KR20040005355A - A Pellicle Seperating Type Frame Structure - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 포토마스크용 펠리클(Pellicle)에 관한 것으로서, 특히, 펠리클이 설치되는 상부프레임의 저면부분에서 레버에 의하여 분리되는 하부프레임을 오링으로 밀봉한 상태로 결합시키고, 평상시에는 상기 상부프레임과 하부플레임에 각각 형성된 다수의 핀삽입공과 하부핀삽입공에 고정핀을 삽입하여 양자를 고정하여 하부프레임의 저면에 고정된 포토마스크에 리소그라피공정을 진행한 후 포토마스크에 부착된 하부프레임을 재사용하므로 펠리클의 교체작업을 용이하게 하도록 하는 펠리클 분리형 프레임구조에 관한 것이다.The present invention relates to a pellicle (Pellicle) for the photomask, in particular, the lower frame separated by the lever in the bottom portion of the upper frame in which the pellicle is installed in an O-ring sealed state, usually the upper frame and the lower A plurality of pin insertion holes and lower pin insertion holes formed in the flame are inserted into the fixing pins to fix both, and the lithography process is performed on the photomask fixed to the bottom of the lower frame, and then the lower frame attached to the photomask is reused. It relates to a separate pellicle frame structure to facilitate the replacement of the pellicle.
일반적으로, 웨이퍼 상에 임의의 패턴을 형성하기 위한 방법으로는 포토리소그라피(Photo Lithography)공정이 이용되고 있다. 이 공정은 식각베리어로서 감광막 패턴(Photoresist Pattern)을 형성하는 공정과; 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 식각대상층을 식각하는 공정으로 구분되며, 상기 감광막패턴을 형성하는 공정은, 식각대상물 상에 감광막을 도포하는 공정과; 특정 마스크를 이용하여 도포된 감광막을 노광하는 공정 및 노광된 부분 혹은 노광되지 않은 부분을 임의의 용액으로 제거하는 현상공정등으로 이루어진다.In general, a photolithography process is used as a method for forming an arbitrary pattern on a wafer. This process includes forming a photoresist pattern as an etching barrier; The photoresist pattern may be divided into a process of etching an etching target layer, and the process of forming the photoresist pattern may include: applying a photoresist film on the etching target object; And a developing process of removing the exposed or unexposed portions with an arbitrary solution.
상기 리소그라피공정에는 축소 노광용 마스크를 사용하여 패턴을 형성하게 되는 것으로서, 반도체 제조용 포토마스크를 보호하기 위하여서는 장착되는 펠리클에는 미세한 먼지의 유입을 차단하는 에어필터가 벤트홀(Vent)에 장착되어져 있다.In the lithography process, a pattern is formed by using a reduction exposure mask, and in order to protect the photomask for semiconductor manufacturing, an air filter for blocking the inflow of fine dust is installed in the vent hole.
상기 펠리클은, 감광막에 부착되어 프레임에 지지되어지고, 부착되어지는 얇고 광학적으로 투과되는 니트로셀룰로스(Nitrocellulose)등과 같은 투명필림이다. 이 것은 광학적인 노광시스템의 이미지 플레인 내에 있는 이물질에 의하여 야기되는 프린팅된 결함을 줄여주고, 결함을 제거하기 위하여 사용된다.The pellicle is a transparent film such as thin, optically transmitted nitrocellulose, which is attached to the photosensitive film, supported by the frame, and attached thereto. This is used to reduce printed defects caused by foreign matter in the image plane of the optical exposure system and to eliminate the defects.
도 1은 종래의 포토마스크용 펠리클의 구조를 보인 도면이다.1 is a view showing the structure of a conventional photomask pellicle.
종래의 구성을 살펴 보면, 얇고 광학적으로 투과되는 투명필림인 펠리클(1)과; 상기 펠리클(1)을 저면에서 펠리클접착부(2)로 접착된 상태로 지지하는 프레임부재(3)와; 상기 프레임부재(3)의 저면에 포토마스크접착부(4)와 라이너(5)에 의하여 접착되고 레이저광에 의하여 패턴이 형성되는 포토마스크(6)로 구성된다.Looking at the conventional configuration, the pellicle (1) is a transparent film that is thin and optically transmitted; A frame member (3) for supporting the pellicle (1) in the state bonded to the pellicle adhesive portion (2) from the bottom; The photomask 6 is bonded to the bottom of the frame member 3 by the photomask adhesive part 4 and the liner 5, and a photomask 6 is formed by a laser beam.
상기 펠리클(1)은 상기 포토마스크(6)로 공급될 수 있는 이물질을 차단하여서 포토마스크(6)의 사용수명을 연장하고, 세정주기를 연장하며, 반복적인 사용시 오염원으로 격리하는 역활을 하게 된다.The pellicle 1 serves to prolong the service life of the photomask 6, to extend the cleaning cycle, and to isolate the contaminant during repeated use by blocking foreign substances that may be supplied to the photomask 6. .
그런데, 상기한 종래의 펠리클(10)은, 프레임부재(3)에 펠리클접착부(2)에 의하여 접착되어지고, 포토마스크(6) 역시 상기 프레임부재(30)에 포토마스크접착부(4)에 의하여 접착되어진다.By the way, the conventional pellicle 10 is bonded to the frame member 3 by the pellicle adhesive portion 2, and the photomask 6 is also attached to the frame member 30 by the photomask adhesive portion 4. To be bonded.
상기 펠리클접착부(2)와 펠리클접착부(4) 모두 양면 접착테이프 혹은 핫멜트(Hot-Melt)에 의하여 일정한 압력을 가하여 접착되어지므로 펠리클(1)의 수명이 다하거나 파손되어 교체하는 경우, 포토마스크(6) 표면의 접착제를 제거하기 매우 어려운 문제점을 지닌다.When both the pellicle adhesive portion 2 and the pellicle adhesive portion 4 are bonded by applying a constant pressure by a double-sided adhesive tape or hot-melt (Hot-Melt), the life of the pellicle (1) is damaged or replaced when the photomask ( 6) It is very difficult to remove the adhesive on the surface.
본 발명은 이러한 점을 감안하여 안출한 것으로서, 펠리클이 설치되는 상부프레임의 저면부분에서 레버에 의하여 분리되는 하부프레임을 오링으로 밀봉한 상태로 결합시키고, 평상시에는 상기 상부프레임과 하부플레임에 각각 형성된 다수의 핀삽입공과 하부핀삽입공에 고정핀을 삽입하여 양자를 고정하여 하부프레임의 저면에 고정된 포토마스크에 리소그라피공정을 진행한 후 포토마스크에 부착된 하부프레임을 재사용하므로 펠리클의 교체작업을 용이하게 하도록 하는 것이 목적이다.The present invention has been made in view of this point, the lower frame is separated by the lever in the bottom portion of the upper frame in which the pellicle is coupled in an O-ring sealed state, usually formed in the upper frame and the lower frame, respectively Insert the fixing pins into the plurality of pin insertion holes and the lower pin insertion holes to fix them, and then proceed with the lithography process on the photomask fixed to the bottom of the lower frame, and then reuse the lower frame attached to the photomask. The purpose is to make it easy.
도 1은 종래의 포토마스크용 펠리클의 구조를 보인 도면이고,1 is a view showing a structure of a pellicle for a conventional photomask,
도 2는 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임의 분해 사시도이고,Figure 2 is an exploded perspective view of the pellicle detachable frame according to the present invention,
도 3은 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임의 조립 상태도이고,Figure 3 is an assembled state of the pellicle detachable frame according to the present invention,
도 4는 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임의 조립 상태 단면도이며,Figure 4 is an assembled state cross-sectional view of the pellicle detachable frame according to the present invention,
도 5는 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임의 분리 상태를 보인 도면이다.5 is a view showing a separation state of the pellicle separation frame according to the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
10 : 펠리클 20 : 상부프레임10: pellicle 20: upper frame
22 : 상부공간부 24 : 상부핀삽입공22: upper space portion 24: upper pin insertion hole
26 : 고정부재 28 : 상부반구홈26: fixing member 28: upper hemisphere groove
30 : 오링 40 : 하부프레임30: O-ring 40: lower frame
42 : 하부공간부 44 : 하부핀삽입공42: lower space portion 44: lower pin insertion hole
46 : 하부반구홈 48 : 레버끼움홈46: lower hemisphere groove 48: lever fitting groove
50 : 레버 60 : 라이너50: lever 60: liner
62 : 포토마스크접착부 70 : 포토마스크62: photomask adhesive portion 70: photomask
본 발명의 목적은, 얇고 광학적으로 투과되는 투명필림인 펠리클과; 상기 펠리클을 저면에서 펠리클접착부로 접착된 상태로 지지하는 프레임부재와; 상기 프레임부재의 저면에 포토마스크접착부와 라이너에 의하여 접착되는 포토마스크로 구성된 포토마스크의 펠리클 구조에 있어서, 상기 프레임부재는, 상기 펠리클의 저면에 펠리클접착부에 의하여 접착되는 상부프레임과; 상기 상부프레임의 저면에서 분리 가능하게 결합 설치되고 저면에는 상기 포토마스크가 설치되는 하부프레임과; 상기 상부프레임과 하부프레임을 서로 결합하도록 하는 고정부재로 구성된 펠리클 분리형 프레임구조를 제공함으로써 달성된다.The object of the present invention is a pellicle which is a transparent film which is thin and optically transmitted; A frame member for supporting the pellicle in a state where the pellicle is bonded to the pellicle adhesive portion at the bottom thereof; A pellicle structure of a photomask comprising a photomask adhered to a bottom of the frame member by a photomask adhesive portion and a liner, the frame member comprising: an upper frame adhered to the bottom surface of the pellicle by a pellicle adhesive portion; A lower frame detachably coupled to a lower surface of the upper frame and a lower surface to which the photomask is installed; It is achieved by providing a separate pellicle frame structure consisting of a fixing member for coupling the upper frame and the lower frame to each other.
그리고, 상기 상부프레임의 저면에는 상부반구홈을 형성하고, 상기 하부프레임의 상부면에는 하부반구홈을 형성하여 상기 상부반구홈과 하부반구홈 사이에 오링을 개재하도록 한다.An upper hemisphere groove is formed on the bottom of the upper frame, and a lower hemisphere groove is formed on the upper surface of the lower frame to interpose an O-ring between the upper hemisphere groove and the lower hemisphere groove.
상기 고정부재는, 상기 상부프레임에 상,하로 형성되는 상부핀삽입공과 상기 상부핀삽입공에 대응하여 하부프레임에 형성된 하부핀삽입공으로 삽입되어 끼워지는 다수의 고정핀을 사용하는 것이 바람직 하다.The fixing member, it is preferable to use a plurality of fixing pins that are inserted into the upper pin insertion hole is formed in the upper frame, the lower pin insertion hole formed in the lower frame corresponding to the upper pin insertion hole.
그리고, 상기 하부프레임의 측면부에는 레버끼움홈을 형성하고, 하부프레임에 결합된 상부프레임을 상기 레버끼움홈에 레버를 삽입하여 젖혀주어 분리하도록 구성한다.Then, a lever fitting groove is formed in the side portion of the lower frame, and the upper frame coupled to the lower frame is inserted into the lever by inserting the lever in the lever fitting groove and separated.
이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명의 일 실시예를 살펴 보도록 한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임의 분해 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임의 조립 상태도이고, 도 4는 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임의 조립 상태 단면도이며, 도 5는 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임의 분리 상태를 보인 도면이다.Figure 2 is an exploded perspective view of the detachable pellicle frame according to the present invention, Figure 3 is an assembled state of the detachable pellicle frame according to the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view of the assembled state of the pellicle detachable frame according to the present invention, Figure 5 Figure showing the separation state of the pellicle detachable frame according to the invention.
본 발명의 구성은, 얇고 광학적으로 투과되는 투명필림인 펠리클(10)과; 상기 펠리클(10)을 저면에서 펠리클접착부(12)로 접착된 상태로 지지하는 프레임부재(A)와; 상기 프레임부재(A)의 저면에 포토마스크접착부(62)와 라이너(50)에 의하여 접착되는 포토마스크(70)로 구성된 포토마스크의 펠리클 구조에 있어서, 상기 프레임부재(A)는, 상기 펠리클(10)의 저면에 펠리클접착부(12)에 의하여 접착되는 상부프레임(20)과; 상기 상부프레임(20)의 저면에서 분리 가능하게 결합 설치되고 저면에는 상기 포토마스크(70)가 설치되는 하부프레임(40)과; 상기 상부프레임(40)과 하부프레임(40)을 서로 결합하거나 분리하도록 하는 고정부재(26)로 구성된다.The configuration of the present invention, the pellicle 10 is a thin and optically transparent transparent film; Frame member (A) for supporting the pellicle 10 in the state bonded to the pellicle adhesive portion 12 from the bottom; In the pellicle structure of the photomask composed of a photomask 70 bonded to the bottom surface of the frame member A by a photomask adhesive portion 62 and a liner 50, the frame member A is the pellicle ( An upper frame 20 bonded to the bottom of the 10 by the pellicle bonding part 12; A lower frame 40 which is detachably coupled to the bottom of the upper frame 20 and on which the photomask 70 is installed; It consists of a fixing member 26 to couple or separate the upper frame 40 and the lower frame 40 with each other.
그리고, 상기 상부프레임(20)의 저면에는 상부반구홈(28)을 형성하고, 상기 하부프레임(20)의 상부면에는 하부반구홈(46)을 형성하여 상기 상부반구홈(28)과 하부반구홈(46) 사이에 오링(30)을 개재하도록 한다.In addition, an upper hemisphere groove 28 is formed on a bottom of the upper frame 20, and a lower hemisphere groove 46 is formed on an upper surface of the lower frame 20 to form the upper hemisphere groove 28 and the lower hemisphere. The O-ring 30 is interposed between the grooves 46.
그리고, 상기 고정부재(26)는, 상기 상부프레임(20)에 상,하로 형성되는 상부핀삽입공(24)과 상기 상부핀삽입공(24)에 대응하여 하부프레임(40)에 형성된 하부핀삽입공(44)을 삽입되어 끼워지는 다수의 고정핀을 사용하도록 한다.In addition, the fixing member 26, the upper pin insertion hole 24 and the upper pin insertion hole 24 formed in the upper frame 20 and the lower pin formed in the lower frame 40 corresponding to the upper pin insertion hole 24 The insertion hole 44 is to be inserted into a plurality of fixing pins to be used.
상기 고정부재(26)는 나사 결합부분을 갖도록 구성하거나 조임수단을 이용하여 종여주어 구성하는 것가같이 다양한 방법을 이용하여 고정하는 것이 가능하다.The fixing member 26 can be fixed using a variety of methods, such as configured to have a screw coupling portion or by using a tightening means.
또한, 상기 하부프레임(40)의 측면부에는 레버끼움홈(48)을 형성하고, 하부프레임(40)에 결합된 상부프레임(20)을 상기 레버끼움홈(48)에 레버(50)를 삽입하여 젖혀주어 분리하도록 구성한다.In addition, the lever fitting groove 48 is formed in the side portion of the lower frame 40, the upper frame 20 coupled to the lower frame 40 by inserting the lever 50 into the lever fitting groove 48 It is configured to be folded and separated.
이하, 첨부도면에 의거하여 본 발명에 따른 작용 및 효과를 살펴 보도록 한다.Hereinafter, on the basis of the accompanying drawings to look at the action and effect according to the present invention.
먼저, 상부플레임(20)의 상부면에 펠리클(10)을 펠리클접착부(2)로 접착하여 고정하도록 하고, 하부프레임(40)의 저면에는 포토마스크접착부(62) 및 라이너(60)를 이용하여 포토마스크(70)를 접착하도록 한다.First, the pellicle 10 is fixed to the upper surface of the upper frame 20 by the pellicle adhesive portion 2, and the photomask adhesive portion 62 and the liner 60 are used on the lower surface of the lower frame 40. The photomask 70 is bonded to each other.
이와 같은 상태에서 상기 하부프레임(40)의 하부반구홈(46)과 상부프레임(20)의 상부반구홈(28)에 오링(30)을 개재하여 상,하부프레임(20)(40)을 결합시키도록 한다.In this state, the upper and lower frames 20 and 40 are coupled to the lower hemisphere groove 46 of the lower frame 40 and the upper hemisphere groove 28 of the upper frame 20 through the O-ring 30. Let's do it.
그리고, 상기 상부프레임(20)의 상부핀삽입공(24)과 하부프레임(40)의 하부핀삽입공(44)에 고정부재(26)를 삽입하여 고정하도록 한다.Then, the fixing member 26 is inserted into and fixed to the upper pin insertion hole 24 and the lower pin insertion hole 44 of the lower frame 40 of the upper frame 20.
이와 같은 상태로 포토마스크(77)를 사용하다가 펠리클(10)이 수명을 다하거나 파손되어지게 되면, 상기 펠리클(10)을 교환하여야 하는 데, 상기 도 5에 도시된 바와 같이, 레버(50)를 하부프레임(40)의 레버끼움홈(48)에 삽입하여 젖혀주므로 상기 상부프레임(20)을 상기 하부프레임(40)에 대하여 쉽게 분리하게 된다.When the pellicle 10 reaches the end of life or is damaged while using the photomask 77 in this state, the pellicle 10 needs to be replaced, as shown in FIG. 5, as shown in FIG. 5. Is inserted into the lever fitting groove 48 of the lower frame 40 so that the upper frame 20 is easily separated from the lower frame 40.
그리고, 새로운 펠리클(10)이 부착된 새로운 상부프레임(20)을 상기한 바와 같은 과정을 거쳐서 상기 하부프레임(40)에 조립하여 재차 사용하면 된다.Then, the new upper frame 20 to which the new pellicle 10 is attached may be assembled to the lower frame 40 through the above-described process and used again.
따라서, 상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 펠리클 분리형 프레임구조를 사용하면, 펠리클이 설치되는 상부프레임의 저면부분에서 레버에 의하여 분리되는 하부프레임을 오링으로 밀봉한 상태로 결합시키고, 평상시에는 상기 상부프레임과 하부플레임에 각각 형성된 다수의 핀삽입공과 하부핀삽입공에 고정핀을 삽입하여 양자를 고정하여 하부프레임의 저면에 고정된 포토마스크에 리소그라피공정을 진행한 후 포토마스크에 부착된 하부프레임을 재사용하므로 펠리클의 교체작업을 용이하게 하도록 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.Therefore, as described above, when using the pellicle detachable frame structure according to the present invention, the lower frame separated by the lever in the bottom portion of the upper frame in which the pellicle is installed in an O-ring sealed state, usually the upper Insert the fixing pins into the plurality of pin insertion holes and the lower pin insertion holes formed in the frame and the lower frame, respectively, to fix them, and then perform the lithography process on the photomask fixed to the bottom of the lower frame, and then attach the lower frame attached to the photomask. It is a very useful and effective invention that makes it easy to replace the pellicle by reusing it.
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1020020039874A KR20040005355A (en) | 2002-07-10 | 2002-07-10 | A Pellicle Seperating Type Frame Structure |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020020039874A KR20040005355A (en) | 2002-07-10 | 2002-07-10 | A Pellicle Seperating Type Frame Structure |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20040005355A true KR20040005355A (en) | 2004-01-16 |
Family
ID=37315682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020020039874A KR20040005355A (en) | 2002-07-10 | 2002-07-10 | A Pellicle Seperating Type Frame Structure |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20040005355A (en) |
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