KR20000021734A - 웨이퍼 건조장치 - Google Patents

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KR20000021734A
KR20000021734A KR1019980040983A KR19980040983A KR20000021734A KR 20000021734 A KR20000021734 A KR 20000021734A KR 1019980040983 A KR1019980040983 A KR 1019980040983A KR 19980040983 A KR19980040983 A KR 19980040983A KR 20000021734 A KR20000021734 A KR 20000021734A
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도기성
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김영환
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Abstract

본 발명은 웨이퍼 건조를 위한 처리액을 안정적으로 교환시킬 수 있는 웨이퍼 건조장치에 관한 것으로, 몸체와, 몸체 내에 형성되며 처리액이 공급되는 처리조와, 처리조 측벽 설치되어 처리액의 튐을 방지하기 위한 제 1트랩과, 처리조 하부에 설치되어 처리액의 튐을 방지하기 위한 제 2트랩과, 처리액을 가열시키기 위한 가열수단과, 처리액을 냉각시키기 위한 냉각수단으로 구성된다.
본 발명의 웨이퍼 건조장치에서는 냉각수단을 설치함으로써 IPA 증기의 온도를 급격히 냉각시킬 수 있다. 따라서, 냉각시간 단축을 통해 효과적으로 IPA을 배출시킬 수 있다. 그럼으로써, 새로운 IPA액 공급시, 불순물이 섞이지 않은 순수한 IPA액을 공급할 수 있는 잇점이 있다.

Description

웨이퍼 건조장치
본 발명은 웨이퍼를 건조시키는 장치에 관한 것으로, 특히, 웨이퍼 건조를 위한 IPA(IsoPropyl Alchole)액을 안정적으로 교환시킬 수 있는 웨이퍼 건조장치에 관한 것이다.
도 1은 종래기술에 따른 웨이퍼 건조장치의 단면도이다.
종래기술에 따른 웨이퍼 건조장치는 도 1과 같이, 몸체(100)와, 몸체(100) 내에 형성되며 IPA액이 공급되어 웨이퍼(110)가 건조되는 처리조(106)와, 처리조(106) 측벽 설치되어 IPA액의 튐을 방지하기 위한 제 1트랩(108)과, 처리조(106) 하부에 설치되어 IPA액의 튐을 방지하기 위한 제 2트랩(114)과, 몸체(100) 하부 및 가장자리에 형성된 각각의 가열수단(102)(104)으로 구성된다.
여기에서 IPA는 웨이퍼를 건조시키기 위한 처리액으로 사용된다.
세정 등의 공정으로 표면에 다량의 수분이 잔재된 웨이퍼가 상기 구성을 갖는 종래의 웨이퍼 건조장치를 이용하여 건조되는 과정 및 IPA이 교환되는 과정을 알아본다.
먼저, 처리조(106) 내에 IPA액이 공급되며, 몸체(100) 측면 및 하부에 형성된 가열수단(104)(204)에 의해 80 내지 85 ℃ 정도의 온도범위로 IPA액이 가열됨으로써 증기화된다.
이 때, 이송암(112) 등의 이송도구에 의해 웨이퍼(110)가 처리조(106) 상부에 위치되며, IPA증기는 웨이퍼(110) 표면과 치환반응하여 수분을 제거한다.
이 과정에서, 제 1트랩(108)은 웨이퍼 표면의 수분과 반응한 IPA액이 처리조(106) 내측벽으로 튀는 것을 방지하고, 제 2트랩(114)은 상기 웨이퍼 표면의 수분과 반응한 IPA액이 처리조 하부에 담긴 IPA액에 튀는 것을 방지하고자 이를 모아 외부로 배출시킨다.
상기와 같은 방법대로 웨이퍼 건조공정이 수 회 내지 수 십회 진행되면, 처리조에 담긴 IPA액은 공정 중에 발생되는 불순물이 다량 함유하게 되므로 새로운 IPA액으로 교환되어야 한다.
IPA액 교환 시, 액상의 IPA는 쉽게 배출되지만, 처리조 상부 등에 잔재된 증기 상태의 IPA는 온도를 하강시키어 액상으로 변화시킨 후에 배출시키었다.
따라서, 종래의 웨이퍼 건조장치에서는 IPA 증기의 온도를 하강시키는 데에 상당한 시간이 소요되었으므로 완전히 배출되지 못하였다.
이러한 IPA 증기는 건조 공정 진행 횟수가 증가할수록 공정 중의 불순물이 다량 함유되어 있으며, 불순물을 함유한 IPA 증기가 이 후 공급되는 새로운 IPA액과 섞이게 됨으로써 웨이퍼 건조 불량을 초래하였다.
따라서, 본 발명의 목적은 IPA액 교환 시에 온도를 급격히 하강시키어 IPA증기를 응축시킴으로써 IPA액을 효과적으로 배출시킬 수 있는 웨이퍼 건조장치를 제공하려는 것이다.
본 발명의 웨이퍼 건조장치는 몸체와, 몸체에 설치되며 내부에 처리액이 공급되는 처리조와, 처리조 측벽 설치되어 처리액의 튐을 방지하기 위한 제 1트랩과, 처리조 하부에 설치되어 처리액의 튐을 방지하기 위한 제 2트랩과, 처리액을 가열시키기 위한 가열수단과, 처리액을 냉각시키기 위한 냉각수단을 구비한 것을 특징으로 한다.
도 1은 종래기술에 따른 웨이퍼 건조장치의 단면도이고,
도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 건조장치의 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
100, 200. 몸체 102, 104, 202, 204. 가열수단
106, 206. 처리조 108, 114, 208, 214. 트랩
110, 210. 웨이퍼 112, 212. 이송암
230, 232, 234. 냉각수단
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 설명하겠다.
도 2는 본 발명에 따른 웨이퍼 건조장치의 단면도이다.
본 발명의 웨이퍼 건조장치는 몸체(200)와, 몸체(200) 내에 형성되어 IPA액이 공급되는 처리조(206)와, 처리조(206) 측벽 설치되어 IPA액의 튐을 방지하기 위한 제 1트랩(208)과, 처리조(206) 하부에 설치되어 IPA액의 튐을 방지하기 위한 제 2트랩(214)과, IPA액을 가열시키어 IPA 증기를 형성하기 위한 가열수단(202)(204)과, IPA 증기를 냉각시키기 위한 냉각수단(230)(232)(234)로 구성된다.
가열수단(202)(204)은 몸체(200) 측벽 및 하부에 형성된다.
냉각수단(230)(232)(234)은 제 1트랩(208) 상부의 외주연 및 제 1트랩(208) 하부의 내주연 및 몸체 하부에 형성된 가열수단(202)의 외주연을 감싸도록 각각 형성된다. 그리고, 냉각수단으로는 냉각수가 공급되는 냉각코일이 사용된다.
세정 등의 공정으로 표면에 다량의 수분이 잔재된 웨이퍼가 상기 구성을 갖는 본 발명의 웨이퍼 건조장치를 이용하여 건조되는 과정 및 IPA액이 교환되는 과정을 알아본다.
먼저, 처리조(206) 내에 IPA액이 공급되며, 몸체(200) 측면 및 하부에 형성된 가열수단(202)(204)에 의해 80 내지 85 ℃ 정도의 온도범위로 IPA액이 가열됨으로써 증기화된다.
이 때, 이송암(212) 등의 이송도구에 의해 웨이퍼(210)가 처리조(206) 상부에 위치되며, IPA증기는 웨이퍼(110) 표면과 치환반응하여 수분을 제거한다.
이 과정에서, 제 1트랩(208)은 웨이퍼 표면의 수분과 반응한 IPA액이 처리조(206) 내측벽으로 튀는 것을 방지하는 역할을 하고, 제 2트랩(214)은 처리조(206) 하부에 담긴 IPA액으로 튀는 것을 방지하도록 상기 웨이퍼 표면의 수분과 반응한 IPA액을 모아 외부로 배출시키는 역할을 한다.
상기와 같은 방법대로 웨이퍼 건조공정이 수 회 내지 수 십회 진행되면, 처리조(206)에 담긴 IPA액에는 공정진행 중 발생되는 불순물이 다량 함유하게 되므로 새로운 IPA액으로 교환되어야 한다.
IPA액 교환 시, 액상의 IPA액은 쉽게 배출되지만, 본 발명에서는 처리조(206) 상부 등에 잔재된 증기 상태의 IPA는 냉각수단(230)(232)(234)을 이용하여 온도를 급격히 하강시킴으로써 응축시키어 배출시킨다.
냉각수단(230)(232)(234)은 처리조(208)와 제 1트랩(208) 사이의 상부공간과, 제 1트랩(208) 내부와, 몸체 하부에 형성된 가열수단(202)에 각각 형성된다.
따라서, 상기 냉각수단에 의해 건조장치의 몸체(200)는 전체적으로 온도가 급격하게 하강하게 되고, 특히, 처리조 상부에 IPA증기가 냉각수단(230)(232)에 의해 응축되어 액상으로 된다.
본 발명의 웨이퍼 건조장치에서는 냉각수단을 설치함으로써 IPA 증기의 온도를 급격히 냉각시킬 수 있기 때문에 냉각시간 단축을 통해 효과적으로 IPA을 배출시킬 수 있다.
따라서, 새로운 IPA액 공급시, 불순물이 섞이지 않은 순수한 IPA액을 공급할 수 있는 잇점이 있다.

Claims (3)

  1. 몸체와,
    몸체 내에 형성되며 처리액이 공급되는 처리조와,
    상기 처리조 측벽 설치되어 처리액의 튐을 방지하기 위한 제 1트랩과,
    상기 처리조 하부에 설치되어 처리액의 튐을 방지하기 위한 제 2트랩과,
    상기 처리액을 가열시키기 위한 가열수단과,
    상기 처리액을 냉각시키기 위한 냉각수단을 구비한 웨이퍼 건조장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 냉각수단은 상기 처리조와 상기 제 1트랩 사이의 상부공간과, 상기 제 1트랩 내부와, 상기 가열 수단에 각각 형성된 것이 특징인 웨이퍼 건조장치.
  3. 청구항 1, 2에 있어서,
    상기 냉각수단은 냉각코일인 것이 특징인 웨이퍼 건조장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030000076A (ko) * 2001-06-22 2003-01-06 삼성전자 주식회사 웨이퍼 아이피에이 증기 건조장치

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