KR19990024844U - Clamper for Semiconductor Wafer - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 웨이퍼용 클램퍼에 관한 것으로, 종래 기술에 의한 반도체 웨이퍼용 클램퍼는 반도체 웨이퍼의 섀도우영역을 조절하기 위해서는 내경이 다른 상기 클램퍼로 교체하여야 하기 때문에 상기 내경이 다른 수많은 클램퍼를 구비하여야 하고, 이로 인하여 상기 반도체 웨이퍼 제조장비의 운용효율이 저하됨과 아울러 상기 제조장비의 제작 및 관리 비용이 증가되는 문제점을 초래하였다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼용 클램퍼는 아웃터클램퍼의 내측에 내경을 조절할 수 있는 인너클램퍼를 설치함으로써, 상기 반도체 웨이퍼의 섀도우영역을 조절함에 있어 상기 클램퍼를 교환하지 않고 용이하게 할 수 있게 됨과 더불어 상기 반도체 웨이퍼를 제조하는 장비의 운용효율이 증대함과 아울러 상기 장비의 관리 비용이 절감되는 효과를 기대할 수 있다.The present invention relates to a clamper for a semiconductor wafer, the semiconductor wafer clamper according to the prior art has to be provided with a large number of clampers with different inner diameters in order to adjust the shadow area of the semiconductor wafer to replace the clamper having a different inner diameter, As a result, the operation efficiency of the semiconductor wafer manufacturing equipment is lowered and the manufacturing and management costs of the manufacturing equipment are increased. In order to solve this problem, the semiconductor wafer clamper according to the present invention has an inner clamper that can adjust the inner diameter inside the outer clamper, thereby making it easy to adjust the shadow area of the semiconductor wafer without replacing the clamper. In addition, it is possible to increase the operational efficiency of the equipment for manufacturing the semiconductor wafer and to reduce the management cost of the equipment.
Description
본 고안은 반도체 웨이퍼용 클램퍼에 관한 것으로, 특히 내경의 변형이 가능한 수개의 인너클램퍼와 그 인너클램퍼가 설치되는 아웃터클램퍼로 형성하여 반도체 웨이퍼의 가장자리부에 형성하는 섀도우영역을 공정에 특성에 따라 변화시킬 수 있도록 함으로써 상기 반도체 웨이퍼 제조장비의 운용효율을 증대하여 비용을 절감할 수 있도록 한 반도체 웨이퍼용 클램퍼에 의하여 달성된다.The present invention relates to a clamper for a semiconductor wafer, and in particular, a shadow region, which is formed of several inner clampers capable of changing the inner diameter and an outer clamper to which the inner clampers are installed, is formed at the edge of the semiconductor wafer, depending on the characteristics of the process. It is possible to achieve by the semiconductor wafer clamper to reduce the cost by increasing the operating efficiency of the semiconductor wafer manufacturing equipment.
일반적으로, 반도체 패키지를 제조하는 중간 제품의 하나인 반도체 웨이퍼는 증착과 식각과 같은 여러공정을 거치게 된다.In general, a semiconductor wafer, which is one of intermediate products for manufacturing a semiconductor package, is subjected to various processes such as deposition and etching.
상기 증착공정은 물리적 또는 화학적인 방법을 통한 기상증착을 하게 되고, 이러한 기상증착시에 상기 반도체 웨이퍼의 가장자리부에 박막이 증착되는 것을 방지하기 위한 섀도우링(SHADOW RING) 또는 클램퍼(CLAMPER)라고 일컬어지는 도구를 사용하게 된다.The deposition process is a vapor deposition through a physical or chemical method, and is called a shadow ring or clamper to prevent the thin film is deposited on the edge of the semiconductor wafer during such vapor deposition. The losing tool will be used.
상기 클램퍼(1)는, 상기 도 1과 도 2에 도시된 바와 같이 상기 반도체 웨이퍼가 증착되는 공정챔버(미도시)내에 설치된 웨이퍼 스테이지(미도시)에 위치하는 상기 반도체 웨이퍼(W)의 가장자리부를 클램핑할 수 있도록 소정 크기의 내경과 외경을 갖는 단차진 도넛츠형으로 형성되어 있다.The clamper 1 has an edge portion of the semiconductor wafer W positioned in a wafer stage (not shown) installed in a process chamber (not shown) in which the semiconductor wafer is deposited, as shown in FIGS. 1 and 2. It is formed in a stepped donut shape having an inner diameter and an outer diameter of a predetermined size so as to be clamped.
상기와 같이 형성된 클램퍼(1)는, 상기 반도체 웨이퍼(W)의 가장자리부를 클램핑하게 되어 소정의 폭을 갖는 섀도우(W1) 부분 즉, 박막(W2)이 형성되지 않는 부분을 형성하게 하는 것이다.The clamper 1 formed as described above clamps the edge portion of the semiconductor wafer W to form a portion of the shadow W1 having a predetermined width, that is, a portion where the thin film W2 is not formed.
그러나, 상기와 같이 구성된 반도체 웨이퍼용 클램퍼는 상기 반도체 웨이퍼의 섀도우영역을 조절하기 위해서는 내경이 다른 상기 클램퍼로 교체하여야 하기 때문에 상기 내경이 다른 수많은 클램퍼를 구비하여야 하고, 이로 인하여 상기 반도체 웨이퍼 제조장비의 운용효율이 저하됨과 아울러 상기 제조장비의 제작 및 관리 비용이 증가되는 문제점을 초래하였다.However, in order to adjust the shadow area of the semiconductor wafer, the clamper for the semiconductor wafer configured as described above has to be replaced with the clamper having a different inner diameter, and thus, a plurality of clampers having different inner diameters must be provided. In addition to the deterioration of the operation efficiency, the production and management cost of the manufacturing equipment is increased.
따라서, 본 고안의 목적은 상기의 문제점을 해결하여 반도체 웨이퍼 제조장비의 운용효율을 증대함과 아울러 상기 제조장비의 제작 및 관리비용을 절감할 수 있는 반도체 웨이퍼용 클램퍼를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a clamper for a semiconductor wafer that can solve the above problems, increase the operational efficiency of the semiconductor wafer manufacturing equipment, and reduce the manufacturing and management costs of the manufacturing equipment.
도 1은 종래 기술에 의한 반도체 웨이퍼용 클램퍼의 개략적인 구조를 보인 평면도.1 is a plan view showing a schematic structure of a clamper for a semiconductor wafer according to the prior art.
도 2는 종래 기술에 의한 클램퍼로 클램핑된 반도체 웨이퍼의 상태를 보인 단면도.2 is a cross-sectional view showing a state of a semiconductor wafer clamped with a clamper according to the prior art.
도 3은 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼용 클램퍼의 개략적인 구조를 보인 평면도.3 is a plan view showing a schematic structure of a clamper for a semiconductor wafer according to the present invention.
도 4는 본 고안에 의한 클램퍼로 클램핑된 반도체 웨이퍼의 상태를 보인 단면도.4 is a cross-sectional view showing a state of a semiconductor wafer clamped with a clamper according to the present invention.
** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명 **** Brief description of symbols for the main parts of the drawing **
11 : 클램퍼 12 : 아웃터클램퍼11: clamper 12: outer clamper
12a : 가이드홈 13 : 인너클램퍼12a: Guide groove 13: Inner clamper
13c : 눈금 14 : 보울트13c: graduation 14: bolt
본 고안의 목적은, 관통된 내경과 외경을 갖는 도넛츠형의 아웃터클램퍼와, 그 아웃터클램퍼의 관통된 내경내에 소정의 간격을 갖도록 설치되는 다수개의 인너클램퍼와, 그 인너클램퍼를 상기 아웃터클램퍼의 중심부로 수평이동시키는 수평이동장치를 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼용 클램퍼에 의하여 달성된다.An object of the present invention is a donut-shaped outer clamper having a penetrated inner diameter and an outer diameter, a plurality of inner clampers installed to have a predetermined distance within the penetrated inner diameter of the outer clamper, and the inner clamper having the inner clamper at the center of the outer clamper. It is achieved by a clamper for a semiconductor wafer, characterized in that it comprises a horizontal moving device for moving horizontally.
다은은, 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼용 클램퍼의 일실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.Next, an embodiment of a clamper for a semiconductor wafer according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼용 클램퍼의 개략적인 구조를 보인 평면도이고, 도 4는 본 고안에 의한 클램퍼로 클램핑된 반도체 웨이퍼의 상태를 보인 단면도이다.3 is a plan view showing a schematic structure of a clamper for a semiconductor wafer according to the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view showing a state of a semiconductor wafer clamped with a clamper according to the present invention.
본 고안에 의한 반도체 웨이퍼용 클램퍼(11)는 상기 도 3과 도 4에 도시된 바와 같이, 소정 크기의 관통된 내경과 외경 그리고 두께를 갖는 도넛츠형의 아웃터클램퍼(12)가 형성되어 있고, 그 아웃터클램퍼(12)의 관통된 내경면에는 소정의 높이와 깊이를 갖는 가이드홈(12a)이 그 내경면을 따라 형성되어 있으며, 또 그 가이드홈(12a)에는 소정의 곡률반경을 갖는 호(弧) 모양으로 형성된 인너클램퍼(13)의 외측부(13a)가 삽입장착되고, 상기 인너클램퍼(13)는 상기 아웃터클램퍼의 내측면에 소정의 간격으로 다수개 설치되어 있다.In the semiconductor wafer clamper 11 according to the present invention, as illustrated in FIGS. 3 and 4, a donut-shaped outer clamper 12 having a penetrated inner diameter, outer diameter, and thickness of a predetermined size is formed. A guide groove 12a having a predetermined height and depth is formed along the inner diameter surface of the perforated inner diameter surface of the outer clamper 12, and an arc having a predetermined radius of curvature is formed in the guide groove 12a. The outer portion 13a of the inner clamper 13 formed in the shape of) is inserted and mounted, and a plurality of inner clampers 13 are provided on the inner surface of the outer clamper at predetermined intervals.
그리고, 상기 아웃터클램퍼(12)에는 외주연에서 내주연으로 관통된 다수개의 관통공이 형성되어 있고, 그 관통공에는 상기 인너클램퍼(13)를 수평으로 이동시키는 수평이동장치의 하나의 요소인 보울트(14)가 삽입설치되며, 그 보울트(14)의 단부는 상기 인너클램퍼(13)의 외주연에 형성된 나사공(13b)에 삽입되어 있으며, 상기 아웃클램퍼의 가이드홈(12a)에 삽입되는 상기 인너클램퍼(13)에는 일정한 간격을 갖는 눈금(13b)이 형성되어 있다.In addition, the outer clamper 12 has a plurality of through holes penetrating from the outer circumference to the inner circumference, and the through hole has one bolt of a horizontal moving device for horizontally moving the inner clamper 13. 14 is inserted and installed, the end of the bolt 14 is inserted into the screw hole (13b) formed on the outer periphery of the inner clamper 13, the inner which is inserted into the guide groove (12a) of the out clamper The clamper 13 is formed with a scale 13b having a constant interval.
상기와 같이 구성된 반도체 웨이퍼용 클램퍼(11)는 먼저, 상기 반도체 웨이퍼(W)가 증착되는 공정챔버내에 설치된 웨이퍼스테이지에 그 반도체 웨이퍼(W)가 위치하게 되면 상기 클램퍼(11)는 상기 웨이퍼스테이지의 상부에서 클램핑하게 된다.In the semiconductor wafer clamper 11 configured as described above, first, when the semiconductor wafer W is placed in a wafer stage installed in a process chamber in which the semiconductor wafer W is deposited, the clamper 11 is formed in the wafer stage. It will be clamped at the top.
이때, 상기 클램퍼의 인너클램퍼(12)는 상기 반도체 웨이퍼(W)의 가장자리부를 소정의 폭만큼 지지하게 됨으로써 그 반도체 웨이퍼(W)가 클램핑되게 되어 박막(W1)이 형성되지 않는 부분 즉, 섀도우(W2)영역이 형성되는 것이다.In this case, the inner clamper 12 of the clamper supports the edge portion of the semiconductor wafer W by a predetermined width so that the semiconductor wafer W is clamped so that the thin film W1 is not formed, that is, the shadow ( W2) region is formed.
이와 같은 상태에서 상기 섀도우(W2)영역의 크기를 조절할 때는 상기 아웃터클램퍼(12)에 형성된 관통공에 삽입설치된 보울트(14)를 회전시키게 되면 그 보울트(14)의 단부가 삽입된 나사공(13b)이 구비된 상기 인너클램퍼(13)가 상기 아웃터클램퍼(12)의 중심부에 대하여 수평으로 이동하게 됨으로써 가능하게 되고, 또 상기 인너클램퍼(13)에 형성된 눈금을 확인함으로써 상기 섀도우(W2)영역의 폭을 확인할 수 있게 됨과 아울러 상기 반도체 웨이퍼(W)의 가장자리부에 균일하게 그 섀도우(W2)영역이 형성되도록 하는 것이다.In this state, when adjusting the size of the shadow (W2) area, when the bolt 14 inserted into the through hole formed in the outer clamper 12 is rotated, the end of the bolt 14 is inserted into the screw hole 13b. The inner clamper 13 having the inner side of the shadow clamper 13 can be moved by moving horizontally with respect to the center of the outer clamper 12, and by checking the scale formed on the inner clamper 13, In addition, the width of the semiconductor wafer W and the shadow W2 region may be uniformly formed at the edge of the semiconductor wafer W.
상기와 같이 아웃터클램퍼의 내측에 내경을 조절할 수 있는 인너클램퍼를 설치함으로써, 상기 반도체 웨이퍼의 섀도우영역을 조절함에 있어 상기 클램퍼를 교환하지 않고 용이하게 할 수 있게 됨과 더불어 상기 반도체 웨이퍼를 제조하는 장비의 운용효율이 증대함과 아울러 상기 장비의 관리 비용이 절감되는 효과를 기대할 수 있다.By installing the inner clamper to adjust the inner diameter inside the outer clamper as described above, it is possible to facilitate the adjustment of the shadow area of the semiconductor wafer without replacing the clamper and of the equipment for manufacturing the semiconductor wafer. In addition to increasing the operational efficiency can be expected to reduce the management cost of the equipment.
Claims (2)
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR2019970037326U KR200215115Y1 (en) | 1997-12-15 | 1997-12-15 | Clamp for semiconductor wafer |
Applications Claiming Priority (1)
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| KR2019970037326U KR200215115Y1 (en) | 1997-12-15 | 1997-12-15 | Clamp for semiconductor wafer |
Publications (2)
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Family
ID=53897066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019970037326U KR200215115Y1 (en) | 1997-12-15 | 1997-12-15 | Clamp for semiconductor wafer |
Country Status (1)
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| KR (1) | KR200215115Y1 (en) |
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1997
- 1997-12-15 KR KR2019970037326U patent/KR200215115Y1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
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| KR200215115Y1 (en) | 2001-04-02 |
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