KR19980065648A - 샤워기를 갖는 세정장치 - Google Patents

Abstract

샤워기를 갖는 세정장치에 대해 기재되어 있다. 이는, 탈이온수를 담는 베스, 이 베스의 상단부의 양쪽 가장자리에 설치된 샤워기 및 이 샤워기와 지지대에 의해 연결되어 샤워기를 좌,우로 이동시키기 위한 에어 실린더를 구비하여, 베스 내의 탈이온수를 드레인하고 채우는 동안 샤워기를 이용하여 웨이퍼에 탈이온수 뿌릴 때 웨이퍼 전면에 골고루 탈이온수가 공급되도록 할 수 있다.

Description

샤워기를 갖는 세정장치

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 특히 베스의 상단부 양측 가장자리에 샤워기가 장착되어 있는 세정장치에 관한 것이다.

퀵 덤프 린스 (Quick Dump Rinse; QDR) 베스(bath)의 상단부 양측 가장자리에는 샤워기가 장작되어 있다. QDR 베스에서의 샤워기의 역할은 사용된 탈이온를 베스 외부로 드레인(drain)하면서부터 새로운 탈이온수로 베스를 채울 때 까지 웨이퍼가 건조해지지 않도록 계속해서 탈이온수를 웨이퍼에 뿌려주는 역할을 한다.

종래의 샤워기는 베스의 양단에 고정되어 있어 이로부터 분사되는 탈이온수가 웨이퍼의 한가운데까지 영향을 미치지 못하기 때문에 웨이퍼 전면에 걸쳐 탈이온수가 골고루 뿌려지지 않는다.

따라서, 약액의 희석 및 제거 시간이 길어져서 공정 시간이 증가하게 되며, 웨이퍼가 대기중에 노출됨으로써 자연건조에 의한 물반점 발생이나, 파티클의 흡착이 우려된다.

본 발명의 목적은 베스 내의 탈이온수를 드레인하고 채우는 동안 샤워기를 이용하여 웨이퍼에 탈이온수 뿌릴 때 웨이퍼 전면에 골고루 탈이온수가 공급되도록 하기 위한 샤워기를 갖는 세정장치를 제공하는데 있다.

도 1은 본 발명에 의한 샤워기를 갖는 세정장치를 도시한 개략도이다.

상기 목적을 달성하기 위한, 본 발명에 의한 샤워기를 갖는 세정장치는, 탈이온수를 담는 베스; 상기 베스의 상단부의 양쪽 가장자리에 설치된 샤워기; 및 상기 샤워기와 지지대에 의해 연결되어 상기 샤워기를 좌,우로 이동시키기 위한 에어 실린더를 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의한 샤워기를 갖는 세정장치에 있어서, 상기 샤워기는 베스 내의 탈이온수가 외부로 드레인됨과 동시에 탈이온수를 분사하도록 되어 있는 것이 바람직하며, 상기 샤워기에 탈이온수를 공급하도록 상기 샤워기와 연결되어 있는 탈이온수 배관은 스프링 형태인 것이 바람직하다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명에 의한 샤워기를 갖는 세정장치에 대해 자세하게 설명하고자 한다.

도 1은 본 발명에 의한 샤워기를 갖는 세정장치를 도시한 개략도로서, 도면부호 10은 베스를, 20은 샤워기를, 30은 캐리어(carrier)를, 40은 웨이퍼를, 50은 에어 실린더(air cylinder)를, 55는 지지대를, 그리고 60은 탈이온수 공급관을 나타낸다.

본 발명에서는 샤워기(20)를 에어 실린더(50)와 연결하여 베스의 가장자리에서 중앙(Ⅱ)까지 왕복하도록 하여 QDR 베스(10)에서 탈이온수가 외부로 드레인될 때부터 다시 탈이온수가 채워질 때 까지 웨이퍼 전면에 걸쳐 골고루 탈이온수를 공급하도록 한다.

QDR 베스(10)에서 탈이온수가 드레인되기 시작함과 동시에 샤워기(20)에서 탈이온수가 분사되고, 이 신호(signal)가 에어 실린더(50)에도 전달되어 에어 실린더가 작동하면서 샤워기(20)는 베스의 중앙까지 왕복운동을 하게 된다. 이때, 상기 샤워기(20)은 지지대(55)를 통해 상기 에어 실린더(50)와 연결되어 있다. 상기한 왕복운동은 탈이온수가 베스(10)를 완전히 채울 때 까지 계속되며, 탈이온수가 베스를 완전히 채우게 되면 샤워기(20)는 베스의 가장자리에 위치하게 된다.

즉, 탈이온수의 드레인이 시작되면 샤워기의 움직임을 통제하는 에어 실린더에 신호가 전달되어 샤워기의 움직임(moving)이 시작되고, 샤워기의 움직임과 동시에 탈이온수가 웨이퍼의 전면에 분사된다.

이때, 샤워기(20)는 베스의 가장자리에서 베스 중앙(Ⅱ)까지의 왕복운동한다. 샤워기(20)는 에어 실린더에 연결된 지지대(55)에 의해서 움직이게 되며, 샤워기에 연결되는 탈이온수 공급관(60)은 신축성이 있는 스프링 형태로 되어 샤워기의 왕복운동에 지장이 없도록 한다.

본 발명에 의한 샤워기를 갖는 세정장치는, 샤워기를 베스의 가장자리에서 중앙으로 왕복운동하도록 함으로써 탈이온수의 드레인 시에 발생될 수 있는 자연건조에 의한 물반점 발생이라든가 파티클 흡착을 막을 수 있으며, 탈이온수를 계속해서 골고루 공급함으로써 웨이퍼에 묻어있는 약액을 보다 빨리 희석 및 제거할 수 있다.

Claims (3)

1. 탈이온수를 담는 베스; 상기 베스의 상단부의 양쪽 가장자리에 설치된 샤워기; 및 상기 샤워기와 지지대에 의해 연결되어 상기 샤워기를 좌,우로 이동시키기 위한 에어 실린더를 구비하는 것을 특징으로 하는 샤워기를 갖는 세정장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 샤워기는 베스 내의 탈이온수가 외부로 드레인됨과 동시에 탈이온수를 분사하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 샤워기를 갖는 세정장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 샤워기에 탈이온수를 공급하도록 상기 샤워기와 연결되어 있는 탈이온수 공급관은 스프링 형태인 것을 특징으로 하는 샤워기를 갖는 세정장치.