KR19990029830A - 사용장소까지초고순도가스를이송하기위한시스템및방법 - Google Patents

사용장소까지초고순도가스를이송하기위한시스템및방법 Download PDF

Info

Publication number
KR19990029830A
KR19990029830A KR1019980038170A KR19980038170A KR19990029830A KR 19990029830 A KR19990029830 A KR 19990029830A KR 1019980038170 A KR1019980038170 A KR 1019980038170A KR 19980038170 A KR19980038170 A KR 19980038170A KR 19990029830 A KR19990029830 A KR 19990029830A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
phase change
liquid
high purity
ultra high
pressure
Prior art date
Application number
KR1019980038170A
Other languages
English (en)
Inventor
쟝-마리 프리드
쟝-미셀 샤를르
Original Assignee
쉬에르 피에르
레르 리뀌드, 소시에떼 아노님 뿌르 레뛰드 에 -
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쉬에르 피에르, 레르 리뀌드, 소시에떼 아노님 뿌르 레뛰드 에 - filed Critical 쉬에르 피에르
Publication of KR19990029830A publication Critical patent/KR19990029830A/ko

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C7/00—Methods or apparatus for discharging liquefied, solidified, or compressed gases from pressure vessels, not covered by another subclass
    • F17C7/02—Discharging liquefied gases
    • F17C7/04—Discharging liquefied gases with change of state, e.g. vaporisation
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2205/00—Vessel construction, in particular mounting arrangements, attachments or identifications means
    • F17C2205/03—Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
    • F17C2205/0302—Fittings, valves, filters, or components in connection with the gas storage device
    • F17C2205/0323—Valves
    • F17C2205/0332—Safety valves or pressure relief valves
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2205/00—Vessel construction, in particular mounting arrangements, attachments or identifications means
    • F17C2205/03—Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
    • F17C2205/0302—Fittings, valves, filters, or components in connection with the gas storage device
    • F17C2205/0338—Pressure regulators
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2205/00—Vessel construction, in particular mounting arrangements, attachments or identifications means
    • F17C2205/03—Fluid connections, filters, valves, closure means or other attachments
    • F17C2205/0388—Arrangement of valves, regulators, filters
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2221/00—Handled fluid, in particular type of fluid
    • F17C2221/01—Pure fluids
    • F17C2221/014—Nitrogen
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2221/00—Handled fluid, in particular type of fluid
    • F17C2221/01—Pure fluids
    • F17C2221/016—Noble gases (Ar, Kr, Xe)
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2221/00—Handled fluid, in particular type of fluid
    • F17C2221/01—Pure fluids
    • F17C2221/016—Noble gases (Ar, Kr, Xe)
    • F17C2221/017—Helium
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2221/00—Handled fluid, in particular type of fluid
    • F17C2221/05—Ultrapure fluid
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2223/00—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel
    • F17C2223/01—Handled fluid before transfer, i.e. state of fluid when stored in the vessel or before transfer from the vessel characterised by the phase
    • F17C2223/0146—Two-phase
    • F17C2223/0153—Liquefied gas, e.g. LPG, GPL
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2225/00—Handled fluid after transfer, i.e. state of fluid after transfer from the vessel
    • F17C2225/01—Handled fluid after transfer, i.e. state of fluid after transfer from the vessel characterised by the phase
    • F17C2225/0107—Single phase
    • F17C2225/0123—Single phase gaseous, e.g. CNG, GNC
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2227/00—Transfer of fluids, i.e. method or means for transferring the fluid; Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/03—Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/0337—Heat exchange with the fluid by cooling
    • F17C2227/0358—Heat exchange with the fluid by cooling by expansion
    • F17C2227/0362—Heat exchange with the fluid by cooling by expansion in a turbine
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2227/00—Transfer of fluids, i.e. method or means for transferring the fluid; Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/04—Methods for emptying or filling
    • F17C2227/045—Methods for emptying or filling by vacuum
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2250/00—Accessories; Control means; Indicating, measuring or monitoring of parameters
    • F17C2250/06—Controlling or regulating of parameters as output values
    • F17C2250/0605—Parameters
    • F17C2250/0636—Flow or movement of content
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2260/00—Purposes of gas storage and gas handling
    • F17C2260/03—Dealing with losses
    • F17C2260/035—Dealing with losses of fluid
    • F17C2260/036—Avoiding leaks
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2270/00—Applications
    • F17C2270/05—Applications for industrial use
    • F17C2270/0518—Semiconductors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
  • Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Abstract

사용 장소까지의 초고순도 가스의 이송 시스템 및 방법이 청구 및 기술되어 있다. 본 발명의 방법은 초고순도 액체 공급원(액체를 거의 액상으로 유지하기에 충분한 온도 및 압력이 있는)을 제공하는 단계와; 공급원으로부터 이 초고순도 액체를 초고순도 가스로 상 변화를 실행하는 하나 이상의 수단으로 이송(공급원만의 압력을 통해 이루어지는 것이 좋은)하는 단계와; 초고순도 가스를 형성하도록 하나 이상의 상 변화 실행 수단에서 초고순도 액체의 상 변화를 실행(평행 기화 상태나 그 부근에서 이루어지는 것이 좋은)하는 단계와; 상 변화 실행 수단으로부터 사용 장소(상 변화 실행 수단과 초청정 도관이 아닌 사용 장소 사이의 중간에 잠재적인 불순물 발생 매체가 없는 것이 좋다)까지 초고순도 가스를 전달하는 단계를 포함한다.

Description

사용 장소까지 초고순도 가스를 이송하기 위한 시스템 및 방법
본 발명은 초순도(ultra-pure) 가스, 주로 불활성 가스를 사용 장소까지 전달하는 것에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 실온에서 대기압보다 높은 증기압으로 액화된 초고순도 가스를 반도체 장치나 다른 사용 장소까지 이송하는 시스템(즉, 장치) 및 방법에 관한 것이다.
집적 회로(IC) 제조 업계에서는 초고순도(Ultra-high purity;UHP) 전자기기 업계용 특수 가스(electronics specialty gases;ESG)가 필요하다. 최근에 공표된 SIA 로드맵(Roadmap)에 따르면, 종래 제조 단계에서 통상적인 순도 조건은, 분자 불순물이 10 내지 100ppb(십억분율)이고, 1m3당 0.05㎛보다 큰 미립자가 1개 미만이며 금속성 불순물이 10 내지 1000ppt(일조분율)이다.
제조되는 웨이퍼(wafer)의 크기가 증가하고 있을 뿐만 아니라, 비용 감소, 품질 및 안전으로 인해, 단일 제조 장소에 사용되는 ESG의 질량 유량(mass flow rate)을 증가시킬 필요가 있다. 실제로 한 장소에서의 실린더 캐비닛 개수를 감소시키고 단순히 ESG 저장 실린더에 열 에너지를 가하면서 ESG 저장 실린더로부터 추출되는 유량을 증가시켜 제조비를 감소시키고자 하는 시도가 자주 있었다. 그러나, 이 해결책은 널리 공지된 바와 같이 불완전한 실린더 교체 과정이 오염 및 그 이후의 해로운 결과의 실제 원인이 되므로 능력에 한계가 있다.
또한, 실온에서 대기압 이상의 증기압에 의해 초순도 ESG를 액화시키는 경우, 실제로 외부 열원으로부터 기화 에너지를 보상받기가 어렵기 때문에, 높은 질량 유량의 가스 이송시에는 가압된 액체 ESG의 저장 용기로부터 가스-액체의 이중상 에어로졸을 추출하게 된다.
가스상 ESG만의 질량 유량 추출을 증가시키는 것은, 이들 ESG의 이송을 위해 대량 저장 수단으로서 대량 용기를 도입함으로써 보다 커진 액체-가스 경계 영역으로 인한 가압된 ESG 액상으로의 열전달 증가를 통해 가능하다. 순수 가스상 공급의 한계치는 특정 ESG의 물성 및 용기의 열적-기계적 성질에 좌우되는 유량 및 기간에 의존한다.
증발 액체 표면에서의 열 에너지 교환을 향상시킴으로써 및/또는 에어로졸 액적을 트래핑(trapping) 또는 휘발시킴으로써 전술한 문제점을 해결하는 것이 제안되어 있다. 이것은 실제로 중간 정도의 질량 유량 범위 내에서 전술한 문제점을 완화시키긴 하지만 최신 설비에 요구되는 매우 높은 질량 유량에는 불충분하다. 또한, 이러한 높은 유량에서 액적의 완전한 제거는 매우 어렵고 또 불가능하다.
ESG 이송시의 이러한 이중 상 미스트(mist) 추출과 같은 바람직하지 못한 결과는 매우 심각하며, 특히;
1. 가스상으로의 가압된 액체의 증발시 내재하는 정화 현상의 손실;
2. 가스 유량을 제어하도록 설계된 시스템으로 액상이 주입되어, 이러한 환경에서 시스템이 적절하게 기능할 수 없는 점; 그리고
3. 다량의 ESG는 실제로 액상일 때 부식성이 크며, 초고순도가 아닌 경우 더욱 그러하고 그러한 상태에서 종종 재료 부식이 일어나며, 결과적으로 오염 제어 및 안전성이 저하된다는 점 등은 특히 심각하다.
따라서, 고순도, 초순도 및/또는 초고순도 가스가 이러한 단점의 대부분을 또는 모두를 방지하면서 사용 장소까지 이송될 수 있다면, 반도체 제조 산업을 포함하는 다수의 산업에 바람직하다.
본 발명에 따라, 전술한 종래의 방법 및 시스템의 문제점을 전부는 아니지만 다수 극복한 시스템 및 방법이 제공된다.
본 발명의 일 실시예는 초고순도 가스, 바람직하게는 ESG 가스를 제1 스테이션으로부터 제2 스테이션(제2 스테이션은 반도체 사용 장소인 것이 좋다)으로 이송하는 방법으로, 이 방법은,
(a) 압력원을 가지며, 대기압 이상의 증기압에 의해 실온에서 액화되는 특성을 갖는 초고순도 액체 공급원을 제공하는 단계와,
(b) 압력원의 압력보다 작은 압력에서 초고순도 가스를 형성하기 위해 상기 초고순도 액체 공급원으로부터 하나 이상의 초고순도 액체의 상 변화 실행 수단으로 초고순도 액체를 이송하는 단계와,
(c) 상 변화 실행 수단은 제2 스테이션의 압력보다 높지만 압력원보다 낮은 압력에서 상 변화를 실행하는 수단을 구비하며, 초고순도 가스를 형성하도록 상기 상 변화 실행 수단에서 초고순도 액체의 상 변화를 실행하는 단계와,
(d) 상 변화 실행 수단으로부터 사용 장소나 그 부근에 위치하는 제2 스테이션으로 초고순도 가스를 전달하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 바람직한 방법에 있어서, 상 변화는 제2 스테이션이나 사용 장소에 의해 요구에 따라 수행되며, 이러한 상 변화는 컴퓨터 제어나 다른 즉시 응답 제어 수단을 통해 실시간으로 제어되는 것이 좋다. 각각 하나의 사용 장소에 전용으로 사용되는 복수 개의 상 변화 수단(본원에서 종종 증발기 또는 기화기로 간주되는)이 사용되는 것이 좋지만, 단일 사용 장소에 하나 이상의 상 변화 수단을 할당하는 것도 본 발명의 영역 내에 있다.
적어도 이송 및 상 변화 실행 단계는 이중벽 도관 및 베셀에서 수행되는 것이 좋다.
본 발명의 다른 실시예는 초고순도 가스, 바람직하게는 ESG를 제1 스테이션으로부터 제2 스테이션(제2 스테이션은 반도체 사용 장소인 것이 좋다)으로 이송하는 시스템으로, 이 시스템은,
(a) 대기압 이상의 증기압으로 실온에서 액화되는 특성을 갖는 초고순도 액체로 적어도 부분적으로 채워지며, 초고순도 액체를 거의 액상으로 유지하기에 충분한 압력 및 온도에 견디는 기계적 강도를 갖는 용기와,
(b) 용기로부터, 초고순도 가스를 형성하도록 초고순도 액체의 상 변화를 실행하는 하나 이상의 수단으로 초고순도 액체를 이송하며, 하나 이상의 초고순도 액체의 용기에 연결된 제1 단부 및 하나 이상의 상 변화 실행 수단에 연결된 제2 단부를 구비한 이송 수단과,
(c) 이송 수단을 통해 용기에 연결된 하나 이상의 상 변화 실행 수단으로, 이것의 각각은 내부에 초고순도 가스를 형성하도록 초고순도 액체를 기화시키기에 충분한 수단을 구비하는, 상 변화 실행 수단과,
(d) 상 변화 실행 수단으로부터 떨어져 있는 스테이션에 각각의 상 변화 시스템을 연결하는 도관을 포함한다.
본원 명세서에 사용된 바와 같은 용어 초고순도(ultra-high purity)는 최근에 공개된 SIA 로드맵(Roadmap)에 따르면, 분자 불순물이 10 내지 100ppb(십억분율)이고, 1m3당 0.05㎛보다 큰 미립자가 1개 미만이며, 금속성 불순물이 10 내지 1000ppt(일조분율)인 가스 또는 액체를 의미한다. 물론, 초고순도 가스와 액체의 분자 불순물은 10ppb 미만이고 금속성 불순물은 10ppt 미만인 것이 특히 좋다.
본 발명의 방법 및 시스템은 IC 제조를 위한 초고순도 ESG의 질량 유동 이송비를 점차적으로 증가시키기 위한 필요에 대응하는 청정 액상 ESG 기화 및 대량 공급의 장점을 겸비한다.
도 1은 본 발명에 따른 시스템 및 방법의 개략적인 공정 흐름도.
〈도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〉
10 : 시스템
12 : 가압된 액상 ESG 용기
16 : 이송 수단
18 : 액체 질량 유동 제어기
20a : 상 변화 실행 수단
28 : 압력 조절기
30a : 사용 장소
36 : 불활성 가스 공급원
본 발명의 시스템 및 방법의 장점은 아래의 원리 및 바람직한 설비를 통해 달성될 수 있다. 아래의 설명은 디클로로실란(DCS), 트리클로로실란(TCS), NH3, C12, HCL, HBr, HF, N20, NO, CIF3, 퍼플루오로카본 화합물(CF4, NF3등)과 같은 전자기기 업계용 특수 가스에 초점이 맞춰져 있지만, 본 발명의 원리는 초고순도 가스가 사용 장소까지 이송될 필요가 있는 경우라면 언제나 추구될 수 있으며 유익하다. 다른 사용 예로는 종종 식품 포장에 초고순도 가스 및 액체를 사용하고 있는 식품 산업이 있다. 본 명세서의 간명성을 위해, 본 발명의 요약서에 언급된 제2 스테이션은 간단히 사용 장소로 일컬으며, 따라서 소정의 실시예에 있어서 실제 사용 장소의 앞으로, 증발기의 하류측에 장치(예를 들면, 밸브, 유량계, 완충 용기(buffer vessel), 유지 용기(holding vessel))가 존재할 수도 있음을 알 수 있으며, 이들 방법 및 시스템의 실시예는 상기 중간에 위치한 장치가 최종 사용자에게 허용 불가능한 초고순도 가스를 제조하기에 충분한 불순물을 제공하지 않는 범위까지의 본 발명의 범위 내에 있는 것으로 간주된다. 다시 말해, 최소의 불순물 발생량의 극소량은 허용 가능할 수도 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 시스템(10)이 개략적인 공정 흐름도 형식으로 도시되어 있다. 대량의 가압된 액상 ESG 용기(12)는 미리 한정된, 예를 들면, 정화 플랜트로부터 얻어진 순도를 갖는 초고순도 액체 ESG를 내장하고 있다. 가스 압력이 도관(14)을 통해 용기(12)에 가해지며, 이 압력은 정확하게 조절되는 것이 좋다. 도관(14)을 통해 공급된 가스는 불활성인 것이 좋으며, 용기(12)의 재질, 도관(14) 및 용기(12) 내의 액체 ESG에 대해 충분히 비활성인 소정의 가스로부터 선정될 수도 있다. 도관(14)을 통해 공급된 가스는 예를 들면, 헬륨, 아르곤, 질소, 크립톤, 제논, 네온 또는 이들중 두 개 이상의 혼합물일 수도 있다. 특히, 초고순도 헬륨이 좋다.
용기(12)는 각종 ESG를 액체 형태로 유지하는데 요구되는 필수 압력 및 온도를 유지하도록 설계된다. 용기(12)는 초고순도 액체 ESG에 대하여 불활성으로 되기에 적절하게 마무리(finishing) 되어 있는 내면을 구비한 재질로 제조되는 것이 좋다. 전형적이면서 바람직하게는 무전해 침착된 니켈 필름, 또는 하스텔로이, 모넬린, 니켈 또는 다른 유사한 부식 억제재에 의해 전해 연마된 및/또는 코팅된 316L 스테인레스강을 사용하는 것이 좋다. 또한, 초고순도 액상 및 가스상 ESG에 노출된 또는 노출될 표면은 전체가 본원 양수인에게 허여된 미국 특허 제5,591,273호 및제5, 호에 상세히 기술되어 있는 처리 절차에 따라 처리되는 것이 바람직하며, 이것은 본원에 참조되었다.
초고순도 ESG는 거의 액상으로 용기(12)로부터 이송 수단(16a, 16b, 16c,...16n)을 통해 하나 이상의 상 변화 실행 수단(20a, 20b, 20c,...20n)(도 1에는 하나만이 도시되어 있음)까지 바람직하게는 약 0.1slm(분당 표준 리터) 내지 약 10000slm의 범위의, 더욱 바람직하게는 약 1slm 내지 약 100slm 범위의 높은 질량 유량으로 이송된다. 실제 유량은 후술하는 바와 같이, 사용 장소의 수요에 좌우된다. 상 변화 실행 수단(20)은 가스상의 초고순도 ESG의 사용 장소에 근접하게 배치되는 것이 좋다. 액체 질량 유량 제어기(18a, 18b, 18c,...18n)는 상 변화 수단까지의 거의 액체 ESG의 유동을 제어한다. 각각의 상 변화 실행 수단(20)에는 공간(22)이 있는데, 이 공간에서는 바람직하게 실온(약 25℃)이나 그 부근의 온도에서 초고순도의 거의 액체 ESG(24)가 증발된다. 그 후, 가스상 ESG는 적절히 불활성 처리된 도관(26)을 통해 사용 장소를 향해 유동한다. 각각의 증발기(20)의 하류측에서, ESG 가스 압력은 압력 조절기(28)에 의하여 사용 장소(30)에서 소망하는 작동 압력으로 감소된다(또는 예를 들면, 상 변화 수단(20)과 사용 장소(30) 사이에 완충 용기가 존재하는 경우 약간 압력이 높아진다). 처리 기구나 다른 사용 장소(30)까지의 ESG 가스 질량 유량은 종래의 질량 유동 제어기(도시하지 않음)에 의해 제어된다.
ESG와 접촉할 수도 있는 모든 구성 부품(16, 18, 20, 26 및 28)은 특정 ESG에 저항하는 불활성면을 제공하는 항부식성재료로 제조된다. ESG에 노출되는 표면이 불활성인 것을 보장하는 재료 및 절차는 전술한 용기(12)에 대한 것과 동일하다.
액화된 초고순도 ESG의 고유 질량은 통상 가스상 초고순도 ESG의 고유 질량의 100배이므로, 질량 유동 제어 설비의 설계는 상당히 용이하며, 대응하는 가스상 분배 장치에 대해서보다는 액상 분배 장치에 대해 요구되는 부식 저항 특성 및 정밀도로 제조된다.
가스상 ESG의 사용 장소(30)에 가능한 한 근접함으로써, 위험한 제품의 저장량의 제한 및 안전에 관한 각 지역의 규정을 고려하여, 대량의 액체 ESG 유동은 가압된 액상 ESG를 가스상으로 변화시키는 도 1에 도면 부호 20a, 20b 및 20c로 나타내어진(보통 증발기라 일컫는), 일련의 상 변화 장치로 안내되는 복수 개의 지류로 분할되는 것이 좋다. 이것은 실제적인 평형 증발 상태나 그 부근에서 수행되는 것이 좋다; 다시 말해 기본적으로 증발 에너지와 동등한 열 에너지가 외부 환경으로부터 액체 ESG로 전달된다. 실제적인 제한 조건은 증발기로부터의 에어로졸의 방출 여부를 검사함으로써 각각의 화합물 조성에 대해 개별적인 실험에 의해 설정된다.
특정 설비에 필요한 증발기(20n)의 수는, 제조 공정에 사용된 사용 장소(30)에 필요한 ESG 가스 유동 및 가스상의 단일상의 ESG가 추출되는 경우의 가스 질량 유량과 가스 사용 주기 시간에 대해 실제적인 상한을 규정하는 평형 증발의 바람직한 기준에 근거하여 결정된다. 용기(12)(예를 들면, 여분의 또는 과다한 용기가 사용된 경우에 실제로는 두 개 이상일 수도 있다) 내의 액상 저장물의 체적은 사용 장소(30)에서의 질량 소비율 및 안전 사항을 절충하여 규정되며, 대량의 용기 저장물의 교체도 안전, 비용 및 오염 제어 사항 모두를 위해 최소화됨이 공지되어 있다.
액상 초고순도 ESG는 상 변화 실행 수단(20) 내에서 항상 액상 및 가스상이 공존하는데 충분한 질량 유량으로 각각의 상 변화 실행 수단(20) 내로 유동된다. 이를 위해, 약간의 불활성 가스 압력(초고순도 헬륨이 좋다)이 전술한 바와 같이, 용기(12)에 공급된다.
단일 제조 설비에서는 시스템(10) 전체가 구동된 유체의 압력차 및, 압력과 유동 제어 장치의 수동 설정을 기반으로 작동될 수 있지만, 실제로 다수의 기구에 필요한 가스 유동 주기는 매우 넓을 수도 있다. 그 후, 각각의 상 변화 실행 수단의 압력 측정 및 압력 조절기(28) 하류측의 정확한 가스 압력과 질량 유량 뿐만 아니라 각각의 증발기(20)의 액체 레벨의 측정을 기반으로, 각각의 상 변화 수단(20)에 공급되는 액체 유량을 제어하는 컴퓨터 제어부를 설치하는 것이 좋다.
도 1에 도시한 본 발명의 시스템은 전형적이면서 바람직하게 종래의 진공 퍼지 장치(32, 34, 36 및 40)를 포함하는 것으로 완비되며, 여기서 도면 부호 32는 초청정 도관을 나타내고, 도면 부호 34는 압력 모니터를 나타내며, 도면 부호 36은 불활성 가스 공급원을 나타내고, 도면 부호 40은 진공원을 나타낸다. 모든 구성 요소 및 이들의 사용 방법은 반도체 업계에 널리 공지되어 있는 것으로 당업자에게는 추가 설명이 불필요하다.
본 발명의 액상 초고순도 ESG 이송 시스템이 ESG를 증발될 때까지 거의 액상으로 유지시키기에 충분한 압력하에 작동되므로, 누출 가능성에 따른 위험을 방지하기 위하여 전체 배관이 당업계에 일반적으로 공지되어 있는 적절한 안전 센서가 장착된 이중벽 배관(38a, 38b, 38c)으로 구성되며 당업자에게는 추가 설명이 불필요하다. 유사하게, 상 변화 수단(20a, 20b, 20c,...20n)은 누출의 경우 도관(21)을 통한 가스의 긴급한 배기를 허용하는 캐비닛에 설치되는 것이 좋다. 갑작스런 ESG 누출의 경우, ESG 유동을 중지시키기 위하여 다수의 장소에서 밸브(공기압이 좋다)가 분배 장치를 격리시키는 한편, 누출된 가스는 갑작스런 오염으로부터 환경을 보호하기 위하여 위급함을 완화시키는 장치에 모아진다.
본 발명의 특정 시스템의 형상 및 이들의 사용에 따라, 상 변화 수단(20)에는 도 1에 도면 부호 42로 나타내어지는, 예를 들면, 질소나 헬륨과 같은 비불활성 가스를 사용한 가스 대류 가열 또는 각각의 상 변화 수단(20)에서 증발된 가스의 압력 또는/및 온도 측정을 기반으로 동력이 컴퓨터 제어되는 것이 좋은 전기 주울(Joule) 가열을 통해 증발될 가압 액화된 ESG에 여분의 에너지를 제공하는 장치가 장착될 수도 있다.
본 발명의 개념이 적용된 ESG는 점진적으로 증가하는 유량으로 제조된 웨이퍼 패브에 운반될 필요가 있으며 초고순도로 사용될 필요가 있는 것으로, 100bar 미만의 특히, 15bar 미만의 압력을 갖는 액체이다.
선택적으로, 상 변화 수단(20)이 평형 상태의 상한에서 작동되는 경우, 압력 조절기(28)는 주울-톰슨 팽창에 의한 있을 수 있는 냉각을 보상하도록 가열될 수 있으며 또는 이단 압력 감소기가 설치될 수 있다.
정화 및 여과 장치는 액체 ESG 및 가스 ESG 유동부중 하나 이상에 임의적으로 설치될 수 있다.
용기(12) 내로 액체 ESG를 이송 충전하기 전에, 용기(12)는 통상 본원에 참조된 미국 특허 제5,591,273호 및 제5,호에 의해 알려진 가스상이나 액상의 디메틸프로판(DMP)을 사용하는 화학적 건조제나, 다른 진보된 화학적 건조제 또는 온도가 80℃ 이상인 초고순도 가스의 불활성 하에 또는 진공 하에 열적으로 작용하는 탈기(脫氣)를 사용하여 흡수된 수분을 제거하기 위하여 정화되는 것이 전형적이며 바람직하다.
예
본 발명이 원리는 아래의 예들에 예시되어 있으며, 특허청구범위를 한정하고자 하는 것은 아니다.
초고순도 NH 3 가스의 높은 유량 방출
일부 반도체 제조 사이트에서는 초고순도 NH3를 다량 소비할 필요가 있으며, 이 경우 통상 각각 1slm을 소비하는 다수의 설비에 이송될 통상적인 가스 유량은 100slm을 초과한다.
이것은 약 106내지 107표준 리터의 초고순도 가스를 이송하기에 적합한 대략 10bar의 압력 하에, 1000 내지 10000 표준 리터 사이의 절충된 체적의 대량의 가압 액화된 NH3의 용기를 설치 장소에 설치함으로써 본 발명의 원리에 따라 달성될 수도 있다. 이 용기에는 물론 비상 오염 및 갑작스런 누출 완화를 포함하는 현재의 안전 규정에 따라 설치되었다. 용기는 사소한 부식 및 입자 해제 여부에 대해 선정된, 표면 연마도가 높은 금속으로 제조하였다. 이 용기에 액체 NH3를 이송하기에 앞서, 용기를 조심스럽게 세척하였으며 또한 대기 온도보다 높은 온도, 통상 약 80 내지 약 120℃의 온도에서 건조시키는 것이 좋은데, 이러한 건조는 잔류 분자 흡착, 특히 H20의 흡착을 방지하기 위하여 화학적 건조의 도움을 받는 것이 좋다.
가압 액화된 NH3를 플런징 튜브(plunging tube)를 통해 대량 용기로부터 견본을 취하였으며, 설치 장소로부터 기계적 및 내면 특성이 대량 용기에 유사하게 설계 및 가공된 이중벽 스테인레스강 배관을 통해 소비 지점에 근접하게 이송하였다. 액체 유동은 통상 1분당 0.1리터로 하였으며, 이것은 시판되고 있는 장치에 의해 용이하게 제어하였다.
내부 배관으로부터 오염 공간으로의 갑작스런 누출을 검출하며 대량 용기 배출구에 있는 안전 밸브를 제어하기 위하여 가스 검출기를 설치하였다.
사용 장소에 근접한 위치에서, 액화 가압된 NH3유동은 한 세트의 증발기에 이르는 다수의 지류로 배치되었다. 이 예에서, 증발기는 간단한 종래의 10 내지 50리터 가스 실린더로, 저면에 추가 연결부를 장착하였다. 증발기는 안전을 위해 종래의 실린더 캐비닛에 설치하였다. 실린더에 이것의 저면으로 가압 액화된 NH3를 공급하여, 이들 실린더로부터 가스상 NH3를 증발시켰으며 종래의 가스 분배 장치에 사용된 절차에 유사한 압력, 유량 및 안전 제어를 위해 실린더에서 배기시킨 후 사용하였다. 증발기로부터의 초고순도 및 단일상의 가스가 방출되는 것을 보장하기 위하여, 방출되는 가스 유량을 통상 5slm(NH3의 경우)의 값 아래로 억제하였다. 대량 용기로부터 아래로 증발기로의 가압 액화된 NH3의 분배는 이 예에서는 용기(12)에 인가되는 질소의 약간의 과압에 의해 이루어진다. 유동은 비상의 경우에 다수의 임계 지점에서 차단될 수 있다.
증발기로의 유동은 각각의 분관에 설치된 액체 질량 유동 제어기를 사용하여 조절하였는데, 이들은 실린더의 액체 레벨 센서에 의해 제어하였으므로, 제조 공정 하류측에서의 가스 소비와 무관하게, 실린더에서의 액화된 가스의 레벨은 거의 일정하였으며 실린더 전체 용량의 약 70％까지 채워졌다. 예를 들면, 원래 용기가 비기 전에 제품 공급원을 여분의 대량 용기로 전환하기 위하여 화학적 가스의 총 소비를 정확하게 기록하였는데, 통상 용기는 내용물의 대략 90％를 사용하고 나면 교환하였다.
가끔, 플랜트 제조 공정에 사용하지 않는 경우에는 대량 용기, 분배 도관 및 증발기를 포함하는 시스템 전체의 액체 내용물을 완전히 비우고, 새로운 제품으로 다시 채워지기 전에 조심스럽게 세정 및 정화된다. 이러한 주기적인 유지 관리의 목적은 시스템으로부터 점차적으로 증가하는 불순물의 액상 화학 물질을 버리기 위한 것이다.
실제로, 용기는 통상 6개월의 주기 동안 연속적으로 제품을 공급할 수 있는 크기를 갖는다. 고려된 제품 유량으로의, 종래의 공급 방법을 사용한 실린더의 고품질 가스 방출은 사이트의 다수의 실린더 캐비닛 설치 및 빈번한, 통상 여러번의 실린더 교체를 필요로 한다. 직접적인 가스 분배에 대량 실린더를 사용함으로써 이러한 문제를 부분적으로 완화시킬 수 있지만, 여전히 초고순도 단일상 가스 제품이 분배에 필요한 경우 고려된 유량 범위에 다수의 용기를 설치할 필요가 있다.
요약하면, 본 발명의 개선된 시스템은 제품 용기의 교체나 재충전 빈도수를 상당히 감소시키면서 초고순도 제품을 이송할 수 있으므로, 제품의 신뢴성, 안전, 품질 및 비용의 관점에서 매우 확실한 장점을 제공한다.
따라서, 본 발명의 시스템 및 방법에 의해 현재의 중요 문제들중 하나를 방지하는데, 높은 유량에서의 초고순도 ESG의 분배 즉, 가압된 액체 ESG의 저장 용기로부터의 이중상 가스-액체 에어로졸의 추출이 저장 장소로부터 사용 장소에 근접한 지점까지의 액상 가압된 분배를 통해 달성될 수도 있으며, 후속하여 사이트상의 ESG의 평형, 청정 증발에 견줄만한 액체 유량으로 분할된다.
본 발명은 소정의 바람직한 실시예와 관련하여 상세히 설명되었다. 그러나, 당업자라면 이해하고 있는 바와 같이, 아래의 특허청구범위에 의해 규정된 바와 같은 본 발명의 영역을 벗어나지 않고 변형 및 수정이 이루어질 수 있다.
본 발명의 초고순도 가스를 공급원으로부터 사용 장소까지 이송하기 위한 방법 및 시스템에 의해, IC 제조를 위한 초고순도 ESG의 질량 유동 이송비를 점차적으로 증가시키기 위한 필요에 대응하는 청정 액상 ESG 기화 및 대량 공급이 달성된다.

Claims (17)

  1. 제1 스테이션으로부터 이와 떨어져 있는 제2 스테이션까지 초고순도 가스를 이송하는 방법에 있어서,
    (a) 압력원을 가지며, 대기압 이상의 증기압에 의해 실온에서 액화되는 특성을 갖는 초고순도 액체 공급원을 제공하는 단계와,
    (b) 압력원의 압력보다 작은 압력에서 초고순도 가스를 형성하기 위해 상기 초고순도 액체 공급원으로부터 하나 이상의 초고순도 액체의 상 변화 실행 수단으로 초고순도 액체를 이송하는 단계와,
    (c) 상 변화 실행 수단은 제2 스테이션의 압력보다 높지만 압력원보다 낮은 압력에서 상 변화를 실행하는 수단을 구비하며, 상기 상 변화 실행 수단에서 초고순도 가스를 형성하도록 초고순도 액체의 상 변화를 실행하는 단계와,
    (d) 상 변화 실행 수단으로부터 사용 장소나 그 부근에 위치하는 제2 스테이션으로 초고순도 가스를 전달하는 단계를 포함하는
    것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 초고순도 액체 공급원은 액체를 거의 액상으로 유지하기에 충분한 온도 및 압력에 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 초고순도 액체 공급원은 대량 공급원인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 이송 단계는 펌프에 의한 급송(pumping)에 의해 달성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 이송 단계는 상기 초고순도 액체 공급원만의 압력에 의해서 달성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 상 변화 실행 단계는 초고순도 액체를 가열함으로써 달성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 상 변화 실행 단계는 사용 장소의 요구에 따라 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 초고순도 액체는 복수 개의 상 변화 실행 수단으로 이송되며, 상기 각각의 상 변화 수단은 대응하는 사용 장소에 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 이송 단계 및 상 변화 실행 단계는 이중벽 격납 수단에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 상 변화 수단에서의 상 변화 실행 단계는 상 변화 수단의 전기 가열을 통해 성취되는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1항에 있어서, 상기 상 변화 수단은 초고순도 액체를 평형 상태나 그 부근에서 액상으로부터 가스상으로 변화시키도록 작동하는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제1 스테이션으로부터 이와 떨어져 있는 제2 스테이션까지 초고순도 가스를 이송하는 시스템에 있어서,
    (a) 대기압 이상의 증기압으로 실온에서 액화되는 특성을 갖는 초고순도 액체로 적어도 부분적으로 채워지며, 초고순도 액체를 거의 액상으로 유지하기에 충분한 압력 및 온도에 견디는 기계적 강도를 갖는 용기와,
    (b) 용기로부터, 초고순도 가스를 형성하도록 초고순도 액체의 상 변화를 실행하는 하나 이상의 수단으로 초고순도 액체를 이송하며, 하나 이상의 초고순도 액체의 용기에 연결된 제1 단부 및 하나 이상의 상 변화 실행 수단에 연결된 제2 단부를 구비한 이송 수단과,
    (c) 이송 수단을 통해 용기에 연결된 하나 이상의 상 변화 실행 수단으로, 이것의 각각은 하나 이상의 상 변화 실행 수단에서 초고순도 가스를 형성하도록 초고순도 액체를 기화시키기에 충분한 수단을 구비하는 수단과,
    (d) 상 변화 실행 수단으로부터 떨어져 있는 스테이션에 각각의 상 변화 시스템을 연결하는 도관을 포함하는
    것을 특징으로 하는 시스템.
  13. 제12항에 있어서, 상기 초고순도 액체의 상 변화 실행 수단에는 평형 상태나 그 부근에서 상 변화를 실행하는 수단이 장착되는 것을 특징으로 하는 시스템.
  14. 제12항에 있어서, 상기 용기는 상기 복수 개의 이송 수단을 통해, 상기 초고순도 가스를 형성하는 상기 복수 개의 초고순도 액체의 상 변화 실행 수단에 연결되어 사용되는 것을 특징으로 하는 시스템.
  15. 제12항에 있어서, 사용 장소로 유동하는 초고순도 가스의 압력을 제어하도록 상기 상 변화 실행 수단의 하류측에 압력 조절기를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
  16. 제12항에 있어서, 상기 상 변화 실행 수단은 캐비닛에 격납되어 있는 것을 특징으로 하는 시스템.
  17. 제12항에 있어서, 상기 이송 수단 및 상 변화 실행 수단은 이중벽 구조인 것을 특징으로 하는 시스템.
KR1019980038170A 1997-09-16 1998-09-16 사용장소까지초고순도가스를이송하기위한시스템및방법 KR19990029830A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US8/931,639 1997-09-16
US08/931,639 US5894742A (en) 1997-09-16 1997-09-16 Methods and systems for delivering an ultra-pure gas to a point of use

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR19990029830A true KR19990029830A (ko) 1999-04-26

Family

ID=25461128

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980038170A KR19990029830A (ko) 1997-09-16 1998-09-16 사용장소까지초고순도가스를이송하기위한시스템및방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5894742A (ko)
EP (1) EP0908664A3 (ko)
JP (1) JPH11165060A (ko)
KR (1) KR19990029830A (ko)
CN (1) CN1220365A (ko)
SG (1) SG68078A1 (ko)
TW (1) TW370601B (ko)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6023933A (en) * 1997-11-04 2000-02-15 Air Products And Chemicals, Inc. Ultra high pressure gases
US6172376B1 (en) 1997-12-17 2001-01-09 American Air Liquide Inc. Method and system for measuring particles in a liquid sample
KR100545517B1 (ko) * 1998-07-17 2006-01-24 다이낑 고오교 가부시키가이샤 반도체제조장치용 성형재료 또는 부품의 포장재, 그것을사용한 포장방법 및 포장된 반도체제조장치용 성형재료또는 부품
US6105274A (en) * 1999-03-18 2000-08-22 International Business Machines Corporation Cryogenic/phase change cooling for rapid thermal process systems
US6311738B1 (en) 2000-06-21 2001-11-06 Technical Gas Products Medical liquid oxygen storage, dispensing, and billing system and method
US20020124575A1 (en) 2001-01-05 2002-09-12 Atul Pant Gas delivery at high flow rates
US6637212B2 (en) * 2001-04-27 2003-10-28 Matheson Tri-Gas Method and apparatus for the delivery of liquefied gases having constant impurity levels
US7076969B2 (en) * 2004-01-19 2006-07-18 Air Products And Chemicals, Inc. System for supply and delivery of high purity and ultrahigh purity carbon dioxide
US7076970B2 (en) * 2004-01-19 2006-07-18 Air Products And Chemicals, Inc. System for supply and delivery of carbon dioxide with different purity requirements
US7069742B2 (en) * 2004-01-19 2006-07-04 Air Products And Chemicals, Inc. High-pressure delivery system for ultra high purity liquid carbon dioxide
US20060000358A1 (en) * 2004-06-29 2006-01-05 Rajat Agrawal Purification and delivery of high-pressure fluids in processing applications
CN100436932C (zh) * 2005-05-24 2008-11-26 辽河石油勘探局 一种脱水超稠油管道输送方法及配套装置
CN100406173C (zh) * 2005-05-29 2008-07-30 山东威达机械股份有限公司 柄类工具夹持结构
US20070007879A1 (en) * 2005-07-11 2007-01-11 Bergman Thomas J Jr Low vapor pressure gas delivery system and apparatus
US20070095210A1 (en) * 2005-11-03 2007-05-03 Southern Company Services, Inc. Direct injection and vaporization of ammonia
JP5091539B2 (ja) * 2007-05-17 2012-12-05 ルネサスエレクトロニクス株式会社 液化ガス供給システム
JP5064119B2 (ja) 2007-06-07 2012-10-31 東京エレクトロン株式会社 真空引き方法及び記憶媒体
US8468840B2 (en) * 2008-07-24 2013-06-25 Praxair Technology Method and apparatus for simultaneous gas supply from bulk specialty gas supply systems
US20110023501A1 (en) * 2009-07-30 2011-02-03 Thomas Robert Schulte Methods and systems for bulk ultra-high purity helium supply and usage
JP5414849B2 (ja) * 2012-07-23 2014-02-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 液化ガス供給方法及び液化ガス供給システムの制御装置
US20150114315A1 (en) * 2013-10-31 2015-04-30 Ampac Fine Chemicals Llc Evaporator-feeder system and method
EP3184875B1 (en) * 2015-12-24 2021-03-17 Air Liquide Oil and Gas Services Limited Method for controlling the pressure in an underground storage volume
CN110410662B (zh) * 2019-08-08 2023-07-11 广东华特气体股份有限公司 一种超高纯气体的钢瓶处理系统及方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1930731A (en) * 1932-12-14 1933-10-17 Linde Air Prod Co Method and apparatus for transferring liquid material
US3241328A (en) * 1964-01-06 1966-03-22 Phillips Petroleum Co Cylinder loading with liquefiable gases
US3225552A (en) * 1964-05-13 1965-12-28 Hydrocarbon Research Inc Revaporization of cryogenic liquids
US3552134A (en) * 1969-07-22 1971-01-05 Black Sivalls & Bryson Inc Process and apparatus for vaporizing liquefied natural gas
DE2310298C3 (de) * 1973-03-01 1979-04-19 Linde Ag, 6200 Wiesbaden Verfahren zum Zerlegen von Erdgas
US4235829A (en) * 1979-05-07 1980-11-25 Western Electric Company, Inc. Vapor delivery system and method of maintaining a constant level of liquid therein
US4582480A (en) * 1984-08-02 1986-04-15 At&T Technologies, Inc. Methods of and apparatus for vapor delivery control in optical preform manufacture
US4583372A (en) * 1985-01-30 1986-04-22 At&T Technologies, Inc. Methods of and apparatus for storing and delivering a fluid
US5359787A (en) * 1993-04-16 1994-11-01 Air Products And Chemicals, Inc. High purity bulk chemical delivery system
US5591273A (en) * 1994-12-30 1997-01-07 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Process for distributing ultra high purity gases with minimized contamination and particulates
US5677480A (en) * 1995-02-24 1997-10-14 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Method and system for assessing the operating condition of a pressure regulator in a corrosive gas distribution system
US5673562A (en) * 1996-02-23 1997-10-07 L'air Liquide, S.A. Bulk delivery of ultra-high purity gases at high flow rates

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11165060A (ja) 1999-06-22
EP0908664A2 (en) 1999-04-14
SG68078A1 (en) 1999-10-19
EP0908664A3 (en) 1999-08-04
CN1220365A (zh) 1999-06-23
TW370601B (en) 1999-09-21
US5894742A (en) 1999-04-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR19990029830A (ko) 사용장소까지초고순도가스를이송하기위한시스템및방법
US6637212B2 (en) Method and apparatus for the delivery of liquefied gases having constant impurity levels
US5673562A (en) Bulk delivery of ultra-high purity gases at high flow rates
US6122931A (en) System and method for delivery of a vapor phase product to a point of use
US6363728B1 (en) System and method for controlled delivery of liquefied gases from a bulk source
US5644921A (en) Ultra high purity delivery system for liquefied compressed gases
TWI461625B (zh) 低蒸汽壓高純度氣體輸送系統
US6135433A (en) Continuous gas saturation system and method
JP2009500866A (ja) 低蒸気圧ガスシステム
JP5528555B2 (ja) バルク超高純度ヘリウムの供給及び使用のための方法及びシステム
KR100323629B1 (ko) 액화 압축 가스의 초고순도 전달 시스템용 조절 배기 시스템
KR20100126289A (ko) 가압 액화 기체 저장소를 가열하기 위한 장치
US6032483A (en) System and method for delivery of a vapor phase product to a point of use
TWI220445B (en) Method and system for delivering a vapor component product to an end user from a storage system

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid