분한다.

더욱이, 얇은 기판은 우수한 평탄화층으로서의 역할을 하며, 편광자와 같은 추가의 광학 소자를 지지할 수 있고, 인산은 평탄화층과 전면판 사이에 샌드위치된다.

사용된 두께는 액정과 인산 사이의 거리를 감소시키고자 하는 목적과 적정 강도는 상충관계(trade-off)이다. 강도를 위해서, 적어도 30㎛ 바람직하게는, 70㎛ 두께를 가진 기판이 전형적이다. 하지만, 본 발명에 의해 300㎛ 이하의 작은 기판이 달성되고, 바람직하게 이러한 두께는 250㎛ 이하 또는 심지어 150㎛ 이하 두께의 기판이 달성된다.

얇은 보조 기판을 사용함으로써 인산과 액정 사이의 거리가 감소되어 주어진 크기의 화소에 대한 크로스토크가 감소된다. 하지만, 보조 기판(사용에 따라 편광자 및 가시영역 반사 필터의 두께를 더함)의 유한한 두께는 크로스토크의 가능성이 완전히 제거되지 않았음을 의미한다. 이는 특히 화소가 작고 매우 밀접하게 패킹되었을 경우 그러하다. 이러한 이유로, 보조 기판 배치를 가지는 경우라도 예를 들면, 국제출원번호 PCT/GB95/0070에 개시된 바와 같이 몇몇 경우, 원하는 최소 레벨의 크로스토크를 달성하기 위해 활성화된 광을 시준할 필요가 있다. 또한, LCD로부터의 원하는 레벨의 콘트라스트를 얻기 위해 몇몇 레벨의 시준이 사용될 필요가 있다.

해상도 측면에서의 시준 조건의 일례로 0.3mm²화소 및 50㎛ 화소간 갭을 가진 0.2mm 두께의 보조 기판을 생각해보자. 어떠한 시준도 없다면, LC 화소에 의해 변조된 광은 화소 폭의 약 5배의 직경을 가진 대략적으로 원형인 영역을 덮는 범위를 가진다. 대략적으로 ±21˚의 시준 레벨이 모든 크로스토크를 제거하고, 각각의 LC 화소에 의해 변조된 광을 해당 단일 인산 화소내에 한정한다.

보조 기판은 통상적으로 유리 또는 플라스틱 재료로 구성될 수 있고, 이러한 얇은 유리 기판은 마이크로시트(microsheet)층으로서 공지되어 있다.

얇은 기판은 리브에 의해 전면 투명 기판으로부터 이격할 수 있고, 이러한 리브는 바람직하게는 액정 변조기의 화소에 해당하는 개별 화소를 한정한다. 인산은 리브 사이에 제공될 수 있고: 이러한 인산은 컬러 디스플레이를 위한 적색, 녹색 및 청색이어야 한다. 리브는 구조물 지지체와 같은 역할을 하고, 인접 화소에 의해 전달되며 콘트라스트와 해상도를 감소시키는 하나의 인산 도트로부터 방출된 광을 차단시킬 수 있다. 리브는 미광(stray light)을 제거하기 위한 UV- 또는 가시광-흡수체(흑체)일 수 있고: 선택적으로 반사형 리브(예를 들면, 크롬)가 사용될 수 있다. 얇은 기판을 전면 기판에 고정시키기 위해, 바람직하게는 리브상에 또는 기판의 에지부에 부착제가 제공된다.

얇은 투면 기판과 인산 사이에 가시광-반사 스택 및/또는 편광자가 추가로 제공될 수 있고, 여기서 이러한 소자들은 선택된 액정의 형태에 따라 요구된다.

편광자는 바람직하게는 후면 투명 기판의 후면상에 제공되고, 예를 들면, TN 및 STN인 액정의 형태에 따라 요구된다. 투명 ITO 전극과 같은 전극 및 정렬층이 후면 투명 기판과 얇은 투명 기판의 내부 표면상에 액정에 인접하여 제공될 수 있다.

본 발명의 제 2 특징에 따르면, 전면 투명 기판상에 포토루미네센스 재료를 제공하는 단계, 30㎛ 내지 250㎛ 사이의 두께를 가진 얇은 투명 기판상에 전극을 증착시키는 단계, 얇은 투명 기판을 전면 투명 기판에 고정시켜 포토루미네센스 재료가 기판 사이에 샌드위치되며 전극이 외부 표면상에 위치하도록 하는 단계, 후면 전극을 가진 후면 투명 기판을 제공하는 단계, 전면 기판을 후면 기판으로부터 이격하여 전면 및 후면 전극이 내부를 향하도록 위치시키는 단계 및 전극 사이의 이격 공간을 액정으로 충전하는 단계를 포함하는 액정 장치의 제조 방법이 제공된다.

첨부된 도면을 참조하여 전적으로 예시를 위한 본 발명의 특정 실시예가 이하에서 설명될 것이다.

본 발명의 주 목적은 인산 화소와 액정 스위칭층 사이의 거리를 감소시키는 것이다. 이를 위해, '마이크로시트' 유리(50 내지 200㎛ 두께, 예를 들면 100㎛)로 구성된 층이 셀내 ITO 전극으로부터 인산 화소를 분리시키는데 사용된다.

구조물은 두 개의 기판으로 분리된다. 제 1 기판을 준비하기 위해, 표준 두께(말하자면 1.1mm)를 가진 유리판(1)이 인산(3)을 지지하는데 사용된다. 두꺼운 전면 유리판(1)은 요구된 해상도에 따른 적절한 방법을 사용하여 RGB 인산 도트(3)로 코팅된다. 예를 들면, PVA 슬러리가 사용될 수 있고; 이는 감광성이며 이에 따라 포토리소그래피를 사용하여 패터닝된다.

인산 도트는 인산(3) 사이에 위치하는 블랙 리브 매트릭스(5)에 의해 둘러싸이고 인산 상부의 마이크로시트 유리(7)를 지지한다. 크롬과 같은 반사성 재료 또한 사용될 수 있다. 리브는 인산(3) 증착 전 또는 후에 증착된다. 리브(5)는 인산 스크린 어셈블리가 얇은 유리(7)에 부착되게 하는 구조물 지지부를 형성한다(이하 참조). 또한, 이들은 인접 화소를 통해 산란하여 획득된 스크린 콘트라스트에 상당한 손상을 줄 수도 있는 인산 도트(3)로부터 방출된 광을 차단시킨다. 만일 리브(5)가 UV를 흡수한다면, 이들은 UV 미광을 제거할 것이다. 유사 리브형 구성이 플라즈마 디스플레이 패널 또는 플라즈마-어드레스 액정 디스플레이에 사용된다.

인산(3)으로 증착된 인산 바인더는 기판 내부에서의 내부 반사를 방지하기 위해 예를 들면, 전소되어 제거되어야 하고; 이러한 전소는 상술된 바와 같이 인산과 유리 사이에 "공기 갭"을 제공한다. 이러한 과정은 바람직하게는 매트릭스(5)의 형성 이후에 발생한다.

마이크로시트 유리 어셈블리를 제공하기 위해, 가장 먼저 유전체 스택(11)이 마이크로시트 유리(7)상에 코팅되어 시준된 UVA 및 반사된 가시광을 통과시키고, 이는 예를 들면 US-A-4822144(미국 필립스)에 개시된 바와 같다. 다음으로, 사용된 전기광학 효과가 분석기 및/또는 편광자를 필요로 할 때, (예를 들면 이색성이거나 콜레스테릭인) 편광자(9)가 유전체 스택(11)상에 또는 하부에 코팅되거나 마이크로시트 유리(7)의 다른 면상에 코팅된다.

다음으로, ITO가 액정(31)에 인접한 면상의 마이크로시트 유리(7)에 (또는 이전에 코팅된 어떠한 층에도) 코팅된다. ITP는 전극(13)을 형성하기에 필요한 대로 패터닝된다. 정렬층(15)은 ITO의 최상부에 증착되고 ITP와 함께 패터닝된다.

마이크로시트 유리가 그 자체로서 우수한 평탄화층이어야 하지만, 평탄화 또는 연마 단계가 전체 표면 균일도를 위해 필요에 따라 사용된다.

다음으로, 마이크로시트 유리(7)는 플라즈마-어드레스 액정 디스플레이에 사용된 방법과 유사하게 블랙 리브의 표면 또는 유리 시트의 에지부에 제공된 부착제에 의해 전면 유리판(1)에 고정된다. 제 1 전면 기판 어셈블리(33)가 다음으로 완성된다.

제 2 후면 기판이 유리 기판(21)(예를 들면, 1.1mm 두께)을 제공하고, 내부 표면상에 ITO 전극(23)과 정렬층(25)을 증착시킴으로써 공지된 방식으로 제공된다. 편광자(27)가 후면 기판의 외부 표면에 부착된다.

다음으로, 디스플레이는 전면 기판 어셈블리(33) 및 후면 기판(21)을 (마이크로시트(11)와) 정렬시키고 전면 기판 어셈블리(33)와 후면 기판 사이에 네마틱 액정을 제공함으로써 완결된다.

사용시, UV광이 장치의 후면에서 편광자(27)를 통해 제공되고, 액정(31)에 의해 변조되며 전면 편광자(9)에 의해 해상된다. 다음으로, 인산(3)이 액정 셔터에 의해 통과된 UV광을 흡수하고 방출 가시광에 응답하여 이미지를 형성한다. 인산이 화소 이격(말하자면 250㎛)에 비해 액정(말하자면 100㎛)에 인접하기 때문에, 비법선으로(off-normal) 입사하는 활성화된 광과 관련하여 문제가 거의 발생되지 않는다. 또한, 인산으로부터의 어떠한 광도 주 전면 기판(1)의 관측자측 표면(1a)에서 전체적으로 내부 반사되지 않는데, 그 이유는 인산 입자(3)와 기판 표면(1)의 하부 표면 사이의 공기 갭 때문이다.

유전체 스택(11)은 인산과 매우 인접한 가시광-반사 필터로서의 역할을 한다. 이러한 스택은 인산에 의해 후방으로 방출되는 광을 관측자쪽으로 반사시켜 휘도를 증가시킨다. 인산을 여기시키는데 사용된 광은 다른 파장을 가지며 스택을 통과할 수 있다.

유전체 스택과 이들의 제조에 관한 설명은 JP 7-043 528에 개시되어 있다. 스택은 예를 들면, Ta₂O₅및 SiO₂또는 MgF₂로 구성된 교번층으로서 제조될 수 있다. 사실, 스택은 현재 상업적으로 입수 가능하고 UV 투과(및 가시광-차단) 필터로서 OCLI에 의해 제공된다. 법선으로 입사하는 UV는 컷-오프(50%)로 통과되고, 필터를 통과하는 이러한 파장 이상의 가시광은 거의 없다. 입사각이 증가됨에 따라 컷-오프 파장이 점진적으로 짧아진다. 설계에 대한 적은 수정으로도 UVA 인산 방출 특성에 대한 투과 에지의 위치를 최적화시킴과 동시에 광역 가시광 반사를 유지할 수 있다. 예를 들면, 385nm 내지 ±10nm에서 활성화된 광을 사용할 때 405nm 대신에 대략 395nm에서 법선 입사에 대해 좌선 컷-오프(50%)를 가지는 것이 유용하다.

Claims (11)

1. 두 개의 투명 기판(1, 21) 사이에 샌드위치되며 입력광을 변조시키는 액정, 상기 액정을 제어하기 위한 제어 전극 및 상기 액정에 의해 변조된 입력광으로부터 가시광 이미지를 생성하기 위해 포토루미네센스 재료(3)와 통합된 디스플레이 출력 수단을 포함하며, 전면(관측자측) 기판이 주 기판(1)과 얇은 보조 기판(7)을 구비하고, 상기 포토루미네센스 재료는 상기 주 전면 기판의 내부 표면에 위치하며 상기 보조 기판에 의해 상기 액정으로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
2. 제 1항에 있어서, 상기 보조 기판은 300㎛ 이하의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 주 기판(1) 및 상기 보조 기판(7)은 유리 또는 플라스틱으로 구성되는 것을 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
4. 제 1항 내지 제 3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 포토루미네센스 재료는 상기 보조 기판(7)을 지지하는 매트릭스(5)에 의해 두 영역 또는 화소로 분리되는 것을 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
5. 제 1항 내지 제 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 포토루미네센스 액정 디스플레이는 가시광을 반사하며 활성화된 광을 투과시키는 필터(11) 및/또는 편광자(9)를 더 포함하며, 상기 소자들은 상기 보조 기판(7)의 일 측면 또는 양 측면상에 임의의 순서로 위치하는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
6. 제 5항에 있어서, 상기 가시광 반사 필터는 박막의 유전체 스택으로 구성되는 것을 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
7. 제 1항 내지 제 6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 포토루미네센스 액정 디스플레이는 상기 활성화된 광을 시준하는 수단을 더 포함하는 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
8. 제 1항 내지 제 7항중 어느 한 항에 있어서, 상기 포토루미네센스 재료는 상기 기판의 굴절률보다 낮은 굴절률을 가진 갭 또는 층에 의해 상기 주 전면 기판(1)으로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
9. 제 1항 내지 제 8항중 어느 한 항에 있어서, 상기 포토루미네센스 재료는 형광 또는 인광 재료인 것으로 특징으로 하는 포토루미네센스 액정 디스플레이.
10. 주 전면 투명 기판(1)상에 포토루미네센스 재료를 제공하는 단계;

    얇은 투명 기판(7)상에 전면 전극(13)을 증착하는 단계;

    상기 포토루미네센스 재료가 상기 기판 사이에 샌드위치되고 상기 전극이 하부 표면상에 위치하도록 상기 얇은 기판을 상기 주 기판에 고정시키는 단계;

    후면 전극(23)을 가진 후면 투명 기판(21)을 제공하는 단계;

    상기 후면 기판으로부터 이격하며, 상기 전면 전극과 상기 후면 전극이 내부로 향하도록 조립된 전면 기판을 위치시키는 단계; 및

    상기 전극 사이의 이격 공간을 액정으로 충전하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 장치 제조 방법.
11. 제 10항에 있어서, 상기 포토루미네센스 재료는 이후 제거될 바인더내에 증착되는 것을 특징으로 하는 액정 장치 제조 방법.