KR20000001584A - 형광면 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 형광면 제조 방법은, 유리기판(18)의 투명전극(19) 상에 3색의 형광체패턴(20a,20b,20c)중 적어도 하나를 형성하는 형광면(screen)(20) 제조 방법에 있어서: 블랙매트릭스(21)가 형성된 유리기판(18)의 투명전극(19) 상에 포지티브형 감광제(41)를 도포,건조하는 감광제 도포,건조단계; 상기 유리기판(18)의 감광성 고분자 코팅막 상에 소정형상의 마스크(42)를 개재하여 소정의 광량으로 광(UV)을 조사하는 제 1 노광단계; 상기 소정부위가 노광된 포지티브형 감광성 고분자(41)를 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 고분자 패턴(40)을 형성하는 고분자 패턴 형성단계; 상기 유리기판(18)의 고분자 패턴(40) 상부에 형광체슬러리(22)를 전면에 도포,건조하는 형광체슬러리 도포,건조단계; 상기 유리기판(18)의 배면(투명전극이 코팅된 반대편)에서 소정의 광원으로부터 소정 광량의 광(UV)을 전면(全面) 조사하는 제 2 노광단계; 상기 소정부위의 형광체슬러리(22)가 노광된 유리기판(18)을 세정하는 현상단계; 그리고, 잔류되는 포지티브형 감광상거분자를 제거하는 포지티브형 감광성 고분자 제거단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 블랙매트릭스의 상부에 형광체가 잔류되지 않게 되고, 잔사가 남지않게 되어 디스플레이 소자 화면의 콘트라스트(contrast)와 색순도를 향상하고, 미세하고, 선 경계가 우수한 형광체패턴을 형성할 수 있는 등의 효과가 있다.

Description

형광면 제조 방법
본 발명은 형광면 제조 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 투명전극이 코팅된 유리기판의 블랙매트릭스 상부에 포지티브형감광성고분자를 도포하여 소정의 위치에 감광성고분자패턴을 형성한 다음 사진인쇄(photolithography)법용 형광체슬러리(slurry)를 전면 코팅하고 상기 유리기판의 배면에서 일정시간 동안 전면(全面) 노광, 현상하여 형광체패턴을 형성하고 잔류되는 포지티브형감광성고분자를 세정함으로써 블랙매트릭스의 상부에 형광체가 잔류되지 않게 되고, 잔사가 남지 않게 되어 디스플레이 소자 화면의 콘트라스트(contrast)와 색순도를 향상하고, 미세하고, 선 경계가 우수한 형광체패턴을 형성할 수 있는 형광면 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 전계방출표시소자(field emission display, 이하 FED로 칭함)는 평판디스플레이의 일종으로, 냉음극 발광(cold cathode luminescence)이라는 광학적 변환원리에 의해 표시기능을 가지게 되는데, 각 화소마다 배치된 실리콘이나 금속팁을 캐소드로 이용하고 게이트 전극을 팁 가까이 위치시켜 뽀족한 팁 끝에 형성된 강한 전기장에 의해 전계방출현상을 이용하여 전자들이 에너지 장벽을 투과(Tunneling)하는 과정을 거쳐 전자가 튀어나오게 하는 것으로서 종래의 CRT(cathode ray tube)의 열전자 방출과 구별된다. 이렇게 방출된 전자들은 전면유리기판에 코팅된 형광막을 여기시켜 발광하게 되며, 소정의 패턴으로 디스플레이 된다.
상기와 같은 전계방출표시소자(FED)는 풀칼라를 위해 투명전도막 상에 3색 형광체패턴을 형성시킨다.
상기와 같은 평판표시소자의 형광면(20)의 제조방법을 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래의 형광체패턴(20a,20b,20c)을 형성하는 형광면(screen)(20) 제조 방법을 개략적으로 설명하는 공정도가 도시된다.
먼저 구체적으로 도시되지는 않았지만 0.7∼1.1㎜의 유리기판(18) 상에 수 ㎛의 투명전극(19)(ITO코팅면)이 코팅되고, 상기 투명전극(19)이 코팅된 유리기판(18)의 상부에 상기 형광체패턴(20a,20b,20c)이 형성되는 위치 이외의 위치에 감광성 고분자를 이용한 리프트 오프(lift-off) 방법, 전착법에 의한 방법, 광중합에 의한 방법 등으로 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b,20c)의 도트 사이를 흑색 물질로 메워서 외광의 반사를 감소시켜 콘트라스트(contrast)를 약 2배로 올리고, 실효적으로 명도를 높이기 위한 블랙매트릭스(21)를 형성한다(도 1a).
그런 다음 상기 블랙매트릭스(21)가 형성된 유리기판(18)의 블랙매트릭스(21) 상부 걸쳐 상기 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b,20c) 중에 가장 먼저 형성되는 형광체패턴의 형광체슬러리(22)를 도포 건조한다(도 2b).
다음으로 가장 먼저 형성되는 형광체패턴을 유리기판(18)의 배면 투명전극(19)에 고착시키기 위하여 가장 먼저 형성되는 형광체패턴(20a)이 형성되는 위치와 대응되는 위치가 개공되는 마스크(31)를 배치시키고, 상기 형광체슬러리(21)가 도포되는 유리기판(18)의 상부에서 광(UV)을 조사하여 노광시킨다(도 2c).
따라서, 상기 조사되는 광(UV)이 상기 마스크(31)의 개공부를 투과되어 형광체슬러리(21)를 투과되게 되고, 이에 따라 상기 광(UV)에 노출된 형광체슬러리(22)의 상기 투명전극(19)과 접지되는 부위에서부터 광경화되면서 가교되어 상기 투명전극(19)에 고착되게 된다.
한편, 가장먼저 형성되는 형광체패턴(20a) 이외의 형광체슬러리(22)는 상기 조사되는 광(UV)이 상기 마스크(31)에 의해 차단됨으로써 조사되는 광(UV)의 영향을 받지 않게 된다.
다음으로 구체적으로 도시되지는 않았지만 상기 노광단계에서 감광되지 않은 형광체슬러리(22)를 수용액을 소정의 압력으로 스프레이 방식으로 분사시켜 세척하므로써 R-형광체패턴(20a)을 형성시키는 현상 및 건조 단계에 의해 상기 유리기판(18)의 투명전극(19) 위에는 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b,20c) 중에 가장 먼저 형성되는 R-형광체패턴(20a)이 형성완료 된다.
상기와 같이 최초 R-형광체패턴(20a)의 형성 완료 후 나머지 형광체패턴 즉, G,B-형광체패턴(20b,20c)의 형성은 도 1b에서 도 1d의 단계를 반복해서 실시함으로써 상기 유리기판(18)의 투명전극(19) 위에 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b,20c)이 형성되어 풀칼라(full color)의 형광면(20)이 형성되게 된다.
한편, FED와 같은 평판디스플레이에서의 고해상도 실현을 위해서는 형광체패턴(20a,20b,20c)의 선폭이 미세하면서도 형광체의 치밀도 및 선 경계가 우수하여야 하게 된다. 일반적으로 종래의 형광면 제조 방법에서는 PVA-ADC((poly vinyl alcohol 과 ammonium dichromate의 혼합액), 물, 형광체, 각종 첨가제로 구성된 형광체슬러리(22)를 이용한 사진인쇄(photolithography)법을 형광체패턴(20a,20b,20c)의 형성 방법으로 사용하고 있다.
그러나, 상술한 바와 같은 종래의 형광면 제조 방법에 따르면 상기 블랙매트릭스(21)의 상부에 형광체슬러리(22)가 직접 도포되어 세정단계에서 세정되지만 상기 블랙매트릭스(21)의 상부에 형광체슬러리가 미세하게 잔류하게 되고, 잔사가 남아 디스플레이 소자 화면의 콘트라스트(contrast)와 색순도를 저하시키게 되며, 미세한 패턴을 얻는 데는 한계가 있고, 우수한 선 경계를 얻기가 힘들게 되는 문제가 있다.
따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로, 블랙매트릭스의 상부에 형광체가 잔류되지 않게 되고, 잔사가 남지않게 되어 디스플레이 소자 화면의 콘트라스트(contrast)와 색순도를 향상하고, 미세하고, 선 경계가 우수한 형광체패턴을 형성할 수 있는 형광면 제조 방법을 제공하는 데에 그 목적이 있다.
도 1a 내지 도 1e은 종래의 사진인쇄법에 의한 형광면 제조방법을 개략적으로 설명하기 위한 공정도,
도 2a 내지 2i는 본 발명의 실시예에 따른 포지티브형 감광성 고분자(positive photor esist)를 이용한 형광면 제조 방법을 설명하기 위한 공정도.
<도면에 사용된 주요부호의 설명>
18: 유리기판 19: 투명전극
20: 형광면(screen) 21: 블랙매트릭스
20a,20b,20c: R,G,B-형광체패턴 22: 형광체슬러리
31,42: 마스크(mask) 40: 감광성고분자패턴
41: 포지티브형 감광성고분자막
이러한 목적을 달성하기 위해 본 발명의 실시예에 따른 형광면 제조 방법은, 투명전극(ITO코팅면)이 코팅된 유리기판의 투명전극 위에 블랙매트릭스(black matrix)를 형성하고, 3색의 형광체패턴중 적어도 하나를 형성하는 형광면(screen) 제조 방법에 있어서: 상기 블랙매트릭스가 형성된 투명전극이 코팅된 유리기판의 블랙매트릭스 상부에 포지티브형 감광성 고분자를 도포,건조하는 포지티브형 감광성 고분자 도포,건조단계; 상기 유리기판의 감광성 고분자 코팅막 위에 자외선(UV)을 조사하는 제 1 노광단계; 상기 소정부위가 노광된 포지티브형 감광성 고분자를 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 고분자 패턴을 형성하는 고분자 패턴 형성단계; 상기 유리기판의 고분자 패턴 상부에 형광체슬러리를 전면(全面)에 도포,건조하는 형광체슬러리 도포,건조단계; 상기 유리기판의 배면(투명전극이 코팅된 반대편)에서 자외선(UV)을 조사하는 제 2 노광단계; 상기 소정부위의 형광체슬러리가 노광된 유리기판을 세정하는 현상단계; 그리고, 잔류되는 포지티브형 감광성 고분자를 제거하는 포지티브형 감광성 고분자 제거단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 자외선(UV)을 조사하는 제 1 노광단계 및 제 2 노광단계에서 조사되는 광에너지가 과다할 경우패턴의 폭이 원하는 폭보다 크게되고, 광에너지가 상대적으로 낮은 경우에는 감광성 고분자의 활성화가 완벽하게 일어나지 않으므로 현상후 깨끗한 패턴을 얻을수 없게 된다. 따라서, 적정 광량의 조사가 필요하며 바람직하게는 5J/㎠ 내지 30J/㎠이면 적절하다.
이 경우, 상기 유리기판의 투명전극 위에 3색 풀칼라의 형광체패턴을 형성하기 위하여 상기 포지티브형 감광성 고분자 도포,건조단계로부터 후속되는 단계를 반복하여 실시하는 반복단계에 의해 유리기판의 투명전극 위에 원하는 형상의 3색 풀칼라의 형광체턴을 형성할 수 있도록 구성될 수 있다.
한편, 상기 포지티브형 감광성 고분자는 노블락-나프토키논(novalac-naphth oquinone)계가 사용될 수 있고, 상기 형광체패턴의 형성 후, 잔류되는 포지티브형 감광성 고분자의 제거시 사용되는 용매는 알코올류가 사용될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2에 본 발명의 실시예에 따른 형광면 제조 방법을 설명하기 위한 공정도가 도시된다.
본 발명의 실시예에 따른 형광면 제조 방법은, 포지티브형 감광성 고분자(positive photoresist)와, 상기 유리기판(18)의 배면(투명전극(19)이 코팅된 반대편)에서 전면(全面)에 걸쳐 노광시키는 방식을 이용하여 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b, 20c)을 형성하는 것을 특징으로 한다.
도 2를 참조하여 형광면 제조 공정을 구체적으로 상술한다.
먼저, 구체적으로 도시되지는 않았지만 0.7∼1.1㎜의 유리기판(18)에 수 ㎛의 투명전극(19)(ITO코팅면)이 코팅되고, 상기 투명전극(19)이 코팅된 유리기판(18)을 초음파를 이용하여 세정하고, 상기 유리기판(18)의 투명전극(19) 위에 상기 형광체패턴(20a,20b,20c)이 형성되는 위치 이외의 위치에 감광성 고분자를 이용한 리프트 오프(lift-off) 방법, 전착법에 의한 방법, 광중합에 의한 방법 등으로 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b,20c)의 도트 사이를 흑색 물질로 메워서 외광의 반사를 감소시켜 콘트라스트(contrast)를 약 2배로 올리고, 전면 유리기판(18)의 투과율을 좋게하여 실효적으로 명도를 높이기 위한 블랙매트릭스(21)를 형성한다(도 2a).
상기와 같이 투명전극(19) 위에 블랙매트릭스(21)가 형성된 유리기판(18)을 깨끗이 세정한 후, 상기 블랙매트릭스(21)가 형성된 투명전극(19)이 코팅된 유리기판(18)의 블랙매트릭스(21) 전체에 걸쳐 포지티브형감광성고분자(41)를 도포, 건조하여 감광성 고분자막을 형성한다(도 2b)(포지티브형 감광성 고분자 도포,건조단계).
이때 사용되는 포지티브형 감광성 고분자(41)는 HUJI-HUNT사, HOCHEST사 및 동진화성제의 노블락-나프토키논(novalac-naphthoquinone)계 등이 사용될 수 있다.
상기와 같이 유리기판(18)의 블랙매트릭스(21) 상부에 포지티브형 감광성 고분자(41)를 도포, 건조하여 감광성 고분자막을 형성한 다음, 상기 포지티브형감광성고분자(41)의 상부에 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b,20c)중에 가장먼저 형성되는 형광체패턴이 형성될 위치와 대응하게 개공되는 마스크(42)를 배치시키고, 상기 유리기판(18)의 상부에서 소정의 광원으로부터 소정 광량 바람직하게는 5J/㎠ 내지 30J/㎠의 광(UV)을 일정시간 조사하게 되는 데, 상기 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b,20c)의 형성순서는 상기 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b, 20c) 중에 광(UV)의 투과율이 가장적은 것부터 순차적으로 형성하며, 본 발명에서는 편의상 R-형광체패턴(20a)이 광(UV)의 투과율이 가장적다는 가정하에 설명한다(도 2c)(제 1 노광단계).
상술한 바와 같이 광(UV)을 조사하게 되면 조사되는 광(UV)이 상기 마스크(42)의 개공된 부위를 통하여 R-형광체패턴(20a)이 형성될 위치에 도포된 포지티브형 감광성 고분자(41)에 접하게 되어 상기 광(UV)에 노출된 부위의 포지티브형 감광성 고분자(41)가 활성화되고, 그 이외의 부분은 상기 마스크(42)에 의해 광(UV)이 차단되어 광(UV)의 영향을 받지 않게 된다.
이때, 상기 마스크(42)가 바람직하게는 상술한 바와 같이 마스크(42)의 개공부 이외에 도포된 포지티브형감광성고분자(41)가 조사되는 광(UV)에 노출되지 않도록 광(UV)의 흡수가 최소로 되는 석영(quartz)마스크를 사용함으로써 광(UV)의 조사시 상기 마스크(42)가 개공된 부위의 포지티브형감광성고분자(41)만 감광되어 활성화되도록 구성되는 것이 바람직할 것이다.
그런 다음 묽은 알칼리 수용액(직접제조하여 사용할 수 도 있고, 상기와 같은 회사에서 상품화된 것을 구매하여 사용할 수도 있다)으로 현상하면, 상기 유리기판(18)의 투명전극(19) 상에 가장먼저 형성되는 R-형광체패턴(20a)의 자리에 도포된 포지티브형감광성고분자(41)가 광(UV)에 노출되어 활성화되어 있으므로 상기 알칼리 수용액에 의해 세정되어 감광성고분자패턴(40)이 형성되고, 그 이외의 부분에는 상기 포지티브형감광성고분자(41)가 잔류되게 된다(도 2d)(고분자 패턴 형성단계).
상기와 같이 R-형광체패턴(20a)이 형성될 위치가 공간으로 형성되는 감광성고분자패턴(40)이 형성된 유리기판(18)의 감광성 고분자막 상부에 가장 먼저 형성되는 R-형광체패턴(20a)의 형광체슬러리(22)를 도포, 건조한다(도 2e)(형광체슬러리 도포,건조단계).
상기 형광체슬러리(22)의 도포 방법으로는, 스핀코팅(spin-coating)법, 바코팅(bar-coating)법, 롤코팅(roll-coating)법, β-인쇄법 등의 방법으로 상기 형광체슬러리(22)를 유리기판(18)의 배면에 균일하게 도포하여 건조할 수 있다.
이때, 사용되는 형광체는 브라운관용, PDP(plasma display panel)용 등 디스플레이용 In2O3첨가형 형광체 등이다.
상기와 같이 형광체슬러리(22)를 도포하게 되면 상기 형광체슬러리(22)가 R-형광체패턴(20a)이 형성될 위치가 공간으로 형성되는 감광성고분자패턴(40)이 형성되어 있으므로 상기 R-형광체패턴(20a)이 형성될 위치의 형광체슬러리(22)가 유리기판(18)의 투명전극(19)에 직접 도포되고, 그 이외의 부분은 블랙매트릭스(50)의 상부에 도포, 건조된 포지티브형감광성고분자(41)의 상부에 도포되게 된다.
다음으로 상기 유리기판(18)의 배면(투명전극(19)이 코팅된 반대편)에서 소정의 광원으로부터 소정 광량 바람직하게는 5J/㎠ 내지 30J/㎠의 광(UV)를 상기 유리기판(18)의 전체면에 대하여 일정시간 동안 조사하여 상기 광(UV)에 노출된 형광체슬러리(22)의 광경화와 포지티브형감광성고분자(41)를 활성화되도록 노광시킨다.(도 2f)(제 2 노광단계).
따라서, R-형광체패턴(20a)이 형성될 위치에 도포된 형광체슬러리(22)는 상기 유리기판(18) 및 투명전극(19)을 투과된 광(UV)에 노출되어 광경화되므로 상기 형광체슬러리(22)와 투명전극(19)의 접지부에서부터 가교가 발생되어 상기 형광체슬러리(22)가 상기 투명전극(19) 위에 고착되고, 포지티브형감광성고분자(41)가 활성화 된다.
다음으로 구체적으로 도시되지는 않았으나, 일정수압의 물로 현상하게 되면 상기 블랙매트릭스(21) 위의 형광체슬러리(22)는 상기 블랙매트릭스(21)에 의해 조사되는 광(UV)이 차단되므로 가교가 일어나지 않게 되어 제거 되고, 블랙매트릭스(21)가 존재하지 않은 부위 즉, 후속되는 G,B-형광체패턴(20b,20c)이 형성될 위치에 도포된 상기 포지티브형감광성고분자(41)는 활성화되고, 그 활성화된 포지티브형감광성고분자(41)의 상부에 형광체슬러리(22)는 미세한 잔사(22a)로 잔류 된다(도 2g)(현상단계).
그런다음 상기 유리기판(18)의 투명전극(19) 위에 도포된 포지티브형감광성고분자(41)와 그 위의 형광체슬러리(22)를 알코올류에 일정시간 방치시켜 제거하면 소정 형상의 R-형광체패턴(20a)이 형성된다(도 2h)(포지티브형감광성고분자 제거단계).
이때, 최종적으로 잔류되는 포지티브형감광성고분자(41)와, 그 위의 형광체슬러리(22)의 잔사(22a)를 제거하기 위한 알코올류의 수용액은 상기 블랙매트릭스(21) 및 형성된 형광체패턴에는 대해서는 비용해성의 특성을 갖고, 활성화 된 포지티브형감광성고분자(41)에 대해서는 용해 특성을 갖는 것으로, 상기 알콜류의 수용액으로는 상기 블랙매트릭스(21)의 바인더물질에는 비용해 특성을 가지면서, 상기 포지티브형감광성고분자(41)를 용해시킬 수 있는 물질이어야 하며, 에틸알콜(Ethyl Alcoh ol), 아세톤(Acetone), 테트라하이드로퓨란(Tetrahydrofurane), 메틸알콜(Methyl Alc ohol), 이소프로필알콜(Isopropyl Alcohol), 다이옥산(Dioxine) 등을 예로 들 수 있으며, 그 중에서도 에틸 알콜을 이용하는 것이 가장 바람직하다.
상기와 같이 가장 먼저 형성되는 R-형광체패턴(20a)을 형성한 후, 후속으로 형성되는 G,B-형광체패턴(20a,20b)을 형성하게 되는데, 상기 G,B-형광체패턴(20b, 20c)의 형성은 도 2b에서 도 2h의 단계 즉, 포지티브형감광성고분자의 도포,건조단계 이후의 단계를 반복수행함으로써 상기 유리기판(18)의 투명전극(19) 상부에 3색의 R,G,B-형광체패턴(20a,20b,20c)이 형성되어 풀칼라(full color)의 형광면(20)의 제조가 완료되게 된다(도 2i)(반복단계).
이상에서 설명한 본 발명의 실시예에 따른 형광면 제조 방법의 구성과 작용에 따르면, 블랙매트릭스의 상부에 형광체가 잔류되지 않게 되고, 잔사가 남지않게 되어 디스플레이 소자 화면의 콘트라스트(contrast)와 색순도를 향상하고, 미세하고, 선 경계가 우수한 형광체패턴을 형성할 수 있는 등의 효과가 있다.
이상에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 이에 제한된 것은 아니고 본 발명의 정신이나 분야를 이탈하지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될 수 있다는 것을 당 업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 용이하게 알 수 있을 것이다.

Claims (4)

  1. 투명전극(ITO코팅면)(19)이 코팅된 유리기판(18)의 투명전극(19) 위에 블랙매트릭스(black matrix)(21)와 3색의 형광체패턴(20a,20b,20c)중 적어도 하나를 형성하는 형광면(screen)(20) 제조 방법에 있어서:
    상기 블랙매트릭스(21)가 형성된 유리기판(18)의 블랙매트릭스(21) 위에 포지티브형 감광성고분자(41)를 도포,건조하는 포지티브형 감광성고분자 도포,건조단계;
    상기 유리기판(18)의 포지티브형감광성고분자막의 상부에 소정형상의 마스크(42)를 개재하여 자외선(UV)을 조사하는 제 1 노광단계;
    상기 소정부위가 노광된 포지티브형 감광성고분자(41)를 현상액으로 현상하여 감광성 고분자 패턴(40)을 형성하는 고분자 패턴 형성단계;
    상기 고분자 패턴(40)이 형성된 유리기판(18)의 고분자막 위에 전면(全面)에 형광체슬러리(22)를 도포,건조하는 형광체슬러리 도포,건조단계;
    상기 유리기판(18)의 배면(투명전극(19)이 코팅된 반대편)에서 자외선(UV)을 전면(全面)에 조사하는 제 2 노광단계;
    상기 소정부위의 형광체슬러리(22)가 노광된 유리기판(18)을 세정하는 현상단계; 그리고,
    잔류되는 포지티브형 감광성고분자(41)를 제거하는 포지티브형 감광제고분자 제거단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 형광면 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 3색의 형광체패턴(20a,20b,20c)중 적어도 하나의 형광체패턴을 형성한 후, 3색 풀칼라의 형광체패턴(20a,20b,20c)을 형성하기 위하여 상기 포지티브형 감광성고분자 도포,건조단계로부터 후속 단계를 반복하여 실시하는 반복단계를 포함하므로써 3색 풀칼라의 형광체패턴(20a,20b,20c)이 형성되는 것을 특징으로 하는 형광면 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 포지티브형감광성고분자(41)는 노블락-나프토논(novalac-naphthoquinone)계인 것을 특징으로 하는 형광면 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 하나의 형광체패턴을 형성한 후, 상기 포지티브형감광성고분자(41)의 제거시 사용되는 용매가 알코올류인 것을 특징으로 하는 형광면 제조 방법.
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