KR19990085313A - 반도체장치 제조용 진공설비 - Google Patents

Abstract

본 발명은 반도체장치 제조용 진공설비에 관한 것이다.

본 발명은, 진공을 이용하여 외부의 기체를 흡입할 수 있으며, 이동가능한 진공장치, 상기 진공장치와 연결된 진공호스, 상기 진공호스 하부에 고정되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 회전가능한 제 1 롤러, 상기 제 1 롤러와 소정간격 이격된 위치의 상기 진공호스 하부에 고정되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 회전가능한 제 2 롤러, 상기 제 1 롤러 및 제 2 롤러 사이에서 하방으로 쳐진 상기 진공호스 상부에 설치되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 상하이동 및 회전이 가능한 제 3 롤러 및 상기 진공호스의 길이변화에 따라 상기 제 3 롤러를 상하이동시킬 수 있도록 상기 제 3 롤러와 연결된 추를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

따라서, 진공호스의 길이변화에 따라 진공아암 상에 위치된 웨이퍼가 진공아암에서 이탈되어 깨지거나 스크래치되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체장치 제조용 진공설비

본 발명은 반도체장치 제조용 진공설비에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 펌핑력이 전달되는 진공호스가 구비되는 반도체장치 제조용 진공설비에 관한 것이다.

통상, 반도체 제조공정에서는 펌핑력이 전달됨으로서 진공(Vacuum)상태가 형성되는 진공호스와 연결된 진공척 상에 웨이퍼를 위치시킨 후, 노광공정 등의 반도체장치 제조공정이 진행된다. 또한, 반도체 제조공정에서는 상기 진공호스와 연결된 진공아암을 이용하여 특정위치의 웨이퍼를 다른 특정위치로 이동시키고 있다.

종래의 반도체장치 제조용 진공설비는 도1에 도시된 바와 같이 진공아암(10)이 진공호스(12)를 개재하여 진공공급원(도시되지 않음)과 서로 연결되어있다. 상기 진공아암(10) 상에는 웨이퍼(2)가 흡착되는 다수의 진공홀(14)이 형성되어 있으며, 상기 진공아암(10)은 구동원(도시되지 않음)의 구동에 의해서 이동가능하도록 되어있다.

또한, 상기 진공호스(12) 하부 소정영역에 제 1 롤러(16)가 고정되어있다. 상기 제 1 롤러(16)는 진공아암(10)의 이동에 따른 진공호스(12)의 길이변화에 따라 회전가능하도록 되어있다.

그리고, 상기 제 1 롤러(16)와 소정간격 이격된 위치의 진공호스(12) 하부에 제 2 롤러(18)가 고정되어있다. 상기 제 2 롤러(18)는 진공아암(10)의 이동에 따른 진공호스(12)의 길이변화에 따라 회전가능하도록 되어있다.

또한, 상기 제 1 롤러(16) 및 제 2 롤러(18) 사이에서 하방으로 쳐진 진공호스(12) 상부에 제 3 롤러(20)가 설치되어있다. 상기 제 3 롤러(20)는 고정체(24)에 의해서 고정된 스프링(22)과 연결되어 있으며, 상기 진공아암(10)의 이동에 따른 진공호스(12)의 길이변화에 따라 상하이동 및 회전이 가능하도록 되어있다.

따라서, 상기 진공공급원이 펌핑동작을 수행함에 따라 진공아암(10)의 진공홀(14) 주변부의 기체는 진공홀(14), 진공호스(12)를 통해서 외부로 방출된다.

그리고, 전술한 바와 같이 진공홀(14) 주변부의 기체가 외부로 방출되는 상태의 진공아암(10) 상에 웨이퍼(2)가 위치되면, 웨이퍼(2)는 진공아암(10) 상에 흡착된다.

이어서, 상기 구동원의 구동에 의해서 진공아암(10)이 특정위치로 이동하게 되면, 진공호스(12)의 길이변화에 따라 제 1 롤러(16) 및 제 2 롤러(18)는 일측으로 회전하게 된다. 또한, 고정체(24)에 의해서 고정된 스프링(22)과 연결된 제 3 롤러(20)는 회전하며 상측 또는 하측으로 이동하게 된다. 따라서, 상기 스프링(22)의 탄성력에 의해서 진공호스(12)는 팽팽한 상태를 유지하게 된다.

그런데, 장기간동안 스프링(22)이 수축 및 팽창됨에 따라 스프링(22)의 탄성력이 약해져 진공호스(12)가 꼬이고, 상기 진공호스(12)가 꼬임에 따라 진공호스(12) 내부를 통해서 전달되는 펌핑력이 차단됨으로서 진공아암(10) 상에 위치된 웨이퍼(2)가 진공아암(10)에서 이탈되어 바닥면으로 떨어져 깨지거나 스크래치(Scratch)되는 문제점이 있었다.

또한, 장기간동안 공정이 진행되는 과정에 고정체(24)에 고정된 스프링(22)이 고정체(24)에서 이탈되고, 스프링(22)이 열화되는 등의 원인에 의해서 스프링(22)이 끊어짐에 따라 전술한 바와 같이 진공아암(10) 상에 위치된 웨이퍼(2)가 진공아암(10)에서 이탈되어 바닥면으로 떨어져 깨지거나 스크래치되는 문제점이 있었다.

본 발명의 목적은, 스프링의 탄성력이 약해져 진공호스가 꼬이고, 상기 진공호스가 꼬임에 따라 진공호스 내부를 통해서 전달되는 펌핑력이 차단됨으로서 진공아암 상에 위치된 웨이퍼가 진공아암에서 이탈되어 바닥면으로 떨어져 깨지거나 스크래치되는 것을 방지할 수 있는 반도체장치 제조용 진공설비를 제공하는 데 있다.

본 발명의 다른 목적은, 장기간동안 공정이 진행되는 과정에 고정체에 고정된 스프링이 고정체에서 이탈되고, 스프링이 열화되는 등의 원인에 의해서 스프링이 끊어짐에 따라 진공아암 상에 위치된 웨이퍼가 진공아암에서 이탈되어 바닥면으로 떨어져 깨지거나 스크래치되는 것을 방지할 수 있는 반도체장치 제조용 진공설비를 제공하는 데 있다.

도1은 종래의 반도체장치 제조용 진공설비의 개략적인 구성도이다.

도2는 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 진공설비의 일 실시예를 나타내는 구성도이다.

도3a 내지 도3c는 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 진공설비에 사용되는 추를 나타내는 도면이다.

※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

2, 4 : 웨이퍼 10, 30 : 진공아암

12, 32 : 진공호스 14, 34 : 진공홀

16, 36 : 제 1 롤러 18, 38 : 제 2 롤러

20, 40 : 제 3 롤러 22 : 스프링

24 : 고정체 42 : 추

44 : 연결고리 42a : 금속구

42b : 플라스틱 외피

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체장치 제조용 진공설비는, 진공을 이용하여 외부의 기체를 흡입할 수 있으며, 이동가능한 진공장치; 상기 진공장치와 연결된 진공호스; 상기 진공호스 하부에 고정되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 회전가능한 제 1 롤러; 상기 제 1 롤러와 소정간격 이격된 위치의 상기 진공호스 하부에 고정되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 회전가능한 제 2 롤러; 상기 제 1 롤러 및 제 2 롤러 사이에서 하방으로 쳐진 상기 진공호스 상부에 설치되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 상하이동 및 회전이 가능한 제 3 롤러; 및 상기 진공호스의 길이변화에 따라 상기 제 3 롤러를 상하이동시킬 수 있도록 상기 제 3 롤러와 연결된 추를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

본 발명에 따른 반도체장치 제조용 진공설비는 도2에 도시된 바와 같이 진공아암(30)이 진공호스(32)를 개재하여 진공공급원(도시되지 않음)과 서로 연결되어있다. 상기 진공아암(30) 상에는 웨이퍼(4)가 흡착되는 다수의 진공홀(34)이 형성되어 있으며, 상기 진공아암(30)은 구동원(도시되지 않음)의 구동에 의해서 이동가능하도록 되어있다.

또한, 상기 진공호스(32) 하부 소정영역에 제 1 롤러(36)가 고정되어있다. 상기 제 1 롤러(36)는 진공아암(30)의 이동에 따른 진공호스(32)의 길이변화에 따라 회전가능하도록 되어있다. 그리고, 상기 제 1 롤러(36)와 소정간격 이격된 위치의 진공호스(32) 하부에 제 2 롤러(38)가 고정되어있다. 상기 제 2 롤러(38)는 진공아암(30)의 이동에 따른 진공호스(32)의 길이변화에 따라 회전가능하도록 되어있다.

또한, 상기 제 1 롤러(36) 및 제 2 롤러(38) 사이에서 하방으로 쳐진 진공호스(32) 상부에 제 3 롤러(40)가 설치되어있다. 상기 제 3 롤러(40)는 추(42)와 연결되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스(32)의 길이변화에 따라 상하이동 및 회전이 가능하도록 되어있다.

그리고, 상기 추(42)는 도3a에 도시된 같이 하나의 연결고리(44)가 구비되는 구형의 추(42)를 사용할 수 있고, 또한 다수의 진공호스(32)가 구비될 경우 도3b에 도시된 바와 같이 다수의 연결고리(44)가 구비되는 추(42)를 사용할 수 있다. 또한 상기 도3a 및 도3b에 도시된 추(42)는 금속재질로 제작될 수 있다.

그리고, 도3c에 도시된 상기 추(42)는 내부에 금속재질의 금속구(42a)가 구비되고 외부에 플라스틱 재질의 플라스틱 외피(42b)가 구비되는 구형의 절연형 추(42)가 사용될 수도 있다.

따라서, 진공공급원이 펌핑동작을 수행함에 따라 진공아암(30)의 진공홀(34) 주변부의 기체는 진공홀(34), 진공호스(32)를 통해서 외부로 방출된다.

그리고, 전술한 바와 같이 진공홀(34) 주변부의 기체가 외부로 방출되는 상태의 진공아암(30) 상에 웨이퍼(4)가 위치되면, 웨이퍼(4)는 진공아암(30) 상에 흡착된다.

이어서, 구동원의 구동에 의해서 진공아암(30)이 특정위치로 이동하게 되면, 진공호스(32)의 길이변화에 따라 제 1 롤러(36) 및 제 2 롤러(38)는 일측으로 회전하게 된다. 또한, 추(42)와 연결된 연결된 제 3 롤러(40)는 회전하며 상측 또는 하측으로 이동하게 된다. 따라서, 상기 추(42)의 하중에 의해서 진공호스(32)는 팽팽한 상태를 유지하게 된다.

따라서, 본 발명에 의하면 추를 사용하여 진공호스의 길이변화에 따라 진공호스가 팽팽한 상태를 유지할 수 있도록 함으로서 종래와 같이 스프링의 탄성력에 이상이 발생되거나 스프링이 끊어져 진공아암 상에 위치된 웨이퍼가 진공아암에서 이탈되어 깨지거나 스크래치되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (1)

1. 진공을 이용하여 외부의 기체를 흡입할 수 있으며, 이동가능한 진공장치;

   상기 진공장치와 연결된 진공호스;

   상기 진공호스 하부에 고정되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 회전가능한 제 1 롤러;

   상기 제 1 롤러와 소정간격 이격된 위치의 상기 진공호스 하부에 고정되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 회전가능한 제 2 롤러;

   상기 제 1 롤러 및 제 2 롤러 사이에서 하방으로 쳐진 상기 진공호스 상부에 설치되어 있으며, 상기 진공장치의 이동에 따른 진공호스의 길이변화에 따라 상하이동 및 회전이 가능한 제 3 롤러; 및

   상기 진공호스의 길이변화에 따라 상기 제 3 롤러를 상하이동시킬 수 있도록 상기 제 3 롤러와 연결된 추;

   를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 진공설비.