KR19980071655A

KR19980071655A - 차단제의 상승작용 혼합물을 기재로한, 피부 및/또는 모발의 광보호용 화장 조성물, 및 그의 용도

Info

Publication number: KR19980071655A
Application number: KR1019980005788A
Authority: KR
Inventors: 이사벨 한센
Original assignee: 앙드랄 크리스토프; 로레알
Priority date: 1997-02-24
Filing date: 1998-02-24
Publication date: 1998-10-26
Also published as: CN1201657A; PT860165E; EP0860165A1; AU699960B2; JP3023084B2; ATE192329T1; EP0860165B1; CN1121209C; RU2143885C1; HU9800382D0; MX9801406A; AU5298998A; ES2149632T3; HUP9800382A1; DE69800130T2; GR3034060T3; CA2228627A1; US6030629A; PL324963A1; BR9800753A

Abstract

본 발명은 특히 피부 및/또는 모발의 광보호를 위한 화장 및/또는 피부 조성물에 관한 것인데, 특히 수중유 형태의 화장용으로 허용가능한 지지체에 하기를 포함하는 것을 특징으로 하는 미용 및/또는 피부 조성물에 관한 것이다:

(i) 제1 차단제로서, 구체적인 술폰 벤즈이미다졸 유도체, 그리고

(ii) 제2 차단제로서, 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 실리콘 유도체.

상기 제1 및 제2 차단제는 부여된 태양 보호 인자에 대한 상승 작용 활성을 일으키는 [(제1 차단제의 발색단)/(제2 차단제의 발색단)] 몰비로 상기 조성물에 존재한다.

또한, 본 발명은 자외선의 영향에 대한 피부 및 모발의 보호에 관한 것이다.

Description

차단제의 상승작용 혼합물을 기재로한, 피부 및/또는 모발의 광보호용 화장 조성물, 및 그의 용도

본 발명은 자외선 복사에 대한 피부 및/또는 모발의 광보호를 위한 화장 및/또는 피부 조성물 (이하에서, 단지 항태양 조성물로 칭함), 및 그의 화장용으로서의 용도에 관한 것이다. 더욱 특히, 본 발명은 화장용으로 적용가능한 지지체에 제1 특정의 차단제, 즉 벤즈이미다졸의 특별한 술폰 유도체와, 벤즈트리아졸 실리콘에서 적당하게 선택된 적어도 하나의 제2 특정의 차단제 사이의 결합을 포함하는 항태양 조성물에 관한 것이다.

파장 280 ㎚ ∼ 400 ㎚ 의 광 복사는 인간의 피부를 태우고, UV-B 광선으로 공지되어 있는, 특히 280 ㎚ ∼ 320 ㎚ 의 파장의 광선은 자연적인 태닝(tanning) 의 발달에 해가될 수 있는 피부 화상 및 홍반을 일으킨다. 미적인 이유 뿐만 아니라 상기 이유에 대해, 피부의 착색을 억제하기 위해 상기의 자연적인 태닝을 억제하기 위한 방법에 대한 요구는 일정하고, 따라서 이러한 UV-B 복사는 차단되어야 한다.

320 ㎚ 와 400 ㎚ 사이의 파장을 갖는 UV-A 광선은 피부를 태우는데, 후자에서 역변화를 야기하기 쉽고, 특히 태양 복사에 지속적으로 노출되는 피부 또는 민감한 피부의 경우에 그러하다. UV-A 광선은 특히 피부의 탄성을 잃게 하고 주름의 원이 되며, 조기에 피부가 노화된다. 상기 광선은 홍반성 반응의 유발을 촉진하거나 개인에 따라서는 이러한 반응이 확대되며 광독성 또는 광알레르기성 반응의 원인이 될 수도 있다. 따라서, 미적 및 화장의 이유, 예컨대 피부의 자연 탄성의 유지를 위해, 예를 들어, 늘 증가하는 수의 사람들은 피부에 대한 UV-A 광선의 영향을 억제하기를 희망한다. 따라서, UV-A 복사를 차단하는 것이 바람직하다.

피부의 광보호 (UV-A 및 UV-B) 를 목적으로 하는 많은 화장 조성물이 최근에 제안되었다.

이들 항태양 조성물은 아주 종종 수중유형 에멀션 (즉, 연속적인 수성 분산상 및 불연속적인 오일성 분산상으로 이루어진 화장용으로 허용가능한 부형제) 의 형태인데, 상기 에멀션은 해로운 UV 복사를 선택적으로 흡수할 수 있는 하나 이상의 전통적인 친유성 및/또는 친수성 유기 차단제를 다양한 농도로 함유하고, 이들 차단제 (및 그의 양) 은 UV 차단제없는 홍반 형성 시초에 도달하는데 필요한 시간에 대한 UV 차단제있는 홍반 형성 시초에 도달하는데 필요한 복사 시간의 비에 의해 수학적으로 표현된 원하는 태양 보호 인자 (SPF) 함수로서 선택된다.

상기 광보호의 분야에서 행해진 많은 연구 후, 놀랍고 예기치못하게, 본 출원인은 선행 기술에 이미 공지되어 있는 두 개의 구체적인 태양 차단제의, 명확한 한계 내의 부분에서의 결합은 현저한 상승작용 효과 때문에 현저히 향상되고, 모든 경우에, 단독으로 사용되는 차단제의 하나 또는 다른 하나, 또는 대안적으로 본 발명의 범위 내의 비로 상기 차단제 모두를 동시에 함유하는 결합물로 얻을 수 있는 것보다 상당히 우수한 보호 인자를 갖는 항태양 조성물을 얻을 수 있다.

따라서, 본 발명의 주제 중의 하나에 따라, 화장 및/또는 피부 조성물, 특히 항태양 조성물이 제안되는데, 화장용으로 허용가능한 지지체에 하기를 포함하는 것을 특징으로 한다:

- i) 제1 차단제로서, 하기식(1) 의 적어도 하나의 단위를 포함하는, 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 적어도 하나의 실리콘 유도체:

[화학식 1]

O_(3-a)/2Si(R)_a-A (1)

{여기서,

- R 은 임의로 할로겐화된 C₁- C₁₀알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼 또는 트리메틸실릴록시 라디칼을 나타내고,

- a 는 0 내지 3 의 정수이고,

- 기호 A 는 실리콘 원자에 직접 부착된 1가 라디칼인데, 하기식(2) 에 상응하고,

[화학식 2]

(여기서, Y 는 동일하거나 상이하고, C₁- C₈알킬 라디칼, 할로겐 및 C₁- C₄알콕시 라디칼로부터 선택되는데, 후자의 경우, 동일한 방향족 고리 상의 두 개의 인접 기 Y 는 알킬리덴기가 1 또는 2 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬리덴디옥시기를 함께 형성할 수 있고,

- X 는 O 또는 NH 를 나타내고,

- Z 는 수소 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고,

- n 은 0 내지 3 (포함됨) 의 정수이고,

- m 은 0 또는 1 이고,

- p 는 1 내지 10 (포함됨)의 정수이다)},

- ii) 제2 차단제로서, 하기식(3) 에 상응하는 벤즈이미다졸 C 의 적어도 하나의 술폰 유도체:

[화학식 3]

{여기서, R' 는 수소 원자, 선형 또는 분지형 C₁- C₈알킬 또는 알콕시 라디칼, 또는 하기식(4):

[화학식 4]

의 라디칼이다};

상기 제1 및 제2 차단제는 SPF 에서 상승작용을 향상시키는데 적합한 몰비 (A/C) 로 상기 조성물에 존재한다.

본 발명의 주제는 또한 자외선 복사, 특히 태양 복사에 대해 피부 및/또는 모발을 광보호하기 위한 화장 및/또는 피부 조성물의 용도, 또는 이러한 조성물 제조 용도에 관한 것이다.

본 발명의 또다른 주제는 자외선 복사, 특히 태양 복사에 대해 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 화장 처리 방법에 관한 것인데, 이러한 방법은 본질적으로 본 발명에 따라 피부 및/또는 모발에 효과적인 양으로 조성물을 적용한다.

본 발명의 다른 특징, 양상 및 이점은 하기의 상세한 서술에 의해 분명해질 것이다.

본 발명에서 사용되는 실리콘 유도체는 하기식(1) 의 적어도 하나의 단위를 포함하는 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 실란 또는 실록산이다:

O_(3-a)/2Si(R)_a-A (1)

{여기서,

- a 는 0 내지 3 의 정수이고,

- X 는 O 또는 NH 를 나타내고,

- Z 는 수소 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고,

- n 은 0 내지 3 (포함됨) 의 정수이고,

- m 은 0 또는 1 이고,

- p 는 1 내지 10 (포함됨)의 정수이다)}

이러한 화합물은 구체적으로 출원인 명의로 특허 출원 EP-A-711,778 및 특히 출원 WO 94/06404 에 서술되어 있다.

바람직하게는, 본 발명의 문맥에 사용되는 실리콘 유도체는 구체적으로 WO 94/06404 에 서술되어 있는 벤조트리아졸의 일반적인 족에 속해있다. 본 발명을 수행하는데 특히 적합한 벤조트리아졸 실리콘의 하나의 족은 하기 화학식 (5) 또는 (6) 에 사응하는 화합물을 결합하는 것이다:

[화학식 5]

및

[화학식 6]

(여기서,

- R 는 동일하거나 상이하고, C₁- C₁₀알킬, 페닐, 3,3,3-트리플루오로프로필 및 트리메틸실릴록시 라디칼로부터 선택되고, 수를 기준으로 라디칼 R 의 적어도 80 % 는 메틸이고,

- B 는 동일하거나 상이할 수 있고, 라디칼 R 및 라디칼 A 로부터 선택되고,

- r 은 0 내지 50 (포함됨) 의 정수이고, s 는 0 내지 20 (포함됨) 의 정수이고, s = 0 이면, 두 개 기호 B 중의 적어도 하나는 A 를 나타내고,

- u 는 1 내지 6 (포함됨) 의 정수이고, t 는 0 내지 10 (포함됨) 의 정수인데, t + u 는 3 이상이고,

- 기호 A 는 상기의 식(2) 에 상응한다).

상기의 식(2) 에 나타나 있는 바와 같이, 벤조트리아졸 단위에 사슬 단위 -(X)_m-(CH₂)_p-CH(Z)-CH₂- 의 부착은 실리콘 사슬의 실리콘 원자에의 상기 벤조트리아졸 단위의 접속을 확실하게하고, 본 발명에 따라 벤조트리아졸의 두 개의 방향족 고리에 의해 제공된 모든 이용가능한 위치에서 일어날 수 있다:

이러한 부착은 바람직하게는 위치 3, 4, 5 (방향족 고리는 히드록실 작용기를 가지고 있음) 또는 4' (트리아졸 고리에 인접한 벤젠 고리), 더욱 바람직하게는 위치 3, 4 또는 5 에서 일어난다. 본 발명의 바람직한 구현예에서, 부착은 위치 3 에서 일어난다.

마찬가지로, 치환체 단위 또는 단위 Y 의 부착은 벤조트리아졸 중 모든 다른 이용가능한 위치에서 일어날 수 있다. 그러나, 바람직하게는, 이러한 부착은 위치 3, 4, 4', 5 및/또는 6 에서 일어난다. 본 발명의 바람직한 구현예에서, 단위 Y 의 부착은 위치 5에서 일어난다.

상기 식 (5) 및 (6) 에서, 알킬 라디칼은 선형 또는 분지형이 될 수 있고, 특히 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, n-아밀, 이소아밀, 네오펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실 및 t-옥틸 라디칼로부터 선택될 수 있다. 본 발명에 따른 바람직한 알킬 라디칼 R 은 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, n-옥틸 및 2-에틸헥실 라디칼이다. 더욱 바람직하게는, 라디칼 R 모두는 메틸 라디칼이다.

상기 식 (5) 또는 (6) 의 화합물 중에서, 식 (5) 에 상응하는 것, 즉 짧은 선형 사슬을 함유하는 디오르가노실록산을 사용하는 것이 바람직하다.

상기 식(5) 의 화합물 중에서, 라디칼 B 둘은 라디칼 R 인 것을 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명의 범위 내의 선형 디오르가노실록산 중에서, 적어도 하나, 더욱 바람직하게는 모든 하기 특징을 갖는 정의가 잘된 블록 유도체 또는 랜덤 라디칼이 더욱 특히 바람직하다:

- B 는 라디칼 R 이고,

- R 은 알킬, 더욱 바람직하게는 메틸이고,

- r 은 0 ∼ 15 (포함됨); s 는 1 ∼ 10 (포함됨) 이고,

- n 은 0 이 아니고, 바람직하게는 1 이고, Y 는 메틸, t-부틸 및 C₁- C₄알콕시로부터 선택되고,

- z 는 수소 또는 메틸이고,

- m = 0 또는 [m = 1 및 X = 0] 이고,

- p 는 1 이다.

본 발명에서 특히 적합한 벤조트리아졸 실리콘의 하나의 족은 하기 화학식 (7) 에 의해 정의된다:

[화학식 7]

(여기서,

0 ≤ r ≤ 10

1 ≤ s ≤ 10,

D 는 2가 라디칼:

을 나타낸다).

본 발명의 특히 바람직한 구현예에서, 벤조트리아졸 실리콘은 하기식에 상응하는 화합물 (문맥의 나머지에서 화합물 (a) 로 칭함) 이다:

상기 식 (1), (5), (6) 및 (7) 의 생성물의 제조에 적합한 방법은 구체적으로 US 특허 3,220,972, 3,697,473, 4,340,709, 4,316,033 및 4,328,346 그리고 특허 출원 EP-A-0,392,883 및 EP-A-0,742,003 에 서술되어 있다.

벤조트리아졸 작용기를 함유하는 실리콘 유도체는 조성물의 전체 중량에 대해 0.1 내지 20 중량 %, 바람직하게는 0.2 내지 15 중량 % 의 함량으로 본 발명에 따른 조성물에 존재할 수 있다.

본 발명에서 사용되는 술폰 벤즈이미다졸 유도체 (화합물 C) 는 UV-B 복사 범위에서 탁월한 광보호 능력으로 공지되어 있고 하기 식 (3) 에 상응하는 수용성 화합물이다:

(여기서, R' 는 수소 원자, 선형 또는 분지형 C1 - C8 알킬 또는 알콕시 라디칼 또는 하기식(4):

의 라디칼이다).

본 발명에 따른 조성물에 특히 적합한 술폰 벤즈이미다졸 유도체는 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산 (상표명 Eusolex 232, Merck 사) 인데, 상기는 하기식에 상응한다:

술폰 벤즈이미다졸 유도체는 조성물의 전체 중량에 대해 0.1 내지 10 중량 %, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량 % 의 함량으로 본 발명에 따른 조성물에 존재할 수 있다.

실용적인 견해로, 상기 두 개의 차단제, 즉 벤즈이미다졸 단위를 함유하는 실리콘 유도체 및 술폰 벤즈이미다졸 유도체 모두는 선택된 각 부분의 최종 조성물에 존재하는 것이 바람직하고, 수득한 결합물에 의해 부여된 태양 보호 인자에 대해서 상승작용 효과는 최적이다.

이들 부분은 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 실리콘 유도체에서 유래한 벤조트리아졸 단위(들) 의 수에 의존해서 변할 수 있다. 따라서, 바람직하게는, 본 발명에서, [(제1 차단제의 벤조트리아졸 단위)/술폰 벤즈이미다졸 유도체] 몰비, 즉 (A/C) 몰비는 1/20 내지 10/3, 바람직하게는 1/10 내지 5/2, 더욱 바람직하게는 2/5 내지 3/5 가 될 수 있다.

따라서, 본 발명에 따른 제1 차단제는 상기식(7) 의 실리콘 화합물 (a) 이고 본 발명에 따른 제2 차단제는 술폰 벤즈이미다졸 유도체 (상표명 Eusolex 232) 인 구체적인 경우에, [(제1 차단제)/(제2 차단제)] 중량비는 1/10 내지 6/1, 바람직하게는 1/4 내지 4/1 의 범위이다. 더욱 바람직하게는, 중량비는 1/1 이다.

결국, 본 발명의 바람직한 구현예에 따라, 본 발명에 따른 조성물은 수중유 형태의 에멀션이다.

본 발명에 따른 항태양 화장 조성물은 물론 상기의 두 개의 차단제 이외의 UVA 및/또는 UVB 범위 (흡수제)에서 활성인 하나 이상의 부가 친수성 또는 친유성 햇빛차단제를 함유할 수 있다. 이들 부가 차단제는 특히 신남 유도체, 살리시클릭 유도체, 캄파 유도체, 트리아진 유도체, 벤조페논 유도체, 디벤조일메탄 유도체, β,β-디페닐아크릴레이트 유도체, p-아미노벤조산 유도체 및 차단 폴리머 그리고 차단 실리콘 (특허 출원 WO-93/04665) 로부터 선택된다. 유기 차단제의 다른 예는 특허 출원 EP-A-0,487,404 에 나타나 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 피부의 인공 태닝 및/또는 브라우닝 (browing) 제 (자동 태닝제), 예컨대 디히드록시아세톤 (DHA)을 함유할 수 있다.

본 발명에 따른 화장 조성물은 또한 코팅된 또는 코팅되지 않은 금속 산화물의 안료 또는 나노피그먼트(nanopigment) (기본 입자의 평균 크기: 통상 5 내지 100 ㎚, 바람직하게는 10 내지 50 ㎚), 예컨대 (본래 공지된 모든 UV-광보호제인) 티타늄 산화물 (금농석 및/또는 예추석 형태에서 무정형 또는 결정형), 철 산화물, 아연 산화물, 지르코늄 산화물 또는 세륨 산화물의 나노피그먼트를 함유할 수 있다. 또한, 표준 코팅제는 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트이다. 그와 같은 코팅된 또는 코팅되지 않은 금속 산화물 나노피그먼트는 구체적으로 특허 출원 EP-A-0,518,772 및 EP-A-0,518,773 에 서술되어 있다.

본 발명의 조성물은 또한 구체적으로 에멀션 형태로 항태양 조성물의 제조를 위해 지방성 물질, 유기 용매, 이온성 또는 비이온성 증점제, 유화제, 산화방지제, 불투명화제, 안정화제, 연화제, 실리콘, α-히드록시산, 포말방지제, 가습제, 비타민, 방향제, 방부제, 계면활성제, 충진제, 금속이온 봉쇄제, 폴리머, 추진제, 염기성화제 또는 산성화제, 염료, 또는 화장용으로 통상 사용되는 어떤 다른 성분으로부터 선택된 표준 화장 보조제를 함유할 수 있다.

지방성 물질은 오일 또는 왁스 또는 그의 혼합물로 이루어질 수 있고, 또한 지방산, 지방 알코올 및 지방산 에스테르를 포함한다. 오일은 동물, 식물, 광물 또는 합성 오일, 특히 액체 석유, 액체 파라핀, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 오일, 이소파라핀, 폴리-α-올레핀, 플루오로 오일 및 퍼플루오로 오일로부터 선택될 수 있다. 마찬가지로, 왁스는 본래 공지되어 있는 동물, 화석, 식물, 광물 또는 합성 왁스로부터 선택될 수 있다.

유기 용매 중에서, 저급 알코올 및 폴리올을 언급할 수 있다.

증점제는 특히 가교결합된 폴리아크릴산 및 변성된 또는 변성되지 않은 구아 검 그리고 셀룰로오스 검, 예컨대 히드록시프로필 구아 검, 메틸히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필메틸셀룰로오스 또는 히드록시에틸셀룰로오스로부터 선택될 수 있다.

분명하게, 당업자는 임의의 보충 화합물 또는상기 화합물들 및/또는 그의 양을 선택하는데 주의할 것이고, 유리한 성질, 특히 상승 작용 효과는 본 발명에 따라 2성분 결합과 본질적으로 관련되어 있고, 첨가 또는 예견된 첨가에 의해 역효과가 없거나 사실상 없다.

본 발명과 관련된 조성물은 당업자에 공지된 기술, 특히 수중유 또는 유중수 형태의 에멀션의 제조를 위한 기술에 따라 제조될 수 있다.

이러한 조성물은 구체적으로 단독 또는 복합 에멀션 형태 (O/W, W/O, O/W/O 또는 W/O/W), 에컨대 크림, 밀크, 겔 또는 크림-겔, 분말 또는 고체 스틱이 될 수 있고 임의로 에어로솔로서 포장될 수 있고, 포말 또는 스프레이 형태가 될 수 있다.

조성물이 에멀션인 경우, 그의 수상은 공지된 방법에 따라 제조된 비이온성 부형제 분산물을 함유할 수 있다 (Bangham, Standish and Watkins, J. Biol. 13, 238 (1965), FR-2,315,991 및 FR-2,416,008).

본 발명의 화장 조성물은 자외선에 대한 인간의 피부 또는 모잘을 보호하기 위한 조성물, 항태양 조성물, 또는 화장품으로서 사용될 수 있다.

본 발명에 따른 화장 조성물이 자외선에 대한 인간의 피부를 보호하기 위해 또는 항태양 조성물로서 사용되는 경우, 용매 중 또는 지방성 물질 중 서스펜션 또는 분산물의 형태, 비이온성 부형제 분산물의 형태 또는 대안적으로 에멀션, 바람직하게는 수중유 형태, 예컨대 크림 또는 밀크, 또는 연고, 겔, 크림-겔, 고체 스틱, 스틱, 에어로솔 폼(foam) 또는 스프레이 형태가 될 수 있다.

본 발명에 따른 화장 조성물이 모발을 보호하기 위해 사용되는 경우, 모발용 삼푸, 로션, 겔, 에멀션, 비이온성 기포 분산물 또는 래커의 형태가 될 수 있고, 예를 들어 삼푸 전 또는 후, 염색 또는 표백 전 또는 후, 모발의 퍼머 (permanent-waving) 또는 스트레이트닝 동안 또는 후에 적용되는 헹구에 내는 조성물, 스타일링 또는 트리팅 로션 또는 겔, 블로우 드라잉 (blow-drying) 또는 모발 세팅 로션 또는 겔, 또는 모발의 퍼머, 스트레이트닝, 염색 또는 표백용 조성물을 구성한다.

조성물이 속눈썹, 눈썹 또는 피부를 위한 화장품, 예컨대 피부 트리트먼트 크림, 파운데이션, 립스틱, 아이섀도, 볼연지, 마스카라 또는 아이라이너로서 사용되는 경우, 무수, 수성, 고체 또는 가루 형태, 예를 들어 수중유 또는 유중수 에멀션, 비이온성 기포 분산액 또는 서스펜션이 될 수 있다.

지침으로서, 수중유 에멀션 형태의 부형제를 갖는 발명에 따른 항태양 제형에 대해, (특히 친수성 차단제를 포함하는) 수상은 통상 전체 제형에 대해 50 내지 95 중량 %, 바람직하게는 70 내지 90 중량 % 를 나타내고, (특히 친유성 차단제를 포함하는) 유상은 전체 중량에 대해 5 내지 50 중량 %, 바람직하게는 10 내지 30 중량 %를 나타내고, 공에멀션화제(들) 은 전체 제형에 대해 0.5 내지 20 중량 %, 바람직하게는 2 내지 10 중량 % 를 나타낸다.

명세서의 초반에 나타나 있는 바와 같이, 본 발명의 다른 주제는 자외선의 영향에 대해 보호하기 위한 피부 또는 모발용 화장 트리트먼트 방법에 관한 것인데, 이러한 방법은 피부 또는 모발에 상기의 화장 조성물을 효과적인 양으로 사용한다.

구체적으로, 하기의 실시예가 본 발명을 제한하는 것은 아니다.

실시예 1

수중유형 에멀션 형태의 각종 항태양 제형은 하기를 함유해서 제조된다 (양은 조성물의 전체 중량에 대해 중량 % 로 표현된다):

상 A1:

- 화합물 (a)

(벤조트리아졸 실리콘) y %

- 글리세릴 스테아레이트 및 PEG-100 스테아레이트 (상표명 Arlacel 165, ICI 사) 1.5 %

- 스테아르산 (상표명 Stearine TP, Stearinerie Dubois 사)

2.75 %

- 세틸 알코올 (상표명 Lorol C16, Henkel 사) 0.5 %

- C₁₂- C₁₅알킬 벤조에이트 (상표명 Finsolv TN, Finetex 사)

15 %

- 방부제 적정량

상 A2:

- 트리에탄올아민 0.45 %

상 B:

- 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산 (상표명 Eusolex 232, Merck 사)

x %

- 포테슘 세틸 포스페이트 (상표명 Amphisol K, Givaudan-Roure)

1 %

상 C:

- 가교결합된 폴리아크릴산 (상표명 Carbopol 980, Goodrich 판매)

0.3 %

상 D:

- 트리에탄올아민 적정량

상 E:

- 수화제 5 %

- 방부제 적정량

- 물 적정량 100 %

각 이들 에멀션은 하기 방식으로 제조된다: 상 A1 및 A2를 예열하고 80 ℃에서 교반하면서 균질화한다. 상 E 를 제조 탱크에 넣고, 교반하면서 80 ℃ 로 가열한다. 그 다음, 상 B 및 C 를 30 분 동안 상 E에서 분산시킨다. 혼합물(A1 + A2)를 격렬하게 교반하면서 수상 (E + B + C) 에 첨가한다. 혼합물을 15 분 동안 교반한다. 그 다음, 이 혼합물을 50 ℃ 로 냉각하고, 상 D 를 첨가한다. 전체 혼합물을 25 ℃ 로 냉각한다.

각 이들 제형을 위해, 여기에 관련된 태양 보호 인자 (SPF) 를 결정한다. 이것은 J. Soc. Cosmet. Chem. 40-127-133 (1989, B.L. Diffey et al) 의 시험관 방법을 사용해서 결정되고, 이 방법은 파장 290 내지 400 ㎚ 에 걸쳐 5 ㎚ 마다 단색광 보호 인자를 결정하고, 이들 인자로부터 소정의 수학 방정식에 따라 태양 보호 인자를 계산한다.

각종 제형의 조성물을 연구했고, 얻은 평균 태양 보호 인자 (3개의 시험 평균) 로 환산한 결과는 하기 표(1) 에 대조되어 있다.

[표 1]

비교 식 A ∼ F

차단제	식 A	식 B	식 C	식 D	식 E	식 F
x (%)	1	0	2.5	0	4	0
y (%)	0	4	0	2.5	0	1
SPF	3.7	6.8	5.2	4.5	8.5	2.4

[표 2]

본 발명의 식 G, H 및 J

차단제	식 G	식 H	식 J
X (%)	1	2.5	4
Y (%)	4	2.5	1
y/x중량 비	4	1	0.25
(벤조트리아졸/벤즈이미다졸)몰비	2.183	0.546	0.136
평균 SPF	11.2	17.8	13.2

따라서, 5 중량 % 의 차단제의 전체 농도에 대해서는 하기에 나타나 있다:

SPF (식 A) + SPF (식 B) = 10.5 SPF (식 G) = 11.2

SPF (식 C) + SPF (식 D) = 9.7 SPF (식 H) = 17.8

SPF (식 E) + SPF (식 F) = 10.9 SPF (식 J) = 13.2

이들 결과는 본 발명의 방법에 따른 조성물 G, H 및 J 로 얻은 현저한 상승 작용 효과를 분명하게 나타내고 있다.

본 발명은 자외선 복사에 대한 피부 및/또는 모발을 자외선 복사로부터 효과적으로 차단할 수 있다.

Claims

화장용으로 허용가능한 지지체에 하기를 포함하는 것을 특징으로 하는 화장, 피부, 또는 화장 및 피부 조성물:

- i) 제1 차단제로서, 하기식의 적어도 하나의 단위를 포함하는, 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 적어도 하나의 실리콘 유도체:

O_(3-a)/2Si(R)_a-A (1)

{여기서,

- R 은 임의로 할로겐화된 C₁- C₁₀알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼 또는 트리메틸실릴록시 라디칼을 나타내고,

- a 는 0 내지 3 의 정수이고,

- 기호 A 는 실리콘 원자에 직접 부착된 1가 라디칼인데, 하기식(2) 에 상응하고,

(여기서, Y 는 동일하거나 상이하고, C₁- C₈알킬 라디칼, 할로겐 및 C₁- C₄알콕시 라디칼로부터 선택되는데, 후자의 경우, 동일한 방향족 고리 상의 두 개의 인접 기 Y 는 알킬리덴기가 1 또는 2 개의 탄소 원자를 함유하는 알킬리덴디옥시기를 함께 형성할 수 있고,

- X 는 O 또는 NH 를 나타내고,

- Z 는 수소 또는 C₁- C₄알킬 라디칼을 나타내고,

- n 은 0 내지 3 (포함됨) 의 정수이고,

- m 은 0 또는 1 이고,

- p 는 1 내지 10 (포함됨)의 정수이다)},

- ii) 제2 차단제로서, 하기식(3) 에 상응하는 벤즈이미다졸 C 의 적어도 하나의 술폰 유도체:

{여기서, R' 는 수소 원자, 선형 또는 분지형 C₁- C₈알킬 또는 알콕시 라디칼, 또는 하기식(4):

의 라디칼이다};

상기 제1 및 제2 차단제는 SPF 에서 상승작용을 향상시키는데 적합한 몰비 (A/C) 로 상기 조성물에 존재한다.
제 1 항에 있어서, (A/C) 몰비가 1/20 내지 10/3 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 실리콘 유도체가 하기식 (5) 또는 (6) 에 상응하는 것을 특징으로 하는 조성물:

및

(여기서,

- R 는 동일하거나 상이하고, C₁- C₁₀알킬, 페닐, 3,3,3-트리플루오로프로필 및 트리메틸실릴록시 라디칼로부터 선택되고, 수를 기준으로 라디칼 R 의 적어도 80 % 는 메틸이고,

- B 는 동일하거나 상이할 수 있고, 라디칼 R 및 라디칼 A 로부터 선택되고,

- r 은 0 내지 50 (포함됨) 의 정수이고, s 는 0 내지 20 (포함됨) 의 정수이고, s = 0 이면, 두 개 기호 B 중의 적어도 하나는 A 를 나타내고,

- u 는 1 내지 6 (포함됨) 의 정수이고, t 는 0 내지 10 (포함됨) 의 정수인데, t + u 는 3 이상이고,

- 기호 A 는 청구항 1 의 식 (2) 에 상응한다).
제 3 항에 있어서, 벤조트리아졸 실리콘이 하기식 (7) 에 상응하는 것을 특징으로 하는 조성물:

(여기서,

0 ≤ r ≤ 10

1 ≤ s ≤ 10,

D 는 2가 라디칼:

을 나타낸다).
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 술폰 벤즈이미다졸 유도체가 2-페닐벤즈이미다졸-5-술폰산인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 5 항에 있어서, 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 실리콘 유도체가 하기식:

에 상응하고 [(제1 차단제)/(제2 차단제)] 중량비가 1/10 내지 6/1 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 실리콘 유도체가 조성물의 전제 중량에 대해 0.1 내지 20 중량 % 의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 술폰 벤즈이미다졸 유도체가 조성물의 전체 중량에 대해서 0.1 내지 10 중량 % 의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, UV-A, UV-B, 또는 UV-A 및 UV-B 범위에서 활성인 하나 이상의 부가 친수성 또는 친유성 유기 차단제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 피부를 인공적으로 태우거나 갈색으로 만들기 위한 적어도 하나의 제제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
자외선 복사, 특히 태양 복사에 대해 피부, 모발, 또는 피부 및 모발을 보호하기 위한 화장 조성물로서 제 1 항 내지 제 10 항 중의 어느 한 항의 조성물의 용도, 또는 이러한 조성물 제조를 위한 용도.
자외선 복사, 특히 태양 복사에 대해 피부, 모발, 또는 피부 및 모발을 보호하기 위한 방법으로서, 제 1 항 내지 제 10 항 중의 어느 한 항의 조성물의 효과적인 양을 피부 또는 모발에 적용하는 것을 특징으로 하는 화장 처리 방법.
제 2 항에 있어서, (A/C) 몰비가 1/10 내지 5/2 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 13 항에 있어서, (A/C) 몰비가 2/5 내지 3/5 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 6 항에 있어서, [(제1 차단제)/(제2 차단제)] 중량비가 1/4 내지 4/1 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 15 항에 있어서, [(제1 차단제)/(제2 차단제)] 중량비가 1 인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 7 항에 있어서, 벤조트리아졸 작용기를 함유하는 실리콘 유도체가 조성물의 전제 중량에 대해 0.2 내지 15 중량 % 의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 8 항에 있어서, 술폰 벤즈이미다졸 유도체가 조성물의 전체 중량에 대해서 0.1 내지 5 중량 % 의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.