KR19980023546A - 음극선관의 이물제거방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 음극선관의 이물제거방법에 관한 것으로, 특히 관내의 내전압품위 향상에 중요한 배기공정중에 행하여지던 고주파유도가열 및 음극물질을 가열하여 활성화시키는 라이팅인가 작업에 따른 에미션의 불량과 이로 인한 내전압 품위의 저하를 방지하기 위하여 라이팅인가와 동시에 병행처리되던 고주파 유도가열 과정을 배기완료후 수행되는 게터플래싱 공정 다음에 실시하도록 하므로써 캐소드로부터 방출된 산소 및 기타 이물들이 캐소드와 재결합되는 것을 방지하여 에미션상태를 향상시켜 궁극적으로는 관내의 내압품위를 향상시킬 수 있도록 하는 것이다.

Description

음극선관의 이물제거방법

본 발명은 음극선관의 이물제거방법에 관한 것으로, 특히 관내에 잔존하는 수분이나 먼지, 가스분자 등의 이물을 제거하기 위하여 배기공정중에 수행되는 고주파유도(RF 가열)가열 공정을 에이징(Aging) 공정이 진행되기 전 단계에서 실시하도록 하여 관이 소망하는 정도의 내전압 품위를 이룰 수 있도록 한 음극선관의 이물제거방법에 관한 것이다.

일반적으로 음극선관은 판넬과 새도우마스크를 조립하는 PM공정과 화면형성을 위한 전반적인 스크린 공정을 거친 다음에 제작된 전자총을 벌브에 결합시켜 실링하는 공정을 수행하며, 벌브내의 잔존하는 이물들을 제거하면서 관을 소망하는 전도의 진공도를 이루도록 하여주는 배기공정과 음극물질의 활성화를 위한 에이징 공정들을 거쳐서 완성되어지고 있다.

여기에서 전반적인 모든 공정들이 다 중요하나 특히 배기공정은 관내의 이물들을 제거하고 관은 소망하는 정도의 진공도 예컨데 10^-7Torr 정도의 진공도로 유지시켜주면서 적정한 내전압 품위를 유지하여야 원활한 전자방출과 선명한 화질로 완성도 높은 음극선관을 제조할 수 있는 것이다.

종래에는 도시된 도 1 과 같이, 마운트의 스템글라스와 벌브의 네크글라스를 융착하여 봉하는 음극선관의 구성부품들인 패널과 휜넬, 그리고 마운트가 조립되면서 실링머신에 로딩(10)되어 각 포지션을 이동하면서 실링공정을 거치고 난 다음에 관내 공기분자의 배기와 동시에 벌브에 고온의 열을 가열(20)하여 관벽에 붙어 있는 수분 또는 가스분자 등을 운동시켜 펌핑하고 마운트의 히터에 전류를 인가하여 고주파 유로가열(30)과 캐소드 열분해 즉 라이팅인가(30)를 이용하여 전자총 부품에 붙어 있는 가스를 제거한 후에 관이 필요로 하는 진공도에 도달하면 팁오프하여 배기를 종료하고 있다.

즉, 상술한 바와 같이 이물제거공정에서 행하여지는 방식은 먼저 고주파 유도가열(20)에 의하여 1 차적인 수분, 먼지, 가스분자등의 이물을 제거한 후에 라이팅인가(30)와 병행하여 동시에 고주파 유도가열(30)하여 각 그리드전후에 1차 고주파 유도가열후에도 잔존하는 이물들을 제거하는 것이다.

그런데, 이와 같은 방법으로 이물제거공정을 행하게 되면, 통상 캐소드가 가열되어 활성화되기 위해서는 약 2200℃ 이상의 온도가 요구되므로 이때 캐소드에서 방출된 산소 및 기타 이물들이 캐소드의 온도가 다운(Down)되기 전에 실시되는 고주파 유도가열에 의하여 캐소드와 재결합하게 되어 에미션 상태가 제조하게 되는 문제가 발생하였다.

뿐만 아니라, 아직 완전히 방출되지 않은 이물들이 고주파 유도가열에 따른 고온의 열에 의하여 각 그리드전극에 고착되어 관의 내전압품위를 저하시키는 커다란 문제를 초래하였다.

본 발명은 상술한 바와 같은 제반문제점들을 감안하여 이를 해소하고자 안출한 것으로, 음극선관의 배기공정중에 수행되는 이물제거 방법을 변경하여 원활한 에미션과 판의 내압 품위를 향상시킬 수 있는 그러한 음극선관의 이물제거방법을 제시하고자 함은 그 기술적인 과제로 하는 것이다.

도 1 은 종래의 음극선관 이물제거방법을 도시한 개략적인 블럭도,

도 2 는 본 발명에 따른 음극선관의 이물제거방법을 도시한 블록도.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

20, 30, 50, 80 : 고주파유도가열30, 60 : 라이팅인가

70 : 게터플래싱90 : 에이징

본 발명은 상기와 같은 기술적인 과제를 실현하기 위하여 음극선관의 배기공정중에 수행되는 이물제거방법중 고주파 유도가열후에 라이팅인가와 병행하여 재차 실시되던 또 한 번의 고주파 유도가열공정을 배기완료 후 팁 오프된 상태에서 캐소드가 완전히 식고 난 다음 진행되는 게터플래싱 공정후에 실시하는 것을 특징으로 하는 것이다.

이하에서는 본 발명에 따른 바람직한 일실시예를 기준으로 보다 상세하게 설명하기로 한다.

도 2 는 본 발명에 따른 이물질제거방법을 개략적으로 도시한 블록도로서 벌브가 실링머신에 로딩되어 각 포지션별로 이동하면서 수행하는 각 작업공정을 설명한 것이다.

도 2 를 통하여 잘 알 수 있듯이, 실링머신에 로딩(10)된 벌브를 각 포지션을 이동하면서 스템글라스와 마운트글라스가 융착되어 봉해지면서 씰링머신을 마치게 되고 연이어 배기공정중의 이물제거공정을 수행하게 되는데, 1차적으로 관내의 잔존하는 먼지, 수분, 가스분자 등의 이물을 제거하기 위하여 고주파 유도가열(50)을 실시하면서 고온에 의한 관내 분자들의 운동에너지를 증가시켜 일부는 1차로 로타리 펌프로 펌핑시키고 또 다른 일부는 태워서 제거하는 것이다.

그런 다음 약 2 분간의 오프타임(52)을 두어 관내를 안정화시킨 후에 연이어 라이팅인가(60) 즉, 음극물질인 캐소드에 고전압을 인가하여 캐소드의 요도가 약 2200℃ 이상이 되도록 하는 것이다.

이렇게 되면 캐소드에서는 히터에 의한 가열로 음극물질층이 활성화되면서 열전자가 방출되게 되는데 이러한 과정을 거쳐 캐소드 부위에 오염된 이물질들도 같이 방출되는 것이다.

전술한 바와 같이 방출된 이물들은 캐소드의 온도가 아직 다운(Down)되지 않았으므로 대단히 높은 운동에너지를 가지고 관내에서 운동하게 되는데 이때 완전한 펌핑 즉 2차적인 확산펌프와 더불어 배기를 종료하면서 관내를 소망하는 정도의 진공도가 유지되도록 하면서 팁오프하게 되는 것이다.

상술한 바와 같은 배기공정이 완료된 벌브는 관내의 진공도를 화학적으로 보다 더 향상시키면서 관내에서 발생되는 방전현상이나, 캐소드의 활성화에 따른 이온입자들까지도 흡수시키기 위하여 게터 콘테이너에 장입된 바륨(Ba)을 증발시켜 관내 내벽으로 바륨막을 형성시키도록 300~350KHz 정도의 고주파를 인가시켜 게터를 유도가열하는 게터플래싱(Getter flashing)(70) 공정을 수행하는 것이다.

이러한 공정이 수행되면서 라이팅인가에 의하여 고온으로 상술되었던 캐소드는 온도가 충분히 다운(Down)된 상태로 안정화되어 있으므로, 이와 같은 케러플래싱 공정후에 마운트의 각 그리드전극사이 특히 제 1그리드전극 주변부를 고주파 유도가열(80)하여 혹시 아직도 잔존할지도 모를 이물을 소막시켜 제거하도록 하는 것이다.

그리고 상술한 모든 공정이 완료되면 캐소드에서 방출하는 전자가 다른 제약 없이 균일하게 일정량이 공급될 수 있도록 마운트의 제1, 2, 3, 6그리드전극과 히터에 규정치의 전압을 인가하여 일정시간에 정해진 스케쥴로 전압을 걸어 캐소우드의 화학반응을 증진시켜 유리바늄이 생성되도록 하는 에이징(Aging)(90) 공정을 진행하도록 하는 것이다.

상술한 바와 같은 본 발명에 따른 이물제거방법은 배기로의 후반에서 진행되는 마운트의 히터에 정격전류의 140% 정도의 정전류를 가해 캐소드를 열 분해하면서 발생되는 이물들이 충분히 배기되면서 고주파 유로가열에 의해 각 그리드전극에 고착되지 않도록 상기한 캐소드를 충분히 식힐 수 있으므로 이들 이물이 각 그리드 전극에 고착되므로 인해 발생되는 에미션 불량감소 시키도록 작용하는 것이다.

이상의 설명은 본 발명에 따른 특정한 실시예를 설명한 것에 불과한 것이며 이로 인하여 청구범위가 한정되는 것은 아니다.

이상에서 살펴 본 바와 같이, 본 발명에 따른 음극선관의 배기공정중 이물제거 방법을 일부 변경함으로써 종래에 발생되던 에미션 불량에 따른 벌브의 내전압 품위저하는 막고 효과적으로 향상시킬 수 있어 보다 완성도 높은 전관을 제조할 수 있다는 효과가 있는 것이다.

본 발명은 음극선관의 배기공정중에 행하여지는 고주파 유도가열 공정을 배기완료 후에 수행되는 게터플래싱(Getter flashing) 공정 다음 단계에서 연이어 진행되도록 하여 에미션(emission)의 저하를 방지하여 관의 내전압 품위를 향상시킬 수 있는 음극선관의 이물제거방법을 제공하고자 함에 그 목적이 있는 것이다.

Claims (2)

1. 라이팅인가와 동시에 고주파 가열처리를 행하는 음극선관의 배기공정중에 수행되는 이물제거방법에 있어서,

   상기 고주파 가열처리는 에이징공정을 수행하기 전 게터플래싱공정 후에 행하도록 하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 이물제거방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 배기공정은 고주파 유도가열 하는 단계후에 2분이상의 오프타임을 두고, 라이팅인가를 수행한 다음 배기를 완료하고, 연이어 게터플래싱을 행한 후에 재차 고주파유도가열을 행하도록 하는 것을 특징으로 하는 음극선관의 이물제거방법.