KR19980703595A - 침지 조성물 - Google Patents

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KR19980703595A
KR19980703595A KR1019970707000A KR19970707000A KR19980703595A KR 19980703595 A KR19980703595 A KR 19980703595A KR 1019970707000 A KR1019970707000 A KR 1019970707000A KR 19970707000 A KR19970707000 A KR 19970707000A KR 19980703595 A KR19980703595 A KR 19980703595A
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비스카리니람베르토
트라니마리나
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레이서 제이코버스 코넬리스
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Abstract

다량의 빌딩 및 오염물 현탁 시스템이 조합된 소르비탄 에스테르를 포함하는 침지 조성물이 개시되었다. 상기 조성물을 물에 희석시켜 침지액을 형성한다. 본 발명은 특히 직물로부터 미사 및 점토를 제거하는데 효과적이다.

Description

침지 조성물
직물 침지 작업은 당해분야에 기술되어 있다. 상기 침지 작업에서 직물은 수시간 내지 하룻밤에 이르는 연장된 기간 동안 침지액과 접촉되어 방치된다. 이러한 세탁 공정은, 직물 및 침지액의 주요 활성 구성분 간의 접촉 시간을 최대화하는 이점이 있다. 또한, 기계적 교반의 필요성을 포함하는 전형적인 세탁 작업을 위한 요구사항을 감소시키거나 제거하고, 또는 후속되는 전형적인 세탁 작업의 효능을 개선시키는 이점을 갖는다.
이러한 침지 작업은 일반적으로 직물로부터 거친 옥외 때[예: 토양, 진흙, 미사(微砂) 및 점토]을 제거하는데 효율적이다. 이러한 때는 특히 직물로부터 제거하기가 어렵다. 실제로, 일반적으로 0.002 내지 0.050 mm의 미사 및 일반적으로 0.002 mm 미만 크기의 점토와 같은 매우 미세한 때 과립은 직물용 섬유중에 삽입되어 섬유의 표면에 견고하게 부착되어 있을 수 있다. 이러한 문제는 미사 및 점토가 쉽게 묻는 양말에 특히 심하다.
따라서 본 발명의 목적은 침지 작업중에 직물로부터 때, 특히 미사 및 점토의 제거를 향상시키는 것이다.
이러한 목적이 직물을 침지 세제 조성물을 포함하고 이후 정의할 소르비탄 에스테르를 다량의 빌딩 및 오염물 현탁 시스템(building and soil suspending system)과 배합된 상태로 포함하는 수성 침지액내에 침지시킴으로써 달성될 수 있다는 것을 발견하였다. 본 발명은 침지 세제 뿐만 아니라 직물을 상기 침지 세제로 형성된 침지액내에 침지시키는 공정을 포함한다.
발명의 요약
한가지 실시양태에서, 본 발명은
-x가 0 내지 40의 정수이고, R1, R2이 독립적으로 OH 또는 (CnHn+1)COO 이고, R3이 (CnHn+1)COO기 이고, 이때 n이 11 내지 17의 정수인 일반식 C6H9O2(C2H4O)xR1R2R3에 따른 소르비탄 에스테르; 및
-시트르산 또는 시트레이트, 실리케이트, 제올라이트, 폴리카복실레이트, 포스페이트 및 이의 혼합물로부터 선택된 화합물을 포함하는 5중량% 내지 50중량%의 빌딩 및 오염물 현탁 시스템을 포함하는 침지 조성물을 포함한다.
또 다른 실시양태에서, 본 발명은 직물을 침지하는 공정을 포함하는데, 여기서 상기 직물은 물 및 효과량의 상기 조성물을 포함하는 침지액내에 침지된다.
본 발명은 침지 조건, 즉 직물을 전형적인 세척 작업 전의 제 1 단계로서 또는 단일 단계로서 물 및 세제 구성분을 포함하는 침지액에 침지하여 방치한 조건하에 직물을 세정하는 것과 관련된다.
본 발명은 직물을 침지시키는 조성물 및 공정을 포함한다. 이후 침지 조성물로 지칭되는 조성물은 침지 공정에 사용된다.
A-조성물:
이의 제 1 실시태양에서, 본 발명은 소르비탄 에스테르 포함하는 조성물, 및 다량의 빌딩 및 오염물 현탁 시스템을 포함한다.
소르비탄 에스테르
따라서, 제 1 필수 구성분은 일반식 C6H9O2(C2H4O)xR1R2R3에 따른 소르비탄 에스테르이고, 여기서 x는 0 내지 40의 정수이고, R1, R2은 독립적으로 OH 또는 (CnHn+1)COO이고, R3은 (CnHn+1)COO기이고, 이때 n은 11 내지 17의 정수이다.
본원에서 바람직한 조성물의 경우, x는 0 또는 20이고, 가장 바람직한 조성물은 폴리에톡시화 (20) 소르비탄 트리스테아레이트, 즉 C6H9O2(C2H4O)20(C17H35COO)3또는 폴리에톡시화 (20) 소르비탄 모노스테아레이트, 즉 C6H9O2(C2H4O)20(OH)2(C17H35COO) 또는 소르비탄 모노스테아레이트, 즉 C6H9O2(OH)2(C17H35COO) 또는 소르비탄 모노팔미테이트, 즉 C6H9O2(OH)2(C15H31COO) 또는 이의 혼합물이다.
모든 이들 물질은 상업적으로 몇몇 상품명하에 시판되고 있고, 예로써 론자(Lonza)로부터의 글리코스퍼스(Glycosperse) TS 20(폴리에톡시화 소르비탄 트리스테아레이트), 론자로부터의 글리코스퍼스 S 20(폴리에톡시화 소르비탄 모노스테아레이트), 피나(Fina)로부터의 라디아서프(Radiasurf) 7145(소르비탄 모노스테아레이트), 라디아서프 7135(소르비탄 모노팔미테이트), 아크조(Akzo)로부터의 아모탄 MP(소르비탄 모노팔미테이트)가 있다.
또한, 에톡시화 소르비탄 에스테르와 비-에톡시화 소르비탄 에스테르를 조합하여 사용하면 한가지 종류를 사용하는 경우보다 우수한 성능을 제공함이 밝혀져 있다.
본원의 침지 조성물에서, 소르비탄 에스테르의 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.01 내지 5중량%, 가장 바람직하게는 0.5 내지 5중량%가 존재해야 한다.
빌딩 및 오염물 현탁 시스템
본원의 제 2 필수 성분은 시트르산 또는 시트레이트, 실리케이트, 제올라이트, 폴리카복실레이트, 포스페이트, 및 이들의 혼합물로부터 선택된 화합물을 포함하는 빌딩 및 오염물 현탁 시스템이다. 또한 상기 시스템 총 조성물의 5 내지 50중량%, 바람직하게는 10 내지 40중량%, 가장 바람직하게는 15 내지 30중량%의 높은 총량으로 존재해야 하는 것도 필수적이다.
시트르산은 산 형태 또는 염 형태(모노-, 디-, 트리- 염) 및 모든 경우의 무수물 및 수화물 형태, 또는 이들의 혼합물로 사용될 수 있다.
본원에서 사용하기에 적절한 실리케이트는 실리케이트의 알칼리 금속 염, 또는 이들의 혼합물을 포함한다. 본원에서 사용될 실리케이트의 바람직한 알칼리 금속 염은 소듐 실리케이트이다. 본 명세서의 배경 부분에서 언급된 성능의 장점 이외에, 침지 조성물의 용해시 침지액중에서 생성된 이용가능한 산소의 분해가 상기 침지액에서 소듐 실리케이트가 40 ppm 이상 존재함으로써 감소된다는 것을 발견하였다.
실리케이트의 임의의 유형의 알칼리 금속 염이 본원에 사용될 수 있으며, 이는 실리케이트의 상기 알칼리 금속 염 또는 이들의 혼합물의 결정성 형태 뿐만 아니라 비결정성 형태를 포함한다.
사용될 소듐 실리케이트의 적절한 결정성 형태는 하기식의 분말상의 결정성 층상 실리케이트 또는 이들의 혼합물이다:
NaMSixO2x+1·yH2O
여기서,M은 나트륨 또는 수소이고, x는 1.9 내지 4이며, y는 0 내지 20이다. 이러한 유형의 결정성 층상 소듐 실리케이트가 유럽 특허원 제 164 514호에 개시되어 있고 이들의 제조방법은 독일 특허원 제 34 17 649호 및 독일 특허원 제 37 42 043호에 개시되어 있다. 본 발명의 목적에 있어서, 상기 화학식중 x는 2, 3 또는 4이고 바람직하게는 2이다. 가장 바람직하게 M은 나트륨이고, y는 0이고, 이러한 식의 바람직한 예는 Na2Si2O5의 a, b, g 및 d 형태를 포함한다. 상기 물질들은 각각 NaSKS-5, NaSKS-7, NaSKS-11 및 NaSKS-6로서 훽스트 AG FRG로부터 입수가능하다. 가장 바람직한 물질은 d-Na2Si2O5, NaSKS-6이다. 결정성 층상 실리케이트를 건조 혼합된 고형분 또는 다른 성분들과의 응집체의 고형 성분으로서 과립상의 침지 조성물에 혼입시킨다.
본원에 사용된 적합한 비결정성 형태의 소듐 실리케이트는 하기 일반식의 화합물 또는 이의 혼합물이다:
NaMSixO2x+1
여기서, M은 나트륨 또는 수소이고, x는 1.9 내지 4의 수이다. Si2O5Na2O의 비결정성 형태가 본원에 사용하기에 바람직하다.
본원에 사용하기에 적합한 제올라이트는 하기 실험식을 갖는 것을 포함하는 알루미노실리케이트이다:
Mz(zAlO2·ySiO2)
여기서, M은 나트륨, 칼륨, 암모늄 또는 치환된 암모늄이고, z는 약 0.5 내지 약 2이고, y는 1이고, 마그네슘 이온을 갖는 상기 물질은 무수 알루미노실리케이트 1g당 CaCO3경도의 약 50㎎ 등가량 이상의 용량을 교환한다. 바람직한 제올라이트는 다음과 같은 일반식을 갖는다:
Nazi(AlO2)z(SiO2)yu·xH2O
상기 식에서, z 및 y는 6이상의 정수이고, y에 대한 z의 몰비는 0.1 내지 약 0.5이고, x는 약 15 내지 약 264의 정수이다.
유용한 물질은 시판된다. 이들 알루미노실리케이트는 구조상 결정성 또는 비결정성일 수 있고, 천연발생 알루미노실리케이트이거나 합성적으로 유도된 아미노실리케이트일 수 있다. 알루미노실리케이트 이온 교환 물질을 제조하기 위한 방법은 1976년 10월 12일자로 크루멜(Krummel)에게 허여된 미국 특허 제 3,985,669호에 개시되어 있다. 본원에 유용한 바람직한 합성 결정성 알루미노실리케이트 이온 교환 물질은 제올라이트 A, 제올라이트 P(B) 및 제올라이트 X하에 시판된다. 특히 바람직한 양태에서, 결정성 알루미노실리케이트 이온 교환 물질은 하기 일반식을 갖는다:
Na12i(AlO2)12(SiO2)12u·xH2O
여기서, x는 20 내지 30, 특히 약 27이다. 상기 물질은 제올라이트 A로서 공지되어 있다. 바람직하게, 알루미노실리케이트는 약 0.1 내지 10미크론의 입경을 갖는다.
본원에 사용하기에 적합한 포스페이트 빌더로는 나트륨 및 칼륨 트리폴리포스페이트, 피로포스페이트, 약 6 내지 21의 중합도를 갖는 중합체성 메타포스페이트, 및 오르토포스페이트가 있다. 다른 인 함유 빌더 화합물은 본원에 참고로 인용된 미국 특허 제 3,159,581호, 제 3,213,030호, 제 3,422,021호, 제 3,422,137호, 제 3,400,176호 및 제 3,400,148호에 개시되어 있다.
본원에 사용하기에 적합한 폴리카복실레이트 빌더로는, 1964년 4월 7일자로 베르그(Berg)에게 허여된 미국 특허 제 3,128,287호, 및 1972년 1월 18일자로 람베르티(Lamberti)등에게 허여된 미국 특허 제 3,635,830호에 개시된 바와 같은 옥시디숙시네이트를 포함하는 에테르 폴리사복실레이트가 있다. 또한 1987년 5월 5일자로 부쉬(Bush) 등에게 허여된 미국 특허 제 4,663,071호의 TMS/TDS 빌더를 참조한다. 적합한 에테르 폴리카복실레이트는 또한 환형 화합물, 특히 지환족 화합물을 포함하고, 예로써 미국 특허 제 3,923,679호, 제 3,835,163호, 제 4,120,874호 및 제 4,102,903호를 포함한다.
다른 유용한 세척 빌더로는 에테르 하이드록시폴리카복실레이트, 1,3,5-트리하이드록시 벤젠-2,4,6-트리설폰산, 및 카복시메틸옥시숙신산, 다양한 알칼리 금속, 암모늄 및 에틸렌디아민 테트라아세트산과 니트릴로트리아세트산 등의 폴리아세트산의 치환된 암모늄염, 뿐만 아니라 멜리트산, 숙신산, 옥시디숙신산, 폴리말레산, 벤젠 1,3,5-트리카복실산, 카복시메틸옥시숙신산 등의 폴리카복실레이트 및 이의 가용성 염이 있다.
또한, 1986년 1월 28일자로 부쉬(Bush)에게 허여된 미국 특허 제 4,566,984호에 개시된 3,3-디카복시-4-옥사-1,6-헥산디오에이트 및 이와 관련된 화합물은 본 발명의 세척 조성물에 적합하다. 유용한 숙신산 빌더로는, C5-C20알킬 및 알케닐 숙신산 및 이의 염이 있다. 이러한 유형의 특히 바람직한 화합물은 도데세닐숙신산이다. 숙시네이트 빌더의 특정 예로서는 라우릴숙시네이트, 미리스틸숙시네이트, 팔미틸숙시네이트, 2-도데세닐숙시네이트(바람직함), 2-펜타데세닐숙시네이트 등이 있다. 라우릴숙시네이트는 상기 그룹의 바람직한 빌더이고, 이는 1986년 11월 5일자로 공개된 유럽 특허원 제 86200690. 5/0, 200,263호에 기술되어 있다.
다른 적합한 폴리카복실레이트는 1979년 3월 13일자로 크루취필드(Crutchfield) 등에 허여된 미국 특허 제 4,144,226호, 및 1967년 3월 7일자로 디엘(Diehl)등에 허여된 미국 특허 제 3,308,067호에 개시되어 있다. 또한, 디엘의 미국 특허 제 3,723,322호를 참조한다.
본원에 사용하기 위한 다른 적합한 폴리카복실레이트 빌더는 화학식 I에 따른 빌더 또는 이의 혼합물을 포함한다.
상기 식에서, Y는 공단량체 또는 공단량체의 혼합물이고; R1및 R2은 표백- 및 알칼리-안정성 중합체 말단기이고; R3은 H, OH 또는 C1-4알킬이고; M은 H이고, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄이고, p는 0 내지 2이고, n은 10이상이다.
본원에 사용하기에 바람직한 중합체는 두가지 범주에 속한다. 첫번째 범주는 제 1 단량체로서 말레산, 시트라콘산, 이타콘산, 메사콘산 및 이의 염과 같은 불포화 폴리카복실산, 및 제 2 단량체로서 아크릴산 또는 알파-C1-4알킬 아크릴산과 같은 불포화 모노카복실산으로부터 형성된 공중합체성 중합체의 부류에 속한다. 상기 화학식 I에 대하여, 상기 제 1 부류에 속하는 중합체는 p가 0이 아니고, Y가 상술된 산들로부터 선택되는 중합체이다. 상기 부류의 바람직한 중합체는 상술된 화학식 I에 따른 것으로, 이때 Y는 말레산이다. 또한, 바람직한 양태에서, R3및 M은 H이고, n은 중합체가 1000 내지 400000 원자 질량 단위의 분자량을 갖도록 하는 값이다.
본 발명에 사용하기 위한 바람직한 중합체의 제 2 범주는 상술된 화학식 I에 대하여 p가 0이고, R3이 H 또는 C1-4알킬인 중합체의 부류에 속한다. 바람직한 양태에서, n은 중합체가 1000 내지 400000 원자 질량 단위의 분자량을 갖도록 하는 값이다. 매우 바람직한 실시태양에서, R3및 M은 H이다.
상술된 화학식 I에서 알칼리-안정성 중합체 말단기 R1및 R2는 적절하게 알킬기, 옥시알킬기 및 알킬 카복실산기 및 이의 염과 에스테르를 포함한다.
상기에서, 중합체의 중합도인 n은 평균 단량체 분자량에 의해 후자를 나눠줌으로서 중량 평균 중합체 분자량으로부터 측정될 수 있다. 따라서, 말레산-아크릴산 공중합체의 경우 중량 평균 분자량이 15,500이고, 30몰%의 말레산 유도된 단위를 포함하고, n은 182이다(즉, 15,500/(116×0.3+72×0.7)).
영국 슈롭쉬르 소재의 폴리머 래보레이토리즈 리미티드(Polymer Laboratories Ltd.)에서 시판하는 나트륨 폴리스티렌 설포네이트 중합체 표준물에 대하여 40℃에서 온도-조절된 칼럼을 사용하였고, 중합체 표준물은 pH 7.0에서 80/20 물/아세토니트릴 중 0.15M 인산이수소나트륨 및 0.02M 테트라메틸암모늄 하이드록사이드이다.
상기 중, 본원에 사용하기에 매우 바람직한 중합체는 n이 100 내지 800, 바람직하게는 120 내지 400인 제 1 범주의 중합체이다.
본원에서 사용하기에 바람직한 빌더 및 오염물 현탁 시스템은 무수 시트르산, 또는 말레산 또는 아크릴산의 중합체, 또는 말레산 및 아크릴산의 공중합체이다.
선택 사항
본 발명의 침지 조성물은 추가로 다양한 다른 구성분을 포함한다.
선택적이지만 매우 바람직한 구성분으로서, 조성물은 추가로 산소 표백제를 포함할 수도 있다. 실로, 산소 표백제는 얼룩의 표백, 탈취 뿐만 아니라 소독과 같은 다수의 장점을 제공하고, 본 발명에 따르는 소르비탄 에스테르는 산소 표백제에 의한 산화에 대한 저항성이 있다는 특정한 이점을 추가로 갖는다. 조성물내 산소 표백제는 과산화수소 또는 임의의 과산화수소의 부가 화합물, 또는 유기 퍼옥시산 또는 이들의 혼합물과 같은 다양한 공급원에서 공급받는다. 과산화수소의 부가 화합물이란 과산화수소를 제 2의 화학적 화합물(예를 들면, 무기 염, 우레아 또는 유기 카복실레이트)에 첨가하여 부가 화합물을 제공하도록 생성되는 화합물을 의미한다. 과산화수소의 추가 화합물의 예는 무기과수소 염, 과산화수소가 유기 카복실레이트, 우레아 및 과산화수소가 클라트레이트(clathrated)되어 있는 화합물와 함께 형성되는 화합물을 의미한다.
다른 적절한 산소 표백제는 퍼설페이트, 특히 칼륨 퍼설페이트 K2S2O8및 나트륨 퍼설페이트 Na2S2O8을 포함한다. 무기 퍼하이드레이트 염의 예로는 퍼보레이트, 퍼카보네이트, 퍼포스페이트 및 퍼실리케이트 염을 들 수 있다. 무기 퍼하이드레이트염은 일반적으로 알카리 금속 염이다.
본원에서 사용하기에 바람직한 무기 퍼하이드레이트 염은 퍼카보네이트, 퍼보레이트 또는 이들의 혼합물의 알카리 금속염이다. 바람직한 퍼카보네이트의 알카리 금속염은 나트륨 퍼카보네이트이다.
본 발명의 침지 조성물은 과산화수소 공급원을 조성물의 중량을 기준으로 약 0중량% 내지 60중량%, 바람직하게는 0중량% 내지 40 중량%, 더욱 바람직하게는 10중량% 내지 40중량%를 포함한다.
본원에서 침지 조성물이 산소 표백제를 포함하는 경우, 추가로 표백제 활성제를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 유형의 적절한 화합물의 예로는 영국 특허 제 GB 1 586 769호 및 영국 특허 제 GB 2 143 231호에 기술되어 있다. 이러한 화합물의 바람직한 예로는 테트라아세틸 에틸렌 디아민(TAED), 나트륨 3, 5, 5 트리메틸 헥산오일옥시벤젠 설포네이트, 미국 특허 제 4 818 425호 에 기술된 바와 같은 디퍼옥시 도데카노산, 및 미국 특허 제 4 259 201호에 기술된 바와 같은 퍼옥시아디프산의 노닐아미드, n-노난노일옥시벤젠설포네이트(NOBS) 및 유럽 특허 제 91870207.7호에 기술된 바와 같은 아세틸 트리에틸 시트레이트(ATC)를 들 수 있다. 또한 치환되거나 또는 치환되지 않은 벤조일 카프로락탐, 옥탄일 카프로락탐, 노난노일 카프로락탐 헥산오일 카프로락탐산, 데칸오일 카프로락탐산, 운데센오일 카프로락탐, 포밀 카프로락탐, 아세틸 카프로락탐, 프로판오일 카프로락탐, 부탄오일 카프로락탐, 펜탄오일 카프로락탐으로 구성된 그룹에서 선택된 N-아실 카프로락탐이 특히 바람직하다. 본원의 침지 화합물은 상기 표백제 활성제의 혼합물을 포함할 수도 있다.
본원의 표백제 활성제의 바람직한 혼합물은 디아실퍼옥사이드를 생성하는 경향이 낮으며 주로 과산을 산출하는 제 2 표백제 활성제와 함께 n-노난노일옥시벤젠설포네이트(NOBS)를 포함한다. 상기 제 2 표백제 활성제는 테트라아세틸에틸렌 디아민(TAED), 아세틸 트리에틸 시트레이트(ATC), 아세틸 카프로락탐, 벤조일 카프로락탐 등 또는 이들의 혼합물을 포함할 수도 있다. 표백제 활성제의 상기 혼합물은 바람직하게는 본 발명의 양태에서 사용하고, 이때 침지액은 pH를 9.5이하로 조정한다. 실로, n-노난노일옥시벤젠설포네이트 및 상기 제 2 표백제 활성제를 포함하는 표백제 활성제의 혼합물이 입상화 오염물 세정 성능이 있으며 동시에 디아크릴 퍼옥사이드에 민감한 오염물(예: 베타 카로텐) 및 과산에 민감한 오염물(예: 신체 얼룩)이 발견되었다.
따라서, 본원의 침지 조성물은 n-노난노일옥시벤젠설포네이트를 총 조성물의 중량을 기준으로 0중량% 내지 15 중량%, 바람직하게는 1중량% 내지 10 중량% 및 더욱 바람직하게는 3중량% 내지 7 중량% 포함하고, 상기 제 2 표백제 활성제를 총 조성물의 중량 기준으로 0중량% 내지 15중량%, 바람직하게는 1중량% 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 3중량% 내지 7중량% 함유한다.
본원의 침지 조성물이 산소 표백제를 포함하는 경우, 이들이 침지액내 유리된 무거운 이온의 양을 조정하는데 도움이 되는 킬레이트제를 포함하는 것이 바람직하며, 따라서 이용가능한 산소의 상기 공급원에서 방출된 산소의 빠른 분해를 억제한다. 본원에서 사용하는 적절한 아미노 카복실레이트 킬레이트제로는 디에틸렌 트리아미노 펜타아세트산, 에틸렌디아민 테트라아세테이트(EDTA), N-하이드록시에틸에틸렌디아민 트리아세테이트, 니트릴로트리아세테이트, 에틸렌디아민 테트라프로피오네이트, 트리에틸렌테트라아민 헥사아세테이트, 및 에탄올디글리신, 이들 혼합물의 알카리 메탈 암모늄 또는 치환된 암모늄 염을 들 수 있다. 추가로 적절한 킬레이트제는 에틸렌디아민-N,N'-디숙신산(EDDS) 또는 이의 알카리 금속, 알카리 토금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄 염을 포함한다. 특히 적절한 EDDS 화합물은 유리 산 형태 및 나트륨 또는 마그네슘 염 도는 이의 착제를 들 수 있다. 또한 다른 적절한 킬레이트제는 아미노 알킬렌 폴리(알킬렌 포스포네이트), 알카리 금속 에탄 1-하이드록시 디포스포네이트, 니트릴 트리메틸렌 포스포네이트, 에틸렌 디아민 3급 메틸렌 포스포네이트 및 디에틸렌 트리아민 펜타 메틸렌 포스포네이트를 포함하는 유기 포스페이트를 들 수 있다. 포스포네이트 화합물은 산의 형태 또는 이들의 알카리 금속염의 형태로 존재한다. 바람직하게는 존재하는 유기 포스포네이트 화합물은 이들의 마그네슘 염의 형태이다.
따라서 본 발명의 침지 조성물은 상기 킬레이트제를 총 조성물의 중량을 기준으로 0중량% 내지 5 중량%, 바람직하게는 0중량% 내지 3중량%, 더욱 바람직하게는 0.05중량% 내지 2중량%를 포함한다.
본 발명의 침지 조성물은 추가로 다른 선택적인 구성분(예: 계면활성제, 충진제, 광학 광택제, 효소, 다른 킬레이트제, 분산제, 계면활성제, 오염물 이형제, 광활성화된 표백제(예: Zn 프탈로시아닌 설포네이트), 염료, 염료 전이 억제제, 안료 및 향료를 포함할 수도 있다. 상기 선택적인 구성분은 바라는 양을 변화시키며 첨가할 수 있다.
본원의 조성물은 고체, 바람직하게는 과립 또는 액체 형태로 제조할 수 있다.
B-공정
제 2 양태에서, 본 발명은 직물을 침지시키는 공정을 포함한다. 본원에서와 같이, 직물을 침지시키는 공정이라는 표현은 충분히 직물을 세정할 수 있는 시간동안 물 및 전술했던 조성물을 포함하는 침지액내에 직물을 침지시켜주는 작용을 의미한다. 침지 공정은 전형적인 세탁 작업으로서 임의의 다른 공정과 독립적으로 또는 전형적인 세탁 단계의 제 2 단계전의 제 1 단계로 수행된다. 본 발명의 바람직한 침지 공정에서, 직물은 10분 내지 24시간, 바람직하게는 30분 내지 24시간, 가장 바람직하게는 4시간 내지 24시간 동안 침지된 채로 놓아둔다. 직물을 충분한 시간동안 상기 침지액에 담근 후, 직물들을 제거하여 물로 세척할 수 있다. 또한 직물은 침지된 후 일반적인 세탁 작업 동안 침지 작업과 세탁 작업 사이에 세척 작업이 있거나 또는 없이 세척될 수 있다.
본원의 침지 과정에서, 전술한 침지 조성물은 적절한 양의 물로 희석되어 침지액을 생성한다. 적절한 사용량은 물 3.5 내지 5리터에 침지 조성물 45 내지 50 그램이며, 물 20 내지 45 리터에 침지 조성물 90 내지 100 그램까지 희석시킬 수 있다. 전형적으로, 1 용량은 농축된 침지의 경우 3.5 내지 5리터중 45 내지 50그램이다(bucket/sink). 침지된 세탁기의 경우, 사용량은 물 약 20(유럽) 내지 45(미국) 리터내 90 내지 100 그램이다. 그 다음 침지된 직물을 적당한 시간동안 침지액에 담근다. 특정한 때/오염물에 대해 공정의 전체 성능에 걸쳐 영향을 미치는 요소가 있다. 이러한 요소로는 연장된 침지 시간을 들 수 있다. 실로, 직물이 오래 침지될 수록, 결과는 우수하다. 이상적으로 침지 시간은 하룻밤, 즉 12시간 내지 24시간이다. 또다른 요인은 초기에 따뜻하게 하거나 또는 따듯한 것과 같은 온도이다. 실로, 침지액의 초기 온도가 높을 수록 성능면에서 많은 장점을 제공한다.
본원의 공정은 다양한 직물을 세정하는데 적절하나 미사 및 점토가 묻을 수 있는 상황에 노출된 양말의 침지시 바람직하게 적용됨을 밝혀낸다.
하기 조성물은 제시된 부로 열거된 구성분을 혼합하여 제조한다.
첨가물 1(%W/W) 2(%W/W) 3(%W/W)
소르비탄 모노 스테아레이트(SMS) - 3.00 -
소르비탄 트리스테아레이트 EO 20(STS EO 20) - - 3.00
시트르산 12 12 12
제올라이트 A 11 11 11
폴리아크릴레이트(아쿠졸 445ND) 11 11 11
실리케이트(비결정성; 1.6r) 0.3 0.3 0.3
나트륨 퍼보레이트 모노하이드레이트 26 26 26
나트륨 퍼카보네이트 0 0 0
나트륨 카보네이트 4 4 4
나트륨 설페이트 10 10 10
NOBS 12 12 12
음이온성(LAS/AS/AES) 7 7 7
기타 불활성 및 소량의 함유물 100 이하 100 이하 100 이하
첨가물 4(%W/W) 5(%W/W) 6(%W/W)
소르비탄 모노 스테아레이트(SMS) 2.50 0 0
소르비탄 모노스테아레이트 EO 20(SMS EO 20) 0 3.00 0
소르비탄 트리스테아레이트 EO 20(STS EO 20) 0.50 0 3.00
시트르산 10 10 10
제올라이트 A 0 0 0
폴리아크릴레이트(아쿠졸 445ND) 11 11 11
실리케이트(비결정성; 1.6r) 0.4 0.4 0.4
나트륨 퍼보레이트 모노하이드레이트 0 0 0
나트륨 퍼카보네이트 31 31 31
나트륨 설페이트 24 24 24
NOBS 6 6 6
TAED 5 5 5
음이온성(LAS/AS/AES) 7 7 7
기타 불활성 및 소량의 함유물 100 이하 100 이하 100 이하
침지액은 물 3.5리터 내지 5.0 리터에 상기 조성물 45g을 희석함으로써 형성된다. 그 다음 직물 0.5 내지 2 Kg을 각각 상기 침지액에 10 분 내지 24시간동안 담가둔다. 마지막으로 침지액에서 직물을 제거하여 물로 세척하고 일정한 세정 공정, 손세척 또는 세탁기 세척으로, 일반적인 세제와 함께, 침지액을 재사용하거나 또는 사용하지 않고 세척한 다음 상기 직물을 건조시킨다.

Claims (10)

  1. -x가 0 내지 40의 정수이고, R1, R2이 독립적으로 OH 또는 (CnHn+1)COO 이고, R3이 (CnHn+1)COO기 이고, 이때 n이 11 내지 17의 정수인 일반식 C6H9O2(C2H4O)xR1R2R3에 따른 소르비탄 에스테르; 및
    -시트르산 또는 시트레이트, 실리케이트, 제올라이트, 폴리카복실레이트, 포스페이트 및 이의 혼합물로부터 선택되는 화합물을 포함하는 5중량% 내지 50중량%의 빌딩 및 오염물 현탁 시스템
    를 포함하는 침지 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 소르비탄 에스테르의 0.01% 내지 10%, 바람직하게는 0.01% 내지 5%, 가장 바람직하게는 0.5% 내지 5%를 포함하는 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 소르비탄 에스테르가 폴리에톡시화 (20) 소르비탄 트리스테아레이트, 또는 폴리에톡시화(20) 소르비탄 모노스테아레이트, 또는 소르비탄 모노스테아레이트, 또는 소르비탄 모노팔미테이트 또는 이의 혼합물인 조성물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,
    비-에톡시화 소르비탄 에스테르 및 에톡시화 소르비탄 에스테르를 포함하는 조성물.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 있어서,
    조성물의 전체 중량을 기준으로 상기 빌딩 및 오염물 현탁 시스템의 10중량% 내지 40중량%, 가장 바람직하게는 15중량% 내지 30중량%인 시스템을 포함하는 조성물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 빌딩 및 오염물 현탁 시스템이 무수 시트르산, 또는 말레산이나 아크릴산의 중합체, 또는 말레산 및 아크릴산의 공중합체로 구성되는 조성물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항중 어느 한 항에 있어서,
    추가로 산소 표백제를 포함하는 조성물.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 표백제를 위한 활성제를 포함하는 조성물.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 따른 효과량의 조성물을 포함하는 침지액내에 직물을 효과 기간의 시간 동안 침지시키고, 이어서 상기 침지액을 제거하는,
    직물을 침지하는 공정.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 시간이 10분 내지 24시간인 공정.
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