KR20010040145A - 비닐 디메티콘/디메티콘 공중합체 에멀젼 및 양이온성계면활성제를 포함하는 화장 조성물, 및 그의 용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화장적으로 허용가능한 매질 중, 하나 이상의 양이온성 계면활성제, 및 점도가 106내지 100 x 106cP인 하나 이상의 에틸렌계 불포화기 포함 디메티콘/디메티콘 공중합체의 하나 이상의 수성 에멀젼을 포함하는 신규한 화장 조성물에 관한 것이다. 상기 배합물에 의해 케라틴 섬유의 재윤활 현상 없이 화장 특성 (매끈함, 우아함 및 부드러움)이 제공된다. 본 조성물은 특히 모발 또는 피부와 같은 케라틴 물질을 세척 및/또는 컨디셔닝하는 데에 사용된다.

Description

비닐 디메티콘/디메티콘 공중합체 에멀젼 및 양이온성 계면활성제를 포함하는 화장 조성물, 및 그의 용도{COSMETIC COMPOSITIONS CONTAINING A VINYL DIMETHICONE/DIMETHICONE COPOLYMER EMULSION AND A CATIONIC SURFACTANT, AND USES THEREOF}
본 발명은 화장적으로 허용가능한 매질 중, 하나 이상의 양이온성 계면활성제, 및 하기에 정의되며 점도가 106내지 100 x 106cP인 하나 이상의 실리콘 공중합체의 하나 이상의 수성 에멀젼을 포함하는 신규한 화장 조성물에 관한 것이다.
대기적 작용물의 작용하에, 또는 기계적 또는 화학적 처리, 예를 들어 염색, 탈색 및/또는 퍼머넌트 웨이빙의 작용 하에 다양한 정도로 민감해진 (즉, 손상되고/되거나 약해진) 모발은, 종종 엉킴을 풀거나 스타일링하기가 어려우며, 부드러움이 결여되어 있다는 것은 잘 알려져 있다.
모발의 엉킴을 푸는 것을 촉진하고, 모발에 부드러움 및 유연성을 부여하기 위하여, 모발과 같은 케라틴 물질을 세척 또는 케어하기 위한 조성물에 컨디셔너, 특히 양이온성 중합체 또는 실리콘을 사용하는 것이 이미 권고되었다. 그러나, 불행하게도 건조 모발에는, 상기한 화장적 잇점에 바람직못하다고 여겨지는 특정의 화장 효과, 즉 헤어스타일의 곧아짐 (lankness, 모발의 우아함의 결여), 매끄러움의 결여 (모근으로부터 모발 끝까지 균일하지 않은 모발)가 또한 수반된다.
또한, 상기 목적으로 양이온성 중합체를 사용하면 여러 단점이 생긴다. 상기 중합체 중 몇몇은, 그의 모발에 대한 큰 친화성 때문에 반복된 사용 동안 큰 정도로 상기 모발에 침착하게 되어 모발의 불쾌함, 적재된 느낌, 뻣뻣함, 및 스타일링에 영향을 주는 섬유간 점착과 같은 역효과로 이어진다. 상기 결점은 생기 및 형체가 결여된 미세한 모발의 경우에 두드러진다.
요약하면, 양이온성 실리콘 및/또는 양이온성 계면활성제를 포함하는 현재의 화장 조성물은 완전히 만족스럽지는 못한 것으로 밝혀졌다.
본 출원인은 지금에 와서야 하기에 정의되며 점도가 106내지 100 x 106cP인 하나 이상의 실리콘 공중합체의 수성 에멀젼과, 양이온성 계면활성제를 배합함으로써 이러한 결점을 극복할 수 있음을 알아내었다.
이와 같이, 본 출원인은 상기한 문제에 대하여 예의 연구하여, 특정 실리콘 공중합체의 에멀젼을, 종래 기술의 양이온성 계면활성제 기재의 조성물, 특히 모발 조성물 내로 도입함으로써, 일반적으로 이러한 조성물의 사용과 결부된 문제 [즉, 특히 곧아짐 (lankness) (반복 적용 후 하전된 느낌), 및 모발의 매끄러움과 부드러움의 결여]를 제한하거나, 심지어 제거하는 동시에, 컨디셔너 기재 조성물과 결부된 다른 유익한 화장 특성은 유지할 수 있음을 지금에 와서야 알아내었다.
상기 배합에 의해 케라틴 섬유의 재윤활 현상 없이 화장 특성 (매끈함, 우아함 및 부드러움)이 제공된다.
또한, 본 발명의 조성물은 특히 버블 배쓰 또는 샤워 젤의 형태로 피부에 적용될 경우, 피부의 부드러움을 향상시킨다.
이와 같이, 본 발명에 따라, 화장적으로 허용가능한 매질 중에 동점도가 106내지 100 x 106cP인 하기에 정의되는 하나 이상의 실리콘 공중합체의 하나 이상의 수성 에멀젼, 및 하나 이상의 양이온성 계면활성제를 포함하는 신규한 화장 조성물이 지금에 와서야 제안되었다.
본 발명의 다른 주제는 양이온성 계면활성제를 포함하는 화장 조성물의 제조에, 또는 제조를 위한, 점도가 106내지 100 x 106cP인 하기에 정의되는 실리콘 공중합체의 하나 이상의 수성 에멀젼의 수성 에멀젼의 용도에 관한 것이다.
이제 본 발명의 여러 주제를 상세하게 기술할 것이다. 하기에 주어진 본 발명에 사용되는 화합물의 모든 의미 및 정의는 본 발명의 모든 주제에 있어서 유효하다.
일반적으로 실리콘 중합체의 동점도는, 약 25℃의 온도, 및 1500 Pa의 스트레스에 있어서 0.01 Hz의 전단속도로 측정했을 때, 106내지 100 x 106cP, 바람직하게는 5 x 106내지 30 x 106cP이다.
본 특허 출원에 주어진 모든 동점도 측정치는 Carri-Medium CSL2-500 기계 상에서, 약 25℃의 온도에서 취하였다.
본 발명에 따른 조성물에 존재하는 실리콘 중합체는 수성 에멀젼의 형태이다.
"수성 에멀젼"이라는 표현은 실리콘 공중합체가 수성 상 중 입자 또는 소적의 형태로 분산되어 연속상의 에멀젼을 형성하는 수중유 형태의 에멀젼임을 의미한다.
상기 에멀젼은 통상의 유화 시스템으로 안정화시킬 수 있다.
상기 실리콘 에멀젼은 10 nm 내지 50 μm, 바람직하게는 0.3 μm 내지 20 μm 범위의 실리콘 소적 또는 입자의 크기를 가질 수 있다.
입자 크기는 레이저 과립측정법으로 측정된다.
유화 시스템은 실리콘 에멀젼에 통상 사용되는 계면활성제를 포함한다. 상기 계면활성제는 하기하는 바와 같이, 비이온성, 양이온성, 음이온성 또는 양쪽성 계면활성제, 또는 이들의 혼합물일 수 있다.
유화 시스템은 에멀젼의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 10 중량%를 나타낸다.
실리콘 공중합체는, 촉매의 존재 하에
(a) 하나 이상의 하기 화학식 1의 폴리실록산:
[상기 식 중,
R1은 사슬 부가 반응에 의해 반응할 수 있는 기, 예를 들어 수소 원자, 또는 에틸렌계 불포화기, 특히 비닐, 알릴 또는 헥세닐을 포함하는 지방족 기를 나타내고;
R2기는 특히 알킬, 시클로알킬, 아릴, 알킬아릴 또는 히드록실기를 나타낼 수 있으며, 또한 에테르, 아민, 카르복실, 히드록실, 티올, 에스테르, 술포네이트 또는 술페이트와 같은 관능기를 포함할 수 있고;
이 때, 알킬기는 예를 들어 1 내지 20개의 탄소 원자를 포함하며; 시클로알킬기는 예를 들어 5 또는 6개의 탄소 원자를 포함하고; 아릴기는 특히 페닐기이며; 알케닐기는 특히 2 내지 10개의 탄소 원자를 포함하고; 알킬아릴기는 7 내지 20개의 탄소 원자를 포함할 수 있으며;
R2는 더 특별하게는 메틸을 나타내고;
n은 화학식 1의 폴리실록산이 바람직하게는 1 내지 1 x 106mm2/s의 동력학적 점도를 갖도록 하는 정수, 더 특별하게는 5 내지 5000이다]; 및
(b) 폴리실록산 (a)의 R1기와 반응할 수 있는 하나 이상 2개 이하의 기를 포함하는 하나 이상의 실리콘 화합물 (이 때, (a) 또는 (b) 형의 화합물의 R1라디칼 중 하나 이상은 에틸렌계 불포화기를 포함하는 지방족 기를 나타냄)
의 부가 반응으로부터 생성된 것이다.
(b) 형의 화합물은 폴리실록산 (b)의 R1기가 폴리실록산 (a)의 R1기와 반응할 수 있는 (a) 형의 다른 폴리실록산이다.
바람직하게는, 실리콘 공중합체는 특히, 하이드로실릴화 촉매 (예를 들어 백금 촉매)의 존재 하에,
(a) 하나 이상의 αω-디비닐폴리디메틸실록산, 및
(b) 하나 이상의 αω-디히드로게노폴리디메틸실록산
의 부가 반응에 의해 얻어진다.
동력학적 점도는 예를 들어 ASTM 표준 445 부록 C에 따라 25℃에서 측정된다.
본 발명에 따른 실리콘 공중합체는 본질적으로 가교결합되어 있지 않다.
상기 실리콘 에멀젼의 합성법은 특허 출원 EP-A-874 017에 기술되어 있다.
이러한 에멀젼은 Dow Corning사가 상표명 DC2-1997 Cationic Emulsion으로 시판한다. 상기 에멀젼은 동점도가 약 15 x 106cP인 αω-디비닐디메티콘 αω-디히드로게노디메티콘 공중합체, 세틸트리메틸암모늄 클로라이드와 같은 양이온 형태의 유화제, 히드록시에틸셀룰로스와 같은 안정화제 및 물을 포함한다.
실리콘 공중합체는 바람직하게는 조성물의 총 중량을 기준으로 0.05 내지 10 중량%의 양으로 사용된다. 상기 양은 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 5 중량%인 것이 더욱 바람직하다.
실리콘 공중합체의 수성 에멀젼은 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 15 중량%를 나타낸다.
양이온성 계면활성제는, 특히 임의로 폴리옥시알킬렌화된 1차, 2차 또는 3차 지방 아민의 염; 4차 암모늄 염; 이미다졸린 유도체; 또는 양이온성의 아민 옥사이드일 수 있다.
4차 암모늄염은 예를 들어 하기의 것이다:
- 하기 화학식 4의 화합물:
[상기 식 중, R1내지 R4라디칼은 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 30의 직쇄 또는 분지 지방족 라디칼; 또는 방향족, 바람직하게는 아릴 또는 알킬아릴과 같은 C6-C20라디칼을 나타낸다. 지방족 라디칼은 헤테로원자, 예를 들어 특히 산소, 질소, 황 또는 할로겐을 포함할 수 있다. 지방족 라디칼은, 예를 들어 탄소수 약 1 내지 30의 히드록시알킬, 알킬, 알콕시, 폴리옥시(C2-C6)알킬렌, 알킬아미드, (C12-C22)알킬아미도(C2-C6)알킬, 및 (C12-C22)알킬아세테이트 라디칼로부터 선택되고; X는 할라이드, 포스페이트, 아세테이트, 락테이트, (C2-C6)알킬 술페이트 및 알킬 또는 알킬아릴 술포네이트의 군으로부터 선택되는 음이온이다.
화학식 4의 화합물은 바람직하게는 탄소수 8 내지 30의 2개 이상의 지방 사슬을 포함하는 화합물, 탄소수 16 이상의 하나 이상의 지방 사슬을 포함하는 화합물 및 하나 이상의 방향족 라디칼을 포함하는 화합물로부터 선택된다.]
- 이미다졸리늄의 4차 암모늄염, 예를 들어 하기 화학식 5의 염:
[상기 식 중, R5는 탄소수 8 내지 30의 알케닐 또는 알킬 라디칼 (예를 들어 탈로우 지방산 유도체)을 나타내고; R6은 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼 또는 탄소수 8 내지 30의 알케닐 또는 알킬 라디칼을 나타내고; R7은 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고; R8은 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고; X는 할라이드, 포스페이트, 아세테이트, 락테이트, 알킬 술페이트 및 알킬 또는 알킬아릴 술포네이트의 군으로부터 선택되는 음이온이다. 바람직하게는 R5및 R6은 탄소수 12 내지 21의 알케닐 또는 알킬 라디칼의 혼합물, 예를 들어 탈로우 지방산 유도체를 나타내고, R7은 메틸을 나타내고, R8은 수소를 나타낸다. 이러한 제품은, 예를 들어 Rewo 사에서 상표명 "Rewoquat W 75" 하에 시판한다.]
- 하기 화학식 6의 2사차 암모늄염:
상기 식 중, R9는 탄소수 약 16 내지 30의 지방족 라디칼을 나타내고; R10, R11, R12, R13및 R14는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬 라디칼로부터 선택되고; X는 할라이드, 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트 및 메틸 술페이트의 군으로부터 선택되는 음이온이다. 이러한 2사차 암모늄 염은 특히 프로판 탈로우 디암모늄 디클로라이드를 포함한다.]
- 하나 이상의 에스테르 관능기를 포함하는 4차 암모늄염 (본 발명에 따라 사용될 수 있는 하나 이상의 에스테르 관능기를 포함하는 4차 암모늄염은 예를 들어 하기 화학식 7 의 화합물임):
[상기 식 중,
- R15은 C1-6알킬 라디칼 및 C1-6히드록시알킬 또는 디히드록시알킬 라디칼로부터 선택되고;
- R16은 하기의 것들로부터 선택되며 :
- 라디칼
- 직쇄 또는 분지쇄의, 포화 또는 불포화의 C1-22탄화수소-기재의 라디칼 R20,
- 수소 원자;
- R18은 하기의 것들로부터 선택되고 :
- 라디칼
- 직쇄 또는 분지쇄, 포화 또는 불포화의 C1-6탄화수소-기재의 라디칼 R22,
- 수소 원자;
- R17, R19및 R21은 동일하거나 상이할 수 있고, 직쇄 또는 분지쇄, 포화 또는 불포화의 C7-21탄화수소-기재의 라디칼로부터 선택되고;
- n, p 및 r 은 동일하거나 상이할 수 있고, 2 내지 6 의 정수이며;
- y 는 1 내지 10 의 정수이고;
- x 및 z 는 동일하거나 상이할 수 있고, 0 내지 10 의 정수이며;
- X-는 단순 또는 착화 유기 또는 무기 음이온이며;
단, x + y + z 는 1 내지 15 이고, x 가 0 일 경우에는, R16은 R20을 나타내고, z 가 0 일 경우에는, R18은 R22을 나타낸다.].
R15알킬 라디칼은 직쇄 또는 분지쇄, 더 특별하게는 직쇄일 수 있다.
R15는 바람직하게는 메틸, 에틸, 히드록시에틸 또는 디히드록시프로필 라디칼을 나타내고; 더 특별하게는 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타낸다.
x + y + z의 합은 유리하게는 1 내지 10이다.
R16이 탄화수소 기재의 R20라디칼일 경우, R16은 탄소수 12 내지 22의 장쇄이거나, 탄소수 1 내지 3의 단쇄일 수 있다.
R18이 탄화수소 기재의 R22라디칼인 경우, R18은 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소 원자를 포함한다.
R17, R19및 R21은 동일하거나 상이할 수 있으며, 유리하게는 직쇄 또는 분지의 포화 또는 불포화 C11-C21탄화수소 기재 라디칼, 더 특별하게는 직쇄 또는 분지의 포화 또는 불포화 C11-C21알킬 및 알케닐 라디칼로부터 선택된다.
x 및 z는 동일하거나 상이할 수 있으며, 바람직하게는 0 또는 1이다.
y는 유리하게는 1이다.
n, p 및 r은 동일하거나 상이할 수 있으며, 바람직하게는 2 또는 3, 훨씬 더 특별하게는 2이다.
음이온은 바람직하게는 할라이드 (클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드) 또는 알킬 술페이트, 더 특별하게는 메틸 술페이트이다. 그러나, 메탄술포네이트, 포스페이트, 니트레이트, 토실레이트, 유기산으로부터 유래된 음이온, 예를 들어 아세테이트 또는 락테이트, 또는 에스테르 관능기를 포함하는 암모늄과 양립가능한 기타 음이온이 사용될 수 있다.
음이온 X-는 훨씬 더 특별하게는 클로라이드 또는 메틸 술페이트이다.
더 특별하게는, 사용되는 암모늄 염은 하기와 같은 화학식 7의 화합물이다:
- R15가 메틸 또는 에틸 라디칼을 나타내고,
- x 및 y 가 1 이고;
- z 가 0 또는 1 이며;
- n, p 및 r 이 2 이고;
- R16이 하기의 것들로부터 선택되고 :
- 라디칼
- 메틸, 에틸 또는 C14-22탄화수소-기재의 라디칼,
- 수소 원자;
- R18이 하기의 것들로부터 선택되고 :
- 라디칼
- 수소 원자;
R17, R19및 R21은 동일하거나 상이할 수 있으며, 직쇄 또는 분지의 포화 또는 불포화 C13-C17탄화수소 기재 라디칼, 바람직하게는 직쇄 또는 분지의 포화 또는 불포화 C13-C17알킬 및 알케닐 라디칼로부터 선택되는
것인 화학식 7의 화합물.
탄화수소 기재의 라디칼은 유리하게는 직쇄이다.
화학식 7의 화합물의 예로는 디아실옥시에틸디메틸암모늄, 디아실옥시에틸히드록시에틸메틸암모늄, 모노아실옥시에틸디히드록시에틸메틸암모늄, 트리아실옥시에틸메틸암모늄 및 모노아실옥시에틸히드록시에틸디메틸암모늄염 (특히 클로라이드 또는 메틸 술페이트), 및 그의 혼합물을 들 수 있다. 아실 라디칼은 바람직하게는 14 내지 18개의 탄소 원자를 포함하며, 더욱 특별하게는 팜유 또는 해바라기유와 같은 식물유로부터 수득된다. 화합물이 여러개의 아실 라디칼을 포함하는 경우, 상기 라디칼은 동일하거나 상이할 수 있다.
상기 생성물은, 예를 들어 식물 또는 동물 유래의 지방산 또는 지방산 혼합물로 트리에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 알킬디에탄올아민 또는 알킬디이소프로판올아민을 직접 에스테르화하거나, 또는 그의 메틸 에스테르의 트랜스에스테르화에 의해 수득된다. 상기 에스테르화에 이어, 알킬화제, 예를 들어 알킬 할라이드 (바람직하게는 메틸 또는 에틸 할라이드), 디알킬 술페이트 (바람직하게는 디메틸 또는 디에틸 술페이트), 메틸 메탄술포네이트, 메틸 파라-톨루엔술포네이트, 글리콜 클로로히드린 또는 글리세롤 클로로히드린을 사용하여 4차화한다.
이러한 화합물은, 예를 들어 Henkel 사의 상표명 Dehyquart, Stepan 사의 Stepanquat, Ceca 사의 Noxamium 또는 Rewo-Witco 사의 Rewoquat WE 18 로 시판된다.
또한, 특허 US-A-4 874 554 및 US-A-4 137 180에 기술되어 있는, 하나 이상의 에스테르 관능기를 포함하는 암모늄염이 사용될 수 있다.
화학식 4의 4차 암모늄염 중, 한편으로는 알킬 라디칼이 약 12 내지 22개의 탄소 원자를 포함하는 테트라알킬암모늄 클로라이드, 예를 들어 디알킬디메틸암모늄 클로라이드 또는 알킬트리메틸암모늄 클로라이드, 특히 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드, 디스테아릴디메틸암모늄 클로라이드, 세틸트리메틸암모늄 클로라이드, 또는 벤질디메틸스테아릴암모늄 클로라이드가 바람직한 반면, 다른 한편으로는 Van Dyk사가 상표명 "Cepharyl 70"으로 시판하는 스테아르아미도프로필디메틸(미리스틸 아세테이트)암모늄 클로라이드가 바람직하다.
본 발명에 따르면, 양이온성 계면활성제(들)은 최종 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 20 중량%, 바람직하게는 1 내지 10 중량%를 나타낼 수 있다.
또한 본 발명의 조성물은, 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 대략 0.1 내지 60 중량%, 바람직하게는 3 내지 40 중량%, 훨씬 더 바람직하게는 5 내지 30 중량%의 양으로 존재하는 하나 이상의 계면활성제도 포함할 수 있다.
상기 계면활성제는 음이온성, 양쪽성, 비이온성 계면활성제, 또는 이들의 혼합물로부터 선택될 수 있다.
본 발명을 수행하는 데 적합한 계면활성제는 특히 하기의 것이다:
(i) 음이온성 계면활성제(들):
본 발명의 내용에 있어서, 그의 성질은 그다지 중요하지 않다.
따라서, 본 발명의 내용중, 단독으로, 또는 혼합물로 사용될 수 있는 음이온성 계면활성제의 예로서, 특히 (비제한적인 목록) 하기 화합물의 염 (상세하게는 알칼리 염, 특별히 나트륨 염, 암모늄 염, 아민 염, 아미노 알콜 염 또는 마그네슘 염) : 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트, 알킬아미도에테르 술페이트, 알킬아릴폴리에테르 술페이트, 모노글리세리드 술페이트 ; 알킬 술포네이트, 알킬 포스페이트, 알킬아미드 술포네이트, 알킬아릴 술포네이트, α-올레핀 술포네이트, 파라핀 술포네이트 ; 알킬 술포숙시네이트, 알킬 에테르 술포숙시네이트, 알킬아미드 술포숙시네이트 ; 알킬 술포숙시나메이트 ; 알킬 술포아세테이트 ; 알킬 에테르 포스페이트 ; 아실 사르코시네이트 ; 아실 이세티오네이트 및 N-아실타우레이트를 들 수 있는데, 상기 다양한 모든 화합물의 알킬 또는 아실 라디칼은 바람직하게는 8 내지 24 개의 탄소 원자를 포함하며, 아릴 라디칼은 바람직하게는 페닐 또는 벤질기를 나타낸다. 또한 사용할 수 있는 음이온성 계면활성제로는, 올레산, 리시놀레산, 팔미트산 및 스테아르산, 코코넛 오일산 또는 경화 코코넛 오일 산의 염과 같은 지방산 염 ; 아실 라디칼이 8 내지 20 개의 탄소 원자를 포함하는 아실락틸레이트를 언급할 수 있다. 또한 약 음이온성 계면활성제, 예를 들어 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24) 알킬 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24) 알킬아릴 에테르 카르복실산, 폴리옥시알킬렌화 (C6-C24) 알킬아미도 에테르 카르복실산 및 그의 염, 특히 2 내지 50개의 에틸렌 옥사이드기를 함유하는 것들 및 그의 혼합물 뿐 아니라 알킬-D-갈락토시두론산 및 그의 염이 사용될 수 있다.
음이온성 계면활성제중에서, 본 발명에 따라 알킬 술페이트 염 및 알킬 에테르 술페이트 염 및 그의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.
(ii) 비이온성 계면활성제(들) :
비이온성 계면활성제는 또한 그 자체가 특히 공지된 화합물이고 (특히 이와 관련하여, "Handbook of Surfactants" by M.R. Porter, published by Blackie & Son (Glasgow and London),1991, pp. 116-178 참조), 본 발명의 내용중, 상기 성질은 그다지 중요하지 않다. 따라서, 이들은 (비제한적 목록) 특히 폴리에톡실화, 폴리프로폭실화, 또는 폴리글리세롤화 지방산, 알킬페놀, α-디올 또는 예를 들어, 탄소수 8 내지 18 의 지방 사슬을 갖는 알콜로부터 선택될 수 있는데, 에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드기의 수는 특히 2 내지 50 개의 범위가 될 수 있고, 글리세롤기의 수는 특히 2 내지 30 개의 범위가 될 수 있다. 또한 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 공중합체, 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 지방 알콜과의 축합물 ; 바람직하게는, 2 내지 30 몰의 에틸렌 옥사이드를 가진 폴리에톡실화 지방 아미드, 평균 1 내지 5 , 및 특히 1.5 내지 4 개로 글리세롤기를 함유하는 폴리글리세롤화 지방 아미드 ; 바람직하게는, 2 내지 30 몰의 에틸렌 옥사이드를 갖는 폴리에톡실화 지방 아민 ; 2 내지 30 몰의 에틸렌 옥사이드를 갖는 소르비탄의 옥시에틸렌화 지방산 에스테르 ; 수크로스의 지방산 에스테르, 폴리에틸렌 글리콜의 지방산 에스테르, 알킬폴리글리코시드, N-알킬글루카민 유도체, (C10-C14) 알킬 아민 옥사이드 또는 N-아실아미노프로필모르폴린 옥사이드와 같은 아민 옥사이드를 언급할 수 있다. 알킬폴리글리코시드가 특히 본 발명의 내용에 적합한 비이온성 계면활성제를 구성한다는 것을 알 수 있다.
(iii) 양쪽성 계면활성제(들) :
양쪽성 계면활성제는, 본 발명의 내용에서, 그의 성질은 그다지 중요하지 않으며, 특히 (비제한적 목록) 지방족 라디칼이 탄소수 8 내지 22 이고, 하나이상의 수용성 음이온성 기 (예를 들어, 카르복실레이트, 술포네이트, 술페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트) 를 포함하는 선형 또는 분지쇄 사슬인 지방족 2 차 또는 3 차 아민 유도체일 수 있고 ; 또한, 이들의 예로는 (C8-C20) 알킬베타인, 술포베타인, (C8-C20) 알킬아미도 (C1-C6)알킬베타인 또는 (C8-C20) 알킬아미도(C1-C6) 알킬술포베타인을 언급할 수 있다.
아민 유도체로는, 미국 특허 2,528,378 및 2,781,354 에 기재된, 상표명 Miranol 로 시판되고, 하기 화학식 2의 구조:
R2-CONHCH2CH2-N(R3)(R4)(CH2COO-) (2)
(식중, R2는 가수분해 코코넛 오일에 존재하는 산 R2-COOH 로부터 유래된 알킬 라디칼, 헵틸, 노닐 또는 운데실 라디칼을 나타내고, R3는 β-히드록시에틸기를 나타내고, R4는 카르복시메틸기를 나타낸다) ; 및
하기 화학식 3의 구조 :
R5-CONHCH2CH2-N(B)(C) (3)
(식중, B 는 -CH2CH2OX' 를 나타내고, C 는 -(CH2)z-Y' 를 나타내고, 이때 z 는 1 또는 2 이고,
X' 는 -CH2CH2-COOH 기 또는 수소원자를 나타내고,
Y' 는 -COOH 또는 -CH2-CHOH-SO3H 라디칼을 나타내고,
R5는 코코넛 오일 또는 가수분해된 아마인 오일에 존재하는 산 R9-COOH 의 알킬 라디칼, 알킬 라디칼, 특히 C7, C9, C11또는 C13알킬 라디칼, C17알킬 라디칼 및 그의 이소 형태, 불포화 C17라디칼을 나타낸다)
를 갖는 제품을 언급할 수 있다.
이러한 화합물은 디소듐 코코암포디아세테이트, 디소듐 라우로암포디아세테이트, 디소듐 카프릴암포디아세테이트, 디소듐 카프릴로암포디아세테이트, 디소듐 코코암포디프로피오네이트, 디소듐 라우로암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴암포디프로피오네이트, 디소듐 카프릴로암포디프로피오네이트, 라우로암포디프로피온산, 코코암포디프로피온산이란 이름으로, CTFA 사전, 제 5 판, 1993 에 분류되었다.
예로써, 롱쁠랑사에서 상표명 Miranol C2M Concentrate 로 시판하는 코코암포디아세테이트를 언급할 수 있다.
본 발명에 따른 조성물에서, 계면활성제의 혼합물이 바람직하게 사용되고, 특히 음이온성 계면활성제의 혼합물, 및 음이온성 계면활성제 및 양쪽성 또는 비이온성 계면활성제의 혼합물이 바람직하게 사용된다. 특히 바람직한 혼합물은 하나이상의 음이온성 계면활성제 및 하나이상의 양쪽성 계면활성제로 구성된 혼합물이다.
사용되는 음이온성 계면활성제는 바람직하게는, 나트륨, 트리에탄올아민 또는 암모늄의 (C12-C14) 알킬 술페이트, 2.2 몰의 에틸렌 옥사이드으로 옥시에틸렌화된 나트륨, 트리에탄올아민 또는 암모늄의 (C12-C14) 알킬 에테르 술페이트, 소듐 코코일 이세티오네이트 및 소듐 (C14-C16)-α-올레핀 술포네이트, 및 하기 계면활성제와의 그의 혼합물로부터 선택된다:
- 특히 38 % 활성 물질 (AM)을 함유하는 수성 용액으로서 상표명 "Miranol C2M Conc." 또는 상표명 MIRANOL C32 로 롱쁠랑사에서 시판되는 디소듐 코코암포디프로피오네이트 또는 소듐 코코암포프로피오네이트로서 공지된 아민 유도체와 같은 양쪽성 계면활성제 ;
- 또는 알킬베타인, 특히 헨켈사에서 32 % AM을 함유하는 수성 용액으로서 "Dehyton AB 30" 으로 시판되는 코코베타인과 같은, 쯔비터이온성 형태의 양쪽성 계면활성제.
또한, 본 발명의 조성물은 증점제, 향료, 진주광택제, 보존제, 실리콘 또는 비실리콘 일광차단제, 비타민, 프로비타민, 양이온성, 양쪽성, 음이온성 또는 비이온성 중합체, 단백질, 단백질 가수분해물, 18-메틸에이코사노산, 히드록시산, 판테놀, 휘발성 또는 비휘발성의 시클릭 또는 선형 또는 가교결합된 개질 또는 비개질 실리콘, 세라마이드, 슈도세라마이드, 식물유, 동물유, 광유 또는 합성 오일, 및 본 발명에 따른 조성물의 성질에 영향을 주지 않으면서, 화장품에 통상 사용되는 임의의 다른 첨가제로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 함유할 수도 있다.
상기 첨가제들은 본 발명에 따른 조성물 중에, 조성물의 총 중량에 대해 0 내지 20 중량 % 의 범위 내일 수 있는 비율로 존재한다. 각각의 첨가제의 정확한 양은, 그의 성질 및 그의 기능에 따라 당 업계의 숙련자에 의해 용이하게 결정될 수 있다.
또한, 본 발명의 주제는 상기에 정의된 화장 조성물을 케라틴 물질에 적용하고, 이어서 임의로 이를 물로 헹구어 내는 것으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 피부 또는 모발과 같은 케라틴 물질의 처리 방법이다.
이와 같이, 본 발명에 따른 본 방법은 헤어스타일의 유지, 및 피부, 모발 또는 기타 케라틴 물질을 처리, 케어, 세척하거나, 상기 케라틴 물질로부터 메이크업을 제거하는 것을 가능하게 한다.
본 발명의 조성물은 더욱 특별하게는 헹굼 (rinse-out) 또는 잔존 (leave-in) 컨디셔너, 웨이브 퍼머, 스트레이트, 염색 또는 탈색 조성물의 형태로, 또는 이와는 달리 모발을 염색, 탈색, 웨이브 퍼머 또는 스트레이트하기 전 또는 후에 적용하거나, 또는 대안적으로 퍼머넌트-웨이브 또는 모발-스트레이트 작업의 2 단계 사이에 적용하는 헹굼 조성물의 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 피부 케어 및/또는 모발 케어용 수성 또는 수성-알콜성 로션의 형태일 수도 있다.
본 발명에 따른 화장 조성물은 젤, 밀크, 크림, 에멀젼, 증점된 로션 또는 무스의 형태일 수 있고, 피부, 손·발톱, 속눈썹, 입술, 더욱 특별하게는 모발에 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 화장 조성물은 또한 모발, 피부, 속눈썹, 눈썹, 손·발톱, 입술 또는 두피, 더 특별하게는 모발과 같은 케라틴 물질을 세척 또는 처리하기 위하여 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 샴푸, 샤워 젤, 버블 배쓰 또는 메이크업 제거 제품과 같은 세제 조성물일 수 있다. 본 발명의 상기 실시 형태에 있어서, 조성물은 일반적으로 수성인 세척 기재를 포함한다.
세척 기재를 형성하는 계면활성제(들)은, 선호됨이 없이, 단독 또는 혼합물 형태의 상기 정의된 바와 같은 음이온성, 양쪽성, 비이온성 및 양이온성 계면활성제로부터 선택될 수 있다.
세척 기재의 양 및 질은 최종 조성물에 만족스러운 포우밍력 및/또는 만족스러운 세정력을 부여하기에 충분한 것이다.
따라서, 본 발명에 따르면, 세척 기재는 최종 조성물의 총 중량을 기준으로 4 내지 50 중량%, 바람직하게는 6 내지 35 중량%, 훨씬 더 바람직하게는 8 내지 25 중량%를 나타낼 수 있다.
조성물은 각종 형태로, 특히 증발기, 펌프-디스펜서 병에 또는 에어로졸 용기에 포장되어, 조성물이 증발된 형태나 무스 형태로 적용될 수 있도록 할 수 있다. 그러한 포장 형태는 예를 들어, 모발 처리를 위한 스프레이, 락커 또는 무스를 얻고자 할 때에 해당한다.
상기 및 하기 내용 모두에서, 표현된 % 는 중량 기준이다.
본 발명은 이제 하기 실시예에 의해 더욱 상세히 설명되며, 그 구현예에 국한되지 않는 것으로 한다. 실시예에서 AM 은 활성 물질(Active Material)을 의미한다.
〈실시예 1〉
하기 조성을 갖는, 본 발명에 따른 컨디셔너를 제조한다 :
- 미리스틸, 세틸 및 스테아릴 미리스테이트, 팔미테이트 및 스테아레이트의 혼합물 : 1 g
- 세틸 알콜 : 5 g
- 히드록시에틸셀룰로스 (MW 1,300,000) : 0.25 g
- 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드 (Clariant 사의 Genamin KDMP) : 1 g AM
- α,ω-비닐기를 함유하는 폴리디메틸실록산/α,ω-히드로게노기를 함유하는 폴리디메틸실록산의 공중합체 67 % AM 을 함유하는 양이온성 에멀젼 (다우 코닝 사의 DC-1997) : 0.8 g AM
- 폴리디메틸실록산 (로디아 쉬미 사의 Mirasil DM300) : 5 g
- 폴리디메틸실록산 (다우 코닝 사의 DC200 Fluid-60,000CS) : 1 g
- 향료, 보존제 : 적량
- 물 : 100 g이 되게 하는 양
이 조성물을 세척되고 건조된 모발에 적용한다. 그것을 모발 상에 2분간 방치한 후, 물로 헹구어 낸다.
이 컨디셔너로 처리된 모발은 부드럽고, 매끈하고, 쉽게 엉킴이 풀어진다.
〈실시예 2〉
하기 조성을 갖는, 본 발명에 따른 컨디셔너를 제조한다 :
- 글리세릴 모노-, 디- 및 트리스테아레이트의 혼합물 : 1 g
- 글리세롤 : 0.5 g
- 20% 활성 물질 (AM)을 포함하는 수성 용액으로서의 폴리쿼터늄-11 (ISP사로부터의 Gafquat 755): 0.5 g AM
- 22% AM을 포함하는 수성-알콜성 용액으로서의 폴리쿼터늄-30 (Chimex사로부터의 Mexomere PX): 0.55 g AM
- 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드 (Clariant사로부터의 Genamin KDMP): 1.45 g AM
- α,ω-비닐기를 포함하는 폴리디메틸실록산/α,ω-히드로게노기를 포함하는 폴리디메틸실록산의 공중합체 67 % AM 을 포함하는 양이온성 에멀젼 (다우 코닝 사의 DC-1997) : 0.8 g AM
- 세틸 알콜과 스테아릴 알콜의 혼합물 (중량으로 50/50): 4 g
- 향료, 보존제 : 적량
- 물 : 100 g이 되게 하는 양
〈실시예 3〉
하기 조성을 갖는, 본 발명에 따른 컨디셔너를 제조한다 :
- 글리세릴 모노-, 디- 및 트리스테아레이트의 혼합물 : 1 g
- 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드 (Clariant사로부터의 Genamin KDMP): 1.2 g AM
- α,ω-비닐기를 포함하는 폴리디메틸실록산/α,ω-히드로게노기를 포함하는 폴리디메틸실록산의 공중합체 67 % AM 을 포함하는 양이온성 에멀젼 (다우 코닝 사의 DC-1997) : 1.4 g AM
- 세틸 알콜과 스테아릴 알콜의 혼합물 (중량으로 50/50): 3 g
- 91% AM을 포함하는 라우릴디메티콘 코폴리올 (Dow Corning사로부터의 Q2-5200): 0.23 g AM
- 향료, 보존제 : 적량
- 물 : 100 g이 되게 하는 양
〈실시예 4〉
하기 조성을 갖는, 본 발명에 따른 컨디셔너를 제조한다 :
- 미리스틸, 세틸 및 스테아릴 미리스테이트, 팔미테이트 및 스테아레이트의 혼합물: 0.5 g
- 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드 (Clariant사로부터의 Genamin KDMP): 1.2 g AM
- N-올레오일 디히드로스핑고신: 0.01 g
- α,ω-비닐기를 포함하는 폴리디메틸실록산/α,ω-히드로게노기를 포함하는 폴리디메틸실록산의 공중합체 67 % AM 을 포함하는 양이온성 에멀젼 (다우 코닝 사의 DC-1997) : 1.36 g AM
- 세틸 알콜과 스테아릴 알콜의 혼합물 (중량으로 50/50): 3 g
- 프로필렌 글리콜 중 75% AM을 포함하는 용액 중 메틸알킬알킬아미도에틸이미다졸리늄 메토술페이트 (Rewo사로부터의 Rewoquat W 75 PG): 0.05 g AM
- 91% AM을 포함하는 라우릴디메티콘 코폴리올 (Dow Corning사로부터의 Q2-5200): 0.23 g AM
- 향료, 보존제 : 적량
- 물 : 100 g이 되게 하는 양
본 발명의 조성물은, 특정 실리콘 공중합체의 에멀젼을, 종래 기술의 양이온성 계면활성제 기재의 조성물, 특히 모발 조성물 내로 도입한 것으로서, 본 조성물에 의하면, 일반적으로 종래 조성물의 사용과 결부된 문제 [즉, 특히 곧아짐 (lankness) (반복 적용 후 하전된 느낌), 및 모발의 매끄러움과 부드러움의 결여]를 제한하거나, 심지어 제거하는 동시에, 컨디셔너 기재 조성물과 결부된 다른 유익한 화장 특성은 유지할 수 있다. 본 조성물에 의해 케라틴 섬유의 재윤활 현상 없이 화장 특성 (매끈함, 우아함 및 부드러움)이 제공된다. 본 조성물은 특히 모발 또는 피부와 같은 케라틴 물질을 세척 및/또는 컨디셔닝하는 데에 사용될 수 있다.

Claims (28)

  1. 화장적으로 허용가능한 매질 중에 하나 이상의 양이온성 계면활성제; 및 촉매의 존재 하에 하기 (a) 및 (b)의 부가 반응에 의해 생성되며, 점도가 106내지 100 x 106cP인 하나 이상의 실리콘 공중합체를 포함하는 하나 이상의 에멀젼을 포함하는 것을 특징으로 하는 화장 조성물:
    (a) 하나 이상의 하기 화학식 1의 폴리실록산:
    [화학식 1]
    [상기 식 중,
    R1은 사슬 부가 반응에 의해 반응할 수 있는 기를 나타내고;
    R2기는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 5 또는 6의 시클로알킬기, 아릴기, 탄소수 7 내지 20의 알킬아릴기 또는 히드록실기를 나타내며, 에테르, 아민, 카르복실, 히드록실, 티올, 에스테르, 술포네이트 또는 술페이트와 같은 관능기도 포함할 수 있고;
    n은 화학식 1의 폴리실록산이 1 내지 1 x 106mm2/s의 동력학적 점도를 갖도록 하는 정수이다]; 및
    (b) 폴리실록산 (a)의 R1기와 반응할 수 있는 하나 이상 2개 이하의 기를 포함하는 하나 이상의 실리콘 화합물 (이 때, (a) 또는 (b) 형의 화합물 중 하나 이상은 에틸렌계 불포화기를 포함하는 지방족 기를 나타냄).
  2. 제1항에 있어서, R2가 메틸을 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, (b)형의 화합물이 폴리실록산 (b)의 R1기가 폴리실록산 (a)의 R1기와 반응할 수 있는 (a) 형의 다른 폴리실록산인 것을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 실리콘 공중합체가, 하이드로실릴화 촉매의 존재 하에,
    (a) 하나 이상의 α,ω-디비닐폴리디메틸실록산, 및
    (b) 하나 이상의 α,ω-디히드로게노폴리디메틸실록산
    의 부가 반응에 의해 얻어지는 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 실리콘 공중합체의 에멀젼이 10 nm 내지 50 μm 범위의 실리콘 소적 또는 입자 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 실리콘 공중합체의 수성 에멀젼이 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 15 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 실리콘 공중합체가 조성물의 총 중량을 기준으로 0.05 내지 10 중량%의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    A) 하기 화학식 4의 4차 암모늄염:
    [화학식 4]
    [상기 식 중,
    X는 할라이드 (클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드) 또는 (C2-C6) 알킬 술페이트, 포스페이트 및 알킬 또는 알킬아릴 술포네이트, 및 아세테이트 또는 락테이트와 같은 유기산으로부터 유래된 음이온의 군으로부터 선택되는 음이온이고;
    i) 라디칼 R1내지 R3은 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 지방족 라디칼, 또는 아릴 또는 알킬아릴과 같은 방향족 라디칼을 나타내고;
    R4는 탄소수 16 내지 30의 직쇄 또는 분지 알킬 라디칼을 나타내거나;
    ii) 라디칼 R1및 R2는, 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 지방족 라디칼, 또는 아릴 또는 알킬아릴과 같은 방향족 라디칼을 나타내고;
    R3및 R4는 동일하거나 상이할 수 있으며, 탄소수 12 내지 30의 직쇄 또는 분지 알킬 라디칼을 나타내는데, 상기 라디칼은 하나 이상의 에스테르 또는 아미드 관능기를 포함한다.]
    B) 하기 화학식 5의 염과 같은 이미다졸리늄의 4차 암모늄염:
    [화학식 5]
    [상기 식 중, R5는 탄소수 8 내지 30의 알케닐 또는 알킬 라디칼을 나타내고; R6은 수소 원자, C1-C4알킬 라디칼 또는 탄소수 8 내지 30의 알케닐 또는 알킬 라디칼을 나타내고; R7은 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고; R8은 수소 원자 또는 C1-C4알킬 라디칼을 나타내고; X는 할라이드, 포스페이트, 아세테이트, 락테이트, 알킬 술페이트 및 알킬 또는 알킬아릴 술포네이트의 군으로부터 선택되는 음이온이다.];
    C) 하기 화학식 6의 2사차 암모늄염:
    [화학식 6]
    [상기 식 중, R9는 탄소수 약 16 내지 30의 지방족 라디칼을 나타내고; R10, R11, R12, R13및 R14는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬 라디칼로부터 선택되고; X는 할라이드, 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트 및 메틸 술페이트의 군으로부터 선택되는 음이온이다.]
    D) 하기 화학식 7의 하나 이상의 에스테르 관능기를 포함하는 4차 암모늄염:
    [화학식 7]
    [상기 식 중,
    - R15은 C1-6알킬 라디칼 및 C1-6히드록시알킬 또는 디히드록시알킬 라디칼로부터 선택되고;
    - R16은 하기의 것들로부터 선택되며 :
    - 라디칼
    - 직쇄 또는 분지쇄의, 포화 또는 불포화의 C1-22탄화수소-기재의 라디칼 R20,
    - 수소 원자;
    - R18은 하기의 것들로부터 선택되고 :
    - 라디칼
    - 직쇄 또는 분지쇄, 포화 또는 불포화의 C1-6탄화수소-기재의 라디칼 R22,
    - 수소 원자;
    - R17, R19및 R21은 동일하거나 상이할 수 있고, 직쇄 또는 분지쇄, 포화 또는 불포화의 C7-21탄화수소-기재의 라디칼로부터 선택되고;
    - n, p 및 r 은 동일하거나 상이할 수 있고, 2 내지 6 의 정수이며;
    - y 는 1 내지 10 의 정수이고;
    - x 및 z 는 동일하거나 상이할 수 있고, 0 내지 10 의 정수이며;
    - X-는 단순 또는 착화 유기 또는 무기 음이온이며;
    단, x + y + z 는 1 내지 15 이고, x 가 0 일 경우에는, R16은 R20을 나타내고, z 가 0 일 경우에는, R18이 R22을 나타낸다.].
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 화학식 4의 양이온성 계면활성제가 탄소수 8 내지 30의 2개 이상의 지방 사슬을 포함하는 화합물, 탄소수 16 이상의 하나 이상의 지방 사슬을 포함하는 화합물 또는 하나 이상의 방향족 라디칼을 포함하는 화합물로 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 베헤닐트리메틸암모늄염, 스테아르아미도프로필디메틸(미리스틸 아세테이트)암모늄염, 쿼터늄 (Quaternium)-27 또는 쿼터늄-83으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제1항 또는 제2항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 20 중량%의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 음이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 양이온성 계면활성제, 또는 그의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 계면활성제를 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제12항에 있어서, 계면활성제(들)이 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 60 중량%의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 제1항 또는 제2항에 있어서, 샴푸, 헹굼 (rinse-out) 또는 잔존 (leave-in) 컨디셔너, 모발의 웨이브 퍼머, 스트레이트, 염색 또는 탈색을 위한 조성물, 퍼머넌트-웨이빙 또는 모발-스트레이트 작업의 2 단계 사이에 적용할 헹굼 조성물, 또는 신체 세정 조성물의 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
  15. 제1항 또는 제2항에 있어서, 케라틴 물질의 세척 또는 케어링(caring)에 사용되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  16. 제1항 또는 제2항에 따른 화장 조성물을 상기 케라틴 물질에 적용하고, 이어서 임의로 이것을 물로 헹구는 것으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 모발과 같은 케라틴 물질의 처리 방법.
  17. 제1항에 있어서, R1이 수소 원자, 또는 에틸렌계 불포화기를 포함하는 지방족 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제17항에 있어서, R1이 수소 원자, 또는 비닐, 알릴 또는 헥세닐을 포함하는 지방족 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제5항에 있어서, 상기 실리콘 공중합체의 에멀젼이 0.3 μm 내지 20 μm 범위의 실리콘 소적 또는 입자 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제8항에 있어서, X는 할라이드 (클로라이드, 브로마이드 또는 요오다이드) 또는 메틸 술페이트, 포스페이트 및 알킬 또는 알킬아릴 술포네이트, 및 아세테이트 또는 락테이트와 같은 유기산으로부터 유래된 음이온의 군으로부터 선택되는 음이온인 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제8항에 있어서, 지방족 라디칼이 산소, 질소, 황 또는 할로겐과 같은 헤테로원자를 포함할 수 있음을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제8항에 있어서, 지방족 라디칼이 탄소수 1 내지 4의 알킬, 알콕시, 알킬아미드 또는 히드록시알킬라디칼로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제8항에 있어서, R3및 R4가 (C12-C22)알킬아미도(C2-C6) 알킬 또는 (C12-C22)알킬아세테이트 라디칼로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제8항에 있어서, R5가 탈로우 지방산 유도체인 것을 특징으로 하는 조성물.
  25. 제8항에 있어서, 2사차 암모늄염이 프로판 탈로우 디암모늄 디클로라이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  26. 제11항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 조성물의 총 중량을 기준으로 1 내지 10 중량%의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  27. 제13항에 있어서, 계면활성제(들)이 조성물의 총 중량을 기준으로 3 내지 40 중량%의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  28. 제27항에 있어서, 계면활성제(들)이 조성물의 총 중량을 기준으로 5 내지 30 중량%의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
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