KR19980039972U - 반도체소자 제조용 스텝퍼의 이물감지장치 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체소자 제조용 스텝퍼의 이물감지장치에 관한 것으로서, 좀더 구체적으로는 웨이퍼 제조공정시 발생된 척의 상부면에 묻은 이물을 감지하도록 한 이물감지장치에 관한 것이다.
이를 위해, 반사성 재질의 척(10)과, 웨이퍼(3)가 안착되는 상기 척(10)의 상부에 일정각도 기울어지게 설치되어 척의 상부면으로 헬륨-네온 레이저빔을 조사하는 레이저 조사기(11)와, 상기 레이저 조사기의 타측에 레이저 조사기(11)로부터 조사된 빔이 척(10)상부면에 반사된 다음 수광되도록 일정각도 기울어지게 설치된 씨씨디(CCD)(12)로 구성하여 상기 레이저 조사기(11)로부터 조사된 빔이 척(10)의 상부면에 부딪친다음 반사되어 씨씨디(12)에 도달되도록 함에 따라 상기 척(10)의 상부면에 묻은 이물 등을 감지하도록 한 것이다.
Description
본 고안은 반도체소자 제조용 스텝퍼의 이물감지장치에 관한 것으로서, 좀더 구체적으로는 웨이퍼 제조공정시 발생된 척의 상부면에 묻은 이물을 감지하도록 한 이물감지장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체소자 제조용 스템퍼는 광학렌즈를 이용하여 확대한 감광원판의 상을 일정한 배율로 축소한 후, 웨이퍼에 주사하여 웨이퍼의 표면을 노광시키는 장비로서, 이와같은 반도체 장비에는 노광중 웨이퍼를 고정시키기 위한 고정장치가 설치되어 있는데, 상기 고정장치의 구성을 첨부된 도 1을 참고로 하여 개략적으로 설명하면 다음과 같다.
도 1은 웨이퍼 스테이지를 나타낸 종단면도로서, 상기 웨이퍼 스테이지(1)의 하부에는 상하 방향으로 구동되도록 원주방향으로 3개의 구동기(2)가 설치되어 있고, 사익 구동기의 상부에는 로딩된 웨이퍼(3)의 기울기(Tilt)를 조정하도록 틸트 스테이지(4)가 설치되어 있으며, 상기 틸트 스테이지의 상부에는 웨이퍼(3)를 일정각도 회전시키도록 회전 스테이지(Fine θ Stage)(5)가 설치되어 있고, 상기 회전 스테이지의 상부중앙에는 승강 스테이지(6)(Coarse Stage)(6)가 설치되어 있으며, 상기 승강 스테이지의 상부에는 승강 스테이지(6)에 의해 승강가능하도록 웨이퍼(3)가 안착되는 척(7)이 고정되어 있고, 상기 회전 스테이지(5)의 상부에는 원주면을 따라 3개의 핀 구동기(2)가 설치되어 있으며, 상기 각 핀 구동기에는 로딩되는 웨이퍼(3)를 받음과 함께 흡착하여 척(7)의 상부면에 안착시키도록 핀(9)이 설치되어 있다.
이와같이 구성된 웨이퍼 스테이지에 웨이퍼(3)가 안착되어 정렬되는 상태를 설명하면 다음과 같다.
먼저, 웨이퍼(3)가 이송장치에 의해 이송되어 척(7)의 상부면에 안착되면 각핀 구동기(2)를 구동하여 핀(9)를 통해 웨이퍼(3)를 흡착한 다음, 상기 핀(9)을 상부로 일정높이 상승시켜 웨이퍼(3)상의 패턴을 인식하여 웨이퍼(3)를 정렬하는 예비정렬(Pree Alignment)을 승강 스테이지(6)에 의해 실시한다.
이와같이 예비정렬이 완료되면 핀 구동기(8)에 의해 핀(9)을 다시 하부로 구동시켜 웨이퍼(3)를 척(7)의 상부면에 안착시킨다.
그리고 상기 웨이퍼(3)가 핀(9)에 의해 흡착된 상태가 되면 웨이퍼(3)의 정렬상태를 보다 정확히 하기 위해 전체 정렬(Global Alignment)을 실시하여야 하는 데, 이를 위해 먼저 회전 스테이지(5)를 구동하여 웨이퍼(3)의 안착된 θ각 위치를 조정하고, 구동기(2)를 작동시켜 틸트 스테이지(4)에 의해 척(7) 상에 안착된 웨이퍼(3)의 수평도를 조절한다.
이와같이 웨이퍼의 정렬이 완료되면 상기 웨이퍼(3)의 표면에 노광을 실시하면 된다.
한편, 상기 웨이퍼에 대한 노광이 완료되면 노광작업중에 생긴 파티클 등의 이물이 척(7)의 상부면에 묻게되는데, 이때에는 작업자가 척상에 묻은 이물을 헝겊이나 솔등으로 닦아 제거한 후 사용하면 된다.
그러나 상기한 바와같이 척상에 묻은 이물등을 작업자가 깨끗이 제어하지 못한 상태에서 척상에 웨이퍼를 안착시켜 노광을 실시할 경우에는 이물상에 안착되는 웨이퍼가 수평상태를 이루지 못하게 되므로 노광시 초점불량(defocus)이 발생되어 웨이퍼가 불량처리되는 문제점이 있었다.
본 고안은 상기한 바와같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 웨이퍼 제조공정시 발생된 척의 상부면에 묻은 이물을 감지하여 제거하도록 함에 따라 다음 웨이퍼 공정시 상기 웨이퍼가 초점불량으로 인해 불량처리되지 않도록 하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 형태에 따르면 반사성 재질의 척과, 웨이퍼가 안착되는 상기 척의 상부에 일정각도 기울어지게 설치되어 척의 상부면으로 헬륨-네온 레이저빔을 조사하는 레이저 조사기와, 상기 레이저 조사기의 타측에 레이저 조사기로부터 조사된 빔이 척상부면에 반사된 다음 수광되도록 일정각도 기울어지게 설치된 씨씨디(CCD)로 구성하여 상기 레이저 조사기로부터 조사된 빔이 척의 상부면에 부딪친다음 반사되어 씨씨디에 도달되도록 함에 따라 상기 척의 상부면에 묻은 이물 등을 감지하도록 함을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 스텝퍼의 이물 감지장치가 제공된다.
도 1은 웨이퍼 스테이지를 나타낸 종단면도
도 2는 본 고안 이물감지장치를 갖는 웨이퍼 스테이지를 나타낸 종단면도
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10:척11:레이저 조사기
12:씨씨디
이하, 본 고안을 일 실시예로 나타낸 첨부된 도 2를 참고로 더욱 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 고안 이물감지장치를 갖는 웨이퍼 스테이지를 나타낸 종단면도로서, 승강 스테이지(6)의 상부에는 규소(Si)재질의 반사성 척(10)을 고정하고, 웨이퍼 스테이지(1)의 상부 일측에는 척(10)상부면으로 이물감지용 헬륨-네온 레이저 빔을 조사하도록 일정각도 기울어지게 레이저 조사기(11)를 설치하며, 상기 레이저 조사기의 타측에는 레이저 조사기(11)로부터 조시된 빔이 척(10)상부면에 부딪친 후 반사되어 수광되도록 씨씨디(Crarge Coupled device :CCD)(12)를 일정각도 기울어지게 설치하고, 상기 씨씨디에는 씨씨디(12)에서 감지된 이물을 화상으로 재현하여 작업자가 이를 관찰할 수 있도록 모니터(13)를 연결한 것이다.
이와같이 구성된 본 고안의 작용을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 척(10)상부면에 묻은 이물을 작업자가 닦아 낸 다음 상기 척상부면에 이물이 묻어 있는지 알아보기 위해 레어저 조사기(11)를 작동시켜 헬륨-네온 레이저빔을 척(10)상부면에 조사시킨다.
이와같이 조사된 빔은 척(10)상부면에 반사되어 씨씨디(12)에 도달되는데, 이때 상기 씨씨디는 레이저 조사기(11)내에 포함된 척(10)상부면에 묻은 이물의 정보를 인식하여 이를 모니터(13)에 보내게 된다.
그리고, 상기 모니터에 이물에 대한 정보가 전달되면 모니터(13)는 씨씨디(12)에서 감지된 이물을 형상화하여 작업자가 이를 볼 수 있게 하는데, 상기 모니터(13)상에 실제로 이물의 형상이 재현되면 작업자는 헝겊이나 솔등으로 상기 모니터에 재현된 척(10)상에 묻은 이물을 제거하여 주면 된다.
상기 척상에 묻은 이물이 깨끗하게 제거되면 이미 상술한 바와같이 척(10)상에 웨이퍼(3)를 안착시켜 노광작업을 실시하면된다.
이상에서와 같이 본 고안은 모니터를 이용하여 항상 이물을 감시하며 제거하므로 상기 이물에 의한 초점불량 등의 현상이 발생되지 않게되어 항상 양품의 웨이퍼를 제작할 수 있게 되는 효과가 있다.
Claims (3)
- 반사성 재질의 척과,웨이퍼가 안착되는 상기 척의 상부에 일정각도 기울어지게 설치되어 척의 상부면으로 헬륨-네온 레이저빔을 조사하는 레이저 조사기와,상기 레이저 조사기의 타측에 레이저 조사기로부터 조사된 빔이 척상부면에 반사된 다음 수광되도록 일정각도 기울어지게 설치된 씨씨디(CCD)로 구성하여 상기 레이저 조사기로부터 조사된 빔이 척의 상부면에 부딪친다음 반사되어 씨씨디에 도달되도록 함에 따라 상기 척의 상부면에 묻은 이물 등을 감지하도록 함을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 스텝퍼의 이물 감지장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 씨씨디에 감시용 모니터를 연결하여 씨씨디에서 감지된 이물의 형상을 재현하도록 함을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 스텝퍼의 이물 감지장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 척은 재질이 규소(Si)임을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 스템퍼의 이물 감지장치.
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| KR2019960053045U KR19980039972U (ko) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 반도체소자 제조용 스텝퍼의 이물감지장치 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010083591A (ko) * | 2000-02-17 | 2001-09-01 | 황인길 | 스텝퍼의 파티클 제거 장치 |
-
1996
- 1996-12-20 KR KR2019960053045U patent/KR19980039972U/ko not_active Application Discontinuation
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