JP4439853B2 - プラズマ処理装置、フォーカスリング及びプラズマ処理方法 - Google Patents
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- 被処理基板を収容する処理容器と、
前記処理容器内に設けられ、前記被処理基板が載置される載置台と、
前記処理容器内に所定の処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、
前記処理ガスをプラズマ化するプラズマ発生機構と、
前記処理容器から前記処理ガスを排気する排気機構と、
前記被処理基板の周囲を囲むように配置されたフォーカスリングであって、環状に形成された下側部材と、環状に形成され前記下側部材の上方に配置される上側部材とを具備し、前記下側部材が前記載置台の周縁部を露出部なく覆うように配置され、前記下側部材の上に前記上側部材がガス流路となる間隙が常時形成されるように間隙を隔てて支持されており、前記上側部材が前記下側部材に対して着脱自在とされているフォーカスリングと
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記間隙の幅が0.5mm以上とされていることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 前記間隙の幅を変更可能とされていることを特徴とする請求項1又は2記載のプラズマ処理装置。
- プラズマ処理装置の処理容器内に、載置台に載置された被処理基板の周囲を囲むように配置されるフォーカスリングであって、
環状に形成された下側部材と、環状に形成され前記下側部材の上方に配置される上側部材とを具備し、前記下側部材が前記載置台の周縁部を露出部なく覆うように配置され、前記下側部材の上に前記上側部材がガス流路となる間隙が常時形成されるように間隙を隔てて支持されており、前記上側部材が前記下側部材に対して着脱自在とされている
ことを特徴とするフォーカスリング。 - プラズマ処理装置の処理容器内に、被処理基板の周囲を囲むように配置されるフォーカスリングであって、
環状に形成され下側部材と、
環状に形成され前記下側部材の上方に配置される上側部材と、
前記下側部材及び前記上側部材に設けられたピンを挿入するための孔と、
前記孔に挿入されるピンと、
を具備し、前記下側部材の上面に突出するように設けられた前記ピンによって前記上側部材が前記下側部材の上方にガス流路となる間隙が常時形成されるように間隔を隔てて支持されており、前記上側部材が前記下側部材に対して着脱自在とされている
ことを特徴とするフォーカスリング。 - 前記間隙の幅が0.5mm以上とされていることを特徴とする請求項4又は5記載のフォーカスリング。
- 前記間隙の幅を変更可能とされていることを特徴とする請求項4〜6いずれか1項記載のフォーカスリング。
- プラズマ処理装置の処理容器内に被処理基板の周囲を囲むように配置されるフォーカスリングを使用して、前記被処理基板のプラズマエッチングを行うプラズマ処理方法であって、
環状に形成された下側部材と、環状に形成され前記下側部材の上方に配置される上側部材とを具備し、前記下側部材と前記上側部材との間に、処理ガスのガス流路となる間隙が形成されており、前記上側部材が前記下側部材に対して着脱自在とされたフォーカスリングを、
前記フォーカスリングの間隙がない場合、前記被処理基板の周辺部のエッチングレートが中央部のエッチングレートより低くなるプラズマエッチングに、使用したことを特徴とするプラズマ処理方法。 - プラズマ処理装置の処理容器内に被処理基板の周囲を囲むように配置されるフォーカスリングを使用して、前記被処理基板のプラズマエッチングを行うプラズマ処理方法であって、
環状に形成された下側部材と、環状に形成され前記下側部材の上方に配置される上側部材と、前記下側部材及び前記上側部材に設けられたピンを挿入するための孔と、前記孔に挿入されるピンと、前記ピンによって前記上側部材を支持することにより、前記下側部材と前記上側部材との間に形成された間隙とを具備し、前記上側部材が前記下側部材に対して着脱自在とされたフォーカスリングを、
前記フォーカスリングの間隙がない場合、前記被処理基板の周辺部のエッチングレートが中央部のエッチングレートより低くなるプラズマエッチングに、使用したことを特徴とするプラズマ処理方法。 - 前記間隙の幅が0.5mm以上とされている前記フォーカスリングを使用したことを特徴とする請求項8又は9記載のプラズマ処理方法。
- 前記間隙の幅を変更可能とされている前記フォーカスリングを使用したことを特徴とする請求項8〜10いずれか1項記載のプラズマ処理方法。
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