KR20040060569A - A Pellicle Device Of Photo Mask - Google Patents
A Pellicle Device Of Photo Mask Download PDFInfo
- Publication number
- KR20040060569A KR20040060569A KR1020020087376A KR20020087376A KR20040060569A KR 20040060569 A KR20040060569 A KR 20040060569A KR 1020020087376 A KR1020020087376 A KR 1020020087376A KR 20020087376 A KR20020087376 A KR 20020087376A KR 20040060569 A KR20040060569 A KR 20040060569A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- frame
- pellicle
- lower frame
- photomask
- groove
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 포토마스크의 펠리클을 재활용하는 장치에 관한 것으로서, 특히, 포토마스크의 석영플레이트에 접착수지에 의하여 접착 고정되는 펠리클 프레임을 상,하부프레임으로 분리하여 상기 상,하부프레임 사이에 오링으로 시일링하여 공기나 이물질이 유입되는 것을 방지하고, 걸림수단인 걸림부재를 이용하여 상기 하부프레임에 상기 상부프레임을 걸어주어 조립하거나 분리하므로 펠리클 및 상부프레임을 재활용하여 사용하도록 하는 포토마스크의 페리클장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for recycling a pellicle of a photomask, and in particular, a pellicle frame, which is adhesively fixed to a quartz plate of a photomask by an adhesive resin, is separated into upper and lower frames to seal an O-ring between the upper and lower frames. Ringing to prevent the inflow of air or foreign matter, and by hanging the upper frame to the lower frame using a locking member as a locking means to assemble or separate the pellicle and the photomask to use the recycled upper frame It is about.
일반적으로, 포토마스크란 반도체소자 혹은 직접회로의 구조를 크롬이 증착된(Deposilion) 유리판 위에 형성한 것으로, 사진술 (포토리소그래피: Photo Lithography)을 이용하여, 이것을 웨이퍼 위에, 복사하여 반도체를 제조하기 위한, 반도체소자 회로가 인쇄(Writing)된 기초 기판이(substrate)석영으로 된 장치를 말한다.In general, a photomask is a structure of a semiconductor device or an integrated circuit formed on a chromium-deposited glass plate, which is copied onto a wafer using photolithography (Photo Lithography) to manufacture a semiconductor. The apparatus refers to a device in which a substrate is made of quartz, in which a semiconductor device circuit is printed.
이와 같이, 포토마스크에는 다양한 종류가 있으며, 이러한 대부분의 마스크는 상기한 바와 같이, 석영으로 된 기판(이하, 석영플레이트라 함)의 상부면에 크롬을 입히는 일반계열과, 몰리브덴계열등인 위상 안전 포토마스크 장치가 있다.As described above, there are various types of photomasks, and most of these masks have a phase safety such as a general series for coating chromium on a top surface of a quartz substrate (hereinafter referred to as a quartz plate), and a molybdenum series lamp. There is a photomask device.
이 금속막위에 소정의 photo 공정 및 Etch공정을 통해서 회로기판과 같은 금속패턴을 형성하여 만든, 포토마스크를 축소노광장치(stepper)를 이용하여 광을 통하여 웨이퍼 상에 소정의 패턴을 전달 형성하게 된다.The photomask is formed by forming a metal pattern such as a circuit board through a predetermined photo process and an etching process on the metal film, and transfers a predetermined pattern onto the wafer through light using a reduction stepper. .
상기 포토마스크의 상측면부에는 펠리클(Pellicle)이라고 하는 얇고, 광학적으로 투명한 플루오르 폴리머 혹은 니트로셀룰로스 재질인 필림이 적층되어져 있다.On the upper side of the photomask, a thin, optically transparent fluoropolymer called pellicle or a film made of nitrocellulose is laminated.
상기 펠리클은, 프레임에 의하여 지지되어져 포토마스크에 부착되어지고, 노광장치의 평면 이미지내에서 이물질에 의하여 야기되어지는 결함이 인쇄되는 것을 감소시키고 이물질을 제거하기 위하여 사용되어진다.The pellicle is supported by the frame and attached to the photomask, and used to reduce the printing of defects caused by the foreign matter in the planar image of the exposure apparatus and to remove the foreign matter.
도 1은 종래의 포토마스크를 보인 평면도이고, 도 2는 종래의 포토마스크에 펠리클이 설치된 상태를 보인 단면도이다.1 is a plan view showing a conventional photomask, Figure 2 is a cross-sectional view showing a state where a pellicle is installed in a conventional photomask.
종래의 포토마스크(A)에 펠리클(10)이 설치된 상태의 구성은, 석영플레이트(2)에 크롬층(4)이 적층된 상태에서 크롬층(4)의 측면부분에 석영플레이트(2)에 접착수지(6)에 의하여 접착 고정되는 알루미늄 재질의 프레임(8)이 위치하게 된다.The configuration of the state in which the pellicle 10 is installed in the conventional photomask (A) is in the quartz plate 2 on the side surface of the chromium layer 4 in a state where the chromium layer 4 is laminated on the quartz plate 2. The aluminum frame 8 is adhesively fixed by the adhesive resin 6 is positioned.
그리고, 상기 프레임(8)과 크롬층(4)의 상부면을 보호하기 위하여 펠리클(10)이 부착되어져 있다.A pellicle 10 is attached to protect the upper surface of the frame 8 and the chromium layer 4.
상기 프레임(8)은, 5.9mm정도의 높이를 갖는다.The frame 8 has a height of about 5.9 mm.
그런데, 상기한 바와 같이, 상기 펠리클을 대량생산에 사용하는 것이 아닌 경우, 일시적 보호용으로 사용하거나 펠리클 사용후 몇 개월후에 필요시 다시 분리하고 클롬층 패턴부위 수정등으로 인하여 분리하는 경우가 발생되면, 펠리클 하단의 접착수지를 떼어내고, 접착제부위의 이물질을 세정공정을 통하여 제거하고, 기존에 사용하던 펠리클은 폐기처분하고 새로운 펠리클을 사용하여야 하므로 공정이 번거롭고 비용이 상승하는 문제점을 지닌다.However, as described above, when the pellicle is not used for mass production, if it is used for temporary protection or separated after a few months after using the pellicle if necessary and separated due to modification of the chromium layer pattern portion, The adhesive resin at the bottom of the pellicle is removed, foreign substances on the adhesive part are removed through a cleaning process, and the existing pellicle has to be disposed of and used with a new pellicle.
본 발명은 이러한 점을 감안하여 안출한 것으로서, 포토마스크의 석영플레이트에 접착수지에 의하여 접착 고정되는 펠리클 프레임을 상,하부프레임으로 분리하여 상기 상,하부프레임 사이에 오링으로 시일링하여 공기나 이물질이 유입되는 것을 방지하고, 걸림수단인 걸림부재를 이용하여 상기 하부프레임에 상기 상부프레임을 걸어주어 조립하거나 분리하므로 펠리클 및 상부프레임을 재활용하여 사용하도록 하는 것이 목적이다.The present invention has been made in view of this point, by separating the pellicle frame adhesively fixed to the quartz plate of the photomask by the adhesive resin in the upper and lower frames to seal the air or foreign matter between the upper and lower frames by O-rings. The purpose is to prevent the inflow, and to assemble or separate the upper frame to the lower frame by using the locking member as a locking means to recycle and use the pellicle and the upper frame.
도 1은 종래의 포토마스크를 보인 평면도이고,1 is a plan view showing a conventional photomask,
도 2는 종래의 포토마스크에 펠리클이 설치된 상태를 보인 단면도이고,2 is a cross-sectional view showing a state where a pellicle is installed in a conventional photomask,
도 3은 본 발명에 따른 펠리클장치가 설치된 포토마스크의 단면도이고,3 is a cross-sectional view of a photomask in which a pellicle device according to the present invention is installed,
도 4는 본 발명에 따른 펠리클장치를 상세하게 보인 도면이고,4 is a view showing in detail the pellicle apparatus according to the present invention,
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 펠리클장치가 설치된 상태 평면도이고,5 is a plan view of a state in which a pellicle device is installed according to an embodiment of the present invention;
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 펠리클장치가 설치된 상태 평면도이다.6 is a plan view of a state in which a pellicle device is installed according to an embodiment of the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
A,B : 포토마스크 20 : 석영플레이트A, B: photomask 20: quartz plate
22 : 크롬층 24 : 접착수지22: chromium layer 24: adhesive resin
26 : 하부프레임 28 : 나사공26: lower frame 28: screw hole
30 : 하부홈 32 : 오링30: lower groove 32: O-ring
34 : 상부프레임 36 : 걸림홈34: upper frame 36: locking groove
38 : 상부홈 40 : 펠리클38: upper groove 40: pellicle
50 : 걸림수단 52 : 걸림쇠50: locking means 52: latch
54 : 걸림턱 56 : 끼움공54: engaging jaw 56: fitting hole
58 : 고정나사58: set screw
본 발명의 목적은, 석영플레이트에 크롬층이 적층된 상태에서 상기 크롬층의 상부면을 보호하도록 하는 펠리클을 구비하는 포토마스크에 있어서, 상기 석영플레이트의 상측면 부분에 접착수지에 의하여 부착되고, 상기 크롬층의 측면부분에 반정도의 높이로 형성되는 하부프레임과; 상기 하부프레임의 상측부분에 분리가능하게 접촉되어지고, 상측부분에 상기 크롬층에 접촉되는 펠리클이 부착되어져 있는 상부프레임과; 상기 상부프레임과 하부프레임에 측면부분에 양자를 서로 고정하여분리하거나 조립하도록 하는 걸림수단으로 구성된 포토마스크의 펠리클장치를 제공함으로써 달성된다.An object of the present invention, in the photomask having a pellicle to protect the upper surface of the chromium layer in a state where the chromium layer is laminated on the quartz plate, it is attached to the upper side portion of the quartz plate by an adhesive resin, A lower frame formed at a height of about half at a side portion of the chromium layer; An upper frame detachably contacting an upper portion of the lower frame and having a pellicle attached to the chromium layer attached to an upper portion of the lower frame; It is achieved by providing a pellicle device of the photomask consisting of a locking means for fixing to both sides of the upper frame and the lower frame to be separated from each other or assembled.
그리고, 상기 하부프레임의 상부면에는 반구형상의 하부홈이 형성되고, 상기 하부홈에 대응되는 상기 상부프레임의 저면에는 상부홈을 형성하며, 상기 상,하부홈에 양자의 틈새를 밀봉하는 오링을 설치하도록 한다.In addition, a hemispherical lower groove is formed on an upper surface of the lower frame, an upper groove is formed on a lower surface of the upper frame corresponding to the lower groove, and an O-ring is installed to seal a gap between the upper and lower grooves. Do it.
그리고, 상기 걸림수단은, 상기 하부프레임의 측면부분에 형성된 나사공과; 상기 상부프레임의 측면부분에 형성되는 걸림홈과; 상기 상부프레임의 걸림홈에 걸려지는 걸림턱을 형성하고, 끼움공으로 끼워지는 고정나사가 상기 하부프레임의 나사공에 체결되어 상기 상,하부프레임을 조립 혹은 분리하도록 하는 걸림쇠로 구성된다.And, the locking means, the screw hole formed in the side portion of the lower frame; A catching groove formed in a side portion of the upper frame; The locking jaw is formed in the locking groove of the upper frame, and the fixing screw fitted into the fitting hole is fastened to the screw hole of the lower frame to assemble or separate the upper and lower frames.
그리고, 상기 상,하부프레임의 재질은, 알루미늄을 사용하도록 한다.In addition, the upper and lower frames are made of aluminum.
이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명의 일 실시예를 살펴 보도록 한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 따른 펠리클장치가 설치된 포토마스크의 단면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 펠리클장치를 상세하게 보인 도면이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 펠리클장치가 설치된 상태 평면도이고, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 펠리클장치가 설치된 상태 평면도이다.3 is a cross-sectional view of a photomask having a pellicle device according to the present invention, FIG. 4 is a view showing the pellicle device according to the present invention in detail, and FIG. 5 is a plan view of the pellicle device installed according to an embodiment of the present invention. 6 is a plan view of a state in which a pellicle device is installed according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 구성은, 석영플레이트(20)에 크롬층(22)이 적층된 상태에서 상기 크롬층(22)의 상부면을 보호하도록 하는 펠리클(40)을 구비하는 포토마스크(B)에 있어서, 상기 석영플레이트(20)의 상측면 부분에 접착수지(24)에 의하여 부착되고, 상기 크롬층(22)의 측면부분에 반정도의 높이로 형성되는 하부프레임(26)과; 상기하부프레임(26)의 상측부분에 분리가능하게 접촉되어지고, 상측부분에 상기 크롬층(22)에 접촉되는 펠리클(40)이 부착되어져 있는 상부프레임(34)과; 상기 상부프레임(34)과 하부프레임(26)에 측면부분에 양자를 서로 고정하여 분리하거나 조립하도록 하는 걸림수단(50)으로 구성된다.In the configuration of the present invention, in the photomask (B) having a pellicle 40 to protect the upper surface of the chromium layer 22 in a state where the chromium layer 22 is laminated on the quartz plate 20, A lower frame 26 attached to an upper surface portion of the quartz plate 20 by an adhesive resin 24 and formed at a half height on a side surface of the chromium layer 22; An upper frame 34 detachably contacting an upper portion of the lower frame 26 and having a pellicle 40 attached to the chromium layer 22 on an upper portion thereof; The upper frame 34 and the lower frame 26 is composed of a locking means (50) for fixing or separating or assembling both of the side portions to each other.
그리고, 상기 하부프레임(26)의 상부면에는 반구형상의 하부홈(30)이 형성되고, 상기 하부홈(30)에 대응되는 상기 상부프레임(34)의 저면에는 상부홈(38)을 형성하여 상기 상,하부홈(38)(30)에 양자의 틈새를 밀봉하는 오링(32)을 설치하도록 한다.In addition, a hemispherical lower groove 30 is formed on an upper surface of the lower frame 26, and an upper groove 38 is formed on a lower surface of the upper frame 34 corresponding to the lower groove 30. The upper and lower grooves 38 and 30 are provided with an O-ring 32 for sealing the gap between them.
그리고, 상기 걸림수단(50)은, 상기 하부프레임(26)의 측면부분에 형성된 나사공(28)과; 상기 상부프레임(34)의 측면부분에 형성되는 걸림홈(36)과; 상기 상부프레임(34)의 걸림홈(36)에 걸려지는 걸림턱(54)을 형성하고, 끼움공(56)으로 끼워지는 고정나사(58)가 상기 하부프레임(26)의 나사공(28)에 체결되어 상시 상,하부프레임(34)(26)을 조립 혹은 분리하는 걸림쇠(52)로 구성된다.And, the locking means 50, the screw hole 28 formed in the side portion of the lower frame 26; A catching groove 36 formed in a side portion of the upper frame 34; The locking jaw 54 is formed to be caught by the locking groove 36 of the upper frame 34, and the fixing screw 58 fitted into the fitting hole 56 is the screw hole 28 of the lower frame 26. Is fastened to the upper and lower frames 34, 26 is composed of braces 52 to assemble or separate.
한편, 상기 상,하부프레임(34)(26)의 재질은, 알루미늄을 사용하도록 한다.On the other hand, the material of the upper and lower frames 34, 26, to use aluminum.
이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명의 작용 및 효과를 살펴 보도록 한다.Hereinafter, the operation and effects of the present invention will be described based on the accompanying drawings.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 포토마스크(B)의 크롬층(22)상에 펠리클(40)을 접착하는 상태를 살펴 보면, 상부프레임(34)에 펠리클(4)을 접착시킨 상태에서 상부프레임(34)의 상부홈(38)과 하부프레임(26)의 하부홈(30)에 오링(32)을 개재하여 접촉시키도록 한다.3 and 4, when the pellicle 40 is bonded to the chromium layer 22 of the photomask B, the pellicle 4 is attached to the upper frame 34. The upper groove 38 of the upper frame 34 and the lower groove 30 of the lower frame 26 to contact through the O-ring 32.
그리고, 상기 상부프레임(34)의 측면부분에 형성된 걸림홈(36)에걸림수단(50)인 걸림쇠(52)의 걸림턱(54)을 걸어주도록 한다.Then, the locking jaw 54 of the locking means 52, which is the locking means 50, is hooked to the locking groove 36 formed on the side portion of the upper frame 34.
그리고, 상기 걸림쇠(52)의 하단부분에 형성된 끼움공(6)을 통하여 고정나사(58)을 삽입하여 상기 하부프레임(26)에 형성된 나사공(28)에 체결하여 상기 상,하부프레임(34)(26)을 서로 고정하도록 한다.Then, the fixing screw 58 is inserted through the fitting hole 6 formed at the lower end of the latch 52 to be fastened to the screw hole 28 formed in the lower frame 26 to form the upper and lower frames 34. ) 26 to be fixed to each other.
그리고, 상기 포토마스크(B)를 사용하면서, 상기 크롬층(22)의 패턴을 수정하고자 한다면, 드라이버를 사용하여 성기 고정나사(58)를 풀어서 하부프레임(26)의 나사공(28)에서 분리하도록 한다.And, if you want to modify the pattern of the chrome layer 22 while using the photomask (B), loosen the penis fixing screw 58 using a screwdriver to separate from the screw hole 28 of the lower frame 26 Do it.
그리고, 상기 상부프레임(34)의 걸림홈(36)에 걸려져 있는 걸림쇠(52)의 걸림턱(54)을 분리하도록 한다.Then, the locking jaw 54 of the latch 52 that is caught in the locking groove 36 of the upper frame 34 to be separated.
이와 같이, 상기 걸림쇠(52)를 분리한 후, 상기 상부프레임(34)을 분리하여 이에 고정된 펠리클(40)을 상기 포토마스크(B)의 크롬층(22)에서 분리하여 내도록 한다.As described above, after the latch 52 is removed, the upper frame 34 is separated and the pellicle 40 fixed thereto is separated from the chromium layer 22 of the photomask B.
이러한 상태에서 상기 포토마스크(B)의 크롬층(22)에서 크롬패턴을 수정한 후에 상기한 과정을 거쳐서 상부프레임(34)을 걸림수단(50)을 이용하여 펠리클(40)을 포토마스크(B)의 크롬층(22)에 부착하여 사용하도록 한다.In this state, after modifying the chromium pattern in the chromium layer 22 of the photomask B, the pellicle 40 is moved to the photomask B using the locking means 50 through the upper frame 34 through the above-described process. It is attached to the chromium layer 22 of).
한편, 도 5는 걸림수단(50)이 상부프레임(34)의 길이가 좁은 부분에 형성된 상태를 보이고 있으며, 도 6은 걸림수단(50)이 상부프레임(34)의 길이가 넓은 부분에 형성된 상태를 보이고 있으나, 양자에 모두 형성하여도 무방하다.On the other hand, Figure 5 shows a state in which the locking means 50 is formed in the narrow portion of the upper frame 34, Figure 6 is a state in which the locking means 50 is formed in the wide portion of the upper frame 34 It shows, but may be formed on both.
따라서, 상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 포토마스크의 펠리클장치를 사용하면, 포토마스크의 석영플레이트에 접착수지에 의하여 접착 고정되는 펠리클 프레임을 상,하부프레임으로 분리하여 상기 상,하부프레임 사이에 오링으로 시일링하여 공기나 이물질이 유입되는 것을 방지하고, 걸림수단인 걸림부재를 이용하여 상기 하부프레임에 상기 상부프레임을 걸어주어 조립하거나 분리하여 펠리클 및 상부프레임을 재활용하여 사용하므로 공정을 단순화하고, 비용을 현저하게 저감하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.Therefore, as described above, when using the pellicle device of the photomask according to the present invention, the pellicle frame is fixed to the quartz plate of the photomask by an adhesive resin into upper and lower frames to separate the upper and lower frames. By sealing with an O-ring to prevent the inflow of air or foreign matters, and by using the locking member as a locking means to hang the upper frame to the lower frame to assemble or separate to reuse the pellicle and the upper frame to simplify the process It is a very useful and effective invention that can significantly reduce costs.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020020087376A KR20040060569A (en) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | A Pellicle Device Of Photo Mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020020087376A KR20040060569A (en) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | A Pellicle Device Of Photo Mask |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20040060569A true KR20040060569A (en) | 2004-07-06 |
Family
ID=37352445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020020087376A KR20040060569A (en) | 2002-12-30 | 2002-12-30 | A Pellicle Device Of Photo Mask |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20040060569A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103246157A (en) * | 2013-05-21 | 2013-08-14 | 上海和辉光电有限公司 | Dustproof film framework, optical mask and installation method thereof |
| CN103728829A (en) * | 2012-10-16 | 2014-04-16 | 信越化学工业株式会社 | Pellicle |
| US9395620B2 (en) | 2014-01-28 | 2016-07-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Pellicle |
-
2002
- 2002-12-30 KR KR1020020087376A patent/KR20040060569A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103728829A (en) * | 2012-10-16 | 2014-04-16 | 信越化学工业株式会社 | Pellicle |
| CN103246157A (en) * | 2013-05-21 | 2013-08-14 | 上海和辉光电有限公司 | Dustproof film framework, optical mask and installation method thereof |
| US9395620B2 (en) | 2014-01-28 | 2016-07-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Pellicle |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6524754B2 (en) | Fused silica pellicle | |
| KR100849714B1 (en) | Structure and method for manufacturing pellicle of photo-mask | |
| US20070264582A1 (en) | Double-decker mask-pellicle assembly | |
| KR20040060569A (en) | A Pellicle Device Of Photo Mask | |
| US20080199783A1 (en) | Double-Decker Pellicle-Mask Assembly | |
| KR102619269B1 (en) | Pellicle container for lithography | |
| JPS6344824Y2 (en) | ||
| US5332604A (en) | Adhesive system for reducing the likelihood of particulate | |
| US7351503B2 (en) | Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask | |
| KR100253381B1 (en) | Method of manufacturing recyclable mask and its recycling method | |
| KR20010084145A (en) | Pellicle for protecting a photo mask | |
| KR20040001785A (en) | A Filter Structure Of Pellicle For Photo Mask | |
| KR20040005355A (en) | A Pellicle Seperating Type Frame Structure | |
| KR200149834Y1 (en) | Mask with pellicle | |
| JP2005062640A (en) | Photomask with pellicle | |
| KR100567519B1 (en) | Pellicle for protecting reticle from contamination and its manufacturing method | |
| KR20050068474A (en) | Pellicle with chemical filter for manufacturing semiconductor | |
| KR20110119979A (en) | Method for preventing pollusion of pellicle and inspection apparatus applying to thereof | |
| KR20040098753A (en) | Reticle | |
| JPH0493945A (en) | Photomask | |
| KR20050003293A (en) | Photo mask for fabricating of semiconductor device | |
| KR0142791B1 (en) | Reticle structure | |
| KR100831672B1 (en) | A Cover Plate Structure Of Photo Mask | |
| KR100995632B1 (en) | Photo mask attached pellicle with | |
| KR100711908B1 (en) | Reticle and the fabrication method, the exposure equipment and the operating method by using it |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WITN | Withdrawal due to no request for examination |