KR19990022976U - 웨이퍼의 노광장치 - Google Patents

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황재철
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구본준
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 고안은 웨이퍼에 조사되는 광원을 조절하는 블레이드의 이동방향을 전·후 및 좌·우로 이동케하므로써 하나의 웨이퍼를 이원화하여 노광하는 웨이퍼의 노광장치에 관한 것으로 종래의 일방향으로 이동되는 블레이드에 의한 이원화된 노광을 실시할 때 차단하고자 하는 부위가 직사각형이 아닌 경우에는 노광하고자 하는 부위를 정확하게 차단하는 것이 불가능하여 노광량 변화의 경계에 있는 칩에 노광불량이 발생하는 문제점이 있었던바 본 고안은 노광을 이원화하여 실시할 때 웨이퍼의 차단부위에 따라 전·후 및 좌·우로 적절하게 이동되는 블레이드를 다 수개 형성하여 다양한 형태로 차단부위를 선정하므로써 노광하고자 하는 부위에 정확하게 노광이 이루어져 이원화되는 경계부분의 칩에서 발생하는 불량율을 저하시키는 잇점이 있는 웨이퍼의 노광장치이다.

Description

웨이퍼의 노광장치
본 고안은 웨이퍼의 노광장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는 웨이퍼에 조사되는 광원을 조절하는 블레이드(Blade)의 이동방향을 전·후 및 좌·우로 이동케하므로써 하나의 웨이퍼를 이원화하여 노광하는 웨이퍼의 노광장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자의 고집적화에 따라 웨이퍼를 한번에 노광하는 공정에서 웨이퍼의 중앙부에 형성된 칩의 선폭과 테두리에 형성된 칩의 선폭간의 임계치수 변화량(Critical dimension variation)이 커진다. 따라서 이를 개선하기 위해서 노광시 웨이퍼상에 다 수개의 칩으로 형성된 각각의 샷(Shot)에 적합한 노광량을 조사(照射)하도록 이원화된 노광이 실시된다.
이때 상기 노광량은 웨이퍼에 조사되는 노광시간을 조절하므로써 제어된다.
종래의 노광장치는 도 1에서 도시된 바와같이 빛을 발생하는 광원(1)과, 상기 광원(1)의 조사량을 조절하는 셔터(Shutter)(3)와, 상기 광원(1)으로부터 발생한 빛을 반사하는 다 수개의 미러(5)와, 상기 미러(5)로부터 반사된 빛을 부분적으로 차단하는 적어도 하나이상의 블레이드(7)(9)와, 상기 블레이드(7)(9)를 통과한 빛이 전달되어 초점이 조절되는 레티클(11) 및 렌즈(13)로 구성된다.
이러한 노광장치에는 웨이퍼(17)를 상부면에 적재하며 위치이동되는 웨이퍼 스테이지(15)가 형성된다.
한편, 빛을 부분적으로 차단하는 블레이드는 도 2a에서 도시된 바와같이 노광장치내의 내측벽에 가로방향 또는 세로방향으로 각각 설치되고 상기 블레이드(7)(9)의 일측에 연결되어 이를 일방향으로 이동시키는 구동장치(19)(21) 및 각 구동장치(19)(21)를 제어하는 콘트롤러(23)로 구성된다.
상기 노광장치에 의한 웨이퍼의 노광작업을 설명하면 다음과 같다.
도 1과 도 2a 및 도 2b를 참조하면 광원(1)에 의하여 방사된 빛이 노광량을 조절하는 셔터(3)를 통하여 각 미러(5)로 전달되고 이러한 미러(5)에서 반사된 빛은 블레이드(7)(9)에 전달된다.
이때 상기 블레이드(7)(9)는 빛을 부분적으로 차단하여 조사부위가 조절된 상태에서 레티클(11)로 유입된다. 이러한 빛은 레티클(11)에서 렌즈(13)로 전달되면서 초점이 조절되어 웨이퍼 스테이지(15)의 상부면에 장착된 웨이퍼(13)의 노광하고자 하는 부위의 칩을 집중적으로 조사한다. 이렇게 일정부위를 조사한 후 차단부위를 개방하고 그 부위에 빛을 조사하여 노광되는 부위를 이원화한다.
이렇게 빛을 부분적으로 차단하므로써 웨이퍼(17)를 이원화하여 노광하는 블레이드(7)(9)는 도 2a에서 도시된 바와같이 가로방향으로 설치된 블레이드(7)와 세로방향으로 설치된 블레이드(9)가 웨이퍼(17)의 상부면과 대응되는 노광장치내에 형성된다.
이러한 각각의 블레이드(7)(9)는 일방향으로 작동되어 빛을 부분적으로 차단한다.
즉, 상기 노광장치내에 가로방향으로 설치되는 블레이드(7)는 일측에 형성된 구동장치(19)에 의하여 작동되어 세로방향으로 이동되고, 세로방향으로 설치된 블레이드(9) 역시 일측에 형성된 구동장치(21)에 의하여 가로방향으로 이동되어 각 블레이드(7)(9)가 상호 교차되면서 빛을 부분적으로 차단한다.
이때 상기 각각의 구동장치(19)(21)가 연결된 콘트롤러(23)를 조작하므로써 각 블레이드(7)(9)의 이동방향 및 이동속도 등을 조정한다.
따라서 각각의 블레이드(7)(9)가 상호 교차되면서 형성하는 차단부위는 항상 직사각형을 이루어야 하며 차단할 수 있는 형태가 제한된다.
즉, 도 2b에서와 같이 상부열에 배치된 2개의 칩과 하부열의 끝단에 형성된 1개의 칩을 동시에 차단하기 위해서는 세로방향으로 이동되는 블레이드(7)가 가로방향으로 1 칩만큼 이동하여야 하나 상기 블레이드(7)는 세로방향으로만 이동되므로써 차단이 불가능한다.
따라서, 종래의 일방향으로 이동되는 블레이드에 의한 이원화된 노광을 실시할 때 차단하고자 하는 부위가 직사각형이 아닌 경우에는 노광하고자 하는 부위를 정확하게 차단하는 것이 불가능하여 노광량 변화의 경계에 있는 칩에 노광불량이 발생하는 문제점이 있다.
본 고안의 목적은 노광을 이원화하여 실시할 때 웨이퍼의 차단부위에 따라 전·후 및 좌·우로 적절하게 이동되는 블레이드를 다 수개 형성하여 다양한 형태로 차단부위를 선정할 수 있는 웨이퍼의 노광장치를 제공하는 데 있다.
따라서, 본 고안은 상기의 목적을 달성하고자, 빛을 발생하는 광원과, 상기 광원의 조사량을 조절하는 셔터와, 상기 광원으로부터 발생한 빛을 반사하는 다 수개의 미러와, 상기 미러로부터 반사된 빛을 부분적으로 차단하도록 가로방향 및 세로방향으로 각각 설치되는 블레이드와, 상기 블레이드의 일측에 형성되어 각각의 블레이드를 가로방향 및 세로방향으로 이동시키는 구동장치와, 상기 각각의 구동장치에 연결되어 이동방향 및 이동속도를 제어하는 콘트롤러와, 상기 블레이드를 통과한 빛이 전달되어 초점이 조절되는 레티클 및 렌즈로 구성되는 것을 특징으로 한다.
도 1은 종래의 노광장치를 개략적으로 도시한 구성도이고,
도 2a는 종래의 블레이드를 도시한 구성도이고,
도 2b는 종래의 블레이드 작동을 도시한 사용상태도이고,
도 3은 본 고안의 노광장치를 개략적으로 도시한 구성도이고,
도 4a는 본 고안의 블레이드를 도시한 구성도이고,
도 4b는 본 고안의 블레이드 작동을 도시한 사용상태도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 광원, 3 : 셔터,
5 : 미러, 7,9,101,103,105,107 : 블레이드,
11 : 레티클, 13 : 렌즈,
15 : 웨이퍼 스테이지, 17 : 웨이퍼,
19,21,109,111,113,115 : 구동장치, 23, 117 : 콘틀로러,
c : 칩.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안을 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 고안의 노광장치를 개략적으로 도시한 구성도이고, 도 4a는 본 고안의 블레이드를 도시한 구성도이고, 도 4b는 본 고안의 블레이드 작동을 도시한 사용상태도이다.
본 고안의 노광장치는 빛을 발생하는 광원(1)이 내측 일단에 형성되고 상기 광원(1)에서 전달된 빛의 조사량을 조절하는 셔터(3)와, 상기 셔터(3)를 통과한 빛을 반사하는 다 수개의 미러(5) 및 상기 미러(5)로부터 반사된 빛을 부분적으로 차단하는 블레이드(101)(103)(105)(107)가 순차적으로 형성되고, 상기 블레이드(101)(103)(105)(107)를 통과한 빛이 전달되어 초점이 조절되는 레티클(11) 및 렌즈(13)로 구성되어 상기 렌즈(13)와 대응되는 위치의 웨이퍼 스테이지(15)에 장착된 웨이퍼(17)를 노광한다.
이때 상기 블레이드(101)(103)(105)(107)는 노광장치의 내측면에 세로방향 및 가로방향으로 각각 설치되고 일측에 형성된 구동장치(109)(111)(113)(115)에 의하여 세로방향 및 가로방향으로 이동되므로써 빛을 부분적으로 차단하여 웨이퍼(17)의 노광을 이원화한다.
따라서 상기 블레이드(101)(103)(105)(107)에 의하여 빛을 차단할 때 각각의 블레이드(101)(103)(105)(107)가 전·후 및 좌·우로 이동되어 다양한 형태로 교차되므로써 웨이퍼(17)의 어떠한 칩도 이원화하여 노광한다.
한편 상기 각 구동장치(109)(111)(113)(115)는 콘트롤러(117)와 연결되어 각 블레이드(101)(103)(105)(107)의 이동방향 및 이동속도가 제어된다.
본 고안의 블레이드에 의한 웨이퍼의 노광과정을 알아보면 다음과 같다.
도면을 참조하면 웨이퍼(17)의 조사하고자 하는 부위에 레티클(11)을 위치시켜 초점을 맞춘 상태에서 노광장치내에 형성된 블레이드(101)(103)(105)(107)를 이동시켜 노광부위를 적절한 형태로 차단한다.
즉, 처음 노광하고자 하는 부위가 웨이퍼(17) 일부분의 우측 상·하단의 칩과 하단 왼쪽에 인접한 1개의 칩만으로 제한하고자 하면 좌측 세로방향으로 설치된 블레이드(101)를 일측에 연결된 구동장치(109)를 작동시켜 가로방향으로 이동시키므로써 좌측 상·하단의 칩을 차단하고 후방에 가로방향으로 설치된 블레이드(107)를 일측에 연결된 구동장치(115)를 작동시켜 전방 및 좌측방향으로 이동시키므로써 좌측 상단 칩의 오른쪽에 인접한 칩을 차단하여 수행된다.
이러한 상태에서 노광이 이루어진 후 차단된 부위로 이동된 각 블레이드(101)(107)가 원위치되면서 노광되지 않던 부위에 빛이 가해져 노광량이 조절되므로써 이원화된 노광작업이 완료된다.
상기 노광되는 부위는 각각의 블레이드(101)(103)(105)(107)를 가로방향 또는 세로방향으로 이동시키며 교차하여 빛을 차단하므로서 다양한 위치의 칩을 부분적으로 선택할 수 있다.
상기에서 상술된 바와 같이, 본 고안은 노광을 이원화하여 실시할 때 웨이퍼의 차단부위에 따라 전·후 및 좌·우로 적절하게 이동되는 블레이드를 다 수개 형성하여 다양한 형태로 차단부위를 선정하므로써 노광하고자 하는 부위에 정확하게 노광이 이루어져 이원화되는 경계부분의 칩에서 발생하는 불량율을 저하시키는 잇점이 있다.

Claims (1)

  1. 빛을 발생하는 광원(1)과;
    상기 광원(1)의 조사량을 조절하는 셔터(3)와;
    상기 광원(1)으로부터 발생한 빛을 반사하는 다 수개의 미러(5)와;
    상기 미러(5)로부터 반사된 빛을 부분적으로 차단하도록 가로방향 및 세로방향으로 각각 설치되는 블레이드(101)(103)(105)(107)와;
    상기 블레이드(101)(103)(105)(107)의 일측에 형성되어 각각의 블레이드(101)(103)(105)(107)를 가로방향 및 세로방향으로 이동시키는 구동장치(109)(111)(113)(115)와;
    상기 각각의 구동장치(109)(111)(113)(115)에 연결되어 이동방향 및 이동속도를 제어하는 콘트롤러(117)와,
    상기 블레이드(101)(103)(105)(107)를 통과한 빛이 전달되어 초점이 조절되는 레티클(11) 및 렌즈(13)로 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 노광장치.
KR2019970035278U 1997-12-02 1997-12-02 웨이퍼의 노광장치 KR19990022976U (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030002102A (ko) * 2001-06-30 2003-01-08 주식회사 하이닉스반도체 줌렌즈 어레이 및 이를 구비한 노광장치

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20030002102A (ko) * 2001-06-30 2003-01-08 주식회사 하이닉스반도체 줌렌즈 어레이 및 이를 구비한 노광장치

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