KR19990034611U - Multi-Layer Film Pellicle - Google Patents
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- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
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Abstract
본 고안은 다층 필름형 펠리클에 관한 것으로서, 종래의 단일막으로 구성되는 필름 대신 낱장으로 분리가능한 다수개의 막으로 구성되는 다층 필름을 프레임에 부착하여 구성하므로써, 포토마스크 사용중 오염이 발생한 경우 펠리클 전체를 교체할 필요없이 다층 필름의 최외측막을 벗겨내어 폐기하고 사용하면 되므로 다층 필름을 구성하는 막의 개수만큼 수명이 연장되고 오염 발생시 단시간 내에 처치할 수 있어 생산성과 경제성이 향상되도록 한 것이다.The present invention relates to a multilayer film type pellicle, and by attaching a multi-layer film composed of a plurality of films that can be separated into sheets instead of a film composed of a conventional single film to a frame, the entire pellicle in case of contamination during photomask use Since the outermost membrane of the multilayered film can be peeled off and discarded without being replaced, the lifespan can be extended by the number of films constituting the multilayered film and can be treated in a short time when contamination occurs, thereby improving productivity and economy.
Description
본 고안은 포토마스크를 오염으로부터 보호하기 위한 펠리클에 관한 것으로서, 특히 펠리클의 오염시 펠리클 전체를 포토마스크로부터 제거할 필요가 없어 경제적이고 시간을 절약할 수 있는 다층 필름형 펠리클에 관한 것이다.The present invention relates to a pellicle for protecting a photomask from contamination, and more particularly, to a multilayer film-type pellicle which can be economical and time-saving since it is not necessary to remove the entire pellicle from the photomask during contamination of the pellicle.
포토마스크는 노광공정에 사용되어 웨이퍼 상에 형성되는 미세회로의 원판으로 작용하는 것으로서 상면은 유리로 되고 그 하면에는 크롬으로 패턴이 형성되는 구조로 된다. 이러한 포토마스크가 외부의 파티클 등에 의해 오염되는 경우에는 노광공정시에 정확한 패턴을 형성하지 못하게 되므로 펠리클(pellicle)로 패턴 형성에 관계되는 부분을 덮어 외부의 오염으로부터 보호하도록 하고 있다.The photomask is used in the exposure process and acts as a disc of the microcircuit formed on the wafer, the upper surface of which is made of glass and the lower surface of which forms a pattern of chromium. If the photomask is contaminated by an external particle or the like, it is impossible to form an accurate pattern during the exposure process, so that a portion related to pattern formation is covered with a pellicle to protect it from external contamination.
도 1 은 종래 펠리클이 부착된 상태의 포토마스크 하면 구조를 도시한 평면도이고, 도 2 는 도 1 의 A-A선을 따라 자른 단면을 도시한 단면도이다. 이에 도시한 바와 같이, 포토마스크(1) 중 직접 패턴 형성에 관계되는 일정한 부분을 오염으로부터 보호하기 위하여 포토마스크(1)의 유리로 된 상면(1a)과 크롬 패턴이 형성된 하면(1b)의 일정 영역을 펠리클(2)로 덮어 보호하도록 구성하였는데, 종래의 펠리클(2)은 프레임(2a)과, 상기 프레임(2a)에 부착되는 단일막의 얇은 필름(2b)으로 구성되며 프레임(2a)의 필름(2b)이 부착된 반대면이 접착제(3)로 포토마스크(1)에 부착되었다.1 is a plan view showing a lower surface structure of a photomask in a state where a conventional pellicle is attached, and FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a cross section taken along line A-A of FIG. 1. As shown in the figure, in order to protect a certain part of the photomask 1 related to the direct pattern formation from contamination, the constant surface of the upper surface 1a of the glass of the photomask 1 and the lower surface 1b on which the chrome pattern is formed. The area was covered to cover and protected by a pellicle (2). The conventional pellicle (2) consists of a frame (2a) and a thin film (2b) of a single film attached to the frame (2a) and the film of the frame (2a). The opposite side to which 2b was attached was attached to the photomask 1 with the adhesive 3.
이렇게 펠리클(2)이 부착된 포토마스크(1)를 사용하다가 파티클등이 펠리클(2)의 필름(2b)에 부착되어 오염이 발생하면 필름(2b)이 부착된 프레임(2a) 전체를 제거하고 새로운 펠리클(2)을 부착하여 사용하였다.When the photomask 1 with the pellicle 2 attached is used, and particles are attached to the film 2b of the pellicle 2 and contamination occurs, the entire frame 2a to which the film 2b is attached is removed. Fresh pellicle 2 was attached and used.
상기한 바와 같은 구조로 되는 종래의 펠리클(2)은 펠리클(2)의 필름(2b)이 오염되는 경우 펠리클(2) 전체를 교체해야 하므로 많은 비용이 소요되며 펠리클(2) 교체시 마다 포토마스크(1)를 세정하여야 하는 점을 감안할 때 전체 작업시간에서 펠리클(2) 교체에 소요되는 시간이 적지않아 공정 생산성이 저하되고 비경제적인 문제점이 있었다.The conventional pellicle 2 having the structure as described above is expensive because the pellicle 2 must be replaced when the film 2b of the pellicle 2 is contaminated, and the photomask is replaced every time the pellicle 2 is replaced. In consideration of the fact that (1) needs to be cleaned, the time required for replacing the pellicle (2) in the whole working time is not so small that the process productivity is lowered and there is an uneconomic problem.
따라서, 상기한 바와 같은 문제점을 인식하여 안출된 본 고안의 목적은 펠리클 오염시 펠리클 전체를 교체하지 아니하고 단시간내에 처치할 수 있도록 되어 공정 생산성을 향상시킬 수 있는 펠리클을 제공하고자 하는 것이다.Therefore, an object of the present invention devised in recognition of the problems described above is to provide a pellicle that can be processed in a short time without replacing the entire pellicle when pellicle contamination, thereby improving the process productivity.
도 1 은 종래 펠리클이 부착된 상태의 포토마스크 하면 구조를 도시한 평면도.1 is a plan view showing a lower surface structure of a photomask in a state where a conventional pellicle is attached.
도 2 는 도 1 의 A-A선을 따라 자른 단면을 도시한 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 1. FIG.
도 3 은 본 고안의 일실시례에 의한 다층 필름형 펠리클이 포토마스크에 부착된 상태를 도시한 단면도.Figure 3 is a cross-sectional view showing a state in which the multi-layer film-type pellicle attached to the photomask according to an embodiment of the present invention.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)
1;포토마스크 2;펠리클1; photomask 2; pellicle
2a,10a;프레임 2b;필름2a, 10a; Frame 2b; Film
3;접착제 10b;다층 필름3; adhesive 10b; multilayer film
상기한 바와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 패턴 형성에 관계되는 포토마스크 상의 일정부분을 둘러싸며 부착되는 프레임과, 한 장씩 분리가능하게 다층으로 형성되어 최하측 막이 상기 프레임에 부착되는 다층 필름을 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 다층 필름형 펠리클이 제공된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, a multi-layer film that is attached to surround the predetermined portion on the photomask involved in the pattern formation, and formed in a multi-layer detachably one by one so that the lowermost film is attached to the frame There is provided a multilayer film pellicle, characterized in that it comprises a.
도 3 은 본 고안의 일실시례에 의한 다층 필름형 펠리클이 포토마스크에 부착된 상태를 도시한 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a state in which a multilayer film pellicle is attached to a photomask according to an embodiment of the present invention.
이에 도시한 바와 같이, 본 고안에 의한 다층 필름형 펠리클(10)은 패턴 형성에 관계되는 포토마스크(1) 상의 일정부분을 둘러싸며 부착되는 프레임(10a)과, 한 장씩 분리가능하게 다층으로 형성되어 최하측 막이 상기 프레임(10a)에 부착되는 다층 필름(10b)을 포함하여 구성되게 된다. 이때 프레임(10a)은 종래와 마찬가지로 접착제(3)를 사용하여 포토마스크(1)에 부착하고 상기 다층 필름(10b)은 얇고 투명한 필름을 3 ~ 5 층 정도 겹쳐서 형성하는 것이 바람직하다.As shown in the drawing, the multilayer film-type pellicle 10 according to the present invention is formed in a multi-layer that is detachably attached to the frame 10a attached to surround a predetermined portion on the photomask 1 related to pattern formation. The lowermost film is configured to include the multilayer film 10b attached to the frame 10a. At this time, the frame 10a is attached to the photomask 1 using the adhesive 3 as in the prior art, and the multilayer film 10b is preferably formed by overlapping a thin and transparent film by about 3 to 5 layers.
상기한 바와 같은 구조로 되는 본 고안에 의한 다층 필름형 펠리클(10)은 사용시 다층 필름(10b)의 최외측을 구성하는 막이 오염되게 되는데 이 경우 오염된 최외측 막을 제거하면 그 내부에 오염되지 않은 깨끗한 막이 노출되게 되어 펠리클 전체를 교체하지 않고 계속사용하는 것이 가능하며, 이렇게 한 장씩 막을 벗겨내며 사용하다가 프레임(10a)에 직접 접촉된 막이 오염된 경우에는 종래와 마찬가지로 프레임(10a)을 제거하고 새로운 프레임(10a)을 부착하는 방식으로 사용하게 된다.In the multilayer film type pellicle 10 according to the present invention having the structure as described above, the membrane constituting the outermost side of the multilayer film 10b is contaminated when used, and in this case, the contaminated outermost membrane is not contaminated therein. As the clean film is exposed, it is possible to continue using the entire pellicle without replacing the pellicle.If the film is directly contacted with the frame 10a after removing the film one by one, the frame 10a is removed as before. It is used by attaching the frame 10a.
상기한 바와 같은 구조로 되는 본 고안에 의한 다층 필름형 펠리클은 포토마스크 사용중 오염이 발생한 경우 펠리클 전체를 교체할 필요없이 다층 필름의 최외측막을 벗겨내어 폐기하고 사용하면 되므로 다층 필름을 구성하는 막의 개수만큼 수명이 연장되고 오염 발생시 단시간 내에 처치할 수 있어 생산성과 경제성이 향상되는 효과가 있다.The multilayer film-type pellicle according to the present invention having the structure as described above can be used after peeling away the outermost film of the multilayer film without replacing the entire pellicle when contamination occurs during the use of the photomask. As long as the life is extended and pollution can be treated in a short time, there is an effect of improving productivity and economic efficiency.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019980001009U KR200195108Y1 (en) | 1998-01-31 | 1998-01-31 | Pellicle with multilayered film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019980001009U KR200195108Y1 (en) | 1998-01-31 | 1998-01-31 | Pellicle with multilayered film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19990034611U true KR19990034611U (en) | 1999-08-25 |
| KR200195108Y1 KR200195108Y1 (en) | 2000-09-01 |
Family
ID=19531525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019980001009U KR200195108Y1 (en) | 1998-01-31 | 1998-01-31 | Pellicle with multilayered film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200195108Y1 (en) |
-
1998
- 1998-01-31 KR KR2019980001009U patent/KR200195108Y1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR200195108Y1 (en) | 2000-09-01 |
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