KR102672866B1 - Machining apparatus - Google Patents
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Abstract
(과제) 판상 워크 하면을 세정시에, 작업자가 세정 부재의 청소를 실시하지 않고도, 깨끗한 세정 부재로 워크가 계속하여 세정되도록 한다.
(해결 수단) 유지 수단 (30) 으로 유지한 워크를 연삭하는 가공 수단 (7) 과, 가공 후 워크를 유지면 (300a) 에 직교 방향으로 유지면 (300a) 으로부터 이간시키는 반출 수단 (4) 과, 워크 하면을 세정하는 세정 기구 (8) 와, 유지면 방향으로 반출 수단 (4) 과, 세정 기구 (8) 를 상대 이동시키는 이동 수단 (14) 을 구비하고, 세정 기구 (8) 는, 이동 수단 (14) 의 이동 방향에 대해 교차하는 방향이고 또한 유지면 (300a) 에 평행하게 연장되는 롤 세정 부재 (80) 와, 세정 부재 회전 수단 (81) 과, 롤 세정 부재 (80) 의 측면 일부를 연장 방향으로 노출시킨 노출부를 형성하여 롤 세정 부재 (80) 의 노출부 이외를 수몰시키는 통 (82) 과, 통 (82) 에 저수하는 물 공급원 (83) 을 구비하고, 물을 통 (82) 상부로부터 넘치게 하면서 통 (82) 내에서 회전하는 롤 세정 부재 (80) 의 노출부에 반출 수단 (4) 이 유지하는 워크 하면을 맞닿게 하여 세정하는 가공 장치 (1).(Problem) When cleaning the lower surface of a plate-shaped workpiece, the workpiece should be continuously cleaned with a clean cleaning member without the operator having to clean the cleaning member.
(Solution means) Processing means (7) for grinding the workpiece held by the holding means (30), and carrying out means (4) for separating the workpiece after processing from the holding surface (300a) in a direction perpendicular to the holding surface (300a). It is provided with a cleaning mechanism (8) for cleaning the lower surface of the work, a carrying out means (4) in the direction of the holding surface, and a moving means (14) for relatively moving the cleaning mechanism (8), and the cleaning mechanism (8) moves. A roll cleaning member (80) in a direction intersecting the moving direction of the means (14) and extending parallel to the holding surface (300a), a cleaning member rotating means (81), and a side part of the roll cleaning member (80) A tank (82) is provided to form an exposed portion exposed in the extending direction to submerge parts other than the exposed portion of the roll cleaning member (80), and a water supply source (83) that stores water in the tank (82), and supplies water to the tank (82). ) A processing device (1) that cleans the lower surface of the workpiece held by the unloading means (4) against the exposed portion of the roll cleaning member (80) rotating within the barrel (82) while overflowing from the top.
Description
본 발명은, 판상 워크를 가공하는 가공 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a processing device for processing plate-shaped workpieces.
판상 워크를 연삭하는 연삭 장치는, 유지 테이블의 유지면에서 유지한 판상 워크를, 연삭 지석을 환상으로 배치 형성한 연삭 휠을 회전시켜 연삭 지석으로 연삭하고 있다. 그리고, 연삭된 판상 워크를 유지 테이블로부터 이탈시키기 전에 유지 테이블 상에서 피연삭면을 세정하고, 그 후, 반출 수단으로 판상 워크를 유지하고, 유지 테이블로부터 판상 워크를 이간시켜, 유지 테이블에 유지되어 있었던 판상 워크의 하면 (피유지면) 을 세정 브러시 (예를 들어, 특허문헌 1 참조) 나 세정 스펀지로 세정하고 있다.A grinding device for grinding a plate-shaped work grinds a plate-shaped work held on a holding surface of a holding table with a grinding wheel by rotating a grinding wheel in which grinding wheels are arranged in an annular manner. Then, before removing the ground plate-shaped work from the holding table, the surface to be ground is cleaned on the holding table. After that, the plate-shaped work is held by the carrying out means, the plate-shaped work is separated from the holding table, and the plate-shaped work held on the holding table is cleaned. The lower surface (maintenance surface) of the plate-shaped work is cleaned with a cleaning brush (for example, see Patent Document 1) or a cleaning sponge.
그러나, 판상 워크의 하면의 세정에 있어서, 판상 워크에 부착되어 있었던 먼지가 세정 브러시 또는 세정 스펀지에 부착된다. 그리고, 그 먼지가 판상 워크에 재부착됨으로써, 판상 워크가 충분히 세정된 상태가 되지 않는 경우가 있다. 이것을 방지하기 위해, 작업자가 세정 브러시 또는 세정 스펀지의 청소를 정기적으로 실시하고 있다.However, when cleaning the lower surface of a plate-shaped work, dust adhering to the plate-shaped work adheres to the cleaning brush or cleaning sponge. And, because the dust reattaches to the plate-shaped work, the plate-shaped work may not be in a sufficiently cleaned state. To prevent this, workers regularly clean the cleaning brush or cleaning sponge.
따라서, 가공 후의 판상 워크의 하면 (피유지면) 을 세정하는 경우에 있어서는, 작업자가 세정 브러시 또는 세정 스펀지 등의 세정 부재의 청소 작업을 실시하지 않아도, 깨끗한 세정 부재로 판상 워크를 계속해서 이어서 세정할 수 있도록 한다는 과제가 있다.Therefore, in the case of cleaning the lower surface (surface to be maintained) of a plate-shaped workpiece after processing, the plate-shaped workpiece can be continuously cleaned with a clean cleaning member even if the operator does not clean the cleaning member such as a cleaning brush or cleaning sponge. There is a task to make it possible.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은, 유지 수단의 유지면에서 유지한 판상 워크를 연삭 지석으로 연삭 또는 연마 패드로 연마하는 가공 수단과, 그 가공 수단으로 가공된 판상 워크를 그 유지면에 직교하는 방향에서 그 유지면으로부터 이간시키는 반출 수단과, 그 반출 수단이 유지하는 판상 워크의 하면을 세정하는 세정 기구와, 그 유지면 방향으로 그 반출 수단과 그 세정 기구를 상대적으로 이동시키는 이동 수단을 구비한 가공 장치로서, 그 세정 기구는, 그 이동 수단의 이동 방향에 대해 교차하는 방향이고 또한 그 유지면에 평행하게 연장되는 원통상의 롤 세정 부재와, 그 롤 세정 부재의 중심축을 축으로 회전시키는 회전 수단과, 그 롤 세정 부재의 측면의 일부를 연장 방향으로 가늘고 길게 노출시킨 노출부를 형성함과 함께 그 롤 세정 부재의 그 노출부 이외를 수용하고 수몰시키는 통과, 그 통에 저수하는 물 공급 수단을 구비하고, 그 물 공급 수단에 의해 공급되는 물을 그 통의 상부로부터 넘치게 하면서 그 통 내에서 회전하는 그 롤 세정 부재의 그 노출부에 그 반출 수단이 유지하는 그 판상 워크의 하면을 맞닿게 하여, 그 판상 워크의 하면을 세정하는 가공 장치이다.The present invention for solving the above problems includes a processing means for grinding a plate-shaped work held on a holding surface of the holding means with a grinding wheel or polishing it with a polishing pad, and a processing means for grinding the plate-shaped work processed by the processing means orthogonal to the holding surface. It is provided with a carrying out means that moves away from the holding surface in a direction, a cleaning mechanism that cleans the lower surface of the plate-shaped work held by the carrying out means, and a moving means that relatively moves the carrying out means and the cleaning mechanism in the direction of the holding surface. A processing device, wherein the cleaning mechanism includes a cylindrical roll cleaning member extending in a direction intersecting the moving direction of the moving means and parallel to the holding surface, and rotating the central axis of the roll cleaning member about the axis. Rotating means, a tube forming an exposed part that exposes a part of the side surface of the roll cleaning member in a thin and long direction in the extending direction, and a container for receiving and submerging parts other than the exposed part of the roll cleaning member, and water supply means for storing water in the container. It is provided with, and the lower surface of the plate-shaped work held by the discharge means is brought into contact with the exposed portion of the roll cleaning member rotating within the tank while allowing the water supplied by the water supply means to overflow from the top of the tank. Therefore, it is a processing device that cleans the lower surface of the plate-shaped work.
상기 가공 장치는, 상기 롤 세정 부재의 연장 방향으로 평행하게 연장되고, 또한 판상 워크를 세정할 때의 상기 반출 수단에 대한 상기 세정 기구의 진행 방향에 있어서 그 세정 기구의 후방측에 배치 형성되고, 그 반출 수단이 유지한 판상 워크에 에어를 분사하는 에어 분사 수단을 구비하고, 그 세정 기구에 의해 세정된 판상 워크의 하면을 에어로 건조시키면 바람직하다.The processing device extends parallel to the extension direction of the roll cleaning member and is disposed on the rear side of the cleaning mechanism in the direction of movement of the cleaning mechanism with respect to the unloading means when cleaning the plate-shaped work, It is preferable to provide air injection means for spraying air onto the plate-shaped work held by the unloading means, and to dry the lower surface of the plate-shaped work cleaned by the cleaning mechanism with air.
본 발명에 관련된 가공 장치는, 반출 수단이 유지하는 판상 워크의 하면을 세정하는 세정 기구와, 유지면 방향으로 반출 수단과 세정 기구를 상대적으로 이동시키는 이동 수단을 구비한 가공 장치로서, 세정 기구는, 이동 수단의 이동 방향에 대해 교차하는 방향이고 또한 유지면에 평행하게 연장되는 원통상의 롤 세정 부재와, 롤 세정 부재의 중심축을 축으로 회전시키는 회전 수단과, 롤 세정 부재의 측면의 일부를 연장 방향으로 가늘고 길게 노출시킨 노출부를 형성함과 함께 롤 세정 부재의 노출부 이외를 수용하고 수몰시키는 통과, 통에 저수하는 물 공급 수단을 구비하고, 물 공급 수단에 의해 공급되는 물을 통의 상부로부터 넘치게 하면서 통 내에서 회전하는 롤 세정 부재의 노출부에 반출 수단이 유지하는 판상 워크의 하면을 맞닿게 하여, 판상 워크의 하면을 세정하므로, 워크 세정 중에 롤 세정 부재에 부착된 먼지를 통의 수중에서 헹구어내고, 세정 중에 롤 세정 부재로부터 판상 워크에 먼지를 재부착시키지 않도록 하여, 깨끗한 롤 세정 부재로 계속해서 판상 워크의 하면을 세정할 수 있다.A processing device related to the present invention is a processing device including a cleaning mechanism for cleaning the lower surface of a plate-shaped workpiece held by a carrying out means, and a moving means for relatively moving the carrying out means and the cleaning mechanism in the direction of the holding surface, wherein the cleaning mechanism includes , a cylindrical roll cleaning member in a direction intersecting the moving direction of the moving means and extending parallel to the holding surface, a rotating means for rotating the central axis of the roll cleaning member as an axis, and a portion of the side surface of the roll cleaning member. A thin and long exposed portion is formed in the extending direction, and a passage for accommodating and submerging parts other than the exposed portion of the roll cleaning member, and a water supply means for storing water in the tank, and the water supplied by the water supply means is supplied to the upper part of the tank. The lower surface of the plate-shaped work held by the unloading means is brought into contact with the exposed part of the roll cleaning member that rotates within the container while overflowing from the container, thereby cleaning the lower surface of the plate-shaped work, thereby removing dust attached to the roll cleaning member during work cleaning into the container. By rinsing in water and preventing dust from reattaching to the plate-shaped work from the roll cleaning member during cleaning, the lower surface of the plate-shaped work can be continuously cleaned with a clean roll cleaning member.
가공 장치는, 롤 세정 부재의 연장 방향으로 평행하게 연장되고, 또한 판상 워크를 세정할 때의 상기 반출 수단에 대한 상기 세정 기구의 진행 방향에 있어서 그 세정 기구의 후방측에 배치 형성되고, 반출 수단이 유지한 판상 워크에 에어를 분사하는 에어 분사 수단을 구비함으로써, 롤 세정 부재에 의한 세정과 함께 판상 워크의 하면을 에어로 건조시킬 수 있으므로, 이동 수단에 의한 판상 워크의 일 방향의 세정 이송으로 판상 워크의 하면을 세정 및 건조시켜 세정 시간을 단축할 수 있다.The processing device extends parallel to the extension direction of the roll cleaning member and is disposed on the rear side of the cleaning mechanism in the direction of movement of the cleaning mechanism with respect to the unloading means when cleaning the plate-shaped work, and the unloading means By providing an air injection means for spraying air onto the held plate-shaped work, the lower surface of the plate-shaped work can be dried with air along with cleaning by the roll cleaning member, so that the plate-shaped work can be cleaned and transported in one direction by the moving means. Cleaning time can be shortened by cleaning and drying the underside of the work.
도 1 은, 가공 장치의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 2 는, 세정 기구 및 에어 분사 수단의 일례를 확대하여 나타내는 사시도이다.
도 3 은, 세정 기구에 의한 판상 워크의 하면의 세정을 개시한 상태를 나타내는 사시도이다.
도 4 는, 세정 기구에 의해 판상 워크의 하면을 세정하고, 에어 분사 수단에 의해 판상 워크의 하면을 건조시키고 있는 상태를 나타내는 단면도이다.1 is a perspective view showing an example of a processing device.
Fig. 2 is an enlarged perspective view showing an example of a cleaning mechanism and an air injection means.
Fig. 3 is a perspective view showing a state in which cleaning of the lower surface of the plate-shaped workpiece using a cleaning mechanism has started.
Fig. 4 is a cross-sectional view showing a state in which the lower surface of the plate-shaped work is being cleaned by a cleaning mechanism and the lower surface of the plate-shaped work is being dried by an air injection means.
도 1 에 나타내는 가공 장치 (1) 는, 유지 수단 (30) 에 유지된 판상 워크 (W) 를 연삭 지석 (740) 을 구비하는 가공 수단 (7) 에 의해 연삭 가공하는 장치이고, Y 축 방향으로 연장되는 베이스 (10) 와, 베이스 (10) 상의 후부측 (+Y 방향측) 에 세워 설치된 칼럼 (11) 을 구비하고 있다. 또한, 가공 장치 (1) 는, 회전 가능하게 장착된 연마 패드에 의해 판상 워크 (W) 에 연마 가공을 실시할 수 있는 연마 장치여도 된다.The
예를 들어 외형이 원형인 유지 수단 (30) 은, 포러스 부재 등으로 이루어지고 판상 워크 (W) 를 흡착하는 흡착부 (300) 와, 흡착부 (300) 를 지지하는 프레임체 (301) 를 구비한다. 흡착부 (300) 는, 진공 발생 장치 등의 도시하지 않은 흡인원에 연통되고, 흡인원이 흡인함으로써 발생시키는 흡인력이, 흡착부 (300) 의 노출면인 유지면 (300a) 에 전달됨으로써, 유지 수단 (30) 은 유지면 (300a) 상에서 판상 워크 (W) 를 흡인 유지할 수 있다.For example, the holding means 30, which has a circular outer shape, is made of a porous member or the like and includes an
또, 유지 수단 (30) 은, 유지 수단 (30) 과 함께 이동 가능한 커버 (39) 에 의해 주위가 둘러싸이면서, 유지 수단 (30) 의 하방에 배치 형성된 회전 수단 (34) 에 의해 Z 축 방향의 축심 둘레로 회전 가능하게 되어 있다.In addition, the
유지 수단 (30), 커버 (39), 및 커버 (39) 에 연결된 벨로우즈 커버 (39a) 의 하방에는, 유지 수단 (30) 을 유지면 (300a) 방향 (Y 축 방향) 으로 이동시키는 이동 수단 (14) 이 배치 형성되어 있다. 이동 수단 (14) 은, Y 축 방향의 축심을 갖는 볼 나사 (140) 와, 볼 나사 (140) 와 평행하게 배치 형성된 1 쌍의 가이드 레일 (141) 과, 볼 나사 (140) 에 연결되고 볼 나사 (140) 를 회동 (回動) 시키는 모터 (142) 와, 내부에 구비하는 너트가 볼 나사 (140) 에 나사 결합되고 바닥부가 가이드 레일 (141) 상을 슬라이딩하는 가동판 (143) 을 구비하고 있고, 모터 (142) 가 볼 나사 (140) 를 회동시키면, 이것에 수반하여 가동판 (143) 이 가이드 레일 (141) 에 가이드되어 Y 축 방향으로 이동하고, 가동판 (143) 상에 회전 수단 (34) 을 개재하여 배치 형성된 유지 수단 (30) 및 커버 (39) 가 Y 축 방향으로 이동한다. 또, 벨로우즈 커버 (39a) 는 유지 수단 (30) 의 이동에 수반하여 Y 축 방향으로 신축된다.Below the holding means 30, the
칼럼 (11) 의 전면에는 가공 수단 (7) 을 유지 수단 (30) 의 유지면 (300a) 에 대해 이간 또는 접근시키는 Z 축 방향 (연직 방향) 으로 가공 이송하는 가공 이송 수단 (5) 이 배치 형성되어 있다. 가공 이송 수단 (5) 은, Z 축 방향의 축심을 갖는 볼 나사 (50) 와, 볼 나사 (50) 와 평행하게 배치 형성된 1 쌍의 가이드 레일 (51) 과, 볼 나사 (50) 의 상단에 연결되고 볼 나사 (50) 를 회동시키는 모터 (52) 와, 내부의 너트가 볼 나사 (50) 에 나사 결합되고 측부가 가이드 레일 (51) 에 슬라이딩 접촉하는 승강판 (53) 을 구비하고 있고, 모터 (52) 가 볼 나사 (50) 를 회동시키는 것에 수반하여 승강판 (53) 이 가이드 레일 (51) 에 가이드되어 Z 축 방향으로 왕복 이동하여, 승강판 (53) 에 고정된 가공 수단 (7) 이 Z 축 방향으로 가공 이송된다.On the front side of the
유지 수단 (30) 에 유지된 판상 워크 (W) 를 연삭 가공하는 가공 수단 (7) 은, 축 방향이 Z 축 방향인 회전축 (70) 과, 회전축 (70) 을 회전 가능하게 지지하는 하우징 (71) 과, 회전축 (70) 을 회전 구동시키는 모터 (72) 와, 회전축 (70) 의 하단에 접속된 원형 판상의 마운트 (73) 와, 마운트 (73) 의 하면에 착탈 가능하게 장착된 연삭 휠 (74) 과, 하우징 (71) 을 지지하고 가공 이송 수단 (5) 의 승강판 (53) 에 그 측면이 고정된 홀더 (75) 를 구비한다.The processing means 7 for grinding the plate-shaped work W held by the
연삭 휠 (74) 의 바닥면에는, 대략 직방체 형상의 복수의 연삭 지석 (740) 이 환상으로 고정되어 있다. 회전축 (70) 의 내부에는, 연삭수 공급원에 연통되고 연삭수의 통로가 되는 유로가, 회전축 (70) 의 축 방향으로 관통하여 형성되어 있고, 유로는, 마운트 (73) 를 통과하고, 연삭 휠 (74) 의 바닥면에 있어서 연삭 지석 (740) 을 향하여 연삭수를 분출할 수 있도록 개구되어 있다.On the bottom surface of the
또한, 가공 수단 (7) 은, 부직포 등으로 이루어지는 연마 패드를 구비하는 연마 수단이어도 된다.Additionally, the processing means 7 may be a polishing means provided with a polishing pad made of non-woven fabric or the like.
베이스 (10) 상의 칼럼 (11) 의 전방 또한 가공 수단 (7) 의 하방이 되는 위치에는, 예를 들어, 상자상의 가공실 (16) 이 배치 형성되어 있다. 가공실 (16) 을 구성하는 측판 (160) 에는 반입 출구 (161) 가 형성되어 있고, 반입 출구 (161) 를 유지 수단 (30) 이 통과함으로써, 유지 수단 (30) 을 가공실 (16) 내에 수용할 수 있다. 반입 출구 (161) 는 도시하지 않은 셔터에 의해 개폐 가능하게 되어 있다. 가공실 (16) 을 구성하는 천판 (162) 에는, 가공 수단 (7) 을 가공실 (16) 내에 진입시키는 원형상의 가공 수단 진입구 (163) 가 형성되어 있다.For example, a box-
베이스 (10) 상의 유지 수단 (30) 의 이동 경로 옆에는, 가공 수단 (7) 으로 가공된 판상 워크 (W) 를 유지 수단 (30) 의 유지면 (300a) 에 직교하는 방향 (Z 축 방향) 으로 유지면 (300a) 으로부터 이간시키는 반출 수단 (4) 이 배치 형성되어 있다.Next to the movement path of the holding means 30 on the
반출 수단 (4) 은, 예를 들어, 베이스 (10) 상에 세워 설치되고 후술하는 유지 패드 (42) 를 소정의 높이 위치로 이동 가능하게 하는 실린더 기구 (40) 와, 실린더 기구 (40) 의 상단측에 고정되고 유지 수단 (30) 의 이동 경로의 상방측에 수평 (+X 방향) 하게 연장되는 아암부 (41) 와, 아암부 (41) 의 선단측의 하면에 배치 형성되고 판상 워크 (W) 를 흡인 유지하는 유지 패드 (42) 를 구비하고 있다.The carrying out
유지 패드 (42) 는, 예를 들어, 판상 워크 (W) 의 외형에 맞춘 사각형상을 하고 있고, 그 하면이, 포러스 부재 등으로 이루어지고 판상 워크 (W) 를 흡인 유지하는 유지면이 된다. 유지 패드 (42) 의 그 유지면은, 흡인관 (421) 을 개재하여 진공 발생 장치 등의 흡인원 (43) 에 연통되어 있다.The
도 1, 2 에 나타내는 바와 같이, 가공 장치 (1) 는, 반출 수단 (4) 이 유지하는 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 세정하는 세정 기구 (8) 를 구비하고 있다. 세정 기구 (8) 는, 유지 수단 (30) 의 근방에 배치 형성되고, 유지 수단 (30) 과 함께 이동 수단 (14) 에 의해 Y 축 방향으로 왕복 이동 가능하게 되어 있다. 즉, 세정 기구 (8) 는, 예를 들어, 커버 (39) 의 상면 상에 배치 형성되어 있다.1 and 2, the
또한, 세정 기구 (8) 의 배치 형성 지점은 본 실시형태에 나타내는 예에 한정되지 않고, 예를 들어, 유지 수단 (30) 의 프레임체 (301) 의 측면에 연결 부재를 개재하여 소정 거리 -Y 방향으로 떼어 놓은 상태로 장착되어 있어도 된다.In addition, the arrangement formation point of the
도 2 에 확대하여 나타내는 세정 기구 (8) 는, 이동 수단 (14) 이 유지 수단 (30) 을 이동시키는 방향 (Y 축 방향) 에 대해 교차 (직교차) 하는 방향 (X 축 방향) 이고 또한 유지 수단 (30) 의 유지면 (300a) 에 평행하게 연장되는 원통상의 롤 세정 부재 (80) 와, 롤 세정 부재 (80) 의 중심축을 축으로 회전시키는 회전 수단 (81) 과, 롤 세정 부재 (80) 의 측면의 일부를 연장 방향 (X 축 방향) 으로 가늘고 길게 노출시킨 노출부 (801) 를 형성함과 함께 롤 세정 부재 (80) 의 노출부 (801) 이외를 수용하고 수몰시키는 통 (82) 과, 통 (82) 에 세정수를 공급하여 저수하는 물 공급 수단 (83) 을 구비하고 있다.The
X 축 방향으로 연장되는 원통상의 롤 세정 부재 (80) 는, 본 실시형태에 있어서는, 소정의 두께를 구비하는 스펀지를 원통상으로 성형한 것이고, 판상 워크 (W) 의 길이 방향의 길이 이상의 길이를 구비하고 있다. 스펀지로는, 예를 들어, 폴리우레탄을 발포 성형하여 만들어지는 스펀지, PVA 스펀지, 또는 고무에 발포제 등을 넣어 성형되는 스펀지 등을 사용한다. 또한, 롤 세정 부재 (80) 는, 스펀지에 한정되는 것이 아니고, 예를 들어, 탄력성을 구비하는 화학 섬유 등을 직모상으로 형성하여 밀집시키고, 추가로 롤상으로 형성한 세정 브러시여도 된다.In the present embodiment, the cylindrical
롤 세정 부재 (80) 는, 그 통 내에 회전 수단 (81) 의 회전 샤프트 (810) 가 삽입되어, 회전 샤프트 (810) 에 대해 고정된 상태로 되어 있다.The
통 (82) 은, 예를 들어, 대략 장방형상의 바닥판 (82a) 과, 바닥판 (82a) 의 4 변으로부터 세워 설치되는 4 장의 측판으로 이루어지고 상부가 개구되어 있다. 예를 들어, 통 (82) 을 구성하는 2 장의 측판 (82b, 82c) (통 (82) 의 길이 방향 (X 축 방향) 에 있어서 대면하는 측판 (82b, 82c)) 에는, 베어링을 구비하는 도시하지 않은 관통공이 각각 두께 방향을 향하여 관통 형성되어 있고, 롤 세정 부재 (80) 가 고정된 회전 샤프트 (810) 가, 이 관통공을 통해 통 (82) 에 삽입 통과되어 있다.The
통 (82) 의 용적은, 예를 들어, 롤 세정 부재 (80) 전체를 수용 가능한 크기로 되어 있다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 롤 세정 부재 (80) 가 장착된 회전 샤프트 (810) 의 통 (82) 내의 배치 형성 높이 위치가 조정됨으로써, 롤 세정 부재 (80) 의 측면의 일부가 연장 방향 (X 축 방향) 으로 가늘고 길게 통 (82) 내로부터 돌출하여 노출된 노출부 (801) 가 된다. 또, 롤 세정 부재 (80) 와 통 (82) 의 바닥판 (82a) 사이에는 소정 크기의 간극 (도 4 참조) 이 형성된 상태가 된다.The volume of the
회전 샤프트 (810) 의 +X 방향측의 일단에는, 커플링 등을 개재하여 모터 (811) 가 연결되어 있다. 모터 (811) 가 회전 샤프트 (810) 를 회전시킴으로써, 회전 샤프트 (810) 에 장착된 롤 세정 부재 (80) 도 통 (82) 내에서 X 축 방향의 축심 둘레로 회전한다.A
도 2, 4 에 나타내는 바와 같이, 통 (82) 은, 예를 들어, 통 (82) 과 동 방향으로 연장되고 커버 (39) 상에 고정된 1 쌍의 지지대 (86) 상에 고정되어 있고, 통 (82) 의 하방의 간극에는, 가요성을 갖는 튜브 등으로 이루어지는 물 공급관 (830) 이 배치 형성되어 있다. 물 공급관 (830) 은, 펌프 등으로 구성되고 순수 등의 세정수를 공급 가능한 물 공급원 (831) 에 연통되어 있고, 물 공급관 (830) 과 물 공급원 (831) 에 의해 통 (82) 에 물을 저수하는 물 공급 수단 (83) 이 구성된다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 예를 들어, 통 (82) 의 바닥판 (82a) 에는, 통 (82) 의 연장 방향으로 등간격을 두고 복수의 물 공급구 (820) 가 형성되어 있고, 각 물 공급구 (820) 는 물 공급관 (830) 에 연통되어 있다.2 and 4, the
도 2, 4 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 있어서의 가공 장치 (1) 는, 롤 세정 부재 (80) 의 연장 방향 (X 축 방향) 으로 평행하게 연장되고, 또한 판상 워크 (W) 를 세정할 때의 반출 수단 (4) 에 대한 세정 기구 (8) 의 진행 방향 (+Y방향) 에 있어서 세정 기구 (8) 의 후방측 (-Y 방향측) 에 배치 형성되고, 반출 수단 (4) 이 유지한 판상 워크 (W) 에 에어를 분사하는 에어 분사 수단 (2) 을 구비한다.2 and 4, the
에어 분사 수단 (2) 은, 예를 들어, 통 (82) 의 측판에 배치 형성되어 있다. 에어 분사 수단 (2) 은, 예를 들어, X 축 방향으로 연장되는 받침부 (20) 와, 받침부 (20) 의 상면에 복수 소정 간격을 두고 나열되도록 개구되는 분사구 (21) 와, 컴프레서 및 압축 에어 저류 탱크 등으로 이루어지고 각 분사구 (21) 에 압축 에어를 공급하는 에어 공급원 (22) 과, 분사구 (21) 로부터 분사된 에어를 예를 들어 롤 세정 부재 (80) 측으로 유도하는 유도판 (23) 을 구비하고 있다.The air injection means 2 is disposed on the side plate of the
받침부 (20) 와 동일한 정도의 길이를 구비하는 유도판 (23) 은, 예를 들어, 받침부 (20) 의 상면에 고정되어 있고, 롤 세정 부재 (80) 측을 향해 완만하게 만곡되어 있다.The
각 분사구 (21) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같은 환공상으로 형성되는 예에 한정되지 않고, 예를 들어, 폭이 가는 슬릿상으로 형성되어 있어도 되고, 받침부 (20) 의 상면에 한 개 연속적으로 직선상으로 연장되는 폭이 가는 슬릿상으로 형성되어 있어도 된다.Each
또, 각 분사구 (21) 는 바로 위를 향하고 있는 것은 아니고, +Y 방향측의 비스듬히 상방을 향하도록 개구되어 있어도 되고, 유도판 (23) 을 구비하지 않은 것으로 해도 된다.In addition, each
예를 들어, 커버 (39) 상의 유지 수단 (30) 과 세정 기구 (8) 사이에는, 칸막이벽 (38) 이 배치 형성되어 있고, 칸막이벽 (38) 은, 세정 기구 (8) 의 통 (82) 으로부터 흘러 넘친 연삭 부스러기 등의 먼지가 섞인 세정수가 유지 수단 (30) 측으로 흘러 가는 것을 방지한다.For example, a
이하에, 유지 수단 (30) 에 유지된 판상 워크 (W) 를 연삭 가공하는 경우의 가공 장치 (1) 의 동작에 대해 설명한다. 도 1 에 나타내는 판상 워크 (W) 는, 예를 들어, 외형이 사각형상인 대형 기판이고, 도 1 에 있어서 하방을 향하고 있는 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 에는 회로가 형성되어 있고, 상방을 향하고 있는 판상 워크 (W) 의 상면 (Wb) 은, 연삭 가공이 실시되는 피연삭면이 된다. 또한, 판상 워크 (W) 는 도시한 예에 한정되는 것은 아니고, 원형 판상의 반도체 웨이퍼 등이어도 된다.Below, the operation of the
먼저, 판상 워크 (W) 가 유지 수단 (30) 의 유지면 (300a) 에 재치 (載置) 되어 흡인 유지된다. 이어서, 이동 수단 (14) 이, 판상 워크 (W) 를 유지한 유지 수단 (30) 을 +Y 방향으로 이동시킨다. 또, 가공실 (16) 의 도시하지 않은 셔터가 열리고, 유지 수단 (30) 이 측판 (160) 의 반입 출구 (161) 를 통과하여 가공실 (16) 내에 반입된 후, 셔터가 닫힌다.First, the plate-shaped work W is placed on the holding
판상 워크 (W) 를 유지한 유지 수단 (30) 이 가공 수단 (7) 아래까지 이동하여, 연삭 지석 (740) 의 회전 궤도가 판상 워크 (W) 의 회전 중심을 통과하도록 판상 워크 (W) 와 가공 수단 (7) 의 위치 맞춤이 이루어진다.The holding means 30 holding the plate-shaped work W moves to the bottom of the processing means 7, and the rotational orbit of the
도 1 에 나타내는 모터 (72) 에 의해 회전축 (70) 이 회전 구동되는 것에 수반하여, 연삭 휠 (74) 이 회전한다. 또, 가공 수단 (7) 이 도 1 에 나타내는 가공 이송 수단 (5) 에 의해 -Z 방향으로 보내지고, 연삭 휠 (74) 이 가공 수단 진입구 (163) 를 통과하여 가공실 (16) 내에 진입해 간다. 그리고, 회전하는 연삭 지석 (740) 이 판상 워크 (W) 의 상면 (Wb) 에 맞닿음으로써 연삭 가공이 실시된다. 또, 회전 수단 (34) 이 유지 수단 (30) 을 회전시킴으로써 유지면 (300a) 상에 유지된 판상 워크 (W) 도 회전하므로, 판상 워크 (W) 의 상면 (Wb) 의 전체면이 연삭된다. 연삭 가공 중에는, 연삭수가 연삭 지석 (740) 과 판상 워크 (W) 의 접촉 부위에 대해 공급되어, 접촉 부위의 냉각·세정이 이루어진다.As the
판상 워크 (W) 의 상면 (Wb) 이 소정량 연삭된 후, 가공 수단 (7) 이 가공 이송 수단 (5) 에 의해 +Z 방향으로 인상되어, 연삭 지석 (740) 이 판상 워크 (W) 로부터 이간된다. 이어서, 이동 수단 (14) 이, 연삭이 완료된 판상 워크 (W) 를 유지한 유지 수단 (30) 을 -Y 방향으로 이동시킨다. 또, 가공실 (16) 의 도시하지 않은 셔터가 열리고, 유지 수단 (30) 이 도시하지 않은 반입 출구 (161) 를 통과하여 가공실 (16) 밖으로 반출된다.After the upper surface Wb of the plate-shaped work W is ground by a predetermined amount, the processing means 7 is pulled up in the +Z direction by the processing transfer means 5, and the
이동 수단 (14) 이, 판상 워크 (W) 를 흡인 유지한 유지 수단 (30) 을 반출 수단 (4) 의 바로 밑의 위치까지 -Y 방향으로 이동시킨다.The moving means 14 moves the holding means 30, which suction-holds the plate-shaped workpiece W, in the -Y direction to a position immediately below the unloading means 4.
도 3 에 나타내는 바와 같이, 실린더 기구 (40) 가 유지 패드 (42) 를 강하시켜, 유지 패드 (42) 의 유지면과 판상 워크 (W) 의 상면 (Wb) 을 접촉시킨다. 흡인원 (43) 이 작동하여 발생되는 흡인력이 유지 패드 (42) 의 유지면에 전달됨으로써, 유지 패드 (42) 가 판상 워크 (W) 를 흡인 유지한다. 유지 수단 (30) 에 의한 판상 워크 (W) 의 흡인 유지가 해제되고, 반출 수단 (4) 이, 가공 수단 (7) 으로 가공된 판상 워크 (W) 를 유지 수단 (30) 의 유지면 (300a) 으로부터 +Z 방향으로 이간시킨다.As shown in FIG. 3 , the
도 4 에 나타내는 바와 같이, 물 공급원 (831) 이 물 공급관 (830) 에 세정수를 송출하고, 그 세정수가 통 (82) 내에 저수되어 간다. 통 (82) 내가 세정수로 채워진 후에도, 물 공급원 (831) 으로부터의 세정수의 공급이 계속해서 이루어짐으로써, 세정수가 통 (82) 의 상부로부터 흘러 넘치는 상태가 되어, 롤 세정 부재 (80) 의 노출부 (801) 이외가 통 (82) 에 수용되어 수몰된 상태가 된다. 또, 롤 세정 부재 (80) 전체가 세정수를 충분히 함유한 상태가 된다.As shown in FIG. 4, the
판상 워크 (W) 를 흡인 유지하는 반출 수단 (4) 의 유지 패드 (42) 가, 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 이 롤 세정 부재 (80) 의 노출부 (801) 에 접촉하도록, 실린더 기구 (40) (도 3 참조) 에 의해 소정의 높이 위치에 위치된다. 또, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 이동 수단 (14) 이, 세정 기구 (8) 를 +Y 방향으로 소정의 세정 이송 속도로 이동시킴으로써, 롤 세정 부재 (80) 의 노출부 (801) 가, 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 에 대해 접촉되어 간다. 즉, 노출부 (801) 가 판상 워크 (W) 에 가압되어 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 에 맞추어 변형되어 가, 그 접촉 면적이 최대화된다.The holding
이 상태에서, 모터 (811) 가 회전 샤프트 (810) 를 회전시킴으로써, 회전 샤프트 (810) 와 함께 회전하는 롤 세정 부재 (80) 가 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 -Y 방향측으로부터 +Y 방향측을 향하여 세정되어 간다.In this state, the
롤 세정 부재 (80) 의 노출부 (801) 가 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 세정해 가는 것에 수반하여, 회전하는 롤 세정 부재 (80) 의 측면에는, 판상 워크 (W) 에 부착되어 있었던 연삭 부스러기 등의 먼지가 부착된다. 이 롤 세정 부재 (80) 에 부착된 먼지는, 롤 세정 부재 (80) 의 회전에 수반하여 통 (82) 내에 들어가고, 통 (82) 에 저수되어 있는 세정수에 의해 롤 세정 부재 (80) 의 측면으로부터 씻겨 내려간다. 그 먼지가, 세정수보다 비중이 작은 경우에는, 통 (82) 으로부터 흘러 넘치는 세정수와 함께 통 (82) 의 외부로 흘러내리므로, 롤 세정 부재 (80) 에 다시 부착되는 경우는 없다. 따라서, 물 공급원 (831) 으로부터 세정수가 통 (82) 에 계속 공급됨으로써, 통 (82) 내에는 일정량의 청결한 세정수가 저수된 상태가 유지된다.As the exposed
한편으로, 그 먼지가 세정수보다 비중이 큰 경우에는, 그 먼지는 통 (82) 의 바닥판 (82a) 에 침전되지 않도록, 세정수를 통 (82) 의 바닥판 (82a) 측으로부터 공급시키고, 먼지가 침전되기 전에 통 (82) 으로부터 세정수와 함께 흘러 넘치게 하여, 통 (82) 의 내부를 깨끗한 상태로 유지시켜, 먼지를 롤 세정 부재 (80) 에 다시 부착시키지 않도록 한다. 또, 판상 워크 (W) 를 1 장 세정할 때마다 통 (82) 의 세정수를 배수시키는 배수 밸브 (도시 생략) 를 구비해도 된다.On the other hand, if the dust has a greater specific gravity than the washing water, the washing water is supplied from the
본 실시형태에 있어서는, 상기 세정 기구 (8) 에 의한 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 의 세정을 실시함과 함께, 판상 워크 (W) 의 세정 후의 하면 (Wa) 을 세정 기구 (8) 와 함께 +Y 방향으로 이동하는 에어 분사 수단 (2) 에 의해 건조시켜 간다. 즉, 에어 공급원 (22) 이 작동하여 압축 에어를 받침부 (20) 에 공급하고, 그 에어를 분사구 (21) 로부터 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 향해 분사시킨다. 그 결과, 세정된 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 에 부착되어 있었던 세정수가 그 에어에 의해 날려 버려져, 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 이 건조된다. 즉, 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 의 세정된 지점이 뒤에서부터 따르도록 건조되어 간다.In the present embodiment, the lower surface Wa of the plate-shaped work W is cleaned by the
세정 기구 (8) 및 에어 분사 수단 (2) 이, 반출 수단 (4) 으로 유지된 판상 워크 (W) 의 하방을 완전히 통과하는 +Y 방향의 소정의 위치까지 이동함으로써, 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 이 세정되어 건조된 상태가 된다.The
상기와 같이 본 발명에 관련된 가공 장치 (1) 는, 반출 수단 (4) 이 유지하는 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 세정하는 세정 기구 (8) 와, Y 축 방향으로 반출 수단 (4) 과 세정 기구 (8) 를 상대적으로 이동시키는 이동 수단 (14) 을 구비하고, 세정 기구 (8) 는, 이동 수단 (14) 의 이동 방향에 대해 교차하는 방향이고 또한 유지 수단 (30) 의 유지면 (300a) 에 평행하게 연장되는 원통상의 롤 세정 부재 (80) 와, 롤 세정 부재 (80) 의 중심축을 축으로 회전시키는 회전 수단 (81) 과, 롤 세정 부재 (80) 의 측면의 일부를 연장 방향으로 가늘고 길게 노출시킨 노출부 (801) 를 형성함과 함께 롤 세정 부재 (80) 의 노출부 (801) 이외를 수용하고 수몰시키는 통 (82) 과, 통 (82) 에 저수하는 물 공급 수단 (83) 을 구비하고, 물 공급 수단 (83) 에 의해 공급되는 물을 통 (82) 의 상부로부터 넘치게 하면서 통 (82) 내에서 회전하는 롤 세정 부재 (80) 의 노출부 (801) 에 반출 수단 (4) 이 유지하는 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 맞닿게 하여, 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 세정하기 때문에, 워크 세정 중에 롤 세정 부재 (80) 에 부착된 먼지를 통 (82) 의 수중에서 헹구어내고, 세정 중에 롤 세정 부재 (80) 로부터 판상 워크 (W) 에 먼지를 재부착시키지 않도록 하여, 깨끗한 롤 세정 부재 (80) 로 계속해서 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 세정할 수 있다.As described above, the
가공 장치 (1) 는, 롤 세정 부재 (80) 의 연장 방향으로 평행하게 연장되고, 또한 판상 워크 (W) 를 세정할 때의 반출 수단 (4) 에 대한 세정 기구 (8) 의 진행 방향 (+Y 방향) 에 있어서 세정 기구 (8) 의 후방측에 배치 형성되고, 반출 수단 (4) 이 유지한 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 에 에어를 분사하는 에어 분사 수단 (2) 을 구비함으로써, 롤 세정 부재 (80) 에 의해 세정된 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 뒤에서부터 따르도록 에어로 건조시켜 갈 수 있기 때문에, 이동 수단 (14) 에 의한 판상 워크 (W) 의 일 방향의 세정 이송 (+Y 방향에 대한 1 패스의 세정 이송) 에서 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 을 세정 및 건조시켜 세정 시간을 단축할 수 있다.The
또한, 본 발명에 관련된 가공 장치 (1) 는 상기 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 또, 첨부 도면에 도시되어 있는 장치의 각 구성의 형상 등에 대해서도, 이것에 한정되지 않고, 본 발명의 효과를 발휘할 수 있는 범위 내에서 적절히 변경 가능하다.In addition, the
예를 들어, 반출 수단 (4) 을 Y 축 방향으로 이동 가능한 구성으로 하여, 판상 워크 (W) 의 하면 (Wa) 의 세정시에, 유지 수단 (30) 은 Y 축 방향으로 이동시키지 않고, 판상 워크 (W) 를 유지하는 반출 수단 (4) 을 유지 수단 (30) 에 대해 상대적으로 이동시켜 세정을 실시해도 된다.For example, the carrying out means 4 is configured to be movable in the Y-axis direction, and when cleaning the lower surface Wa of the plate-shaped work W, the holding means 30 is not moved in the Y-axis direction, but the plate-shaped workpiece W is moved in the Y-axis direction. Cleaning may be performed by moving the carrying out means 4 holding the work W relative to the holding means 30.
W : 판상 워크
1 : 가공 장치
10 : 베이스
11 : 칼럼
30 : 유지 수단
300 : 흡착부
300a : 유지면
301 : 프레임체
39 : 커버
39a : 벨로우즈 커버
38 : 칸막이벽
14 : 이동 수단
140 : 볼 나사
141 : 가이드 레일
142 : 모터
143 : 가동판
5 : 가공 이송 수단
7 : 가공 수단
740 : 연삭 지석
16 : 가공실
160 : 측판
161 : 반입 출구
162 : 천판
163 : 가공 수단 진입구
4 : 반출 수단
40 : 실린더 기구
41 : 아암부
42 : 유지 패드
421 : 흡인관
43 : 흡인원
8 : 세정 기구
80 : 롤 세정 부재
801 : 노출부
81 : 회전 수단
810 : 회전 샤프트
811 : 모터
82 : 통
82a : 바닥판
82b, 82c : 측판
820 : 물 공급구
83 : 물 공급 수단
830 : 물 공급관
831 : 물 공급원
86 : 지지대
2 : 에어 분사 수단W: plate work
1: Processing device
10: base
11: column
30: means of maintenance
300: adsorption unit
300a: holding surface
301: frame
39: cover
39a: bellows cover
38: partition wall
14: means of transportation
140: ball screw
141: Guide rail
142: motor
143: Movable plate
5: Processing conveyance means
7: Processing means
740: grinding stone
16: Processing room
160: side plate
161: Import exit
162: top plate
163: Processing means entrance
4: Means of export
40: Cylinder mechanism
41: arm part
42: retaining pad
421: suction tube
43: suction source
8: Cleaning mechanism
80: Roll cleaning member
801: exposed part
81: means of rotation
810: rotating shaft
811: motor
82: barrel
82a: bottom plate
82b, 82c: side plate
820: Water supply port
83: Water supply means
830: water supply pipe
831: water source
86: support
2: Air injection means
Claims (2)
그 세정 기구는, 그 Y 축 방향에 대해 수평면 내에서 교차하는 방향이고 또한 그 유지면에 평행하게 판상 워크의 길이 방향의 길이 이상으로 연장되는 원통상의 롤 세정 부재와, 그 롤 세정 부재의 중심축을 축으로 회전시키는 회전 수단과, 그 롤 세정 부재의 측면의 일부를 연장 방향으로 가늘고 길게 노출시킨 노출부를 형성함과 함께 그 롤 세정 부재의 그 노출부 이외를 수용하고 수몰시키는 통과, 그 통에 저수하는 물 공급 수단을 구비하고, 그 이동 수단에 의해 그 유지 수단과 함께 그 Y 축 방향으로 이동 가능하고, 그 유지 수단에 대해, 판상 워크의 하면을 세정할 때의 그 유지 수단의 진행 방향인 +Y 방향의 반대측이 되는 -Y 방향측에 배치되고,
그 물 공급 수단에 의해 공급되는 물을 그 통의 상부로부터 넘치게 하면서, 그 이동 수단에 의해 그 세정 기구를 그 +Y 방향으로 진행시켜, 그 통 내에서 회전하는 그 롤 세정 부재의 그 노출부를 그 반출 수단이 유지한 그 판상 워크의 하면에 맞닿게 하여, 그 판상 워크의 하면을 세정하는, 가공 장치.Holding means for holding the plate-shaped work on the holding surface, processing means for grinding the plate-shaped work held on the holding surface with a grinding wheel or polishing it with a polishing pad, and holding the plate-shaped work processed by the processing means at right angles to the holding surface. It is provided with a carrying out means that separates the holding means from the holding surface in a direction, a cleaning mechanism that cleans the lower surface of the plate-shaped work held by the carrying out means, and a moving means that moves the holding means in the Y-axis direction parallel to the holding surface. As a processing device,
The cleaning mechanism includes a cylindrical roll cleaning member extending beyond the longitudinal length of the plate-shaped workpiece in a direction intersecting the Y-axis direction in a horizontal plane and parallel to the holding surface, and the center of the roll cleaning member. A rotating means for rotating the shaft about the axis, and a passage that forms an exposed part exposing a part of the side surface of the roll cleaning member to be elongated and thin in the extending direction, and accommodates and submerges parts other than the exposed portion of the roll cleaning member. It is provided with water supply means to store water, and is capable of moving in the Y-axis direction together with the holding means by the moving means, and with respect to the holding means, the moving direction of the holding means when cleaning the lower surface of the plate-shaped workpiece is provided. It is placed on the -Y direction side opposite to the +Y direction,
While overflowing the water supplied by the water supply means from the top of the tank, the cleaning mechanism is advanced in the +Y direction by the moving means, and the exposed portion of the roll cleaning member rotating within the tank is carried out. A processing device that comes into contact with the lower surface of the plate-shaped work held by the tool and cleans the lower surface of the plate-shaped work.
상기 롤 세정 부재의 연장 방향으로 평행하게 연장되고, 판상 워크의 하면을 세정하기 위해 상기 +Y 방향으로 진행하는 상기 세정 기구보다 상기 -Y 방향측에 배치 형성되고, 상기 반출 수단이 유지한 판상 워크의 하면에 에어를 분사하는 에어 분사 수단을 구비하고, 그 세정 기구를 그 +Y 방향으로 진행시키는 것에 의해 세정된 판상 워크의 하면을 그 에어로 뒤에서부터 따르도록 건조시키는, 가공 장치.According to claim 1,
of the plate-shaped work held by the unloading means, which extends parallel to the extension direction of the roll cleaning member and is disposed on the -Y direction side of the cleaning mechanism that advances in the +Y direction to clean the lower surface of the plate-shaped work. A processing device comprising air injection means for spraying air on the lower surface, and drying the lower surface of the cleaned plate-shaped workpiece by moving the cleaning mechanism in the +Y direction so that the air is poured from behind.
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