KR19980022886A - Fed용 스페이서의 제조방법 - Google Patents
Fed용 스페이서의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR19980022886A KR19980022886A KR1019960042173A KR19960042173A KR19980022886A KR 19980022886 A KR19980022886 A KR 19980022886A KR 1019960042173 A KR1019960042173 A KR 1019960042173A KR 19960042173 A KR19960042173 A KR 19960042173A KR 19980022886 A KR19980022886 A KR 19980022886A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- spacer
- manufacturing
- fed
- layer
- glass
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
- H01J9/242—Spacers between faceplate and backplate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
- H01J2329/86—Vessels
- H01J2329/8625—Spacing members
- H01J2329/863—Spacing members characterised by the form or structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
본 발명은 단순화된 공정으로 스페이서를 제작할 수 있는 FED용 스페이서의 제조방법에 관한 것으로, FED용 스페이서의 제조방법에 있어서, 유리기판(4)상에 Al층(2)을 스페이서(10)가 위치할 곳에 증착시키는 공정과, Al층(2)이 증착된 상부측에 포토센서티브 글래스(6)를 형성하는 공정과, 상기 포토센서티브 글래스(6)에 하드마스크(8)를 자외선으로 패터닝한 후 에칭하여 스페이서(10)를 형성하는 공정으로 이루어져 있다.
Description
본 발명은 FED(FIELD-EMISSION DISPLAY)용 스페이서에 관한 것으로써, 특히 단순화된 공정으로 스페이서를 제작할 수 있는 FED용 스페이서의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 FED용 스페이서는 투명전극과 형광층이 형성된 상판과 캐소우드 어레이 및 게이트 전극이 형성된 하판을 100마이크로 내지 300마이크로 미터의 간격으로 유지시키는 역할을하는 구조체이다.
스페이서를 형성하는 종래의 기술로서는 캐소우드 어레이와 게이트 전극이 형성되어 있는 하판상에 스페이서용 물질을 균일하게 도포하고 이를 패턴닝하는 사진식각법과, 소정의 직경을 갖는 구형의 스페이서를 산포하는 방법 및 이리 제작된 스페이서를 하판에 배열한 후, 상판을 하판과 합착시키는 방법이 검토되어 왔다.
상술한 종래의 기술에 있어서, 사진식각법이 미세한 스페이서를 제조하는데 많은 장점을 가지고 있어 널리 이용되고 있으나, 스페이서재로 형성된 물질상에 감광막패턴을 형성하여, 스페이서재를 패터닝하고 잔존하는 감광막 패턴을 제거하여야 하는 등의 공정과정을 거쳐야하므로 공정이 복잡한 단점이 있었다.
그리고, 스페이서 형성을 위해 스페이서용 미세입자를 기판상에 뿌리는 경우 스페이서용 미세입자를 선택적으로 위치시킬 수 없으므로 캐소우드팁을 손상시키는 등의 문제가 있었다.
또한 하판상에서 직접 스페이서를 형성하기 않고 개별공정으로 스페이서를 제조하여 캐소우드 어레이와 게이트 전극이 형성된 하판에 배열되는 방법의 경우에 있어서도 스페이서를 정확한 위치에 정렬 고정시키기는 어렵다.
따라서, FED용 스페이서를 형성하는 방법으로 단순화된 공정으로 제조가 가능하며 상,하판 사이에 공간을 적게 차지하는 스페이서의 제조기술이 FED장치의 고밀도화를 위해 개발되어왔다.
본 발명은 목적은 애노우드 부분에 직접 스페이서를 형성하므로 별도의 스페이서 제작공정을 필요로 하지않는 FED용 스페이서의 제조방법을 제공함에 있다.
도 1(a)∼(d)은 본 발명의 FED장치의 스페이서 제조방법의 공정을 나타내는 도면.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
2: Al층 4: 유리기판
6: 포토센서티브 글래스 8: 하드마스크
10: 스페이서
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 FED용 스페이서의 제조방법은 유리기판상에 Al층을 스페이서가 위치할 곳에 증착시키는 공정과, Al층이 증착된 상부측에 포토센서티브 글래스를 형성하는 공정과, 상기 포토센서티브 글래스에 하드마스크를 자외선으로 패터닝한 후 에칭하여 스페이서를 형성하는 공정으로 이루어지는 것이 특징이다.
상기와 같은 FED장치의 스페이서 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 1(a)∼(d)은 본 발명의 FED장치의 스페이서 제조방법의 공정을 나타내는 도면이다.
유리기판(4)상에 Al층(2)을 스페이서(10)가 위치할 곳에 스페이서의 크기에 맞게 형성하여 증착시킨다.
그러고 난후에 Al층(2)이 증착된 상부측에 포토센서티브 글래스(Photosensitive Glass)(6)를 형성한다.
상기 포토센서티브 글래스(6)에 하드마스크(Hard Mask)(8)를 자외선(Ultra Violet Light)으로 패터닝한 후 에칭(Etching)하여 스페이서(10)를 형성하는 공정으로 이루어져 있다.
상술한 바와 같이 본 발명은 애노우드 공정에 연결하여 사용할 수 있으므로 애노우드 부분에 직접 스페이서를 형성하므로 별도의 스페이서 제작공정이 필요없으므로 제작공정수를 줄이므로 단가를 낮출 수 있는 효과가 있다.
Claims (1)
- FED용 스페이서의 제조방법에 있어서, 유리기판(4)상에 Al층(2)을 스페이서(10)가 위치할 곳에 증착시키는 공정과, Al층(2)이 증착된 상부측에 포토센서티브 글래스(6)를 형성하는 공정과, 상기 포토센서티브 글래스(6)에 하드마스크(8)를 자외선으로 패터닝한 후 에칭하여 스페이서(10)를 형성하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 FED용 스페이서의 제조방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960042173A KR100235304B1 (ko) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | Fed용 스페이서의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960042173A KR100235304B1 (ko) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | Fed용 스페이서의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980022886A true KR19980022886A (ko) | 1998-07-06 |
| KR100235304B1 KR100235304B1 (ko) | 1999-12-15 |
Family
ID=19475189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960042173A KR100235304B1 (ko) | 1996-09-24 | 1996-09-24 | Fed용 스페이서의 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100235304B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100560509B1 (ko) * | 1999-04-22 | 2006-03-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판 디스플레이와 이 평판 디스플레이의 제조방법 |
-
1996
- 1996-09-24 KR KR1019960042173A patent/KR100235304B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100560509B1 (ko) * | 1999-04-22 | 2006-03-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판 디스플레이와 이 평판 디스플레이의 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100235304B1 (ko) | 1999-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7312112B2 (en) | Transistor array substrate fabrication for an LCD | |
| CN100523973C (zh) | 液晶显示器件的阵列基板及其制造方法 | |
| US6659827B2 (en) | Method for manufacturing organic EL device | |
| US20030157439A1 (en) | Protective layer for corrosion prevention during lithography and etch | |
| KR960030294A (ko) | 전계 방출 표시 소자의 제조 방법 | |
| KR20050025812A (ko) | 패턴형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 | |
| US6083767A (en) | Method of patterning a semiconductor device | |
| US20070178797A1 (en) | Method of manufacturing liquid crystal display device | |
| KR19980022886A (ko) | Fed용 스페이서의 제조방법 | |
| US5827624A (en) | Mask modification for focal plane on contact photolithography tool | |
| KR100674207B1 (ko) | 도광판용 스템퍼 제조방법 | |
| JP2000338525A (ja) | マトリクスアレイ基板及びその製造方法 | |
| US5776644A (en) | Photolithographic method for high resolution circle patterning utilizing calibrated opaque microspheres | |
| KR19990044761A (ko) | 정전접합을 이용한 전계방출표시소자용 스페이서의 고정방법 | |
| JP4037324B2 (ja) | 電界放出ディスプレイの製造方法 | |
| KR100254681B1 (ko) | 정전접합을 이용한 전계방출표시소자의 스페이서 고정방법 | |
| US5882845A (en) | Method and device for the formation of holes in a layer of photosensitive material, in particular for the manufacture of electron sources | |
| KR100260262B1 (ko) | 전계방출소자의 메탈 팁 어레이 형성방법 | |
| KR100285317B1 (ko) | 전계 방출 표시소자의 스페이서 형성방법 | |
| KR100254679B1 (ko) | 전계방출표시소자의 스페이서 제조방법 | |
| KR20000002656A (ko) | 전계방출표시소자의 형성방법 | |
| KR20020031819A (ko) | 전계방출표시소자의 제조방법 | |
| KR100579181B1 (ko) | 하프-디벨로프를 이용한 셀프-얼라인 패턴형성방법 | |
| KR100288078B1 (ko) | 몰드트랜스퍼기술을이용한필드에미터어레이형성방법 | |
| KR19990042409A (ko) | 전계방출표시소자용 스페이서의 고정방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |