KR20010036807A - 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치에 관한 것으로서, 레티클 반입구 및 배기관을 갖춘 함체와, 상기 함체의 레티클 반입구를 통하여 안착대 위에 레티클을 안착시켜 반입 및 반출시킬 수 있는 레티클 이송 수단과, 상기 함체의 레티클 반입구 쪽 내측면에 고압 공기를 레티클을 향하여 분사시킬 수 있도록 장착된 공기 토출기를 포함하는 것을 특징으로 한다.

따라서, 본 발명에 의하면 종래와 같이 수동으로 레티클 상의 먼지를 제거하지 않고 자동으로 제거할 수 있으므로 공정에 소요되는 시간을 상당히 단축시킬 수 있을 뿐만 아니라 레티클의 손상을 방지할 수 있음은 물론, 작업 생산성도 더욱 향상시킬 수 있다.

Description

반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치{Device for removing particles of reticle for semiconductor lithography process}

본 발명은 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 레티클에 부착된 먼지의 검출치가 일정 한계치를 초과하게 되면 자동으로 이송되어 먼지를 제거할 수 있도록 하는 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 노광 공정에서 사용되는 스테퍼(Stepper)는 반송되는 웨이퍼(Wafer) 상부에 레티클(Reticle)의 마스크 패턴(Mask Pattern)을 정렬 위치시켜 조명광 및 포커스 렌즈(Focus Lens)를 이용하여 조사시킴으로써 웨이퍼 상에 회로 패턴을 형성시키기 위한 노광 장치이다. 이러한 노광 공정용 장치에 관한 일 실시예를 도 1 에서 나타내고 있다.

도 1 에서 보면, 본체(1)의 내측 중앙에 웨이퍼를 안착시킬 수 있는 웨이퍼 안착부(2)가 내장 설치되고, 상기 웨이퍼 안착부(2)의 일측에는 웨이퍼 이송부(3)가 설치된다. 상기 본체(1)의 상면에는 레티클 안착부(4)가 설치되고, 이 레티클 안착부(4)의 일측에는 레티클 이송부(5)가 배치된다. 상기 레티클 안착부(4)의 하부에는 정렬 보조 수단인 레이저 간섭계(6) 및 LSA(Laser Step Alignment)(7)가 장착된다. 반면에, 상기 레티클 안착부(4)의 상부에는 조명부(8)가 설치된다.

이러한 노광 장치의 (조명)광학계는, 도 2 에서 나타낸 바와 같이, 예를 들어 초고압 수은등과 같은 광원(8a)으로부터 발하는 조명광이 타원경(8b)에 의하여 집광된 후, 간섭 필터(8d)를 통하여 i 선만 선택되고, 노광 범위를 균일하게 조명하기 위하여 플라이 아이 렌즈(Fly Eye Lens)(8c)를 통과케 된다. 이를 통과한 광은 집광 렌즈(8e)를 경유하여 레티클(4a) 면에 균일하게 조사되고, 상기 레티클(4a)의 패턴 형상이 웨이퍼(2a)의 표면에 축소 투영 렌즈(7a)에 의하여 투영된다.

이와 같이 구비된 노광 장치에서 웨이퍼 이송부(3) 및 레티클 이송부(5)에 의하여 웨이퍼(2a) 및 레티클(4a)이 각 안착부(2)(4) 위에 로딩되어 고정된 후, 웨이퍼(2a) 상에 일정한 패턴 형상을 지속적으로 형성시키기 위하여 각 위치를 정확하게 정렬시킨다. 이 후 레티클(4a)의 교체와 함께 웨이퍼(2a) 상에 여러 번의 노광 공정이 진행케 되면, 웨이퍼(2a)의 막질 위에 일정 형상의 패턴닝(Patterning)이 이루어지게 된다.

그러나, 레티클(4a)을 사용하기 전에 이 레티클(4a) 상에 묻어 있던 파티클(Particle), 즉 먼지의 크기 및 개수를 검사하게 되는데, 만일 그 크기 및 개수가 적정 범위를 벗어나게 되면 해당 레티클(4a)은 사용되지 않고 설비의 에러를 발생케 한다. 이 때, 작업자는 이 레티클(4a)에 묻어 있던 먼지 등을 제거하기 위하여 수 작업으로, 예를 들어 에어 건(Air Gun) 등과 같은 도구를 사용하게 된다.

이렇게 되면, 레티클(4a) 상의 먼지를 제거하는데 소요되는 시간이 너무 많이 들게 될 뿐만 아니라, 더욱이 먼지가 과다하여 발생한 설비 에러를 작업자가 인지하지 못하게 되면 인지할 때까지 설비가 계속적으로 멈춰있어야 하는 등 공정 진행에 막대한 지장을 초래하는 문제점이 있었다.

또한, 레티클(4a)의 담당 작업자가 직접 육안으로 확인하면서 먼지를 제거하는 작업을 할 때 해당 레티클(4a)을 손에 들고 있는 상태이기 때문에 주의를 기울이지 않으면 레티클(4a)을 손상시킬 우려가 많다.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해소하기 위하여 창작된 것으로서, 본 발명의 목적은 레티클에 부착된 먼지를 자동으로 제거할 수 있게 함으로써 공정 소요 시간을 단축시킬 뿐만 아니라 레티클의 손상도 미연에 방지할 수 있는 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치를 제공하는 데 있다.

도 1 은 일반적인 반도체 노광 공정용 장치를 나타낸 일부 분해 사시도.

도 2 는 도 1 의 광학계를 개략적으로 나타낸 구성도.

도 3 은 본 발명에 따른 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치를 개략적으로 나타낸 단면도.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

10 : 함체, 12 : 레티클 반입구,

14 : 배기관, 20 : 레티클 이송 수단,

30 : 레티클, 42, 44 : 공기 토출기,

50 : 송풍팬.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치는, 레티클 반입구 및 배기관을 갖춘 함체와, 상기 함체의 레티클 반입구를 통하여 안착대 위에 레티클을 안착시켜 반입 및 반출시킬 수 있는 레티클 이송 수단과, 상기 함체의 레티클 반입구 쪽 내측면에 고압 공기를 레티클을 향하여 분사시킬 수 있도록 장착된 공기 토출기를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 공기 토출기는 레티클의 전체면을 고르게 세정할 수 있도록 적어도 하나 이상이 상, 하로 구비되는 것이 바람직하다.

상기 함체의 배기관에는 상기 공기 토출기에 의하여 떨어져 나온 먼지를 강제로 배출시킬 수 있는 송풍 팬이 더 연결되는 것이 바람직하다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 더욱 상세히 설명한다.

도 3 은 본 발명에 따른 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치를 개략적으로 나타낸 단면도이다.

상기 도면에서, 부호 10 은 본 발명의 먼지 제거 장치의 본체인 함체를 나타낸 것으로서, 그 한 쪽에는 레티클 반입구(12)가 형성되는 반면에 다른 쪽에는 배기관(14)이 연결된다.

부호 20 은 레티클 반송 수단으로서, 이는 상기 함체(10)의 레티클 반입구(12)를 통하여 레티클(30)을 반입 및 반출시킬 수 있는 것이다. 상기 레티클 반송 수단(20)은 이송 암(22)과, 상기 이송 암(22)의 선단에 레티클(30)을 올려놓을 수 있도록 결합되는 안착대(24)로 이루어진다.

특히, 상기 함체(10)의 레티클 반입구(12) 쪽 내측면에는 고압의 공기를 레티클(30)을 향하여 토출시킬 수 있는 공기 토출기(42)(44)가 장착된다. 여기서, 상기 공기 토출기(42)(44)는 레티클(30)의 전체면, 예를 들어 글래스(Glass)면과 팰리클(Pellicle) 면을 고르게 세정할 수 있도록 적어도 하나 이상이 상, 하로 구비되면 매우 바람직하다.

더욱이, 상기 함체(10)의 배기관(14)에 송풍 팬(50)이 더 연결되면, 공기 토출기(42)(44)의 분사력에 의하여 떨어져 나온 파티클 등의 먼지를 강제로 용이하게 배출시킬 수 있어서 매우 바람직하다.

이와 같이 구비된 본 발명에 따른 레티클의 먼지 제거 장치는 노광 설비 내부에 설치되어 있는데, 종래에는 레티클(30)의 오염 상태를 검출한 후 그 결과 값이 제어 래크(도시 생략)에 저장된 한계 값을 벗어나게 되면 자동으로 언로드(Unload)되도록 프로그래밍(Programing) 되어 있다. 그러나 본 실시예에서는 레티클(30)의 오염 상태를 검출한 후 기준치를 초과하는 결과 값이 나오게 되면 자동으로 본 발명의 먼지 제거 장치 쪽으로 레티클 이송 수단(20)을 이용하여 레티클(30)을 이송케 된다. 이어서, 상기 레티클(30)이 함체(10)의 레티클 반입구(12)를 통하여 내부로 반입되면 공기 토출기(42)(44)가 작동된다.

이 때, 레티클 이송 수단(20)은 다시 후진하며 레티클(30)을 반출시킴과 동시에 레티클(30)의 상, 하면 쪽에 고압 공기가 고르게 분사된다. 따라서, 공기 토출기(42)(44)의 고압 분사력에 의하여 레티클(30) 면에 부착되어 있던 먼지를 떨어내게 된다. 이렇게 탈락된 먼지는 송풍팬(50)에 의하여 배기관(14)을 통하여 외부로 배출된다.

이와 같이 세정된 레티클(30)은 다시 검사 위치로 이송된 후 먼지 검출 검사를 행하게 되고, 이 때 한계치 이하의 값이 측정되면 공정 과정을 계속적으로 수행할 수 있도록 투입된다.

상술한 본 발명에 의하면, 종래와 같이 수동으로 레티클 상의 먼지를 제거하지 않고 자동으로 제거할 수 있으므로 공정에 소요되는 시간을 상당히 단축시킬 수 있을 뿐만 아니라 레티클의 손상을 방지할 수 있음은 물론, 작업 생산성도 더욱 향상시킬 수 있다.

Claims (3)

1. 레티클 반입구 및 배기관을 갖춘 함체와,

   상기 함체의 레티클 반입구를 통하여 안착대 위에 레티클을 안착시켜 반입 및 반출시킬 수 있는 레티클 이송 수단과,

   상기 함체의 레티클 반입구 쪽 내측면에 고압 공기를 레티클을 향하여 분사시킬 수 있도록 장착된 공기 토출기를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 공기 토출기는 레티클의 전체면을 고르게 세정할 수 있도록 적어도 하나 이상이 상, 하로 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 함체의 배기관에는 상기 공기 토출기에 의하여 떨어져 나온 먼지를 강제로 배출시킬 수 있는 송풍팬이 더 연결되는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정용 레티클의 먼지 제거 장치.