KR19990076157A - 티에프티-엘씨디 패널 제조용 드라이 에칭 설비 - Google Patents

Abstract

본 발명은 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비에 관한 것으로, 본 발명에서는 기판과 접촉되는 페데스탈의 지지면을 미리 라운드 형상으로 형성하고, 이에 의해, 에칭공정이 진행되어 기판의 센터부위가 들뜨더라도, 그것이 페데스탈과 지속적인 접촉을 유지할 수 있도록 함으로써, 기판의 센터부위와 에지부위 사이에서 발생되던 에칭량 산포의 불균형을 신속히 해결할 수 있다.

또한, 이와 같이, 에칭량 산포의 불균형을 신속히 해결함으로써, 최종 생산되는 TFT-LCD 패널의 품질을 현저히 향상시킬 수 있다.

Description

티에프티-엘씨디 패널 제조용 드라이 에칭 설비

본 발명은 티에프티 엘씨디(TFT-LCD:Thin Film Transistor Liquid Crystal Display;이하, "TFT-LCD"라 칭함) 패널 제조용 드라이 에칭 설비(Dry etching equipment)에 관한 것으로, 좀더 상세하게는 페데스탈의 지지면을 라운드형으로 형성시키고, 이에 의해, 에칭공정이 진행되는 동안 기판 및 페데스탈 사이의 접촉이 장시간 지속될 수 있도록 함으로써, 에칭공정의 산포도를 기판의 전 영역에 걸쳐 균일화시킬 수 있도록 하는 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비에 관한 것이다.

최근, 현대 사회가 정보 사회화 되어감에 따라 정보 표시 장치의 하나인 LCD 장치의 중요성은 점차 증대되는 추세에 있다.

이러한 LCD 장치에서 특히, TFT-LCD 패널의 역할과 기능은 갈수록 중요한 과제로 대두되고 있는 데, 이는 TFT-LCD 패널에 형성된 TFT 패턴의 구조에 따라서 LCD 장치의 전체적인 기능이 많은 영향을 받기 때문이다.

이러한 이유로, 종래의 생산라인에서는 정밀한 공정진행이 가능한 특정 설비, 예컨대, 드라이 에칭 설비를 배치하고, 이에 의해, 기판상에 적정 기능의 TFT 패턴을 형성시킴으로써, TFT-LCD 패널이 자신에게 부여된 화상정보 디스플레이 기능을 양호하게 수행할 수 있도록 하고 있다.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비(10)의 챔버(1) 내부에는 기판(3)을 지지하는 페데스탈(Pedestal:2)이 배치되며, 이러한 페데스탈(2)은 전원부(7)로부터 전원을 공급받아 챔버(1) 내부에 일정 크기의 자장이 형성되도록 한다.

이때, 페데스탈(2)의 외벽과 챔버(1)의 내벽 사이에는 절연체(6)가 배치되는 데, 이러한 절연체(6)는 페데스탈(2)에 흐르는 전류가 챔버(1)에 의해 외부로 누설되는 것을 방지한다.

한편, 기판(3)의 상부에는 프로세스 프레임(4)이 배치되는 데, 이러한 프로세스 프레임(4)은 자신의 저부 양쪽 측면에 돌출된 클램프(5)에 의해 기판(3)의 일측면을 클램핑함으로써, 기판(3)이 페데스탈(2)상에 견고히 고정되도록 한다.

이러한 구성을 갖는 종래의 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비에서, 가스 유입구를 통해 에칭재료가스가 챔버(1)의 내부로 유입되면, 전원부(7)는 챔버(1) 내부로 고주파 전원을 인가하여, 글로우 방전을 유도하고, 이러한 글로우 방전에 의해 상술한 에칭재료가스를 활성화시켜, 기판(3)의 TFT 패턴들을 양호하게 에칭시킴으로써, 적정 기능을 갖는 TFT-LCD 패널이 제조되도록 한다.

그러나, 이러한 기능을 수행하는 종래의 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비에는 몇 가지 중대한 문제점이 있다.

첫째, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(3)과 접촉되는 페테스탈(2)의 지지면은 통상, 평면형상을 갖게 되는 데, 이때, 상술한 클램프(5)에 의해 기판(3)이 강하게 클램핑된 후 에칭공정이 진행되면, 기판(3)의 센터부위가 들떠 일정 각도로 휘게 되고, 그 결과, 기판(3)의 센터부위가 페데스탈(2)과 접촉되지 못하는 문제점이 발생된다.

둘째, 이와 같이, 기판(3)의 센터부위가 들떠 페데스탈(2)과 접촉되지 못하게 되면, 에칭공정이 진행될 때, 페데스탈(2)과 접촉되지 못하는 기판(3)의 센터부위와 페데스탈(2)과 접촉되는 기판(3)의 에지부위 사이에 에칭량 산포가 불균일해 진다.

셋째, 이러한 결과, 최종 생산되는 TFT-LCD 패널의 품질이 현저히 저하된다.

따라서, 본 발명의 목적은 기판과 접촉되는 페데스탈의 지지면을 미리 라운드 형상으로 배치하고, 이에 의해, 에칭공정이 진행되어 기판의 센터부위가 들뜨더라도, 그것이 페데스탈과 지속적인 접촉을 유지할 수 있도록 함으로써, 기판의 센터부위와 에지부위 사이에서 발생되던 에칭량 산포의 불균형을 신속히 해결할 수 있도록 하는 데 있다.

본 발명의 다른 목적은 이와 같은 구조에 의해, 에칭량 산포의 불균형을 신속히 해결함으로써, 최종 생산되는 TFT-LCD 패널의 품질을 현저히 향상시키는 데 있다.

도 1은 종래의 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비를 개략적으로 도시한 예시도.

도 2는 종래의 페데스탈에 기판이 장착된 상태를 개략적으로 도시한 예시도.

도 3은 본 발명에 따른 페데스탈에 기판이 장착된 상태를 개략적으로 도시한 예시도,

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 챔버와; 상기 챔버내에 배치되어 상기 챔버의 측벽과 전기적으로 분리되며, 기판을 지지하는 지지면을 갖는 페데스탈과; 상기 페데스탈의 상부에 배치되며, 클램프에 의해 상기 기판의 일측면 양 측부를 클램핑하는 프로세스 프레임을 포함하며, 상기 페데스탈의 지지면은 상기 페데스탈로부터 일체로 연장되며, 상기 기판쪽으로 휘어져 돌출된 라운드부를 갖는 것을 특징으로 한다.

바람직하게, 상기 라운드부의 최대 돌출 높이는 3mm~1cm인 것을 특징으로 한다.

바람직하게, 상기 라운드부의 최대 돌출 높이는 5mm인 것을 특징으로 한다.

이에 따라, 본 발명에서는 기판의 에칭 불균형이 미연에 방지된다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비를 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비는 그 일부 구성이 종래와 동일하여, 챔버(1)와, 챔버(1)내에 배치되어 챔버(1)의 측벽과 절연체(6)에 의해 전기적으로 분리되며, 기판(3)을 지지하는 지지면을 갖는 페데스탈(20)과, 페데스탈(20)의 상부에 배치되며, 구동장치(미도시)에 의해 하향하고, 클램프(5)에 의해 기판(3)의 일측면 양 측부를 클램핑하는 프로세스 프레임(4)을 포함한다.

이때, 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 요부를 이루어 기판(3)과 접촉되는 페데스탈(20)의 지지면에는 페데스탈(20)로부터 일체로 연장되며, 기판(3) 쪽으로 휘어져 돌출된 라운드부(21)가 형성된다.

본 발명의 페데스탈(20)이 이러한 구조를 갖는 경우, 기판(3)은 에칭공정이 진행되어 자신의 센터부위가 들뜨더라도, 페데스탈(20)의 지지면에 형성된 라운드부(21)와 지속적인 접촉을 유지할 수 있음으로써, 센터부위와 에지부위에서 균일한 에칭공정을 수행받을 수 있다. 이에 따라, 기판(3)의 에칭량 산포는 현저히 균일해 진다.

종래의 경우, 페테스탈의 지지면은 통상, 평면 형상을 유지하였는 바, 이에 따라, 에칭공정이 진행되어, 기판의 센터부위가 들뜨면, 그것의 센터부위가 페데스탈과 접촉되지 못하는 문제점이 발생되었고, 그 결과, 페데스탈과 접촉되지 못하는 기판의 센터부위와 페데스탈과 접촉되는 기판의 에지부위 사이에 에칭량 산포가 불균일해지는 문제점이 유발되었다.

그러나, 본 발명의 경우, 상술한 바와 같이, 페데스탈(20)의 지지면에는 그것으로부터 일체로 연장되며, 기판(3)쪽으로 휘어져 돌출된 라운드부(21)가 형성되기 때문에, 에칭공정이 진행되어 기판(3)의 센터부위가 들뜨더라도 기판(3)은 라운드부(21)와 지속적인 접촉을 유지할 수 있고, 그 결과, 기판(3)은 자신의 센터부위와 에지부위 모두에 걸쳐 페데스탈(21)과 접촉되는 효과를 제공받을 수 있음으로써, 결국, 균일한 에칭량 산포를 얻을 수 있다. 이에 따라, 최종 생산되는 TFT-LCD 패널의 품질은 현저히 향상된다.

이때, 바람직하게, 라운드부(21)의 최대 돌출 높이 a는 3mm~1cm, 좀더 바람직하게, 5mm를 유지한다. 만약, 라운드부(21)가 적정 돌출높이를 유지하지 못할 경우, 이와 접촉되는 기판(21)에 일정한 응력이 가해져 기판(21)이 예측하지 못한 변형을 입게될 수도 있다.

그러나, 본 발명의 라운드부(21)는 상술한 바와 같이, 그 최대 돌출 높이 a를 5mm 정도로 유지시켜, 기판(3)에 과잉의 응력이 가해지지 않도록 함으로써, 기판(3)의 변형을 미연에 방지시킬 수 있다.

이러한 구조를 갖는 본 발명의 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비에 있어서, 먼저, 기판(3)이 페테스탈(20)상으로 로딩되면, 페테스탈(20)의 상부에 배치된 프로세스 프레임(4)은 구동 장치에 의해 하향한 후 자신의 양측부에서 돌출된 클램프(5)에 의해 기판(3)의 양측부를 클램핑한다.

계속해서, 챔버(1) 내부에는 가스 유입구에 의해 에칭재료가스가 유입되고, 이와 함께, 전원부(7)로부터 전류가 인가된다. 이에 따라, 챔버(1) 내부에는 글로우 방전이 생성되고, 에칭재료가스는 활성화되어, 플라즈마를 발생시킨다.

이때, 활성화된 플라즈마의 분자, 원자, 이온 등은 기판(3)을 가공하여 신속한 에칭공정을 진행시킨다.

여기서, 상술한 바와 같이, 에칭공정이 진행되는 기판(3)은 페데스탈(20)과 일체로 형성되면서 일정 각도로 휘어진 본 발명의 라운드부(21)에 의해 지지되기 때문에, 센터 부위가 들뜨게 되더라도, 자신의 전부위에 걸쳐 페데스탈(20)과 지속적으로 접촉되는 효과를 제공받을 수 있고, 그 결과, 균일한 산포를 갖는 에칭공정을 수행받을 수 있다.

이후, 본 발명에 따른 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비는 기판(3)이 로딩될 때 마다 라운드부(21)를 갖는 페데스탈(20)을 이용하여 상술한 에칭공정을 반복적으로 진행시킴으로써, 적정 기능을 갖는 TFT-LCD 패널이 신속히 제조되도록 한다.

이와 같이, 본 발명에서는 페데스탈의 지지면을 라운드형으로 형성시키고, 이에 의해, 에칭공정이 진행되는 동안 기판 및 페데스탈 사이의 접촉이 장시간 지속될 수 있도록 함으로써, 에칭공정의 산포도를 기판의 전 영역에 걸쳐 균일화시킬 수 있다.

이러한 본 발명은 클램프 및 페데스탈을 이용하는 전 기종의 LCD 제조설비에서 전반적으로 유용한 효과를 나타낸다.

그리고, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다.

이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구의 범위안에 속한다 해야 할 것이다.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비에서는 기판과 접촉되는 페데스탈의 지지면을 미리 라운드 형상으로 형성하고, 이를 통해, 에칭공정이 진행되어 기판의 센터부위가 들뜨더라도, 그것이 페데스탈과 지속적인 접촉을 유지할 수 있도록 함으로써, 기판의 센터부위와 에지부위 사이에서 발생되던 에칭량 산포의 불균형을 신속히 해결할 수 있다.

또한, 이와 같이, 에칭량 산포의 불균형을 신속히 해결함으로써, 최종 생산되는 TFT-LCD 패널의 품질을 현저히 향상시킬 수 있다.

Claims (3)

1. 챔버와;

   상기 챔버내에 배치되어 상기 챔버의 측벽과 전기적으로 분리되며, 기판을 지지하는 지지면을 갖는 페데스탈과;

   상기 페데스탈의 상부에 배치되고, 클램프에 의해 상기 기판의 일측면 양 측부를 클램핑하는 프로세스 프레임을 포함하며,

   상기 페데스탈의 지지면은 상기 페데스탈로부터 일체로 연장되며, 상기 기판쪽으로 휘어져 돌출된 라운드부를 갖는 것을 특징으로하는 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 라운드부의 최대 돌출 높이는 3mm~1cm인 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비.
3. 제 2 항에 있어서, 상기 라운드부의 최대 돌출 높이는 5mm인 것을 특징으로 하는 TFT-LCD 패널 제조용 드라이 에칭 설비.