KR19980047725U - 멀티형 현상액 분배 시스템 및 그에 따른 복수 노즐 - Google Patents

Abstract

본 고안은 현상액 도포(塗布) 장치중 현상액을 분사하기 위한 장치에 관한 것으로 특히, 현상액을 저장하고 있는 장소로부터 현상액을 끌어올려 소정 압력으로 배출하는 펌프와, 상기 펌프로부터 소정 압력으로 배출되는 현상액을 전달하는 경로를 다수로 형성하기 위한 다수개의 배관 경로가 구비되어 있으며, 각각의 경로상에는 분사되는 현상액의 유압과 유량을 조절하기 위한 1개씩의 압력계와 유량계로 구성되는 현상액 공급 시스템과 그에 따라 다수개의 배관 경로의 종단에 각각의 배관 경로마다 다수개의 분사형 노즐을 구비시키되 일직선상에 형상되어 있는 노즐을 제공하면, 압력 및 유량을 조절할 수 있는 멀티개의 압려계 및 유량계를 사용함으로서 웨이퍼내 국부적으로 발생되는 데미지 차를 조절할 수 있다.

또한, 노즐이 바 타입으로 웨이퍼 절반이상을 커버하고 배관 라인도 멀티개임으로 압력 및 유량을 낮게 할 수 있음을 버블발생 정도도 줄일 수 있다는 효과가 있다.

Description

멀티형 현상액 분배 시스템 및 그에 따른 복수 노즐

제 1도는 종래의 포토 현상 장치의 일반적인 구성 예시도

제 2도는 종래의 포토 현상 장치에 현상액을 공급하는 시스템의 구성 예시도

제 3도는 종래의 포토 현상 장치에 현상액을 분사하는 현상과 그에 따라 웨이퍼에 도포된 현상액의 농도차의 예시도

제 4도는 본 고안에 따른 포토 현상 장치에 현상액을 공급하는 시스템의 구성 예시도

제 5도는 본 고안에 따른 노즐의 형상 예시도

제 6도는 본 고안에 따른 노즐을 사용한 현상액을 분사 과정의 예시도

본 고안은 현상액 도포(塗布) 장치중 현상액을 분사하기 위한 장치에 관한 것으로 특히, 현상액 분사시에 웨이퍼상에 도포되는 현상액의 균일성을 보장하기 위한 멀티형 현상액 분재 시스템에 관한 것이다.

일반적으로, 종래의 포토 현상 장치는 첨부한 제 1 도에 도시되어 있는 바와 같이, 웨이퍼(1)가 안착되는 장소를 제공하는 웨이퍼 척(3)과, 상기 웨이퍼 척(3)에 고정되어 있으며 상기 웨이퍼 척(3)을 회전시키기 위한 회전축(4)과, 현상액을 공급하는 현상액 튜브(5)와, 상기 현상액 튜브(5)의 일측에 형성되어 있으며 현상액을 분사시키는 노즐(6)와, 회전시 웨이퍼 상단에 뿌려지는 현상액 및 세척액을 배기시킬 수 있도록 구성된 캐치컵(9)과, 상기 현상액 튜브(5)의 둘레를 감고있으며 공급되는 현상액의 온도를 일정하게 유지시켜 주기위한 항온수 튜브(7) 및 현상이 완료된후 현상된 포토레지스터(2)를 세정하기 위한 세척액 분사장치(8)로 구성되어 있다.

상기와 같이 구성되는 종래의 포토 현상 장치의 동작을 살펴보면, 현상공정 유니트에 로딩된 웨이퍼에 일정한 온도를 유지할 수 있게 항온수 튜브(7)내에 설치된 현상액 튜브(5)내의 현상액은 노즐(6)을 통하여 웨이퍼 척(3)에 안착되어 있는 웨이퍼(1)의 중심부에 사출된다.

이때, 상기 웨이퍼 척(3)에 연결되어 있는 회전축(4)이 저속으로 회전운동함에 따라 상기 웨이퍼 척(3)에 안착되어 있는 웨이퍼(1)역시 저속으로 회전운동하게 된다. 그에따라, 상기 노즐(6)을 통해 사출되는 현상액이 웨이퍼 전면에 퍼져 나갈수 있게된다.

상술한 과정을 통하여 웨이퍼 전면에 일정량의 현상액이 사출되면 상기노즐(6)은 웨이퍼 상단에서 외각지역으로 이동 정지하게 된다.

이후, 전면에 현상액이 묻은 웨이퍼(1)는 회전축(4)의 운동에 의하여 정지, 저속 좌,우회전을 하다 일정시간이 경과하면 세척액 분사장치(8)에서 세척액을 뿌려주어 세정작업을 실시한다.

최종적으로, 웨이퍼상에 잔류하는 세척액 성분을 없애주기 위해 세척액 공급을 멈춘 후 고속회전을 함으로써, 현상공정은 완료된다.

상기와 같이 동작하는 포토 현상 장치에 현상액을 공급하는 시스템은 첨부한 제 2도에 도시되어 있는 바와같이 현상액을 저장하고 이를 끌어올려 소정 압력으로 배출하는 펌프(10)에서 1개의 현상액 배관 라인(L)을 통해 현상액이 분사 노즐로 전달되는데, 상기 배관라인(L)에는 분사되는 현상액의 유압과 유량을 조절하기 위한 1개의 압력계(20)와 1개의 유량계(30)로 구성되어 있다. 또한, 현상액 분사를 위한 노즐 역시 첨부한 제 1도에 도시되어 있는 바와 같이 1개이다.

이에 따라, 펌프(10)에서 공급되는 현상액은 공급라인(L)을 따라 현상액이 공급되고, 압려계(20) 및 유량계(30)는 노즐에서 분사되는 현상액의 압력 및 유량이 저당한 설정치에 도달할 수 있도록 제어한다.

상기와 같이 구성되는 현상액 공급 시스템과 포토 현상 장치에 의해 웨이퍼에 도포되는 현상액의 분사 형태를 첨부한 제 3도를 참조하여 살펴보면 다음과 같다.

제 3(가)도는 노즐(6)에서 현상액이 분사되는 형태를 도시하고 있다.

따라서, 웨이퍼에 도포되는 현상액의 농도는 웨이퍼의 위치에 따라 첨부한 제 3도의 (나)와 같이 농도의 변화가 나타나게 된다.

따라서, 상술한 바와 같은 종래의 기술은 현상액 용액이 분사되어 웨이퍼내에 불균일하게 데미지를 주어 현상 부식 및 불균일한 부식 등을 초래할 수 있다는 문제점이 발생되었다.

또한, 하나의 배관을 사용함으로써 높은 압력(0.8kg㎠이상) 및 유량(0.8ℓ/㎜이상)을 가해야만 웨이퍼를 충분히 커버할 수 있음으로 버블 발생 가능성도 증가한다는 문제점이 발생되었다.

상기와 같은 문제점을 해소하기 위한 본 고안의 목적은 현상액 분사시에 웨이퍼상에 도포되는 현상액의 균일성을 보장하기 위한 멀티형 현상액 분배 시스템을 제공하는 데 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 특징은, 웨이퍼에 현상액을 분사하여 도포하기 위한 노즐에 현상액을 공급하는 현상액 공급 시스템에 있어서, 현상액을 저장하고 있는 장소로부터 현상액을 끌어올려 소정 압력으로 배출하는 펌프와, 상기 펌프로부터 소정 압력으로 배출되는 현상액을 전달하는 경로를 다수로 형성하기 위한 다수개의 배관 경로가 구비되어 있으며, 각각의 경로상에는 분사되는 현상액의 유압과 유량을 조절하기 위한 1개씩의 압력계와 유량계로 구성되는 데 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 다른 특징은, 2. 현상액을 저장하고 있는 장소로부터 현상액을 끌어올려 소정 압력으로 배출하는 펌프와, 상기 펌프로부터 소정 압력으로 배출되는 현상액을 전달하는 경로를 다수로 형성하기 위한 다수개의 배관 경로가 구비되어 있으며, 각각의 경로상에는 분사되는 현상액의 유압과 유량을 조절하기 위한 1개씩의 압력계와 유량계로 구성되는 현상액 공급 시스템으로부터 제공받은 현상액을 회전하는 웨이퍼의 상부에 현상을 분사하여 도포하기 위한 노즐에 있어서, 다수개의 배관 경로의 종단에 각각의 배관 경로마다 다수개의 분사형 노즐을 구비시키되 일직선상에 형성되어 있는 데 있다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 고안에 따른 바람직한 실시예를 설명한다.

제 4도는 본 고안에 따른 포토 현상 장치에 현상액을 공급하는 시스템의 구성 예시도이며, 제 5도는 본 고안에 따른 노즐의 형상 예시도이고, 제 6도는 본 고안에 따른 노즐을 사용한 현상액을 분사 과정의 예시도이다.

제 4도에 도시되어 있는 본 고안에 따른 포토 현상 장치에 현상액을 공급하는 시스템은 현상액을 저장하고 있는 장소로부터 현상액을 끌어올려 소정 압력으로 배출하는 펌프(10)와, 상기 펌프(10)로부터 소정 압력으로 배출되는 현상액을 전달하는 경로를 다수로 형성하기 위한 다수개의 배관 경로(LA∼LN)가 구비되어 있으며, 각각의 경로상에는 분사되는 현상액의 유압과 유량을 조절하기 위한 1개씩의 압력계(20A∼20N)와 유량계(30A∼30N)로 구성되어 있다.

이때, 현상액 분사를 위한 노즐 역시 첨부한 제 5도에 도시되어 있는 바와 같이 M개이다.

펌프(10)에서 공급되는 현상액 배관라인(LA∼LN)을 따라 현상액용액이 공급된다. 이때, 각 배관라인(LA∼LN)에 구비되어 있는, 압력계(20A∼20N)와 유량계(30A∼30N)에 의하여 각 경로 상에 분배되는 현상액의 유량과 전달 압력이 설정한다.

각각의 압력계(20A∼20N)와 유량계(30A∼30N)에 의해 조절된 현상액 용액은 다시 노즐(NZH)에서 멀티개로 분기하여 분배 영역의 일부를 담당하게 된다.

따라서, 첨부한 제 6도에 도시되어 있는 바와 같이 웨이퍼의 중심축을 기준으로 어느 한 쪽의 면적을 차지하며 전체적으로 고르게 현상액을 분사하게 된다.

상술한 바와 같이 동작하는 본 고안에 따른 멀티형 현상액 분배 시스템 및 그에 따른 복수 노즐을 제공하면, 압력 및 유량을 조절할 수 있는 멀티개의 압력계 및 유량계를 사용함으로서 웨이퍼내 국부적으로 발생되는 데미지 차를 조절할 수 있다.

또한, 노즐이 바 타입으로 웨이퍼 절반이상을 커버하고 배관 라인도 멀티개임으로 압력 및 유량을 낮게 할 수 있음을 버블발생 정도도 줄일 수 있다는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 웨이퍼에 현상액을 분사하여 도포하기 위한 노즐에 현상액을 공급하는 현상액 공급 시스템에 있어서,

   현상액을 저장하고 있는 장소로부터 현상액을 끌어올려 소정 압력으로 배출하는 펌프와;

   상기 펌프로부터 소정 압력으로 배출되는 현상액을 전달하는 경로를 다수로 형성하기 위한 다수개의 배관 경로가 구비되어 있으며,

   각각의 경로상에는 분사되는 현상액의 유압과 유량을 조절하기 위한 1개씩의 압력계와 유량계로 구성되는 것을 특징으로 하는 현상액 공급 시스템.
2. 현상액을 저장하고 있는 장소로부터 현상액을 끌어올려 소정 압력으로 배출하는 펌프와, 상기 펌프로부터 소정 압력으로 배출되는 현상액을 전달하는 경로를 다수로 형성하기 위한 다수개의 배관 경로가 구비되어 있으며, 각각의 경로상에는 분사되는 현상액의 유압과 유량을 조절하기 위한 1개씩의 압력계와 유량계로 구성되는 현상액 공급 시스템으로부터 제공받은 현상액을 회전하는 웨이퍼의 상부에 현상을 분사하여 도포하기 위한 노즐에 있어서,

   다수개의 배관 경로의 종단에 각각의 배관 경로마다 다수개의 분사형 노즐을 구비시키되 일직선상에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노즐.