KR20000061692A - 레티클 취급 설비 - Google Patents

레티클 취급 설비 Download PDF

Info

Publication number
KR20000061692A
KR20000061692A KR1019990010930A KR19990010930A KR20000061692A KR 20000061692 A KR20000061692 A KR 20000061692A KR 1019990010930 A KR1019990010930 A KR 1019990010930A KR 19990010930 A KR19990010930 A KR 19990010930A KR 20000061692 A KR20000061692 A KR 20000061692A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
reticle
switch
withdrawal
slot
loading
Prior art date
Application number
KR1019990010930A
Other languages
English (en)
Inventor
안인철
Original Assignee
윤종용
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자 주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019990010930A priority Critical patent/KR20000061692A/ko
Publication of KR20000061692A publication Critical patent/KR20000061692A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

레티클 취급 설비에 관해 개시되어 있다. 레티클(reticle) 슬롯; 상기 레티클 슬롯에 레티클을 적재하거나 상기 레티클 슬롯으로부터 레티클을 인출할 수 있되, 몸체와 레티클 받침대로 구성되며 상기 몸체의 앞단에 터치부를, 후미에 포토 센싱 부를 구비하고 있는 레티클 인출 및 적재 수단; 및 상기 레티클 인출 및 적재 수단의 진행 경로 상에 상기 레티클 슬롯을 향해 순차적으로 구비되어 있는 상기 레티클 인출 및 적재 수단을 감지하기 위한 제1 내지 제3 감지 수단을 구비하는 레티클 취급 설비가 개시되어 있다. 상기 제3 감시 수단은 상기 제2 감지 수단 바로 다음에 설치되어 있는 리미트 스위치이며 이로 인해, 상기 레티클 인출 및 적재 수단이 상기 레티클 슬롯안으로 깊숙히 진입하는 것이 제한된다. 따라서, 레티클을 정상적으로 인출할 수 있으므로 상기 레티클의 위치를 확인하고 맞추는 과정에서 상기 레티클과 씨.엑스 캐리어(CX Carrier)가 부딪쳐서 상기 레티클이 깨어지는 것과 파티클이 발생되는 것을 방지할 수 있다.

Description

레티클 취급 설비{Apparatus for dealling with reticle}
본 발명은 반도체 제조 설비에 관한 것으로서, 자세하게는 레티클 취급 설비에 관한 것이다.
반도체 장치를 형성하는 과정은 중간에 이온주입이나 세정공정이 개입되기는 하지만 일반적으로 물질막의 적층과 적층된 물질막을 패터닝하는 과정이다. 이와 같은 과정의 기본이 되는 공정이 사진공정이다. 사진공정은 적층된 물질막 상에 감광막을 도포하는 공정과 상기 감광막을 노광하는 공정 및 노광된 감광막을 현상하는 공정으로 이루어진다. 이중, 상기 노광된 감광막을 현상하는 공정에 의해, 상기 적층된 물질막 상에 감광막 패턴이 형성된다. 상기 감광막 패턴은 상기 적층된 물질막을 패터닝하여 형성하고자하는 패턴과 동일한 패턴이다. 이후, 상기 감광막 패턴은 식각마스크로 사용되므로, 상기 사진공정은 상기 적층된 물질막으로부터 형성할 패턴의 모양을 결정하는 공정이 된다.
물질막 상에 도포된 감광막을 패터닝하기 위해서는 그에 앞서 정해진 모 패턴이 있어야 한다. 상기 모 패턴에 해당되는 것이 노광장치의 한 구성요소가 되는 레티클(reticle)(또는 마스크)이다. 레티클에는 형성하고자하는 물질막 패턴과 동일한 패턴이 그려져 있다. 따라서, 상기 레티클을 통해 상기 감광막을 노광하여 감광막 패턴을 형성하고, 상기 감광막 패턴을 식각마스크로 사용하여 상기 물질막을 식각함으로써 원하는 물질막 패턴을 형성할 수 있다.
사진공정이 달라질 때 마다 형성되는 감광막 패턴이 달라지므로, 사진공정마다 사용되는 레이클은 달라진다. 이것은 반도체 장치를 완성할 때 까지 여러장의 레티클이 필요하다는 것을 의미한다.
도 1을 참조하면, 공정에 필요한 레티클들은 미리 만들어져서 노광장치, 예컨대 스텝퍼 또는 스캐너의 레티클 슬롯(10)에 적재시켜 둔다. 이후, 반도체 장치의 제조공정에 필요한 레티클이 있으면 상기 레티클 슬롯(10)으로부터 레티클을 인줄하여 노광장치에 정렬시킨다.
공정에 사용될 레티클은 포크(fork, 12)를 사용하여 인출되거나 적재된다. 상기 포크(12)는 몸체(12a)와 상기 몸체(12a)에 연결되어 있으면서 위로 뻗쳐 있는 레티클 받침대(12b)로 구성되어 있다. 상기 포크(12)의 몸체(12a) 앞단 정면에 마이크로 스위치(20)와 접촉되는 부분(14)이 있고, 후미에 포토 센싱부(16)가 구비되어 있다. 상기 포토 센싱 부(16)는 포토 센서(18)에 의해 감지된다. 상기 포크(12)가 상기 레티클 슬롯(10)에 접근하여 상기 레티클 받침대(12b)가 상기 레티클 슬롯(10)에 적재되어 있는 인출하고자 하는 레티클에 도달되면 상기 포크(12)의 진행은 상기 포크(12)의 진행 경로 상에 있는 상기 포토 센서(18)와 마이크로 스위치(20)에 의해 정지된다. 곧, 상기 마이크로 스위치(20)가 상기 포크(12)의 앞단에 구비된 마이크로 스위치 접촉 부분(14)과 접촉되면서 동시에 상기 포토 센서(18)는 상기 포크(12) 후미에 구비된 상기 포토 센싱 부(16)를 감지하게 된다. 이 결과, 상기 포터(12)를 구동시키는 구동 모터(미도시)에 공급되는 전원이 차단되어 상기 포터(12)의 진행이 멈추게 된다.
그런데, 상술한 종래의 레티클 인출 시스템에서는 상기 마이크로 스위치(20)가 상기 포크(12)의 마이크로 접촉 부분(14)과 접촉되더라도 상기 포토센서(18)가 상기 포토 센싱 부(16)를 감지하지 못하는 경우, 상기 포크(12)의 진행은 계속되어 상기 포크(12)가 상기 레티클 슬롯(10) 깊숙이 들어가는 문제가 발생된다. 이 경우, 상기 포크(12)에 의해 들려진 레티클은 너무 많이 틀어지게 된다. 따라서 상기 포크(12)와 씨.엑스 캐리어(CX Carrier)가 만나서 상기 인출된 레티클의 위치를 확인하고 맞추는 과정에서 상기 레티클과 상기 씨.엑스 캐리어가 부딪치게 된다. 그 결과, 상기 인출된 레티클이 깨어지거나 스크래치되며 많은 파티클이 발생될 수 있다. 이때, 레티클 로더(loader)를 리셋(reset)하는 과정에서 상기 레티클이 떨어져서 완전히 파손될 수도 있다.
따라서, 본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술이 갖는 문제점을 해소하기 위한 것으로써, 레티클 인출 및 적재를 위한 어떤 수단으로 레티클 인출 또는 적재하기 위해 레티클 슬롯에 접근하는 과정에서 상기 수단이 정해진 위치에서 정확하게 그 진행을 멈추게 할 수 있는 레티클 인출 적재 시스템을 제공함에 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 레티클 취급 설비의 부분 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 레티클 취급 설비의 부분 사시도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호설명*
40:레티클 인출 및 적재 수단.
42:몸체. 44:레티클 받침대.
46:레티클 슬롯.
48. 50:제1 및 제2 스위치.
52:포토 센서(photo sensor).
54:레티클 입구. 42a:터치부.
42b:포토 센싱 부.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 레티클 슬롯; 상기 레티클 슬롯에 레티클을 적재하거나 상기 레티클 슬롯으로부터 레티클을 인출하기 위한 레티클 인출 및 적재 수단; 및 상기 레티클 인출 및 적재 수단의 진행 경로 상에 상기 레티클 슬롯을 향해 순차적으로 구비되어 있는 상기 레티클 인출 및 적재 수단을 감지하기 위한 제1 내지 제3 감지 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 취급 설비를 제공한다.
여기서, 상기 레티클 인출 및 적재 수단은 몸체와 상기 몸체로부터 위로 뻗어 있는 레티클 받침대로 구성되어 있는 포크(fork)이다.
본 발명의 실시예에 의하면, 상기 포크의 몸체의 앞단에 터치부가, 후미에 포토 센싱 부가 각각 구비되어 있다.
상기 제1 감지 수단은 비 접촉방식의 감지 수단이고, 상기 제2및 제3 감지수단은 모두 접촉 방식의 감지 수단이다.
상기 제1 감지 수단은 상기 레티클 인출 및 적재 수단의 몸체에 구비된 상기 포토 센싱부를 감지하는 포토 센서이다.
상기 제2 감지 수단은 상기 레티클 인출 및 적재 수단의 몸체의 앞단에 구비된 상기 터치부와 접촉되는 제1 스위치이다.
상기 제1 스위치는 마이크로 스위치이다.
상기 제3 감지 수단은 상기 마이크로 스위치 바로 다음에 설치되어 있는 리미트 스위치(limit s/w)이다.
상기 리미트 스위치는 상기 레티클 인출 및 적재 수단을 구동시키는 구동용 모터에 공급되는 전원과 직렬로 연결되어 있는 B 접점 방식의 스위치이다.
이와 같이, 본 발명에 의한 레티클 취급 설비는 레티클 인출 및 적재 수단이 레티클 슬롯에 접근하는 경로 상에 포토센서와 마이크로 스위치외에 리미트 스위치가 상기 마이크로 스위치 바로 다음에 구비되어 있다. 따라서, 상기 레티클 인출 및 적재 수단이 레티클 인출 또는 적재를 위해 상기 레티클 슬롯에 접근하는 과정에서 상기 레티클 인출 및 적재 수단이 상기 포토센서 및 상기 마이크로 스위치를 모두 거쳐서 정해진 거리보다 가까이 접근하는 경우, 상기 리미트 스위치와 접촉되게 하여 더 이상 상기 레티클 인출 및 적재 수단이 상기 레티클 슬롯안으로 진입되는 것을 방지한다. 이로써, 상기 레티클 인출 및 적재 수단에 의해 상기 레티클이 인출되거나 적재되는 과정에서 상기 레티클이 올바르게 다루어질 수 있으므로, 상기 레티클 슬롯의 적소에 상기 레티클이 적재될 수 있고, 상기 레티클의 위치를 확인하고 맞추는 과정에서 상기 레티클과 씨.엑스 캐리어가 부딪쳐서 상기 레티클이 깨어지는 것과 파티클이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 의한 레티클 취급 설비를 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다.
그러나 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되어져서는 안된다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 도면에서 층이나 영역들의 두께는 명세서의 명확성을 위해 과장되어진 것이다. 도면상에서 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
첨부된 도면들 중, 도 2는 본 발명의 실시예에 의한 레티클 취급 설비의 부분 사시도이다.
도 2를 참조하면, 참조번호 40은 레티클 인출 및 적재 수단을 나타낸다. 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)은 포크(fork)로써, 몸체(42)와 받침대(44)로 구성되어 있다. 상기 받침대(44)는 레티클(또는 마스크)을 받치기 위한 것이다. 상기 몸체(42)의 앞단에 터치부(42a)가 구비되어 있다. 그리고 상기 몸체(42)의 후미에 포토 센싱 부(42b)가 구비되어 있다. 상기 터치부(42a)는 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 레티클 슬롯(46)에 접근하는 경로 상에 구비되어 있는 제1 및 제2 스위치(48, 50)와 접촉되는 부분이다. 상기 제2 스위치(50)는 상기 제1 스위치(48) 바로 다음에 구비되어 있다. 따라서 상기 제2 스위치(50)가 상기 제1 스위치(48)보다 상기 레티클 슬롯(46)에 근접해 있다. 상기 제1 스위치(48)는 마이크로 스위치(micro s/w)이고, 상기 제2 스위치(50)는 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)을 구동시키는 구동 모터에 공급되는 전원과 직렬(direct)로 연결되어 있다. 상기 제2 스위치(50)는 리미트 스위치(limit s/w)로써, B접점 방식으로 설치되어 있다. 따라서, 상기 제2 스위치(50)와 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 접촉되지 않는 한, 상기 제2 스위치(50)는 항상 온(ON) 상태로 있게된다. 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 제2 스위치(50)와 접촉되는 경우, 상기 제2 스위치(50)가 오프(off)되어 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)을 구동시키는 구동 모터에 공급되는 전원이 차단됨으로써 상기 구동 모터는 멈추게 되고 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)은 정지하게 된다. 상기 제2 스위치(50)를 설치한 목적은 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 레티클 슬롯(46)에 접근하는 과정에서 상기 레티클 슬롯(46)에 지나치게 깊게 진입하는 것을 방지하기 위함이다. 따라서, 상기 제2 스위치(50)는 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 레티클 슬롯(46)에 접근할 수 있는 최단 허용거리에 설치되어 있다.
상기 제1 및 제2 스위치(48, 50)가 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 레티클 슬롯(46)에 접근하는 것을 감지하기 위한 접촉식 감지 수단이라면, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 몸체(42) 후미에 구비된 상기 포토 센싱 부(42b)는 비 접촉식 감지를 위해 구비된 것이다. 즉, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 레티클 슬롯(46)에 접근하는 경로 상에 포토 센서(photo sensor, 52)가 구비되어 있는데, 상기 포토 센서(52)는 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 접근을 감지하기 위한 제1 감지 수단이 된다. 이는 상기 포토 센서(52)가 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 레티클 슬롯(46)에 접근하는 경로 상에 첫 번째로 설치되어 있기 때문이다. 상기 포토 센서(52) 다음에 상기 레티클 슬롯(46) 방향으로 상기 제1 및 제2 스위치(48, 50)가 순차적으로 설치되어 있다. 이렇게 보면, 상기 제1 및 제2 스위치(48, 50)는 각각 제2 및 제3 감지 수단이 된다. 상기 포토 센싱 부(42b)는 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 포토 센서(52)가 설치되어 있는 위치를 통과하면서 상기 포토 센서(52)에 의해 감지된다. 이 결과, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 접근이 상기 포토 센서(52)에 의해서도 감지된다. 이와 같이, 상기 포토 센서(52)는 상기 제1 및 제2 스위치(48, 50)와는 달리 비 접촉 방식으로 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 접근하는 것을 감지한다.
다음에는 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 레이클 슬롯(46)으로부터 레티클을 인출하는 과정을 설명한다. 이 과정은 두 경우로 나누어 설명할 수 있다.
첫 번째 경우는 상기 제1 스위치(48), 예컨대 마이크로 스위치와 상기 포토 센서(52)가 정상적으로 작동하는 경우이고,
두 번째 경우는 상기 제1 스위치(48)와 상기 포토 센서(52)가 정상적으로 작동하지 않는 경우이다.
상기 첫 번째 경우에서, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 접근 경로를 따라 상기 레티클 슬롯(46)에 접근하면, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 앞단은 먼저 상기 포토 센서(42b)를 통과하게 된다. 이어서, 상기 앞단의 터치부(42a)는 상기 제1 스위치(48), 곧 마이크로 스위치와 접촉된다. 동시에 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 몸체(42) 후미의 포토 센싱 부(42b)는 상기 포토 센서(52)에 의해 감지된다. 상기 제1 스위치(48)가 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)과의 접촉 사실과 상기 포토 센서(52)에 의한 상기 포토 센싱 부(42b)의 감지 사실이 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 주제어부(미도시) 전달되고 상기 주제어부는 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 구동 모터를 정지시킨다. 이 결과, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 정지된다. 이때, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 상기 레티클 받침대(44)는 인출하고자 하는 선택된 레티클 아래에 위치하게 된다. 이어서, 상기 선택된 레티클을 위로 들어올린 다음, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)을 후진시켜 상기 레티클 슬롯(46)으로부터 레티클을 인출한다.
상기 두 번째 경우, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)은 상기 포토 센서(52)에 감지되고 그 앞단이 상기 제1 스위치(48)와 접촉되지만, 정지되지 않고 그대로 진행하게 된다. 이 결과, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)은 상기 제1 스위치(48) 바로 다음에 설치되어 있는 상기 제2 스위치(50)와 그 앞단에 설치되어 있는 상기 터치부(42a)가 접촉된다. 상기한 바와 같이, 상기 제2 스위치(50)는 B 접점 방식으로 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 구동용 모터에 공급되는 전원과 직렬로 연결되어 있으므로, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)이 상기 제2 스위치(50)와 접촉됨과 동시에 상기 제2 스위치(50)는 오프(off)된다. 이 결과, 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)의 구동용 모터에 공급되는 전원이 차단되어 상기 구동용 모터는 멈추게 되므로 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)은 상기 제2 스위치(50)와 접촉됨과 동시에 정지하게 된다.
도 2에서 참조번호 54는 상기 레티클 슬롯(46)의 입구를 나타낸다.
상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발명의 범위를 한정하는 것이라기 보다, 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 예들 들어 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 제2 스위치로써 상기 리미트 스위치외에 다른 스위치를 이용하거나 상기 레티클 인출 및 적재 수단(40)을 감지하기 위한 스위치들의 위치를 서로 바꿔서 설치할 수도 있다. 이와 같이, 본 발명은 상술한 실시예외에도 다수의 변형 실시예가 더 있을 수 있음이 명백하다. 때문에 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 의한 레티클 취급 설비는 레티클 인출 및 적재 수단이 레티클 슬롯에 접근하는 경로 상에 상기 레티클 인출 및 적재 수단이 상기 레티클 슬롯에 지나치가 가까이 접근하는 것을 방지하기 위한 감지 수단으로써 포토 센서와 마이크로 스위치외에 리미트 스위치가 순차적으로 설치되어 있다. 상기 리미트 스위치는 상기 마이크로 스위치 바로 다음에 구비되어 있다. 따라서, 상기 레티클 인출 및 적재 수단이 상기 레티클 슬롯에 접근하는 과정에서 상기 레티클 인출 및 적재 수단이 상기 포토센서 및 상기 마이크로 스위치를 모두 거쳐서 정해진 거리보다 더 가까이 접근하는 경우, 상기 리미트 스위치와 접촉되게 하여 더 이상 상기 레티클 인출 및 적재 수단이 상기 레티클 슬롯안으로 진입되는 것을 방지한다. 이로써, 상기 레티클 인출 및 적재 수단에 의해 상기 레티클이 인출되거나 적재되는 과정에서 상기 레티클이 올바르게 다루어질 수 있으므로, 상기 레티클 슬롯의 적소에 상기 레티클이 적재될 수 있고, 상기 레티클의 위치를 확인하고 맞추는 과정에서 상기 레티클과 씨.엑스 캐리어가 부딪쳐서 상기 레티클이 깨어지는 것과 파티클이 발생되는 것을 방지할 수 있다.

Claims (4)

  1. 레티클(reticle) 슬롯;
    상기 레티클 슬롯에 레티클을 적재하거나 상기 레티클 슬롯으로부터 레티클을 인출할 수 있되, 몸체와 레티클 받침대로 구성되며 상기 몸체의 앞단에 터치부를, 후미에 포토 센싱 부를 구비하고 있는 레티클 인출 및 적재 수단; 및
    상기 레티클 인출 및 적재 수단의 진행 경로 상에 상기 레티클 슬롯을 향해 순차적으로 구비되어 있는 상기 레티클 인출 및 적재 수단을 감지하기 위한 제1 내지 제3 감지 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 취급 설비.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 감지 수단은 비 접촉방식의 감지 수단이고, 상기 제2및 제3 감지수단은 모두 접촉 방식의 감지 수단인 것을 특징으로 하는 레티클 취급 설비.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 제1 내지 제3 감지 수단은 각각 비 접촉방식으로 상기 포토 센싱부를 감지하는 포토 센서, 상기 터치부와 직접 접촉되는 제1 및 제2 스위치인 것을 특징으로 하는 레티클 취급 설비.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 스위치는 각각 마이크로 스위치(micro switch) 및 상기 마이크로 스위치 바로 다음에 설치되어 있으면서 상기 레티클 인출 및 적재 수단을 구동시키는 구동용 모터에 공급되는 전원과 직렬로 연결되어 있는 B 접점 방식의 리미트 스위치(limit switch)인 것을 특징으로 하는 레티클 취급 설비.
KR1019990010930A 1999-03-30 1999-03-30 레티클 취급 설비 KR20000061692A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990010930A KR20000061692A (ko) 1999-03-30 1999-03-30 레티클 취급 설비

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990010930A KR20000061692A (ko) 1999-03-30 1999-03-30 레티클 취급 설비

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20000061692A true KR20000061692A (ko) 2000-10-25

Family

ID=19578156

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019990010930A KR20000061692A (ko) 1999-03-30 1999-03-30 레티클 취급 설비

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20000061692A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4899195A (en) Method of exposing a peripheral part of wafer
KR100588129B1 (ko) 리소그래피 투영장치용 기판 핸들러
TWI761644B (zh) 用於從裝置的組件中移除污染物粒子的裝置與方法
US5993081A (en) In-line processing system
KR100923383B1 (ko) 처리장치
KR20000061692A (ko) 레티클 취급 설비
US20080079925A1 (en) Processing apparatus
GB2292636A (en) Reticle loading and unloading apparatus
US20020131850A1 (en) Reticle transfer system
WO1999003139A1 (fr) Boitier de rangement et dispositif d'alignement
KR20070011965A (ko) 포토마스크 애싱 장치 및 방법
JP3108394B2 (ja) 露光設備の基準マーク保護装置
CN221543054U (zh) 光刻机光罩上下料装置
CN112415848A (zh) 测试光掩模的设备和方法
KR20070109447A (ko) 웨이퍼 얼라인을 할 수 있는 웨이퍼 이송 장치 및 웨이퍼얼라인 방법
KR102319038B1 (ko) 집적회로 소자 제조용 이송 장치 및 이송 방법
JP4756749B2 (ja) デバイス製造装置およびデバイス製造方法
KR20060037636A (ko) 포토리소그라피 공정을 위한 웨이퍼 에지영역의 노광사이즈 검출장치 및 그 검출방법
JP3198309B2 (ja) 露光装置、露光方法およびワーク処理方法
JP2004001002A (ja) レーザーマーキング装置
KR100280108B1 (ko) 오리엔터 플랫존 유니트의 웨이퍼 파손 방지 시스템
KR100834222B1 (ko) 반도체 웨이퍼용 노광 장치의 프리 얼라인먼트 방법
TWI692004B (zh) 用於處理圓盤形基板的裝置及支撐配接器
KR20050121338A (ko) 반도체 웨이퍼의 미스 얼라인먼트 검출장치
KR20030037580A (ko) 반도체 제조 설비의 웨이퍼 플랫존 감지 장치 및 이를관리하는 방법

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination