KR19990067956A - 주석 결합된 고무 중합체의 제조방법 - Google Patents
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Classifications
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Abstract
바라는 특성을 개선시키기 위해 음이온성 중합에 의해 제조된 타이어 고무는 적합한 결합제로 자주 결합된다. 고무를 비대칭성으로 결합시킴으로써 타이어 고무에 대해 크게 개선된 특성(예, 낮은 히스테리시스)이 얻어질 수 있음을 예기치않게 발견하고 있다. 본 발명은 (1) 리빙 폴리디엔 고무 쇄를 함유하는 중합체 시멘트를 생성하기 위해 음이온성 개시제를 이용하여 약 90% 이상의 전환율로 하나이상의 디엔 단량체를 제 1 반응기에 계속 중합시키고; (2) 제 1 반응기에서 생성된 중합체 시멘트를 제 2 반응기로 계속 공급하고; (3) 분산된 할로겐화주석을 갖는 중합체 시멘트를 생성하기 위해 교반 조건하에서 제 2 반응기중에서 중합체 시멘트에 할로겐화주석을 가하고(이때, 제 2 반응기중의 체류 시간은 약 15분 내지 약 4시간이내이다); (4) 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트를 생성하기 위해 균질하게 분산된 할로겐화주석을 갖는 중합체 시멘트를 약 15분 내지 약 1시간의 체류 시간을 갖는 플러그 유동 반응기로 계속 공급하고; 및 (5) 플러그 유동 반응기로부터 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트를 계속 회수하는 것을 포함하는 개선된 안정성을 갖는 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 제조방법을 개시한다. 상기 방법에 의해 제조된 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체는 노성시 개선된 안정성을 나타낸다.
Description
주석 결합된 중합체는 타이어 트레드 고무에 사용시 개선된 트레드 마모 및 감소된 내롤링성과 같은 바람직한 특성을 제공하는 것으로 알려져 있다. 이러한 주석 결합된 고무 중합체는 전형적으로 고무 중합체의 합성에 사용된 중합에서 또는 중합의 종반부에서 주석 결합제와 고무 중합체를 결합시켜 제조된다. 결합 방법에서, 리브 중합체 쇄 말단은 주석 결합제와 반응함으로써 중합체를 결합시킨다. 예컨대, 4개 이하의 리브 쇄 말단은 사염화주석과 같은 사할로겐화주석과 반응함으로써 중합체 쇄를 함께 결합시킨다.
주석 결합제의 결합 효율성은 중합에 사용된 결합에 이용가능한 리브 쇄 말단의 양 및 극성 개질제의 양 및 형태와 같은 다수의 요인에 의존한다. 예컨대, 주석 결합제는 일반적으로 극성 개질제의 존재하에서 효과적이지 않다. 물론 주석 결합제의 양에 고도로 의존하는 얻어진 결합량이 사용된다.
각각의 사할로겐화 주석 분자는 4개 이하의 리브 중합체 쇄 말단과 반응할 수 있다. 그러나, 완전한 정량학은 얻기 어렵고, 할로겐화주석의 몇가지는 가끔 4개 미만의 리브 중합체 쇄 말단과 반응한다. 예컨대, 할로겐화주석 결합제의 정량학적 양 이상으로 사용되면 4 내지 1개의 기본상에 할로겐화주석 분자와 전체적으로 반응하기 위해 리브 중합체 쇄 말단의 불충분한 양이 될 것이다. 다른 한편으로, 할로겐화주석 결합제의 정량학적 양 미만을 가하면 과량의 리브 중합체 쇄 말단이 될 것이고, 리브 쇄 말단의 몇가지는 결합되지 않을 것이다.
통상적인 주석 결합은 필수적으로 대칭성으로 결합된 중합체의 형성을 초래한다. 환언하면, 결합된 중합체상의 모든 중합체 가지는 필수적으로 동일한 쇄 길이이다. 이러한 통상적인 주석 결합된 중합체중에 모든 중합체 가지는 따라서 필수적으로 동일한 분자량이다. 이는 낮은 다분산도를 갖는 상기 통상적인 주석 결합된 중합체를 초래한다. 예컨대, 통상적인 주석 결합된 중합체는 보통 약 1.01 대 약 1.1의 중량 평균 분자량 대 수 평균 분자량의 비율을 갖는다.
1997년 2월 14일자로 출원된 미국 특허원 제 60/037,929 호는 고무를 비대칭성으로 결합시킴으로써 낮은 히스테리시스와 같은 타이어 고무에 대해 크게 개선된 특성이 얻어질 수 있음을 개시한다. 예컨대, 이러한 비대칭성으로 결합된 중합체는 다른 타이어 특성을 희생시킴없이 크게 개선된 내롤링성을 갖는 타이어를 제조하는데 활용될 수 있다. 이들 개선된 특성은 카본 블랙과 양호한 반응 및 친화성에 일부 기인한다. 비대칭성 주석 결합은 또한 보통 고무 중합체의 냉각 유동 특성을 개선시킨다. 주석 결합은 일반적으로 또한 양호한 가공성 및 다른 이로운 특성을 야기한다.
타이어 트레드 화합물의 성능 특성을 개선하기 위해 사용될 수 있는 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체는 공유 결합된 폴리디엔 가지를 갖는 주석 원자로 구성된다. 주석 원자에 결합된 하나이상의 폴리디엔 가지는 약 40,000 미만의 수 평균 분자량을 갖는 낮은 수평균 분자량일 것이다. 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체가 주석 원자에 결합된 하나이상의 고분자량 폴리디엔 가지를 갖는 것이 또한 중요하다. 이 고분자량 가지는 80,000 이상의 수평균 분자량을 가질 것이다. 본 발명의 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 중량평균 분자량 대 수평균 분자량의 비율은 또한 약 2 : 약 2.5의 범위일 것이다.
미국 특허원 제 60/037,929 호는 또한 (1) 리빙 폴리디엔 고무 쇄를 함유하는 중합체 시멘트를 생성하기 위해 음이온성 개시제를 이용하여 약 90% 이상의 전환율로 하나이상의 디엔 단량체를 계속 중합하고(이때, 리빙 폴리디엔 고무 쇄의 몇가지는 약 40,000 미만의 수평균 분자량을 갖는 저분자량 폴리디엔 고무 쇄이고, 리빙 폴리디엔 고무 쇄의 몇가지는 약 80,000 이상의 수평균 분자량을 갖는 고분자량 폴리디엔 고무 쇄이다); 및 (2) 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체를 생성하기 위해 분리 반응 용기중에서 중합체 시멘트에 할로겐화주석을 계속 가하고(이때, 상기 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체는 약 2 내지 약 2.5의 범위인 다분산도를 갖는다)를 포함하는 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 제조방법을 개시한다.
미국 특허원 제 60/037,929 호에 따라서, 3급 킬레이트 아민을 가하고 계속하여 주석 결합된 고무 중합체를 결합함으로써 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 안정성을 개선시킬 수 있다. N,N,N',N'-테트라메틸에틸렌디아민(TMEDA)은 이러한 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체를 안정화시키는데 이용하기에 바람직한 3급 킬레이트 아민의 대표적인 실례이다.
이러한 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 안정성을 추가로 개선시키는 것이 바람직하다.
본 발명의 방법을 이용함으로써, 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 안정성을 크게 개선시킬 수 있다. 본 발명은 보다 상세하게 (1) 리빙 폴리디엔 고무 쇄를 함유하는 중합체 시멘트를 생성하기 위해 음이온성 개시제를 이용하여 약 90% 이상의 전환율로 하나이상의 디엔 단량체를 제 1 반응기에 계속 중합시키고; (2) 제 1 반응기에서 생성된 중합체 시멘트를 제 2 반응기로 계속 공급하고; (3) 분산된 할로겐화주석을 갖는 중합체 시멘트를 생성하기 위해 교반 조건하에서 제 2 반응기중에서 중합체 시멘트에 할로겐화주석을 가하고(이때, 제 2 반응기중의 체류 시간은 약 15분 내지 약 4시간이내이다); (4) 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트를 생성하기 위해 약 15분 내지 약 1시간의 체류 시간을 갖는 플러그 유동 반응기로 균질하게 분산된 할로겐화주석을 갖는 중합체 시멘트를 계속 공급하고; 및 (5) 플러그 유동 반응기로부터 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트를 계속 회수하는 것을 포함하는 개선된 안정성을 갖는 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 제조방법을 개시한다.
음이온성 중합에 의해 제조된 고무 중합체의 실질적으로 임의의 형태는 본 발명에 따라서 비대칭성으로 주석 결합될 수 있다. 비대칭성으로 결합될 수 있는 고무 중합체는 전형적으로 개시제로서 유기 리튬 화합물을 이용하는 용액 중합 기법에 의해 합성될 수 있다. 이들 고무 중합체는 따라서 보통 "리빙" 리튬 쇄 말단을 함유할 것이다.
리빙 고무 중합체의 합성에 사용된 중합은 보통 하나이상의 방향족, 파라핀 또는 시클로파라핀 화합물일 수 있는 탄화수소 용매중에서 수행될 것이다. 이들 용매는 보통 분자량 탄소수 4 내지 10을 함유할 것이고, 중합 조건하에서 액체일 것이다. 적합한 유기 용매의 몇가지 대표적인 실례는 펜탄, 이소옥탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 이소헥산, n-헵탄, n-옥탄, n-헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 디에틸벤젠, 이소부틸벤젠, 석유 에테르, 케로센, 석유 스피릿, 석유 나프타 등을 단독으로 또는 혼합하는 것을 포함한다.
용액 중합에서, 보통 중합 매질중에 5 내지 30중량%의 단량체가 있을 것이다. 이러한 중합 매질은 물론 유기 용매 및 단량체로 구성된다. 대다수의 경우에, 중합 매질이 10 내지 25중량%의 단량체를 함유하는 것이 바람직할 것이다. 중합 매질이 15 내지 20중량%의 단량체를 함유하는 것이 일반적으로 보다 바람직하다.
본 발명에 따라 비대칭성으로 결합된 고무 중합체는 공액 디올레핀 단량체의 단독 중합 또는 비닐 방향족 단량체와 공액 디올레핀 단량체의 공중합에 의해 제조될 수 있다. 물론, 비닐 방향족 단량체와 같은 하나이상의 에틸렌성 불포화 단량체와 공액 디올레핀 단량체의 혼합물을 중합시켜 비대칭성으로 주석 결합될 수 있는 리빙 고무 중합체를 제조하는 것이 또한 가능하다. 본 발명에 따라서 비대칭성으로 주석 결합될 수 있는 고무 중합체의 합성에 이용될 수 있는 공액 디올레핀 단량체는 일반적으로 탄소수 4 내지 12를 함유한다. 탄소수 4 내지 8을 함유하는 것은 일반적으로 상업적인 용도에 바람직하다. 유사한 이유로, 1,3-부타디엔 및 이소프렌은 대다수 보통 이용된 공액 디올레핀 단량체이다. 이용될 수 있는 몇가지 추가의 공액 디올레핀 단량체는 2,3-디메틸-1,3-부타디엔, 피페릴렌, 3-부틸-1,3-옥타디엔, 2-페닐-1,3-부타디엔 등을 단독으로 또는 혼합하는 것을 포함한다.
본 발명에 따라서 비대칭성으로 주석 결합될 수 있는 고무 중합체로 잠재적으로 합성될 수 있는 에틸렌성 불포화 단량체의 몇가지 대표적인 실례는 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 부틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트 등과 같은 알킬 아크릴레이트; 하나이상의 종결 CH2=CH- 그룹을 갖는 비닐리덴 단량체; 스티렌, α-메틸스티렌, 브로모스티렌, 클로로스티렌, 플루오로스티렌 등과 같은 비닐 방향족; 에틸렌, 프로필렌, 1-부텐 등과 같은 α-올레핀; 비닐브로마이드, 클로로에탄(비닐클로라이드), 비닐플루오라이드, 비닐요오다이드, 1,2-디브로모에텐, 1,1-디클로로에텐(비닐리덴 클로라이드), 1,2-디클로로에텐 등과 같은 할로겐화비닐; 비닐 아세테이트와 같은 비닐 에스테르; 아크릴로니트릴 및 메타크릴로니트릴과 같은 α,β-올레핀성 불포화 니트릴; 아크릴아미드, N-메틸 아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, 메타크릴아미드 등과 같은 α,β-올레핀성 불포화 아미드를 포함한다.
하나이상의 다른 에틸렌성 불포화 단량체와 하나이상의 디엔 단량체의 공중합체인 고무 중합체는 보통 약 50중량% 내지 약 99중량%의 공액 디올레핀 단량체 및 공액 디올레핀 단량체외에 약 1중량% 내지 약 50중량%의 다른 에틸렌성 불포화 단량체를 함유할 것이다. 예컨대, 50 내지 95중량%의 공액 디올레핀 단량체 및 5 내지 50중량%의 비닐방향족 단량체를 함유하는 스티렌-부타디엔 고무와 같은 비닐방향족 단량체와 공액 디올레핀 단량체의 공중합체는 많은 용도에 유용하다.
비닐 방향족 단량체는 바람직하게 보통 폴리디엔으로 혼입되는 에틸렌성 불포화 단량체의 가장 중요한 그룹이다. 물론, 이러한 비닐 방향족 단량체는 이용되는 공액 디올레핀과 공중합가능하게 선택된다. 일반적으로, 유기리튬 개시제와 중합하기 위한 것으로 알려지고 있는 임의의 비닐 방향족 단량체를 사용할 수 있다. 이러한 비닐 방향족 단량체는 전형적으로 탄소수 8 내지 20을 함유한다. 보통, 비닐 방향족 단량체는 탄소수 8 내지 14를 함유할 것이다. 가장 광범위하게 사용되는 비닐 방향족 단량체는 스티렌이다. 이용될 수 있는 몇가지 실례의 비닐 방향족 단량체는 스티렌, 1-비닐나프탈렌, 2-비닐나프탈렌, α-메틸스티렌, 4-페닐스티렌, 3-메틸스티렌 등을 포함한다.
본 발명에 따라 비대칭성으로 주석 결합될 수 있는 고무 중합체의 몇가지 대표적인 실례는 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 스티렌-부타디엔 고무(SBR), α-메틸스티렌-부타디엔 고무, α-메틸스티렌-이소프렌 고무, 스티렌-이소프렌-부타디엔 고무(SIBR), 스티렌-이소프렌 고무(SIR), 이소프렌-부타디엔 고무(IBR), α-메틸스티렌-이소프렌-부타디엔 고무 및 α-메틸스티렌-스티렌-이소프렌-부타디엔 고무를 포함한다.
고무 중합체의 제조에 사용된 중합은 단량체를 함유하는 유기 중합 매질에 유기리튬 개시제와 같은 음이온성 개시제를 가함으로써 개시된다. 계속하여 회수되는 합성된 고무 중합체와 제 1 중합 반응기에 단량체, 개시제 및 용매를 계속 가하여 중합시킨다. 이 중합은 리빙 폴리디엔 고무 쇄를 생성시킨다. 이 중합 단계는 단일 반응기 또는 다중 반응기 시스템으로 수행될 수 있다.
본 발명에 따라서 비대칭성으로 결합될 수 있는 고무 중합체의 합성에 사용될 수 있는 유기리튬 개시제는 본원에 기술된 단량체를 중합시키기 위해 공지된 일가 및 다가 형태를 포함한다. 다가 유기리튬 개시제는 필수적으로 특정 화합물이 아니고 규칙성 작용화의 재생가능한 조성물을 나타내는 특정 유기리튬 화합물일 수 있거나 다가 형태일 수 있다.
이용된 유기리튬 개시제의 양은 중합된 단량체로 변화할 것이고, 합성되는 중합체에 대해 바람직한 분자량으로 변화할 것이다. 그러나, 대체적으로, 0.01 내지 1phm(단량체 100중량부당 1부)의 유기리튬 개시제를 이용할 것이다. 다수의 경우에, 0.01 내지 0.1phm의 유기리튬 개시제가 이용되고, 0.025 내지 0.07phm의 유기리튬 개시제를 이용하는 것이 바람직하다.
개시제의 선택은 중합체에 대한 분지도 및 탄성도, 공급물의 성질등에 의해 조절될 수 있다. 예컨대, 공액 디엔의 공급원으로서 사용되는 공급물에 관하여, 다가 개시제 형태는 일반적으로 저농도의 디엔 스트림이 일부이상의 공급물일때 바람직하고, 이때문에 비정제된 저농도 디엔 스트림중에 존재하는 몇가지 성분이 개시제 활성을 비활성화하기 위해 탄소 리튬 결합과 반응하는 경향이 있고, 따라서 이러한 효과를 압도하기 위해 개시제중에 충분한 리튬 작용화의 존재가 필요하다.
사용될 수 있는 다가 개시제는 탄화수소 및 극성 유기 화합물의 혼합물 또는 탄화수소와 같은 불활성 희석제중에서 바람직하게 수행되는 반응과 같은 다중비닐포스핀 또는 다중비닐실란으로 배합된 유기모노리튬을 반응시켜 제조하는 것을 포함한다. 다중비닐실란 또는 다중비닐포스핀과 유기모노리튬 화합물사이의 반응은 바람직하다면 일차 성분의 반응후에 공액 디엔 또는 모노비닐 방향족 화합물과 같은 가용성 단량체를 가함으로써 용해될 수 있는 침전물중에서 생성할 수 있다. 한편으로, 반응은 소량의 가용성 단량체의 존재하에서 수행될 수 있다. 비교량의 유기모노리튬 화합물 및 다중비닐실란 또는 다중비닐포스핀은 바람직하게 사용된 다중비닐실란 또는 다중비닐포스핀중에 존재하는 비닐 그룹의 몰당 유기모노리튬 화합물 약 0.33 내지 4몰의 범위이어야 한다. 이러한 다가 개시제는 보통 특정 개별적인 화합물보다 화합물의 혼합물로서 사용된다.
실례의 유기모노리튬 화합물은 에틸리튬, 이소프로필리튬, n-부틸리튬, 2차-부틸리튬, 3차-옥틸리튬, n-에이코실리튬, 페닐리튬, 2-나프틸리튬, 4-부틸페닐리튬, 4-톨릴리튬, 4-페닐부틸리튬, 시클로헥실리튬 등을 포함한다.
실례의 다중비닐실란 화합물은 테트라비닐실란, 메틸트리비닐실란, 디에틸디비닐실란, 디-n-도데딜디비닐실란, 시클로헥실트리비닐실란, 페닐트리비닐실란, 벤질트리비닐실란, (3-에틸시클로헥실)(3-n-부틸페닐)디비닐실란 등을 포함한다.
실례의 다중비닐포스핀 화합물은 트리비닐포스핀, 메틸디비닐포스핀, 도데실디비닐포스핀, 페닐디비닐포스핀, 시클로옥틸디비닐포스핀 등을 포함한다.
다른 다가 중합 개시제는 유기모노리튬 화합물을 이용하고, 또한 다중비닐방향족 화합물 및 공액 디엔이나 모노비닐방향족 화합물 또는 이들 둘다를 함께 이용하여 제조할 수 있다. 이들 성분은 보통 희석제로서 탄화수소 및 극성 유기 용매의 혼합물 또는 탄화수소의 존재하에서 초기에 충진될 수 있다. 한편으로, 다가 중합 개시제는 공액 디엔 또는 모노비닐 방향족 화합물 첨가제와 유기모노리튬 화합물을 반응시킨다음 다중비닐 방향족 화합물을 가하는 2단계 방법으로 제조할 수 있다. 임의의 기술된 공액 디엔 또는 모노비닐 방향족 화합물을 사용할 수 있다. 사용된 공액 디엔 또는 모노비닐 방향족 화합물 첨가제의 비율은 유기리튬 화합물의 몰당 중합성 화합물 약 2 내지 15몰이어야 한다. 사용된 다중비닐방향족 화합물의 양은 바람직하게 유기모노리튬 화합물의 몰당 약 0.05 내지 2몰의 범위이어야 한다.
실례의 다중비닐 방향족 화합물은 1,2-디비닐벤젠, 1,3-디비닐벤젠, 1,4-디비닐벤젠, 1,2,4-트리비닐벤젠, 1,3-디비닐나프탈렌, 1,8-디비닐나프탈렌, 1,3,5-트리비닐나프탈렌, 2,4-디비닐비페닐, 3,5,4'-트리비닐비페닐, m-디이소프로페닐 벤젠, p-디이소프로페닐 벤젠, 1,3-디비닐-4,5,8-트리부틸나프탈렌 등을 포함한다. 분자당 탄소수 18개 이하를 함유하는 디비닐 방향족 탄화수소가 바람직하고, 특히 오르토, 메타 또는 파라 이성질체로서의 디비닐벤젠 및 세가지 이성질체의 혼합물인 상업적인 디비닐벤젠 및 에틸스티렌과 같은 다른 화합물이 또한 무척 만족스럽다.
다가 개시제의 다른 형태는 1,3-부타디엔의 몰당 유기모노리튬 화합물 약 2 내지 4몰의 비율에서 1,3-부타디엔과 2차-유기모노리튬 화합물 또는 3차-유기모노리튬 화합물을 접촉시켜 제조하고, 이 경우에 가해진 극성 물질의 부재하에서 불활성 탄화수소 희석제중에서 바람직하게 접촉시켜 제조하는 것을 사용할 수 있지만 희석제없이 접촉하는 것을 바람직하게 사용할 수 있다.
한편으로, 바람직하다면 본 발명에 따르는 중합체의 제조에서 특정 유기리튬 화합물을 개시제로서 사용할 수 있다. 이들은 R(Li)x(여기서, R은 탄소수 1 내지 20을 함유하는 하이드로카빌 라디칼이고, x는 1 내지 4의 정수이다)로 나타낼 수 있다. 실례의 유기리튬 화합물은 메틸리튬, 이소프로필리튬, n-부틸리튬, 2차-부틸리튬, 3차-옥틸리튬, n-데실리튬, 페닐리튬, 1-나프틸리튬, 4-부틸페닐리튬, p-톨릴리튬, 4-페닐부틸리튬, 시클로헥실리튬, 4-부틸시클로헥실리튬, 4-시클로헥실부틸리튬, 디리티오메탄, 1,4-디리티오부탄, 1,10-디리티오데칸, 1,20-디리티오에이코산, 1,4-디리티오시클로헥산, 1,4-디리티오-2-부탄, 1,8-디리티오-3-데센, 1,2-디리티오-1,8-디페닐옥탄, 1,4-디리티오벤젠, 1,4-디리티오나프탈렌, 9,10-디리티오안트라센, 1,2-디리티오-1,2-디페닐에탄, 1,3,5-트리리티오펜탄, 1,5,15-트리리티오에이코산, 1,3,5-트리리티오시클로헥산, 1,3,5,8-테트라리티오데칸, 1,5,10,20-테트라리티오에이코산, 1,2,4,6-테트라리티오시클로헥산, 4,4'-디리티오비페닐 등이다.
이용되는 중합온도는 약 -20 내지 약 180℃의 광범위한 범위로 변화할 수 있다. 대다수의 경우에, 약 30 내지 약 125℃의 온도를 이용할 것이다. 전형적으로 약 60 내지 약 85℃의 중합 온도가 가장 바람직하다. 사용된 압력은 보통 중합 반응 조건하에서 실질적으로 액상을 유지하기에 충분할 것이다.
제 1 반응기중에 중합은 단량체의 중합을 거의 완성하기에 충분한 시간동안 교반의 조건하에서 수행된다. 환언하면, 중합은 보통 고전환율에 도달할때까지 수행된다. 예컨대, 중합 반응기 또는 반응기중에 도달하는 단량체 전환율은 전형적으로 약 90%이상일 것이다. 제 1 반응기중에 도달하는 단량체 전환율은 전형적으로 약 95% 이상이 바람직하고, 98%를 초과하는 것이 가장 바람직하다.
제 1 반응기 또는 일련의 교반 중합 반응기중의 중합은 리빙 폴리디엔 고무 쇄를 함유하는 중합체 시멘트의 형성을 초래한다. 고무 중합체의 중합체 시멘트는 이어서 제 2 반응기로 계속 공급된다. 할로겐화주석은 또한 제 2 반응기로 계속 공급된다.
중합은 제 2 반응기중에 주석 결합제를 계속 첨가하여 종결된다. 주석 결합제는 분포 및 반응을 위한 적합한 혼합으로 중합 혼합물에 탄화수소 용액(예, 시클로헥산)중에 가해질 수 있다. 제 2 반응기중의 체류 시간은 약 15분 내지 약 4시간이내일 것이다. 제 2 반응기중의 체류 시간이 약 30분 내지 약 2시간이내인 것이 보통 바람직하다. 약 45분 내지 약 90분 이내의 제 2 반응기중의 체류 시간이 보통 가장 바람직하다.
주석 결합제는 보통 사염화주석, 사브롬화주석, 사불화주석 또는 사요오드화주석과 같은 사할로겐화주석일 것이다. 그러나, 삼할로겐화주석을 또한 선택적으로 사용할 수 있다. 삼할로겐화주석을 이용하는 경우에, 최대 3개의 가지를 갖는 결합된 중합체를 생성한다. 높은 정도의 분지를 유도하기 위해, 사할로겐화주석이 보통 바람직하다. 대체적으로, 사염화주석이 가장 바람직하다.
광범위하게, 실례로 고무 중합체 100g당 주석 결합제 약 0.01 내지 4.5밀리당량을 사용한다. 바라는 무니 점도를 얻기 위해 중합체 100g 당 주석 결합제 약 0.01 내지 약 1.5밀리당량을 이용하는 것이 보통 바람직하다. 말단으로 반응성 그룹 또는 불충분한 결합을 함유하는 중합체의 생성을 다량으로 초래하는 경향이 있다. 리튬 당량당 1당량의 주석 결합제는 최대 분지를 위해 최적의 양으로 간주된다. 예컨대, 사할로겐화주석이 결합제로서 사용되면, 리브 리튬 말단의 4몰당 사할로겐화주석 1몰이 이용될 수 있다. 결합제로서 삼할로겐화주석이 사용되는 경우에, 1몰의 삼할로겐화주석이 리브 리튬 말단의 매 3몰에 대해 최적으로 이용될 것이다. 주석 결합제는 분포 및 반응을 위해 적합한 혼합으로 반응기중에 중합 혼합물로 탄화수소 용액(예, 시클로헥산)에 가해질 수 있다.
균일하게 분산된 할로겐화주석을 갖는 중합체 시멘트는 바라는 체류 시간후에 제 2 반응기로부터 계속하여 회수된다. 이어서 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트를 생성하기 위해 약 15분 내지 약 1시간의 체류 시간을 갖는 플러그 유동 반응기로 계속하여 공급된다. 플러그 유동 반응기는 바람직하게 약 20분 내지 45분의 체류 시간을 가질 것이고, 가장 바람직하게 약 25분 내지 35분의 체류 시간을 가질 것이다.
플러그 유동 반응기는 유체 공급의 필수적으로 요소없이 또는 유체의 임의의 다른 요소와 혼합하여 순서대로 반응기를 통해 유체의 유동을 특징으로 한다. 실제적으로, 플러그 유동 반응기중에 유체의 측면 혼합이 있을 수 있지만, 유동 경로를 따라 혼합 또는 확산이 필수적으로 없어야 한다. 펄러그 유동에 대한 필수적이고 충분한 조건은 반응기중의 체류 시간이 관통하는 유체의 모든 요소에 대해 동일한 것이다. 펄러그 유동 반응기는 가끔 슬러그 유동 반응기, 피스톤 유동 반응기, 이상적인 관상 반응기 또는 비혼합된 유동 반응기로서 알려져 있는 것으로 인지되어야 한다.
비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트는 물론 플러그 유동 반응기로부터 계속하여 회수된다. 이어서, 현상정지액 및 산화방지제는 전형적으로 중합체 시멘트에 가해진다. 3차 킬레이트 알킬 1,2-에틸렌 디아민은 선택적으로 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체를 추가로 안정화시키기 위해 중합체 시멘트에 가해질 수 있다. 사용될 수 있는 3차 킬레이트 아민은 보통 하기 화학식의 킬레이트 알킬 디아민이다:
상기식에서,
n은 1 내지 약 6의 정수이고,
A는 탄소수 1 내지 약 6을 함유하는 알킬렌 그룹이고,
R1, R2, R3및 R4는 같거나 다를 수 있고, 탄소수 1 내지 약 6을 함유하는 알킬 그룹이다.
알킬렌 그룹 A는 화학식(여기서, m은 1 내지 약 6의 정수이다). 알킬렌 그룹은 전형적으로 탄소수 1 내지 4를 함유할 것이고(m은 1 내지 4일 것이다), 바람직하게 탄소수 2를 함유할 것이다. 대다수의 경우에, n은 1 내지 약 3이고, 바람직하게 n은 1이다. R1, R2, R3및 R4가 탄소수 1 내지 3을 함유하는 알킬 그룹을 나타내는 것이 바람직하다. 대다수의 경우에, R1, R2, R3및 R4는 메틸 그룹을 나타낼 것이다.
충분한 양의 킬레이트 아민은 결합 반응의 종료후에 남아있는 임의의 잔여 주석 결합제의 착체에 가해져야 한다. 대다수의 경우에, 약 0.01phr(건조 고무의 100중량부당 중량부) 내지 약 2phr의 킬레이트 알킬 1,2-에틸렌 디아민은 고무 중합체를 안정화시키기 위해 중합체에 가해질 것이다. 전형적으로, 약 0.05phr 내지 약 1phr의 킬레이트 알킬 1,2-에틸렌 디아민을 가할 것이다. 보다 전형적으로, 약 0.1phr 내지 약 0.6phr의 킬레이트 알킬 1,2-에틸렌 디아민은 고무 중합체를 안정화시키기 위해 중합체 시멘트에 가할 것이다.
비대칭성 주석 결합된 고무 중합체는 통상적인 기법을 이용하여 유기 용매로부터 재생될 수 있다. 예컨대, 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체는 데칸트, 여과, 원심분리 등에 의해 유기용매 및 잔여물로부터 재생될 수 있다. 중합체 용액에 탄소수 약 1 내지 약 4를 함유하는 저급 알콜을 첨가하여 유기용매로부터 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체를 침전시키는 것이 종종 바람직하다. 중합체 시멘트로부터 고무의 침전을 위해 적합한 저급 알콜은 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알콜, n-프로필 알콜 및 t-부틸 알콜을 포함한다. 중합체 시멘트로부터 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체를 침전시키기 위한 저급 알콜의 이용은 리튬 말단 그룹을 비활성화시킴으로서 임의의 잔여 리빙 중합체를 "파괴한다". 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체가 상기 용액으로부터 재생된 후에, 스팀 스트립핑은 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체중에 휘발성 유기 화합물의 양을 감소시키기 위해 사용될 수 있다.
본 발명의 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체는 공유결합된 3개이상의 폴리디엔 가지를 갖는 주석 원자로 구성된다. 주석 원자에 결합된 폴리디엔 가지 하나이상은 약 40,000 미만의 수평균 분자량을 갖고, 주석 원자에 결합된 폴리디엔 가지 하나이상은 약 80,000 이상의 수평균 분자량을 갖는다. 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 중량 평균 분자량 대 수평균 분자량의 비율은 또한 약 2 : 약 2.5의 범위이내일 것이다.
본 발명의 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체는 하기 화학식이다:
상기식에서,
R1, R2, R3및 R4는 같거나 다를 수 있고, 알킬 그룹 및 폴리디엔 가지(폴리디엔 고무 쇄)로 이루어지는 그룹으로부터 선택되고, 단 R1, R2, R3및 R4로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 3개이상의 구성원은 폴리디엔 가지이고, R1, R2, R3및 R4로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 하나이상의 구성원은 약 40,000 미만의 수평균 분자량을 갖는 저분자량 폴리디엔이고, R1, R2, R3및 R4로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 하나이상의 구성원은 약 80,000 이상의 수평균 분자량을 갖는 고분자량 폴리디엔 가지이고, 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 중량평균 분자량 대 수평균 분자량의 비율은 약 2 : 약 2.5의 범위이내이다. 할로겐화주석 결합제가 중합 개시제로서 사용되는 알킬 리튬 화합물과 직접 반응하는 것이 가능하기 때문에 R1, R2, R3및 R4는 알킬 그룹일 수 있는 것으로 인지되어야 한다.
대다수의 경우에, 4개의 폴리디엔 가지는 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체중의 주석 원자에 공유결합될 것이다. 이러한 경우에, R1, R2, R3및 R4는 모두 폴리디엔 가지일 것이다. 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체는 가끔 저분자량 가지 및 고분자량 가지 뿐만 아니라 중간 분자량의 폴리디엔 가지를 함유할 것이다. 이러한 중간 분자량 가지는 약 45,000 내지 약 75,000의 범위이내인 분자량을 가질 것이다. 약 30,000 미만의 분자량을 갖는 저분자 폴리디엔 가지가 바람직하고, 약 25,000 미만의 분자량을 갖는 저분자량 가지가 가장 바람직하다. 약 90,000 이상의 분자량을 갖는 고분자 폴리디엔이 보통 바람직하고, 약 100,000 이상의 분자량을 갖는 고분자량 가지가 가장 바람직하다.
선형 IBR과 비교하여 주석 결합된 IBR의 잇점은 하기의 실시예에 의해 증명된다. 이들 잇점은 (1) 가공성, 특히 압출성/압출물 특질의 개선, (2) 주석 결합된 IBR과 개선된 카본 블랙 분산에 기인한 트레드마모 개선 및 내롤링성 감소를 포함한다. 카본 블랙의 양호한 분산은 카본 블랙이 황화물중에 카본 블랙의 망상조직을 형성하는 것을 방지하고 카본 블랙 응집물로부터 생성된 히스테리시스를 감소시킨다. 이것은 페인 효과(payne effect)로서 알려져 있다. 페인 효과가 높을 수록 카본 블랙 분산성은 양호하다. 페인 효과는 하기와 같이 측정될 수 있다:
본 발명은 단지 예시의 목적으로 하기 실시예에 의해 예시되고, 본 발명의 범위 또는 방법을 제한하는 것으로 간주되지 않고 실행될 수 있다. 다르게 규정되지 않는한, 부 및 백분율은 중량을 기준으로 한다.
비교 실시예 1
이 실시예에서, 결합된 이소프렌-부타디엔 고무(IBR)를 70℃에서 1갤런(3.8리터) 배치 반응기에서 제조하였다. 사용된 절차에서, 10:90의 비율에서 헥산중에 이소프렌 및 1,3-부타디엔의 혼합물 19.0중량%를 함유하는 실리카/분자체/알루미늄 건조된 예비혼합물 2,000g을 1갤런(3.8리터) 반응기에 채웠다. 예비혼합물중에 불순물의 양을 측정한후에, n-부틸 리튬(헥산중에) 1.0M 용액 4.0ml를 반응기에 가했다. 목표치 Mn(수평균 분자량)은 100,000이었다. 70℃에서 3시간동안 중합을 수행하였다. 잔여 단량체의 분석은 단량체들이 모두 소비된 것을 나타내었다. 이어서, 사염화주석(헥산중에) 1M 용액 1.0ml를 반응기에 가했고, 결합 반응을 동일한 도에서 30분동안 수행하였다. 이 시간에서, 1.5phr(고무 100중량부당 부)의 4-t-부틸카테콜 및 0.5phr의 TMEDA를 반응기에 가하여 중합을 현상정지시키고 중합체를 안정화시켰다.
헥산 용매를 증발시킨후에, 생성된 SIBR을 진공 오븐중에서 50℃에서 건조시켰다. 결합된 IBR을 측정하여 -95℃에서 유리 전이온도(Tg)를 가졌다. 또한 7%의 1,2-폴리부타디엔 단위, 87%의 1,4-폴리부타디엔 단위, 1%의 3,4-폴리이소프렌 단위 및 9%의 1,4-폴리이소프렌 단위를 함유한 미세구조를 갖는 것을 측정하였다. 제조된 결합된 IBR의 무니 점도(ML-4)가 99로 측정되었다.
비교 실시예 2 내지 4
이소프렌 대 1,3-부타디엔의 비가 10:90 내지 15:85, 20:80 및 30:70으로 변화한 것을 제외하고는 실시예 1에 기술된 절차를 이들 실시예에 이용하였다. 이들 주석 결합된 IBR의 Tg, 무니 점도(ML-4) 및 미세구조는 표 1에 기술한다. 30/70 IBR(실시예 4)이 386,000의 Mn(수평균 분자량) 및 430,000의 Mw(중량 평균 분자량)을 갖는 것으로 측정하였다. 실시예 4의 전구체(즉, 결합이전에 기본 중합체)가 또한 99,000의 Mn 및 112,000의 Mw를 갖는 것을 측정하였다.
| 실시예 번호 | 이소프렌/Bd 조성물 | Tg(℃) | ML-4 | 미세구조(%) | |||
| 1,2-PBd | 1,4-PBd | 3,4-PI | 1,4-PI | ||||
| 1 | 10/90 | -95 | 99 | 7 | 83 | 2 | 8 |
| 2 | 15/85 | -93 | 91 | 8 | 77 | 1 | 14 |
| 3 | 20/80 | -90 | 82 | 8 | 72 | 1 | 19 |
| 4 | 30/70 | -87 | 84 | 7 | 63 | 3 | 27 |
비교 실시예 5 내지 8
이들 실시예에서, 1갤런 반응기중에서 선형 IBR을 제조하였다. 이들 실험중에 결합제(사염화주석)를 사용하지 않고, 목표치 Mn이 100,000 내지 300,000으로 변화한 것을 제외하고는 실시예 1에 기술된 절차를 이용하였다. 이소프렌 대 1,3-부타디엔의 비는 10:90, 15:85, 20:80 및 30:70이었다. 이들 선형 IBR의 Tg, 무니 점도(ML-4), Mn(수평균 분자량), Mw(중량 평균 분자량) 및 미세구조를 표 2에 기술한다.
| 실시예 번호 | 이소프렌/Bd 조성물 | Tg(℃) | ML-4 | Mn | Mw | 미세구조(%) | |||
| 1,2-PBd | 1,4-PBd | 3,4-PI | 1,4-PI | ||||||
| 5 | 10/90 | -96 | 88 | 308K | 326K | 7 | 83 | 1 | 9 |
| 6 | 15/85 | -94 | 81 | 307K | 329K | 7 | 77 | 1 | 15 |
| 7 | 20/80 | -92 | 82 | 317K | 338K | 7 | 72 | 1 | 20 |
| 8 | 30/70 | -89 | 87 | 313K | 332K | 6 | 62 | 2 | 30 |
비교 실시예 9
이 실험중에서 제조한 주석 결합된 IBR을 90℃에서 2 반응기(10 갤런 각각) 연속 시스템중에서 합성하였다. 헥산중에 이소프렌 및 1,3-부타디엔을 함유하는 예비 혼합물을 65.6g/분의 비율에서 제 1 반응기에 계속 채웠다. 예비 혼합물 용액은 30:70의 이소프렌 대 1,3-부타디엔의 비율을 함유하였고, 14%의 전체 단량체 농도를 가졌다. n-부틸 리튬 용액 0.128M을 0.4g/분의 비율에서 제 1 반응기로 가하여 중합을 개시하였다. 대다수의 단량체를 제 2 반응기의 단부에서 소비하였고, 리브 말단을 함유하는 생성된 중합 매질을 제 3 반응기로 계속 넣었고, 결합제, 사염화주석(헥산중에 0.025M 용액)을 0.34g/분의 비율로 가했다. 모든 세개의 반응기에 대한 체류 시간을 1.5시간으로 유지하여 제 2 반응기중에 단량체 전환을 완성하였고, 제 3 반응기중에 결합을 완성하였다. 이어서 TMEDA 및 산화방지제를 함유하는 보유 탱크에 중합 매질을 계속 넣었다. 이어서 생성된 중합체 시멘트를 스팀 탈리시켰고, 재생된 IBR을 60℃에서 오븐에서 건조시켰다. 중합체가 -85℃의 유리 전이 온도를 갖고 90의 무니 ML-4 점도를 갖는 것을 측정하였다. 또한 8%의 1,2-폴리부타디엔 단위, 60%의 1,4-폴리부타디엔 단위, 29%의 1,4-폴리이소프렌 단위 및 3%의 3,4-폴리이소프렌 단위를 함유한 미세구조를 갖는 것을 측정하였다. 중합체가 185,000의 Mn(수평균 분자량) 및 276,000의 Mw(중량 평균 분자량)을 갖는 것을 측정하였다. 이 중합체의 전구체(즉, 결합이전의 기본 중합체)가 또한 88,000의 Mn 및 151,000의 Mw를 갖는 것을 측정하였다.
4개의 선형 전구체 중합체의 대칭성 결합을 나타낸 실시예 4(배치 방법으로 제조되고 결합됨)와는 달리 연속 방법을 통해 이 실시예에서 생성된 중합체는 상기 나타낸 GPC 분자 데이타를 기준으로 비대칭성 결합을 가졌다.
비교 실시예 10 내지 12
표준 타이어 트레드 시험 배합물을 이용하여 실시예 4, 8 및 9에서 제조된 이소프렌-부타디엔 고무를 이어서 배합하였다. 50부의 카본 블랙, 5부의 가공유, 2부의 스테아르산, 3부의 산화아연, 1부의 미세결정 왁스, 0.5부의 파라핀 왁스, 1부의 혼합된 아릴-p-페닐렌디아민 산화방지제, 2부의 N-(1,3-디메틸 부틸)-N'-페닐-p-페닐렌 디엔 및 1.4부의 황으로 시험한 100부의 고무를 혼합하여 타이어 트레드 시험 배합물을 제조하였다. 배합된 타이어 트레드 배합물의 물성은 표 3에 기술한다.
| 실시예 번호 | 8 | 4 | 9 |
| 고무 형태 | 선형 | 배치 결합 | 연속 결합 |
| 레오미터, 150℃ | |||
| ML, dNm | 1.21 | 1.49 | 1.67 |
| MH, dNm | 24.06 | 25.71 | 23.71 |
| ts1, 분 | 4.06 | 4.86 | 5.39 |
| T25, 분 | 5.62 | 5.78 | 6.50 |
| T90, 분 | 10.36 | 9.71 | 9.88 |
| 오토비브론, 11Hz | |||
| 60℃에서 탄젠트 델타 | 0.113 | 0.083 | 0.072 |
| 10%에서 G' | 2.494 | 2.294 | 2.195 |
| 1%에서 Go | 3.435 | 2.732 | 2.566 |
| 페인 효과 | 72.6 | 84.4 | 85.5 |
실시예 10 내지 11 및 비교 실시예 12 내지 14
일련의 실험에서, 제 1 반응기중에서 리빙 이소프렌 부타디엔 고무 시멘트를 계속 합성하였다. 예비 혼합물 단량체 용액은 30:70의 이소프렌 대 1,3-부타디엔의 비율 및 14%의 총 단량체 농도를 가졌다. n-부틸 리튬을 계속 첨가하여 중합을 개시하였고, 약 90℃의 온도에서 수행하였다.
리빙 중합체 시멘트 및 사염화주석을 제 2 반응기로 계속 공급하였다. 제 2 반응기는 교반을 제공하였고, 약 1시간의 평균 체류 시간을 가졌다. 가해진 현상 정지액, 산화방지제 및 20%의 몰과량의 TMADA(부틸 리튬의 몰당 1.2몰의 TMEDA)로 제 2 반응기에서 제조된 몇가지의 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체를 직접 회수하였다. 몇가지 경우에, 현상 정지액, 산화방지제 및 TMEDA를 가하기 전에 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트를 약 30분의 체류 시간을 갖는 펄러그 유동 반응기(PFR)을 관통시켰다. 이어서 중합체 시료를 중합체 시멘트로부터 재생하였고, 평가하여 안정성을 측정하였다.
표 4는 시료를 다양한 시간동안 150℉(66℃)에서 오븐중에서 노화시킨 후에 실험한 무니 ML(1+4) 점도의 손실을 나타낸다. 이들 각각의 실험에 사용된 사염화주석 대 부틸 리튬의 몰비를 또한 표 4에 기술한다. 결합되지 않은 추가의 대조용 선형 이소프렌-부타디엔 고무를 또한 평가하였다.
| 실시예 번호 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 |
| PFR | 유 | 유 | 무 | 무 | 무 |
| Sn/Li | 0.2 | 0.16 | - | 0.3 | 0.24 |
| △ 무니- 0일 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 | 0.0 |
| △ 무니- 1일 | 0.1 | -1.3 | 0.7 | -0.6 | - |
| △ 무니- 5일 | 0.1 | -1.4 | 0.8 | 3.6 | 3.9 |
| △ 무니- 11일 | 1.2 | 1.55 | 2.8 | 6.7 | 8.6 |
| △ 무니- 18일 | 2.4 | 3.1 | - | 10.7 | 10.1 |
| △ 무니- 22일 | 3.8 | 3.6 | - | 14.1 | 12.2 |
표 4로부터 알 수 있는 바와 같이, 라인중에 플러그 유동 반응기(PFR)로 제조된 비대칭성으로 주석 결합된 중합체는 이를 사용하지 않고 제조된 고무 시료보다 더욱 양호한 안정성을 가졌다. 예컨대, PFR을 이용하지 않고 제조된 고무에 대해 14.1 및 12.2의 손실에 비해 라인중에 PFR로 제조된 고무 시료는 단지 3.8 및 3.6의 150℉(66℃)에서 22일후에 무니 ML(1+4) 점도의 손실을 나타내었다. 라인중에 PFR로 제조된 고무는 또한 주석 결합되지 않은 선형 대조용보다 보다 양호한 안정성을 나타낸 것을 인지하여야 한다(실시예 12 참조). 실시예 11의 주석 결합된 고무 시료의 제조시 TMEDA를 가하지 않은 것을 또한 인지하여야 한다.
일련의 실험은 제 2 반응기후에, 그러나 현상 정지액을 가하기 전에 연속 라인으로 PFR을 삽입하는 것이 제조된 고무의 안정성을 상당히 개선시키는 것을 나타낸다. 라인중에 PFR의 삽입은 또한 만족스러운 안정성을 얻기 위해 TMEDA와 같은 3차 킬레이트 1,2-에틸렌 디아민의 첨가에 대한 필요성을 제거시킬 수 있는 것을 나타낸다.
본 발명의 변형은 본원에 제공된 설명의 면에서 가능하다. 특정 대표적인 양태 및 상세한 설명이 본 발명을 예시할 목적으로 나타내어지지만, 본 발명의 범주로부터 벗어남이 없이 다양한 변화 및 변형이 이루어질 수 있음을 당해 분야의 숙련자들은 이해할 것이다. 하기 첨부된 청구범위에 의해 정의된 바와 같이 본 발명의 전체 의도된 범주내에 있는 기술된 특정 양태중에서 변화가 이루어질 수 있음을 이해할 것이다.
본 발명의 방법을 이용함으로써, 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 안정성을 크게 개선시킬 수 있다.
Claims (5)
- (1) 리빙 폴리디엔 고무 쇄를 함유하는 중합체 시멘트를 생성하기 위해 음이온성 개시제를 이용하여 약 90% 이상의 전환율로 하나이상의 디엔 단량체를 제 1 반응기중에서 계속 중합시키고; (2) 제 1 반응기에서 생성된 중합체 시멘트를 제 2 반응기로 계속 공급하고; (3) 분산된 할로겐화주석을 갖는 중합체 시멘트를 생성하기 위해 교반 조건하에서 제 2 반응기중에서 중합체 시멘트에 할로겐화주석을 가하고(이때, 제 2 반응기중의 체류 시간은 약 15분 내지 약 4시간이내이다); (4) 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트를 생성하기 위해 균질하게 분산된 할로겐화주석을 갖는 중합체 시멘트를 약 15분 내지 약 1시간의 체류 시간을 갖는 플러그 유동 반응기로 계속 공급하고; 및 (5) 플러그 유동 반응기로부터 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트를 계속 회수하는 것을 포함하는 개선된 안정성을 갖는 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,현상정지액 및 산화방지제를 플러그 유동 반응기로부터 회수한후에 비대칭성으로 주석 결합된 고무 중합체의 중합체 시멘트에 계속 가하는 방법에 있어서, 상기 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체가 약 2 내지 약 2.5 이내의 다분산도를 갖고, 몇가지 리빙 폴리디엔 고무 쇄가 약 40,000 미만의 수평균 분자량을 갖는 저분자량 폴리디엔 고무 쇄이고, 몇가지 리빙 폴리디엔 고무 쇄가 약 80,000 이상의 수평균 분자량을 갖는 고분자량 폴리디엔 고무 쇄인 방법.
- 제 2 항에 있어서,음이온성 개시제, 단량체 및 유기 용매를 제 1 반응기로 계속 공급하고, 음이온성 개시제가 유기리튬 화합물이고, 할로겐화주석이 사할로겐화 주석이고, 약 30 내지 약 125℃이내의 온도에서 수행되고, 제 2 반응기중의 체류 시간이 약 30분 내지 약 2시간 이내이고, 플러그 유동 반응기중의 체류 시간이 약 20분 내지 45분 이내인 방법.
- 제 3 항에 있어서,할로겐화주석이 사염화주석이고, 제 2 반응기중의 체류 시간이 약 45분 내지 약 90분 이내이고, 플러그 유동 반응기중의 체류 시간이 약 25분 내지 약 35분 이내이고, 중합체 시멘트가 추가로 약 45,000 내지 약 75,000 이내의 수평균 분자량을 갖는 중간 분자량 리빙 폴리디엔 고무를 함유하고, 저분자량 폴리디엔 쇄가 약 30,000 미만의 수평균 분자량을 갖고, 고분자량 폴리디엔 쇄가 약 90,000 이상의 수평균 분자량을 갖는 방법.
- 제 4 항에 있어서,제 1 반응기중에서 얻어진 단량체 전환율이 약 95% 이상이고, 비대칭성 주석 결합된 고무 중합체가 스티렌-부타디엔 고무이고, 약 60℃ 내지 약 85℃ 이내의 온도에서 수행되는 방법.
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