KR19980036944A - 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치 - Google Patents

반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치에 관한 것으로, 종래에는 공정시작시 밴트라인(11)을 통하여 0.5초간 배출되는 인산이 전체공급량의 10% 정도가 되고, 이와 같은 인산은 드레인라인(12)을 통하여 전량배출됨으로서 대량생산공장에서 그 손실이 막대한 문제점이 있었다. 본 발명 반도체 웨이퍼 질화막 제거장비의 케미컬 회수장치는 보틀의 주변에 회수탱크를 설치하고, 상기 드레인라인과 회수탱크를 연결하는 회수라인을 설치하며, 상기 회수탱크와 상기 공급라인을 연결하는 연결라인을 설치하여, 상기 드레인라인으로 배출되는 케미컬을 회수하여 재사용할 수 있도록 함으로서, 원가절감을 이루는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치
본 발명은 반도체 웨이퍼 질화막(NITRIDE)제거장비의 케미컬 회수장치에 관한 것으로, 특히 드레인되는 인산을 회수하여 재사용할 수 있도록 함으로서 원가절감을 이루도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼 질화막제거장치의 케미컬 회수장치에 관한 것이다.
도 1은 종래 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 구성을 보인 배관도로서, 도시된 바와 같이, 종래의 질화막제거장비는 인산(H3PO4)을 수납하기 위한 20ℓ의 보틀(1)이 3개 설치되어 있고, 그 3개의 보틀(BOTTLE)(1)에 각각 연결된 공급라인(2)의 단부에는 인산을 펌핑하기 위한 제1/제2펌프(PUMP)(3)(4)가 연결설치되어 있으며, 그 제1/제2펌프(3)(4)에는 이물질을 여과하기 위한 제1/제2필터(FILTER)(5)(6)와 제3/제4/제5필터(7)(8)(9)가 연결설치되어 있고, 그 제3/제4/제5필터(7)(8)(8) 다음에는 나이트라이드 리무벌장치(NITRIDE REMOVAL)(10)가 설치되어 있다.
그리고, 상기 각각의 제1/제2/제3/제4/제5필터(5)(6)(7)(8)(9)에는 각각 밴트라인(VENT LINE)(11)이 연결설치되어 있고, 그 밴트라인(11)의 단부에는 드레인라인(DRAIN LINE)(12)이 연결설치되어 있다.
상기 부호중 미설명부호 AV2,AV3,AV4,AV5,AV6,AV7,AV8,AV9,AV10은 에어밸브(AIR VALVE)이다.
상기와 같이 구성되어 있는 종래 질화막제거장비의 동작을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 나이트라이드 리무벌장치(10)에서 인산의 공급신호가 떨어지면 밴트라인(11)상에 설치되어 있는 에어밸브(AV5,AV6,AV7,AV8,AV9)가 열리면서 제1/제2/제3/제4/제5필터(5)(6)(7)(8)(9)의 내부에 있는 버블(BUBBLE), 가스(GAS), 인산을 0.5초간 벤트라인(11)을 통하여 배출하게 되며, 또한 드레인라인(12)을 통하여 외부로 배출된다.
그런 다음 0.5초가 지나면 밴트라인(11)상의 에어밸브(AV5,AV6,AV7,AV8,AV9)는 닫히고, 첫 번째 보틀(1)의 인산이 제1/제2펌프(3)(4)에 의해 펌핑되어 질화막제거 작업을 진행하기 위한 나이트라이드 리무벌장치(10)로 공급된다.
그러나, 상기와 같이 공정시작시 밴트라인(11)을 통하여 0.5초간 배출되는 인산이 전체공급량의 10% 정도가 되고, 이와 같은 인산은 드레인라인(12)을 통하여 전량 배출됨으로서 대량생산공정에서 그 손실이 막대한 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 발명의 목적은 상기 드레인라인으로 배출되는 인산을 전량 재사용하여 원가절감을 할 수 있도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치를 제공함에 있다.
도 1은 종래 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 구성을 보인 배관도.
도 2는 본 발명 케미컬 회수장치가 구비된 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 구성을 보인 배관도.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
1:보틀2:공급라인
5,6,7,8,9:제1/제2/제3/제4/제5필터10:나이트라이드 리무벌장치
11:밴트라인12:드레인라인
20:회수탱크21:회수라인
22:연결라인23:감지센서
24:공급밸브
상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 공정시작시 필터에 존재하는 인산, 버블, 가스를 밴트라인과 드레인라인을 통하여 외부로 배출하고, 보틀에 수납된 인산을 공급라인을 통하여 나이트라이드 리무벌장치로 공급할 수 있도록 구성되어 있는 반도체 웨이퍼 질화막제거장비에 있어서, 상기 보틀의 주변에 회수탱크를 설치하고, 상기 드레인라인과 회수탱크를 연결하는 회수라인을 설치하며, 상기 회수탱크와 상기 공급라인을 연결하는 연결라인을 설치하여, 상기 드레인라인으로 배출되는 케미컬을 회수하여 재사용할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치가 제공된다.
도 2는 본 발명 케미컬 회수장치가 구비된 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 구성을 보인 배관도로서, 도시된 바와 같이, 인산(H3PO4)을 수납하기 위한 20ℓ의 보틀(1)이 3개 설치되어 있고, 그 3개의 보틀(1)에 각각 연결된 공급라인(2)의 단부에는 인산을 펌핑하기 위한 제1/제2펌프(3)(4)가 연결설치되어 있으며, 그 제1/제2펌프(3)(4)에는 이물질을 여과하기 위한 제1/제2필터(5)(6)와 제3/제4/제5필터(7)(8)(9)가 연결설치되어 있고, 그 제3/제4/제5필터(7)(8)(9) 다음에는 나이트라이드 리무벌장치(10)가 설치되어 있으며, 상기 각각의 제1/제2/제3/제4/제5필터(5)(6)(7)(8)(9)에는 각각 밴트라인(11)이 연결설치되어 있고, 그 밴트라인(11)의 단부에는 드레인라인(12)이 연결설치되어 있는 구성은 종래와 동일하다.
여기서, 본 발명은 상기 보틀(1)의 주변에 회수탱크(20)를 설치하고, 상기 드레인라인(12)과 회수탱크(20)를 연결하는 회수라인(21)을 설치하며, 상기 회수탱크(20)와 상기 공급라인(2)을 연결하는 연결라인(22)을 설치하여, 상기 드레인라인(12)으로 배출되는 인산을 회수하여 재사용할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 회수탱크(20)에는 회수되는 인산의 양을 측정하기 위한 수개의 감지 센서(23)을 설치하여 적정시기에 인산을 공급할 수 있도록 구성되어 있다.
또한, 상기 연결라인(22) 상에는 회수탱크(20)에 수납된 인산을 공급시 열거나 닫기 위한 공급밸브(24)가 설치되어 있다.
상기 부호중 미설명부호 AV2,AV3,AV4,AV5,AV6,AV7,AV8,AV9,AV10은 에어밸브이다.
종래와 동일한 부분에 대하여는 동일부호를 부여하였다.
상기와 같이 구성되어 있는 본 발명 케미컬 회수장치가 구비된 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 동작을 설명하면 다음과 같다.
나이트라이드 리무벌장치(10)에서 인산이 공급신호가 떨어지면 밴트라인(11) 상에 설치되어 있는 에어밸브(AV5,AV6,AV7,AV8,AV9)가 열리면서 제1/제2/제3/제4/제5필터(5)(6)(7)(8)(9)의 내부에 있는 버블, 가스, 인산을 0.5초간 밴트라인(11)을 통하여 배출하게 되며, 또한 드레인라인(12)을 통하여 외부로 배출되는데, 이때 상기 드레인라인(12)의 단부에 연결된 회수라인(21)을 통하여 회수탱크(20)로 인산이 회수된다.
그런 다음, 0.5초가 지나면 밴트라인(11)상의 에어밸브(AV5,AV6,AV7,AV8,AV9)는 닫히고, 첫 번째 보틀(1)의 인산이 제1/제2펌프(3)(4)에 의해 펌핑되어 질화막제거 작업을 진행하기 위한 나이트라이드 리무벌장치(10)로 공급되며, 첫 번째 보틀(1)이 소진되면 두 번째, 세 번째 보틀(1)의 순서로 공급된다.
상기와 같이 보틀(1)의 인산이 공급되는 중에 회수탱크(20)의 감지센서(23)에 의해서 적정양의 인산이 회수탱크(20)에 수납된 상태(M)가 감지되면 연결라인(22) 상에 설치되어 있는 공급밸브(23)가 열리면서 공급라인(2)으로 회수탱크(20)의 인산을 공급하게 된다. 또한 회수탱크(20)에 수납된 인산이 소진된 상태(L)가 감지센서(23)에 감지되면 공급밸브(23)가 닫히고, 보틀(1)의 인산이 공급된다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치는 보틀의 주변에 회수탱크를 설치하고, 상기 드레인라인과 회수탱크를 연결하는 회수라인을 설치하며, 상기 회수탱크와 상기 공급라인을 연결하는 연결라인을 설치하여, 상기 드레인라인으로 배출되는 케미컬을 회수하여 재사용할 수 있도록 함으로서, 원가절감을 이루는 효과가 있다.

Claims (3)

  1. 공정시작시 제1/제2/제3/제4/제5필터에 존재하는 인산, 버블, 가스를 밴트라인과 드레인라인을 통하여 외부로 배출하고, 보틀에 수납된 인산을 공급라인을 통하여 나이트라이드 리무벌장치로 공급할 수 있도록 구성되어 있는 반도체 웨이퍼 질화막 제거장비에 있어서, 상기 보틀의 주변에 회수탱크를 설치하고, 상기 드레인라인과 회수탱크를 연결하는 회수라인을 설치하며, 상기 회수탱크와 상기 공급라인을 연결하는 연결라인을 설치하여, 상기 드레인라인으로 배출되는 인산을 회수하여 재사용 할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 회수탱크에는 회수되는 인산의 양을 측정하기 위한 수개의 감지센서를 설치하여 적정시기에 인산을 공급할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 연결라인 상에는 회수탱크에 수납된 인산을 공급시 열거나 닫기 위한 공급밸브가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 질화막제거장비의 케미컬 회수장치.
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