KR20000011906A - 파편-생성 성능 하락을 저감한 리소그래픽 촬상 방법 및 관련구조물 - Google Patents

파편-생성 성능 하락을 저감한 리소그래픽 촬상 방법 및 관련구조물 Download PDF

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Abstract

애블레이션형 리소그래픽 인쇄 플레이트(ablation-type lithographic printing plates)를 클리닝하는 능력은 소망 클리닝 유체(cleaning fluid)와 화학적으로 양립할 수 있는 파편(debris)의 형성에 의해 향상된다. 파편은 인쇄 부재의 애블레이션층 또는 상기 애블레이션층상에 배치된 독립된 절연층에서 생길 수 있다.

Description

파편-생성 성능 하락을 저감한 리소그래픽 촬상 방법 및 관련 구조물{METHOD OF LITHOGRAPHIC IMAGING WITH REDUCED DEBRIS-GENERATED PERFORMANCE DEGRADATION AND RELATED CONSTRUCTIONS}
본 발명은 디지털 인쇄 장치 및 방법에 관한 것으로, 특히 디지털 제어 레이저 출력을 사용하는 리소그래픽 인쇄-플레이트 구조 온- 또는 오프-프레스의 촬상에 관한 것이다.
오프셋 리소그래피에 있어서, 인쇄가능한 화상은 잉크-수락 [친유성(oleophilic)] 및 잉크-거부 [혐유성(oleophobic)] 표면 영역의 패턴으로서 인쇄 부재상에 존재한다. 일단 잉크가 이들 영역에 도포되면, 잉크는 상당히 충실하게 화상같은 패턴(imagewise pattern)으로 기록 매체에 효과적으로 전사될 수 있다. 건식 인쇄 방식은 인쇄 부재의 직접 도포를 허용할때 잉크가 배지하는 부분이 충분히 잉크를 혐오하는 인쇄 부재를 사용한다. 인쇄 부재에 균일하게 도포된 잉크는 화상같은 패턴으로만 기록 매체로 전사된다. 통상, 인쇄 부재는 종이 또는 다른 기록 매체로 영상을 도포하는 블랭킷 실린더(blanket cylinder)라고 하는 유연한 중간면과 먼저 접촉하게 된다. 통상의 급지 프레스 방식에 있어서, 기록 매체는 블랭킷 실린더와 접촉하게 되는 임프레션 실린더(impression cylinder)에 고정된다.
습식 리소그래픽 방식에 있어서, 비화상 영역은 친수성이고, 필요한 잉크-반발성은 잉크를 칠하기 전 축축한(dampening)(또는 "파운틴(fountain)") 용액의 초기 도포에 의해 마련된다. 잉크-점착성 파운틴 용액은 잉크가 비화상 영역에 부착하는 것은 방지하지만, 화상 영역의 친유 특성에는 영향을 미치지 못한다.
종래 인쇄 기술을 대표하는 귀찮은 사진 현상(photographic development), 플레이트-세공(plate-mounting) 및 플레이트-인쇄 정합(plate-registration) 동작을 피하기 위해, 당업자는 화상같은 패턴을 디지털 형태로 저장하고 그 패턴을 플레이트에 직접 찍는 전자적 대안을 개발하였다. 컴퓨터 제어를 따르는 플레이트-촬상 장치는 여러 가지 형태의 레이저를 포함한다. 예를 들어, 미국 특허 5, 351, 617호 및 5, 385, 092호(그의 모든 기재사항은 본 명세서에 참조로 포함되어 있음)는 화상같은 패턴에 있어서 리소그래픽 인쇄 블랭크의 하나이상의 층을 제거하기 위해 저출력 레이저 방전을 사용함으로써, 사진 현상이 필요없는 잉크칠함이 준비된(ready-to-ink) 인쇄 부재를 발생시키는 애블레이티브 기록 방식(ablative recording system)을 기술하고 있다. 이들 방식에 따르면, 레이저 출력은 다이오드에서 인쇄면으로 안내되고 그 표면상에(또는 바람직하게는, 통상 그 표면층 아래에 있게 될 레이저 애블레이션에 가장 민감한 층상에) 포커스된다.
그의 전체 기재내용이 본 명세서에 참조로 포함된 미국 특허 5,339,737호, Re. 35,512 및 동시계속 출원 08/700,287 및 08/756, 267호는 그러한 촬상 장치에서 사용되는 다양한 리소그래픽 플레이트 구조를 기재하고 있다. 일반적으로, 플레이트 구조는 잉크 또는 잉크-점착성 유체에 대한 그의 친화력(또는 척력) 때문에 선택된 제1 최상층을 구비할 수 있다. 제1층 아래에는 촬상(예를 들면, 적외선 또는 "IR") 방사물에 응답하여 애블레이트하는 화상층이 있다. 이 화상층 아래에는 강하고 내구성있는 기판이 있고, 이 기판은 제1층과 반대로 잉크 또는 잉크-점착성 유체에 대한 친화력(또는 척력)에 특징이 있다. 촬상 펄스에 의한 흡수 제2층의 애블레이션은 물론 일반적으로 최상층을 약화시킨다. 밑에 있는 층에 대한 그의 고착을 붕괴시킴으로써, 최상층은 촬상후 클리닝 단계에서 용이하게 제거될 것이다. 이것은 잉크 또는 잉크-점착성 유체에 대하여 노출되지 않은 제1층과는 다른 친화력을 갖는 화상 스폿을 생성하고, 그러한 스폿의 패턴은 리소그래픽 플레이트 화상을 형성한다.
클리닝을 위한 수락된 접근방법은 촬상된 플레이트에 기계적 작용, 예를 들면 러빙 또는 천에 의한 와이핑 또는 블러쉬의 회전을 가하는 것이다(미국 특허 제5, 148, 746호 참조). 기계적 작용은 건식 조건하에서 발생하거나 또는 클리닝 유체에 의해 수반될 수 있다. 후자의 경우, 유체가 클리닝 처리에 참가하여, 파편을 제거하기 위해 필요한 기계적 마찰의 양 및 강도가 저감되고, 그 결과, 온전한 상층의 손상 기회가 줄어든다. 일반적으로 클리닝 유체는 또다시 촬상되지 않은 영역의 손상을 피하기 위해 그 층에 비용제(non-solvent)이다. 특히, 건식 플레이트는 여러 가지 용제를 투과할 수 있고 그들의 영향하에서 "팽창(swell)"하는 경향이 있는 실리콘 상층을 사용하여, 밑에 있는 층에 대한 고착을 약화시키고, 따라서 플레이트 내구성 및 성능이 줄어든다. 불행하게도, 실리콘층을 보존할 필요성은 클리닝 유효성의 전체 단계를 제한할 수 있다. 플레이트의 촬상된 부분에서 촬상 부산물 및 다른 파이로리틱(pyrolitic) 파편을 완전히 제거하지 않으면, 잉크-반발 및 잉크-수락층 사이에서 필요한 친화력차를 달성할 수 없다.
본 발명은 클리닝 유체와 양립할 수 있는 파편을 발생시키는 것에 의해 애블레이션 촬상후 인쇄 부재를 클리닝하는 능력을 향상시킨다. 이 클리닝 유체는 인쇄 부재의 최상층을 용해하지 않도록--즉, 그것에 "비용제"로서 작용하도록--선택된다. 예를 들면, 실리콘 상층을 갖는 건식 플레이트에 있어서, 클리닝 유체는 본래 수성이다. 종래 건식 플레이트 구조에 도포할 때, 수성 클리닝 유체는 그들과의 화학적 상반성 때문에 실리콘 조각(및 촬상된 영역위에 있는 실리콘 상층의 고착되지 않은 부분)을 제거하는 능력을 제한할 수 있다. 본 발명은 실리콘 건식 플레이트에 적용되어 친수성 파편을 발생시킬 수 있으므로, 실리콘에 적합하게 완전히 공식화되지 않은 수성 유체로 클리닝하는 것이 용이하게 된다. 본 명세서에서 사용되는 "파편(debirs)"은 열적으로 발생된 붕괴 산물을 의미하는 것으로, 이것은 호모리시스(homolysis) 등의 화학적 메카니즘 또는 셰어(shear) 또는 테어링(teafing) 등의 기계적 처리에서 발생할 수 있고, 또한 이것은 크기 범위가 분자 수준에서 거대한(비록 극미하더라도) 조각까지 있을 수 있다.
하나의 국면에 있어서, 촬상층(중합 매트릭스를 구비함)과 인쇄 부재의 표면층사이에 배치된 개재층은 촬상후 위에있는 층의 제거를 돕는다. 개재층은 절연 기능도 제공할 수 있어, 표면층의 열분해를 방해한다. 개재층은 소망 클리닝 유체와 양립할 수 있어 촬상후 클리닝 처리를 돕는 작용기를 포함하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 절연층은 친수성 작용기를 갖는 아크릴층이라도 좋고, 이 층은 절연층의 노출된 부분이 수성 클리닝 유체와 작용하게 한다. 또한, 절연층은 친수성; 예를 들면, 교차 결합 하이드록시에틸셀루로우스 또는 더욱 바람직하게는 금속 및 실리콘층에 잘 붙는 폴리비닐 알콜 화학 종(polyvinyl alcohol chemical species)이라도 좋다.
제2국면에 있어서, 절연층보다 오히려 촬상(애블레이션)층의 특성이 위에있는 층의 촬상후 제거를 향상시키도록 변경된다. 예를 들면, 유기 촬상층은 (카본 블랙 등의 종래 IR-흡수성 안료에 더하여 또는 그 대신에) 애블레이션에 화학적으로 살아남는 친수성 안료가 장착되고, 이것의 촬상의 결과 밑에있는 층에 혼입되는 것은 그층의 이어지는 수성 제거를 완화시킨다. 그와 동시에, 친수성 물질의 잉크-수용층으로의 도입은 그 물질이 혐유성이 아닌한 성능에 영향을 미치지 않는다.
본 발명의 또 다른 목적, 특징 및 우수한 점은, 이하에 기재에 의해 충분히 알 수 있을 것이다. 또한, 본 발명의 이점은 첨부 도면을 참조하여 행하는 다음 설명으로 명백해 질 것이다.
도 1은 실리콘 최상층, 절연층, 중합 촬상층 및 기판을 갖는 리소그래픽 플레이트의 확대 단면도.
도 2a는 도 1에 도시한 플레이트를 촬상하는 효과를 설명하는 도면.
도 2b는 촬상된 플레이트를 워터-베이스드 유체(water-based fluid)로 클리닝하는 효과를 설명하는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100 : 기판
104 : 방사물-흡수성 촬상층
106 : 표면층
108 : 절연층
본 인쇄 부제와 관련하여 사용하기에 적합한 촬상 장치는 적어도 하나의 레이저 장치를 구비하고, 이 레이저 장치는 최대 플레이트 응답 영역, 즉 그의 lambdamax가 그 플레이트가 가장 강하게 흡수하는 파장 영역과 매우 근접하는 영역에서 방사한다. 니어-IR 영역(near-IR region)에서 방사하는 레이저의 규격은 '737 및 '512 특허(그의 전체 기재내용은 본 명세서에 참조로 포함되어 있음)에 완전히 기재되어 있고, 전자기 스펙트럼의 다른 영역에서 방사하는 레이저는 당업자 공지이다.
적당한 촬상 구성도 '737 및 '512 특허에 상세히 설명되어 있다. 간략히, 레이저 출력은 렌즈 또는 다른 빔안내 구성요소(beam-guiding components)를 거쳐 플레이트 표면에 직접 제공되거나 또는 섬유-광 케이블을 사용하여 먼쪽 레이저에서 블랭크 인쇄 플레이트의 표면으로 전달된다. 컨트롤러 및 관련 위치결정 하드웨어는 플레이트 표면에 대하여 정확한 배향으로 빔 출력을 유지하고, 그 표면상에 출력을 주사하며, 플레이트의 선택된 점 또는 영역에 인접하는 위치에서 레이저를 활성화한다. 컨트롤러는 플레이트로 복사되고 있는 원래의 문서 또는 그림에 대응하는 입력 화상 신호에 응답하여 그 원판의 정확한 네가티브 또는 포지티브 화상을 발생시킨다. 화상 신호는 컴퓨터에 비트맵 데이터 파일로서 저장된다. 그러한 파일은 래스터 이미지 프로세서(raster image processor : RIP) 또는 다른 적당한 수단에 의해 발생될 수 있다. 예를 들면, RIP는 인쇄 플레이트상으로 전사될 필요가 있는 모든 특징을 규정하는 페이지-기술 언어(page-description language)로 또는 페이지-기술 언어와 하나이상의 화상 데이터 파일의 조합으로서 입력 데이터를 받아들 수 있다. 비트맵은 화면 주파수 및 각도뿐만아니라 칼라의 빛깔을 규정하도록 구성된다.
촬상 장치는 독립하여 동작하여 플레이트메이커(platemaker)로서 단독으로 기능할 수 있거나 또는 리소그래픽 인쇄 프레스에 직접 통합될 수 있다. 후자의 경우, 인쇄는 화상을 빈 플레이트에 댄후 즉시 시작될 있어, 프레스 셋-업 시간이 상당히 줄어든다. 촬상 장치는 평상형 레코더로서 또는 드럼 레코더로서 구성될 수 있고, 그 드럼의 내부 또는 외부 원통형 표면에는 리소그래픽 플레이트 블랭크가 탑재된다. 명백히, 외부 드럼 설계는 리소그래픽 프레스에 관하여 본래의 장소에 사용하기에 더 적당하고, 어떠한 경우에도 인쇄 실린더 자체는 레코더 또는 플로터의 드럼 구성요소를 구성한다.
드럼 구성에 있어서, 레이저 빔과 플레이트사이의 필요한 상대적 운동은 드럼을 그의 축을 중심으로 회전시키고 그 회전축에 평행하게 빔을 이동시키는 것에 의해 달성되고, 이것에 의해 원주의로 플레이트가 주사되어 화상이 축방향으로 "성장"한다. 또한, 빔은 드럼축에 평행하게 이동할 수 있고, 각각 그 플레이트를 통과한후, 각도가 증분되어 플레이트상의 화상이 원주의로 "성장"한다. 양 경우에 있어서, 빔에 의한 완전한 주사후, 원래의 문서 또는 그림에 (포지티브로 또는 네가티브로) 대응하는 화상은 그 플레이트의 표면에 도포될 것이다.
평상형 구성에 있어서, 빔은 플레이트의 어떤 축을 가로질러 끌어내어지고, 각각 통과후 다른 축을 따라 인덱스된다. 물론, 빔과 플레이트사이의 필요한 상대적 운동은 빔의 이동보다는 오히려(또는 그것에 더하여) 플레이트의 이동에 의해 발생될 수 있다.
빔이 주사되는 방식에 관계없이, 통상 다수의 레이저를 사용하고 그들의 출력을 단일 기록 어레이로 안내하는 것이 (온-프레스 도포에) 좋다. 기록 어레이는 플레이트를 가로질러 또는 그것을 따라 각각 통과를 완료한 후, 그 어레이에서 나오는 빔의 수 및 소망 해상도(즉, 단위 길이당 화상 포인트의 수)에 의해 결정된 거리에 대하여 인덱스된다. (예를 들면, 고속 모터의 사용을 통해) 매우 빠른 플레이트 이동을 수용하도록 설계되어 높은 레이저 펄스 레이트를 사용할 수 있는 오프-프레스 도포는 촬상 소스로서 하나의 레이저를 빈번히 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 대표적인 인쇄 부재는 도 1에 도시되어 있다. 본 명세서에서 사용되는 용어 "플레이트" 및 "부재"는 잉크 및/또는 파운틴 용액에 대하여 상이한 친화력을 나타내는 영역에 의해 규정된 화상을 기록할 수 있는 모든 종류의 인쇄 부재 또는 표면을 말한다. 적당한 구조는 인쇄 프레스의 플레이트 실린더상에 탑재된 전통적인 평면 리소그래픽 플레이트를 구비하지만, 실린더(예를 들면, 플레이트 실린더의 둥근면), 엔들리스 벨트 또는 다른 배치도 구비할 수 있다.
도 1을 참조하면, 대표적인 인쇄 부재는 기판(100), 방사물-흡수성 촬상층(104), 표면층(106), 및 층(104)와 (106)사이에 배치된 절연층(108)을 구비한다. 이 경우, 층(100), (104), (108)은 '737 특허의 도 1에 도시된 습식-플레이트 구조와 닮아있다. 그러나, 본 명세서에서, 인쇄 부재는 건식 인쇄를 의도하고, 따라서 표면층(106)은 혐유성이다.
표면층(106)은 잉크가 점착하지 않는 실리콘 폴리머라도 좋고, 층(102)는 친유성이고 잉크를 받아들인다. 층(104)는 일반적으로 중합에 의하고, 즉 중합 매트릭스에 기초한다. 이층은 촬상 방열에 응답하여 애블레이트한다.
기판(100)의 특성은 애플레이션에 의존한다. 강도 및 치수 안정성이 중요하다면, 기판(100)은 금속, 예를 들면, 5-mil 알루미늄 시트라도 좋다. 촬상 방열에 대한 층(104)의 투과율에 따라, 밑에있는 층을 관통하는 모든 방사물을 촬상층(104)으로 반사하도록 알루미늄을 폴리싱할 수 있다. 또한, 층(100)은 도시한 바와 같이, 폴리에스테르 필름 등의 폴리머라도 좋고, 그 막의 두께는 주로 도포에 의해 결정된다. 반사의 이점은 촬상(예를 들면, IR) 방사물을 반사하는 안료를 포함하는 물질을 사용하는 것에 의해 중합 기판(100)과 관련하여 유지될 수 있다. IR-반사 기판(100)으로서 사용하기에 적합한 물질은 백색 안료로서 IR-반사 바륨 황산염을 사용하고 ICI Films, Wilmington, DE가 공급하는 화이트 329 필름이다. 바람직한 두께는 0. 007 인치이다. 마지막으로, 중합 기판(100)은 필요에 따라, 금속 서포트(support)(도시하지 않음)에 적층될 수 있고, 이 경우, 0. 002 인치의 두께가 바람직하다. 그의 전체 기재내용이 본 명세서에 참조로 포함된 미국 특허 5, 570, 636호에 기재되어 있는 바와 같이, 금속 서포트 또는 적층 접착제는 촬상 방열을 반사할 수 있다.
층(106)에 유용한 물질 및 코팅 기술은 '737 및 '512특허에 기재되어 있다. 기본적으로, 적당한 실리콘 물질을 와이어-와운드 로드(wire-wound rod)를 사용하여 도포한후, 건조, 가열 경화시켜 예를 들면, 2 g/m2으로 증착된 균일한 코팅을 만든다. 건식-플레이트 실시예에 있어서, 층(106) 및 (100)은 잉크에 대하여 상이한 친화력을 나타낸다.
층(108)은 촬상후 제거가능성을 돕는 작용기를 포함하고, 즉 촬상 펄스의 애플리케이션은 촬상된 영역내에서 층(104)을 애블레이트하지만, 층(108)에, 결과적으로 층(106)에 적은 손상을 일으킬 가능성이 있다. 그러나, 이들 층은 그들의 기판(100)에 대한 이탈(deanchorage)의 덕분으로 제거가능하게 된다. 그 제거는 클리닝 유채내에서의 기계적 작용에 의해 달성될 수 있고, 그 유체와 층(108) 폴리머의 작용기 사이의 화학적 적합성은 촬상된 영역에서 그의 제거를 돕는다. 적절한 층간 접착을 나타내도록 물질을 선택하는 한, 이 적합성은 클리닝중 촬상되지 않은 영역에 손상을 일으키지 않을 것이다.
클리닝 유체가 본래 수성이면, 층(108)은 친수성(적어도, 표면층(106)보다 더 친수성)이다. 하나의 접근방법에 있어서, 층(108)은 폴리비닐 알콜이다. 이들 물질은 실리콘층(106) 및 티타늄계층(104)에 모두 우수한 접착성을 나타낸다. 또한, 물에서 뽑힌 폴리비닐 알콜층은 대부분의 프레스 용제에 의한 영향을 받지 않으므로, 사용중 플레이트 내구성이 매우 우수하게 된다. 적당한 폴리비닐 알콜 물질은 AIRVOL 폴리머 제품(예를 들면, Air Products, Allentown, PA가 공급하는 AIRVOL 125 또는 AIRVOL 165, 고 하이드로라이즈드(hydrolized) 폴리비닐 알콜)을 구비한다. 폴리비닐 알콜은 매우 다량의 물과 화합하고(예를 들면, 98:2 비율, w/w) 와이어-와운드 로드로 혼합물을 도포하는 것에 의해 기판(100)상에 코팅될 수 있고, 그후 그 코팅은 랩 콘벡션 오븐에서 300 ℉로 1분간 건조된다. 0. 2-0. 5 g/m2의 도포 중량이 일반적이다.
다른 접근방법에 있어서, 층(108)은 수성 클리닝 유체와 양립할 수 있게(또는 그것에 의해 제거가능하게) 되는 친수성 작용기를 포함하는 아클릴 물질이다. 아클릴레이트 모노머 또는 올리고머내에 또는 그것에 결합할 수 있는 친수성 기는 팬던트 인산(pendant phosphoric acid) 및 에틸렌 옥사이드 치환을 구비한다. 바람직한 물질은 β-카르복시에틸 아클릴레이트, 상술한 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, UCB Radcure, Inc., Atlanta, GA가 제공하는 EB-170 제품, 인산-작용 아클릴레이트(phosphoric acid-functional acrylate), 및 Hankel이 공급하는 PHOTOMER 4125(팬던트 하이드록시), 4155와 4158(높은 에톡시 함유량) 및 6173(팬던트 카르복시) 제품을 구비한다.
또한, 친수성 화합물은 코팅 혼합물내 비반응성 성분으로서 구비될 수 있고, 최종 경화된 매트릭스내에서 비말하게 되고, 코팅에게 물 가용성을 주는 친수성 사이트를 나타낸다. 그러한 화합물은 폴리에틸렌 글리콜 및 트리메티롤 프로판을 구비한다. 특히 (진공 증착에 대하여) 코팅에 의해 도포될 때, 분자량은 중요한 고려사항이 아니므로, 아크릴레이트 혼합물에 첨가될 수 있는 논-아크릴레이트 친수성 유기 물질은 중요하다. 본질적으로, 필요한 모든 것은 아크릴레이트 베이스 코팅에서의 가용성 및 혼화성이다. 높은 아크릴산 함유량을 갖는 아크릴 코폴리머(폴리아크릴산 폴리머를 구비함)도 가능하다. 비진공 도포도 고체 필러 물질(solid filler material), 특히 무기물(실리카 등)의 사용을 용이하게 하여 워터-베이스드 클리닝 용액과의 상호작용을 촉진한다. 그러한 필러는 친수성일 수 있고 및/또는 전도성 카본 블랙(예를 들면, Cabot Corp., Waltham, MA의 Special Blacks Division이 공급하는 Vulcan XC-72 안료)으로 얻을 수 있는 것과 같은 다공성(porosity)(텍스쳐(texture))를 도입할 수 있다.
T-레진 및 래더 폴리머(ladder polymers)는 층(108)로서 기능할 수 있는 다른 부류의 물질을 나타낸다. 이들 물질은 용제에서 코팅될 수 있고, 높은 열저항을 나타낸다. T-레진은 실험식 RSiO1.5를 갖는 높은 교차결합 물질이다. 래더 폴리머는 구조
를 나타낸다.
이들 양종류의 물질은 적절한 R기-예를 들면, 실라놀, 아미노프로필, 글리시독시프로필 또는 클로로프로필의 선택을 통해 친수성으로 될 수 있다. 또한, 그들은 (예를 들면, R이 -CH=CH2일 때 비닐 치환을 사용하는 것에 의해) 밑에있는 층과 반응하게 될 수 있다. 또한, 이들 물질은 저분자량 실록산(siloxanes)보다 오히려 SiO2-x글래스에 대하여 떨어지는 경향이 있다. 이 패밀리의 가장 단순한 유용한 부재는 폴리메틸실세스퀴옥산(polymethylsilsesquioxane)이지만, 고차 T-레진 및 래더 폴리머도 형편좋게 사용할 수 있다.
촬상층(104)은 니어-IR 영역에서 본질적으로 흡수하는 폴리머계 또는 니어-IR-흡수 성분이 분산 또는 용해되어 있는 폴리머 코팅으로 구성될 수 있다. 다음의 예는 폴리에스테르 기판상에 유용한 안료를 장전한 니트로셀루로오스 촬상층을 도포하는 것을 설명한다.
예 1-5
성분 비율
니트로셀루로오스 14
Cymel 303 2
2-부타논(메틸 에틸 케톤) 236
사용된 니트로셀루로오스는 Aqualon Co., Wilmington, DE가 공급하는 30% 이소프로파놀 웨트 506 Sec RS 니트로셀루로오스이다. Cymel303은 American Cyanamid Corp가 공급하는 헥사메톡시메틸멜라민이다.
IR-흡수 화합물은 이 기본 조성물에 첨가되고 그곳에 분산된다. 다음의 비율로 다음의 5가지 화합물을 사용하면 유용한 흡수층이 만들어진다.
예 1 2 3 4 5
성 분 비율
기본 조성 252 252 252 252 252
NaCure 2530 4 4 4 4 4
Vulcan XC-72 4 - - - -
Nigrosine Base NG-1 - 8 - - -
Projet 900NP - - 4 - -
바나듐 산화물 - - - 10 -
티타늄 블랙 12-S - - - - 8
King Industries, Nerwalk, CT가 공급하는 NaCure 2530은 이소프로판올/메탄올 혼합물의 아민-블럭 p-톨루엔술폰산 용액(amine-blocked p-toluenesulfonic acid solution)이다. Vulcan XC-72는 Cabot Corp., Waltham, MA의 Special Blacks Division이 공급하는 전도성 카본 블랙 안료이다. Nigrosine Base NG-1은 N H Laboratories, Inc., Harrisburg, PA가 파우더로서 공급하고 있다. 상기 사용된 바나듐 산화물(V6O13)은 Cerac Inc., Milwaukee, WI가 파우더로서 공급하고 있다. 티타늄 블랙 12-S는 Plastics & Chemical, Inc., Bernardsville, NJ에서 입수가능하다.
기본 조성물에 IR 흡수제를 첨가하고 분산시킨후, 블록드 PTSA 촉매를 첨가하고, 최종 혼합물을 와이어-와운드 로드를 사용하여 폴리에스테르 기판에 도포한다. 휘발성 용제(들)를 제거하기 위해 건조하고 경화(양 기능을 실행하는 랩 콘벡션 오븐에서 300 ℉로 1분)시킨후, 코팅을 1 g/m2으로 증착한다.
니트로셀루로오스 서모셋 메카니즘은 두가지 기능, 즉 폴리에스테르 기판에 대한 코팅의 고착 및 (특히 인쇄실 환경에 관하여) 향상된 용제 저항을 실행한다.
폴리비닐 알콜 조성물(예를 들면, 5 pbw Airvo 125 내지 95 pvw 워터)을 와이어-와운드 로드에 의해 코팅된 기판(프리머(primer)가 마련되어 있어도 좋음)에 도포한다. 도포된 코팅을 0.5 g/m2의 도포량으로 랩 콘벡션 오븐에서 300 ℉로 1분간 건조한다. 그후, 실리콘 실리콘 코팅을 폴리비닐 알콜층에 도포한다. 하나의 적당한 코팅을 다음에 나타낸다.
성분 비율
PS-445 22. 56
PC-072 . 04
VM&P Naphtha 76. 70
Syl-Off 7367 . 70
이들 조성은 전통적이고, '737 특허에 상세히 기술되어 있다.
제2실시예에서, 층(108)은 생략되고, 층(104)에는 상술한 IR-흡수성 안료에 더하여 또는 그것대신에 친수성 안료가 마련되어 있다. 물론, 친수성 안료만을 사용하면, 그것 또는 그것에 분산되는 중합 바인더가 필요한 촬상 방열의 흡수성을 제공한다. 하나의 바람직한 접근방법에 있어서, 안료는 기본 조성물에 직접 도입된다. 다음의 공식화는 상술한 기본 조성물을 치환할 수 있고, 실리카 필러의 혼입을 설명한다.
예 6-7
예 6 7
성 분 비율
니트로셀루로오스 14 14
Cymel 303 2 2
Imsil A108 10 -
Aerosil 90 - 3
2-부타논 (메틸 에틸 케톤) 236 236
Imsil A108 제품은 Unimin Specialty Minerals, Inc., Elco, IL이 공급하는 천연 결정 실리카이고, Aerosil 90은 Degussa Corp., Pigments Division, Ridgefield Park, NJ에서 입수가능한 합성 비정질 실리카이다.
친수성 안료도 레진 바인더내에서 본래의 위치에 중합될 수 있는 폴리파이롤(polypyrrole), 폴리아닐린(polyaniline) 및 폴리티오핀스(polythiophenes)에 기초하는 것과 같은 다른 애블레이션가능한 코팅 공식화에 사용될 수 있다. 공표된 PCT 출원 일련 번호 WO 97/900735를 참조하기 바란다. 상기 공표된 출원은 그러한 폴리머의 성질에서 발생하는 문제를 피하기 위해 본래의 위치에 전도성 폴리머의 준비를 기술한다. 친수성 안료는 그들의 애블레이션에 기인하는 파편의 친수성 성질을 향상시키기 위해 이들 본래의 위치에 형성된 전도성 폴리머와 조합하여 사용될 수 있다. 이들 친수성 안료는 중합의 완료후, 분산을 거쳐, 최종 단계에서 첨가될 수 있다. 또한, 안료는 스스로 본래의 위치에 형성될 수 있다. 또한, 안료는 중합전에 첨가될 수 있고, 이 경우, 그들은 전도성 폴리머가 형성되는 표면(언클라이(unclei))을 제공한다. 바람직한 친수성 안료(일반적으로, 실리카), 입자 크기 및 천연 또는 합성 물질의 선택은 도포에 의해 규정된다. 예를 들면, 안료가 언크리에이션 사이트(uncleation sites)로서 기능하려고 하는 경우, 그들의 높은 표면 영역에는 합성 물질이 좋다. 한편, 과도한 점도를 피해야하는 도포에서는 천연 안료가 좋다.
도 1에 따른 플레이트를 촬상하는 효과는 도 2a에 도시되어 있다. 촬상 펄스는 밑에있는 층(106), (108)을 클리닝에 의해 제거되게 하는 층(100), (108) 사이의 비고착 보이드(112)를 남기고, 노출 영역에서 층(104)을 애블레이트한다.
도 2b에 도시한 처리는 층(108)의 친수성에 의해 강화된다. 수성 클리닝 유체의 도포에 의해, 층(106), (108)의 고착되지 않은 영역은 촬상 펄스가 때리는 노출된 층(100)을 남기고, 클리닝 유체로 끌려나와 제거되는 일련의 조각(115)으로 분해한다.
친수성층(108)을 갖는 인쇄 부재와 함께 사용되는 예시적인 수성 클리닝 유체는 탭 워터(11. 4 L), Sunshine Makers, Inc., Huntington Beach, CA가 공급하는 Simple Green 농축 클리너(150 ml), Varn Products Company, Oakland, NJ가 공급하는 Super Defoamer 225 제품 한 캡슐을 화합시킴으로써 준비된다. 이 물질은 그의 모든 기재내용이 본 명세서에 참조로 포함된 미국 특허 5, 148, 746호에 기재되어 있는 바와 같이, 촬상후 표면(106)과 접촉하여 회전 브러쉬에 도포될 수 있다.
이종류의 변경된 촬상층은 도시한 바와 같은 절연층(108)과 관련하여 유용할 뿐만아니라, 이층이 없는 건식-플레이트 구조와 관련해서도 유용하다. 즉, 친유성 기판(100) 및 혐유성 표면층(106)을 갖는다. 후자의 경우, 친수성 안료가 수성 클리닝을 용이하게 하는 능력은 그자신의 권리에 있어서 가치가 있다. 따라서, 상기 기술 및 구조가 우수한 인쇄 및 성능 특성을 갖는 리소그래픽 인쇄 플레이트로 이어지는 것이 명백하게 된다. 본 명세서에서 사용된 용어 및 표현은 설명의 용어로서 사용되는 것으로 제한적이지 않고, 그러한 용어 및 표현의 사용에 있어서, 도시되고 설명된 특징 및 그의 일부의 등가의 것을 배제할 의도는 없지만, 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위내에서 여러 가지 수정이 가능하다는 것이 인지된다.
이상과 같이, 본 발명에 의하면, 클리닝 유체와 양립할 수 있는 파편을 발생시키는 것에 의해, 우수한 인쇄 및 성능 특성을 갖는 리소그래픽 인쇄 플레이트가 마련된다.

Claims (24)

  1. 리소그래픽 인쇄 부재(lithographic printing member)를 촬상(imaging)하는 방법에 있어서,
    (a)인쇄면을 갖고, (i)제1 고체층(solid layer), (ii)중합 매트릭스 (polymeric matrix)를 포함하는 촬상층(imaging layer), (iii)상기 촬상층 밑에 있는 기판, 및 (iv)상기 촬상층의 애블레이션(ablation)에 따라, 상기 제1 고체층을 용해하지 않는 클리닝 유체에 대하여 친화력을 갖는 파편(debris)을 생성하는 물질을 구비하며, 상기 제1층 및 상기 기판은 잉크에 대해서는 다른 친화력을 갖고, 상기 제1층이 아닌 상기 촬상층은 촬상 방열(imaging radiation)의 애블레이티브 흡수(ablative absorption) 처리된 물질을 포함하는 인쇄 부재(printing member)를 준비하는 스텝;
    (b) 화상을 나타내는 패턴에 있어서, 상기 촬상층을 애블레이트하기 위해 상기 인쇄면을 촬상 방열에 선택적으로 노출시키는 스텝; 및
    (c) 상기 클리닝 유체로, 상기 인쇄 부재가 방열을 받는 상기 제1 및 촬상층의 나머지 부분을 제거하는 스텝
    을 포함하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 파편-생성 물질은 상기 제1층 밑에 있는 고체 절연층으로서 존재하고, 상기 절연층의 열분해는 상기 파편을 생성하는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 폴리비닐 알콜(polyvinyl alcohol)인 방법.
  4. 제2항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 하이드록시셀루로오스 (hydroxycellulose)인 방법.
  5. 제2항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 클리닝 용제(solvent)와 화학적으로 양립할 수 있는 작용기를 포함하는 아크릴 물질인 방법.
  6. 제2항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 T-레진(T-resin)인 방법.
  7. 제2항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 래더 폴리머(ladder polymer)인 방법.
  8. 제2항에 있어서, 상기 절연층은 친수성(hydrophilic)이고, 상기 클리닝 유체는 수성(aqueous)인 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 파편-생성 물질은 상기 촬상층에 존재하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 촬상층은 친수성 안료 및 촬상 방열을 흡수하는 수단을 포함하는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 촬상 방열 흡수 수단은 카본 블랙인 방법.
  12. 제10항에 있어서, 상기 친수성 안료는 실리카(silica)인 방법.
  13. 리소그래픽 인쇄 부재(lithographic printing member)에 있어서,
    (a) 제1고체층;
    (b) 중합 매트릭스를 포함하는 촬상층;
    (c) 상기 촬상층 밑에 있는 기판; 및
    (d) 상기 촬상층의 애블레이션에 따라, 상기 제1 고체층을 용해하지 않는 클리닝 유체에 대하여 친화력을 갖는 파편을 생성하는 물질
    을 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재(lithographic printing member)에 있어서,
    (e) 상기 제1층 및 상기 기판은 잉크 및 잉크의 점착 유체로 구성된 군에서 선택된 적어도 하나의 인쇄액에 대하여 상이한 친화력을 갖고; 및
    (f) 상기 제1층이 아닌 상기 촬상층은 촬상 방열의 애블레이티브 흡수 처리된 물질을 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  14. 제13항에 있어서, 상기 파편-생성 물질은 상기 제1층 밑에 있는 고체 절연층으로서 존재하고, 상기 절연층의 열분해는 상기 파편을 생성하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  15. 제14항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 폴리비닐 알콜인 리소그래픽 인쇄 부재.
  16. 제14항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 하이드록시셀루로오스인 리소그패픽 인쇄 부재.
  17. 제14항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 클리닝 용제와 화학적으로 양립할 수 있는 작용기를 포함하는 아크릴 물질인 리소그패픽 인쇄 부재.
  18. 제14항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 T-레진인 리소그래픽 인쇄 부재.
  19. 제14항에 있어서, 상기 인쇄 부재의 절연층은 래더 폴리머인 리소그래픽 인쇄 부재.
  20. 제14항에 있어서, 상기 절연층은 친수성인 리소그래픽 인쇄 부재.
  21. 제13항에 있어서, 상기 파편-생성 물질은 상기 촬상층에 존재하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  22. 제21항에 있어서, 상기 촬상층은 친수성 안료 및 촬상 방열 흡수 수단을 포함하는 리소그래픽 인쇄 부재.
  23. 제22항에 있어서, 상기 촬상 방열 흡수 수단은 카본 블랙인 리소그래픽 인쇄 부재.
  24. 제22항에 있어서, 상기 친수성 안료는 실리카인 리소그래픽 인쇄 부재.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6378432B1 (en) * 2000-05-03 2002-04-30 Presstek, Inc. Lithographic imaging with metal-based, non-ablative wet printing members
US6374738B1 (en) * 2000-05-03 2002-04-23 Presstek, Inc. Lithographic imaging with non-ablative wet printing members
US6484637B2 (en) 2001-01-09 2002-11-26 Presstek, Inc. Lithographic imaging with printing members having enhanced-performance imaging layers
US7399507B2 (en) * 2003-02-03 2008-07-15 Jivan Gulabrai Bhatt Method for preparation of a lithographic printing plate and to a lithographic printing plate produced by the method
US20080299363A1 (en) * 2003-02-03 2008-12-04 Jivan Gulabrai Bhatt Method for Preparation of a Lithographic Printing Plate and to a Lithographic Printing Plate Produced by the Method
US8241818B2 (en) * 2004-08-06 2012-08-14 GM Global Technology Operations LLC Diffusion media with hydrophobic and hydrophilic properties
CN101341026B (zh) * 2005-11-24 2010-05-19 爱克发印艺公司 制造平版印版的方法
EP3991990A4 (en) * 2019-06-28 2022-08-17 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE OF ON-PRESS DEVELOPMENT TYPE, METHOD OF MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1489308A (en) * 1974-03-18 1977-10-19 Scott Paper Co Laser imagable dry planographic printing plate blank
US5148746A (en) * 1988-08-19 1992-09-22 Presstek, Inc. Print-head and plate-cleaning assembly
US5378580A (en) * 1992-06-05 1995-01-03 Agfa-Gevaert, N.V. Heat mode recording material and method for producing driographic printing plates
AU674518B2 (en) * 1992-07-20 1997-01-02 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5353705A (en) * 1992-07-20 1994-10-11 Presstek, Inc. Lithographic printing members having secondary ablation layers for use with laser-discharge imaging apparatus
US5440987A (en) * 1994-01-21 1995-08-15 Presstek, Inc. Laser imaged seamless lithographic printing members and method of making
US5493971A (en) * 1994-04-13 1996-02-27 Presstek, Inc. Laser-imageable printing members and methods for wet lithographic printing
US5570636A (en) * 1995-05-04 1996-11-05 Presstek, Inc. Laser-imageable lithographic printing members with dimensionally stable base supports
US6143470A (en) * 1995-06-23 2000-11-07 Nguyen; My T. Digital laser imagable lithographic printing plates
DE69628126T2 (de) * 1995-06-23 2003-11-27 Kodak Polychrome Graphics Llc Mit Laser bebilderbare lithographische Druckplatte
US5649486A (en) * 1995-07-27 1997-07-22 Presstek, Inc. Thin-metal lithographic printing members with visible tracking layers
US5807658A (en) * 1996-08-20 1998-09-15 Presstek, Inc. Self-cleaning, abrasion-resistant, laser-imageable lithographic printing contructions
US5783364A (en) * 1996-08-20 1998-07-21 Presstek, Inc. Thin-film imaging recording constructions incorporating metallic inorganic layers and optical interference structures
US5786129A (en) * 1997-01-13 1998-07-28 Presstek, Inc. Laser-imageable recording constructions utilizing controlled, self-propagating exothermic chemical reaction mechanisms
US6107001A (en) * 1997-05-05 2000-08-22 Presstek, Inc. Method and apparatus for non-ablative, heat-activated lithographic imaging

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