KR102650668B1 - 방법 및 측정 환경, 테스트될 장치 - Google Patents
방법 및 측정 환경, 테스트될 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102650668B1 KR102650668B1 KR1020217001912A KR20217001912A KR102650668B1 KR 102650668 B1 KR102650668 B1 KR 102650668B1 KR 1020217001912 A KR1020217001912 A KR 1020217001912A KR 20217001912 A KR20217001912 A KR 20217001912A KR 102650668 B1 KR102650668 B1 KR 102650668B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- pattern
- predetermined
- beam pattern
- measurement environment
- patterns
- Prior art date
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 380
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 183
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims abstract description 128
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 28
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 24
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 22
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 18
- 238000003491 array Methods 0.000 claims description 11
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 6
- 238000012549 training Methods 0.000 claims description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 32
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 24
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 16
- 230000011664 signaling Effects 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 7
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 7
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 108010076504 Protein Sorting Signals Proteins 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- 101100411667 Arabidopsis thaliana RAN4 gene Proteins 0.000 description 1
- 208000036829 Device dislocation Diseases 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000005404 monopole Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000013139 quantization Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
- G01R29/08—Measuring electromagnetic field characteristics
- G01R29/10—Radiation diagrams of antennas
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
- G01R29/08—Measuring electromagnetic field characteristics
- G01R29/0864—Measuring electromagnetic field characteristics characterised by constructional or functional features
- G01R29/0871—Complete apparatus or systems; circuits, e.g. receivers or amplifiers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
- G01R29/08—Measuring electromagnetic field characteristics
- G01R29/0864—Measuring electromagnetic field characteristics characterised by constructional or functional features
- G01R29/0878—Sensors; antennas; probes; detectors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R29/00—Arrangements for measuring or indicating electric quantities not covered by groups G01R19/00 - G01R27/00
- G01R29/08—Measuring electromagnetic field characteristics
- G01R29/0864—Measuring electromagnetic field characteristics characterised by constructional or functional features
- G01R29/0892—Details related to signal analysis or treatment; presenting results, e.g. displays; measuring specific signal features other than field strength, e.g. polarisation, field modes, phase, envelope, maximum value
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B17/00—Monitoring; Testing
- H04B17/10—Monitoring; Testing of transmitters
- H04B17/11—Monitoring; Testing of transmitters for calibration
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B17/00—Monitoring; Testing
- H04B17/10—Monitoring; Testing of transmitters
- H04B17/15—Performance testing
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B17/00—Monitoring; Testing
- H04B17/20—Monitoring; Testing of receivers
- H04B17/29—Performance testing
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B17/00—Monitoring; Testing
- H04B17/30—Monitoring; Testing of propagation channels
- H04B17/309—Measuring or estimating channel quality parameters
- H04B17/318—Received signal strength
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B7/00—Radio transmission systems, i.e. using radiation field
- H04B7/02—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas
- H04B7/04—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas
- H04B7/0408—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas using two or more beams, i.e. beam diversity
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B7/00—Radio transmission systems, i.e. using radiation field
- H04B7/02—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas
- H04B7/04—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas
- H04B7/0491—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas using two or more sectors, i.e. sector diversity
- H04B7/0495—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas using two or more sectors, i.e. sector diversity using overlapping sectors in the same base station to implement MIMO for antennas
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B7/00—Radio transmission systems, i.e. using radiation field
- H04B7/02—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas
- H04B7/04—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas
- H04B7/06—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas at the transmitting station
- H04B7/0686—Hybrid systems, i.e. switching and simultaneous transmission
- H04B7/0695—Hybrid systems, i.e. switching and simultaneous transmission using beam selection
- H04B7/06952—Selecting one or more beams from a plurality of beams, e.g. beam training, management or sweeping
- H04B7/06966—Selecting one or more beams from a plurality of beams, e.g. beam training, management or sweeping using beam correspondence; using channel reciprocity, e.g. downlink beam training based on uplink sounding reference signal [SRS]
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B7/00—Radio transmission systems, i.e. using radiation field
- H04B7/02—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas
- H04B7/04—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas
- H04B7/08—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas at the receiving station
- H04B7/0868—Hybrid systems, i.e. switching and combining
- H04B7/088—Hybrid systems, i.e. switching and combining using beam selection
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B7/00—Radio transmission systems, i.e. using radiation field
- H04B7/02—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas
- H04B7/04—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas
- H04B7/06—Diversity systems; Multi-antenna system, i.e. transmission or reception using multiple antennas using two or more spaced independent antennas at the transmitting station
- H04B7/0686—Hybrid systems, i.e. switching and simultaneous transmission
- H04B7/0695—Hybrid systems, i.e. switching and simultaneous transmission using beam selection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Mobile Radio Communication Systems (AREA)
- Radio Transmission System (AREA)
- Variable-Direction Aerials And Aerial Arrays (AREA)
- Support Of Aerials (AREA)
Abstract
적어도 하나의 안테나 어레이를 갖는 장치를 평가하는 방법은 - 상기 장치는 안테나 어레이를 이용하여 복수의 통신 빔 패턴을 형성하도록 구성됨 - 측정 환경에 장치의 위치를 지정하거나 빔 패턴 측정에 적합한 장치 주변의 측정 환경의 프로브/링크 안테나를 이동/전환하고 복수의 통신 빔 패턴의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치를 제어하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 측정 환경 및/또는 장치를 사용하여 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계를 포함한다.
Description
본 발명은, 예를 들어 무선 동작의 관점에서, 테스트될 장치, 측정 시스템 및 장치의 테스트를 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명은 더욱 빔 식별로도 알려진, 빔/빔 패턴의 다중 빔 전환/스캐닝 및 열거/식별에 관한 것이다.
계층화된 모델 개념이 있는 ISO 개방형 시스템 상호 연결 표준은 4G, 5G 이후와 5G 시스템 이후, 대략 4G 시스템으로 알려진 것들을 포함하여 다양한 컴퓨터 및 통신 시스템에 적용되었다. 이 모델을 사용하면 물리적 매체(무선 트랜시버 및 관련 안테나 시스템)를 통해 원시 데이터의 전송 및 수신 기능을 구현하는 데 필요한 회로는 소위 물리적 계층(PHY)이 결과되게 한다. 따라서 PHY 계층에서 사용되는 매개 변수는 무선 트랜시버 및 이들의 안테나 시스템이 작동하는 방식을 제어한다. 정상 작동 중에 이러한 매개 변수는 통신 시스템이 소위 상위 계층에서 결정한 기준에 따라 작동하는 것을 확실히 하도록 자동으로 제어된다.
동시에, 무선 환경의 성능 측면에서 장치를 테스트할 필요가 있다. 테스트는 빠르고 정확해야 한다. 따라서 무선 테스트를 강화할 필요가 대두되고 있다.
본 발명의 목적은 무선 테스트 및 무선 측정을 향상시키는 것이다.
본 발명자들은 장치를 테스트하기 위해 장치 또는 테스트 대상 장치 (DUT)에 의해 형성될 하나 이상의 빔 패턴을 미리 정의하고 형성된 빔 패턴을 측정하여 장치의 행동을 평가하는 것이 바람직하다는 것을 알아냈다. 장치를 조정 및/또는 이동하기 위한 미리 정해진 빔 패턴 시간 및/또는 장치 조정을 위한 시간을 형성하도록 장치를 직접 제어함으로써, 링크 안테나를 향해 빔 패턴을 (자동으로) 형성하고빔을 잠근 다음 장치를 이동하도록 제어할 수 있다. 실제 측정 시간과 비교할 때 장치의 방향 지정 또는 정렬 및/또는 장치의 이동 시간이 더 길 수 있으므로, 본 발명은 측정을 위한 시간을 상당히 감소시켜 측정을 향상시킬 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 적어도 하나의 안테나 어레이를 갖는 장치를 평가하는 방법이 제공되고, 장치는 복수의 통신 빔 패턴을 형성하도록 구성된다. 안테나 배열을 측정하는 단계는 빔 패턴을 측정하도록 적응된 측정 환경에서 장치의 위치를 지정하는 단계, 복수의 통신 빔 패턴의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어하는 단계 및 측정 환경을 사용하여 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계를 포함한다. 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어하는 단계는 미리 정해진 빔 패턴을 짧은 시간에 획득할 수 있으므로 빠른 측정이 가능하다.
일 실시 예에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴은 복수의 미리 정해진 빔 패턴 중 첫 번째이고, 복수의 미리 정해진 빔 패턴은 복수의 통신 빔 패턴의 서브 세트이다. 본 방법은 제 1 미리 정해진 빔 패턴을 측정한 후에 복수의 미리 정해진 빔 패턴의 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어하는 단계를 포함한다. 본 방법은 측정 환경을 사용하여 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계를 더 포함한다. 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 순차적으로 형성하고 측정함으로써, 다른 수의 로브 및/또는 널, 로브 크기 또는 방향 등을 갖는, 다른 방향을 따른 다른 빔 패턴이 차례로 측정될 수 있고, 따라서 장치가 이동되는 두 측정 사이의 시간을 절약할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴은 복수의 미리 정해진 빔 패턴 중 첫 번째 패턴이다. 복수의 미리 정해진 빔 패턴은 복수의 통신 빔 패턴의 적어도 서브세트이다. 본 방법은 제 1 미리 정해진 빔 패턴의 측정 동안 미리 정해진 빔 패턴 및 복수의 미리 정해진 빔 패턴 중 제 3 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 DUT를 제어하는 단계를 포함하고, 즉, 적어도 제 1 및 추가의 미리 정해진 빔 패턴이 동시에 형성된다. 본 방법은 측정 환경을 사용하여 제 3 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 것을 포함한다. 이를 통해 동시에 최소 2 개의 미리 정해진 빔 패턴을 평가할 수 있으므로 측정 시간을 더욱 줄일 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 장치는 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 순차적으로 형성하도록 제어되거나, 또는 각각의 미리 정해진 빔 패턴이 측정 환경에서 측정된다. 본 방법은 하나의 위치/방향에 대해 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 측정한 후 또는 한 위치에서 다른 위치로 이동하면서 장치와 측정 환경 사이의 상대적 위치를 변경하는 단계를 포함한다. 상대적 위치를 변경하는 것은 하나 이상의 프로브 안테나에 대해 장치를 이동하고/하거나 장치에 대해 하나 이상의 프로브 안테나를 이동함으로써 얻을 수 있다. 본 방법은 복수의 빔 패턴 또는 추가의 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하고 측정하기 위한 장치의 제어를 반복하는 단계를 포함한다. 추가의 복수의 빔 패턴은 제 1 복수의 미리 정해진 빔 패턴과 동일하거나 그의 서브세트를 포함할 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 추가 복수의 미리 정해진 빔 패턴 중 하나 이상은 제 1 복수의 빔 패턴과 상이할 수 있다. 즉, 미리 정해진 빔 패턴의 일부 또는 전부를 순차적으로 형성하고 측정한 후, 장치를 이동시킬 수 있고, 이후에 더 필요한 빔 패턴을 형성할 수 있다. 복수의 미리 정해진 빔 패턴의 형성과 그 측정 사이의 시간에 맞춰 장치의 측정 환경으로 이동을 줄이거나 이동없이 공간에서 샘플링하는 것이 가능하다.
측정 환경 (프로브 안테나)과 장치 사이의 상대적 위치 변경에 대한 대안이나이에 추가하여, 실시 예는 구체 (예를 들어, 움직임 없음) 또는 예를 들어, 먼저 방위각 또는 고도를 따른 절단으로 (예를 들어, 한 축은 움직임), 또는 공간에 특정 수의 샘플링 지점이 있는 방위각 및 고도의 2D 그리드에 따른 빔 패턴 측정에 관한 것이다.
일 실시 예에 따르면, 장치는 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하고/하거나 미리 정해진 순서로 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 연기하도록 제어된다. 이를 통해 측정 중 작업의 조정/동기성이 가능하게 되고, 즉 측정 환경은 특정 빔 패턴을 명확하게 기다릴 수 있으며 측정된 빔 패턴을 평가할 수 있다. 예를 들어, 이러한 방식으로 장치의 Tx 및 Rx 빔 간의 빔 대응도 평가될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 본 방법은 복수의 통신 빔 패턴으로부터 미리 정해진 빔 패턴을 선택함으로써 미리 정해진 빔 패턴을 결정하는 단계를 포함한다. 예를 들어, 미리 정해진 빔 패턴은 장치의 빠르고 및/또는 정확한 평가를 허용하는 통신 빔 패턴의 서브세트를 획득하기 위해 제조자에 의해 제공되는 목록으로부터 선택 될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 수신 (Rx) 및/또는 송신 (Tx) 빔을 갖는 교정 빔 패턴을 형성하기 위한 장치 또는 모델 또는 그 예가 제공되고, 교정 빔 패턴은 복수의 통신 빔 패턴 중 하나이다. 본 방법은 메모리에 교정 빔 패턴을 나타내는 빔 관련 정보를 저장하는 단계를 더 포함한다. 장치를 제어하는 단계는 예를 들어, 이득 매개 변수 등의 직접적인 제어를 포함할 수 있거나, 예를 들어 다음과 같은 자동화 된 제어를 포함하여, 장치가 링크 안테나를 향해 그 빔 패턴을 형성하도록 할 수 있다. 이를 통해 제조업체에서 제공한 정보가 없을 때나 이에 추가하여 미리 정해진 빔 패턴을 얻을 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 복수의 보정 빔 패턴이 형성되고 대응하는 복수의 빔 관련 정보가 메모리에 저장되어 복수의 교정 빔 패턴을 미리 정해진 빔 패턴으로 반복적이고 결정적으로 재구성할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 교정 빔 패턴을 형성하기 위해 장치 또는 장치 모델 또는 예시를 제어하는 단계는 장치가 링크 안테나를 향해 교정 빔 패턴을 형성하도록 링크 안테나에 대한 상대적 위치를 포함하도록 장치 또는 이 장치와 유사한 장치의 위치를 지정하는 단계를 포함한다. 링크 안테나를 향한 빔 패턴을 형성하기 위해 장치 또는 이 장치와 유사한 장치에 의해 사용되는 매개 변수는 교정 빔 패턴을 기술할 수 있고 따라서 빔 관련 정보로 리콜할 수 있다. 대안으로, 빔 관련 정보는 매개 변수로부터 유도될 수 있다. 예를 들어, 다른 교정 빔 패턴은 식별자 등을 사용하여 이름이 지정되거나 라벨이 지정되어 추가 정보와 함께 매개 변수가 빔 관련 정보를 형성하도록 할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 교정 빔 패턴을 형성하기 위해 장치 또는 장치 모델 또는 예시/비교 장치, 즉 장치 (14)와 유사한 장치를 제어하는 단계는 장치가 다중 링크 안테나를 향해 순차적으로 교정 빔 패턴을 형성하도록 상이한 상대적 위치에 대한 다중 링크 안테나에 상대적인 위치를 포함하기 위해서 장치와 관련된 장치의 전자적으로 전환되거나 조정된 위치를 지정하는 단계를 포함한다. 다중 링크 안테나를 향하는 빔 패턴을 형성하기 위해 장치 또는 이 장치와 유사한 장치에 의해 사용되는 매개 변수는 교정 빔 패턴을 설명할 수 있고 이에 따라 빔 관련 정보로 리콜할 수 있다. 예를 들어, 장치는 복수의 링크 안테나를 향해, 및/또는 동시에 복수의 링크 안테나를 향해 차례로 빔 패턴을 형성할 수 있다. 대안적으로, 빔 관련 정보는 매개 변수로부터 유도될 수 있다. 예를 들어, 추가 정보와 조합된 매개 변수가 빔 관련 정보를 형성하도록, 예를 들어 식별자 등을 사용하여 상이한 교정 빔 패턴이 명명되거나 라벨링될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 교정 빔 패턴을 형성하기 위해 장치를 제어하는 단계는 링크 안테나 또는 다중 링크 안테나에 대한 장치의 상대적 위치를 변경할 때, 교정 빔 패턴을 형성하는 것 외에도, 장치가 장치의 표면에 상대적인 빔 패턴의 방향을 유지하도록 빔 패턴을 잠그도록 장치를 제어하는 단계를 포함한다. 이것은 빔 관련 정보를 메모리에 저장할지 여부를 결정하기 전에 형성된 교정 빔 패턴을 먼저 평가할 수 있게 한다.
일 실시 예에 따르면, 교정 빔 패턴은 제 1 교정 빔 패턴이다. 빔 관련 정보는 제 1 빔 관련 정보이다. 본 방법은 장치가 예를 들어, 빔 패턴을 링크 안테나쪽으로 다시 향하게 할 때, 제 2 교정 빔 패턴을 형성하도록 장치 또는 이 장치와 유사한 장치 및 링크 안테나 사이의 상대적 위치를 변경하는 단계를 더 포함한다. 상대적 위치의 변경은 기계적으로 수행하거나 각도 위치가 다른 다른 링크 안테나로 전환하여 수행할 수 있다. 후자는 또한 복수의 링크 안테나를 중첩하여 중첩된 복수의 링크 안테나 사이에서 임의의 방향에서 오는 링크를 형성함으로써 수행될 수 있다. 이 방법은 제 2 교정 빔 패턴을 나타내는 제 2 빔 관련 정보를 메모리에 저장하는 단계를 포함한다. 이에 따라 각 빔 관련 정보를 통해 복수의 교정 빔 패턴이 저장될 수 있으며, 따라서 미리 정해진 빔 패턴을 정의할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 장치를 제어하는 단계는 메모리에서 빔 관련 정보를 읽고 빔 관련 정보에 따라 미리 정해진 빔 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 이로 인해 빔 패턴의 빠른 형성을 가능하게 한다.
일 실시 예에 따르면, 빔 관련 정보는 빔 식별자, 안테나 어레이 및/또는 안테나 어레이를 사용하여 통신, 즉 전송 및/또는 수신될 관련 기저 대역 신호에 적용되는, 송신 및/또는 수신 빔에 대한 하나 또는 다수의 빔 관련 매개 변수, 예를 들어 이득(들), 전력, 절대 또는 상대 위상 등을 나타내는 정보, 빔 편광, 빔 패턴의 반송파 주파수, 예를 들어 수신 빔과 송신 빔 사이의 빔 대응을 나타내는 빔 대응 플래그, 빔 대응 ID, 예를 들어, 해당 수신 빔의 빔/빔 스위프 식별자 및/또는 송신 빔/빔 스위프 등을 포함한다. 이러한 정보는 그에 따라 빔을 형성하도록 장치에 의해 해석된다. 이를 통해 측정 환경의 필요에 따라 빔 패턴을 특성화할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 복수의 통신 빔 패턴의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어하는 단계는 측정 환경에 의해 장치로 신호를 전송하는 단계를 포함하고, 상기 신호는 미리 정해진 빔 패턴의 기간, 미리 정해진 빔 패턴을 포함하는 빔 스위프의 기간, 시간 동기화를 가능하게 하기 위한 장치 또는 측정 환경에서의 시간, 및/또는 장치에 의해 형성될 미리 정해진 빔 패턴의 순서 중 적어도 하나를 나타내는 정보를 포함하고, Tx-Rx 플래그는 수신 빔 패턴(Rx) 또는 송신 빔 패턴(Tx)이 측정되었는지 식별하여, 예를 들어, 반이중 방식으로 Rx를 측정할 때 Tx 전원이 꺼져 있음을 보장하고, 예를 들어, 장치가 Tx와 Rx 사이에 빔 대응이 존재한다고 신호를 보낸 경우 사용된다. 이러한 정보는 메모리 내에 저장될 수 있고, 예를 들어 코드북의 엔트리를 표시함으로써, 즉 식별자를 사용하여 표시될 수 있다. 코드북에는 통신 (전송 및/또는 수신)에 사용되는 각도 공간의 일부 또는 전체를 포괄하는 식별 가능한 방향/방사 패턴 집합이 포함될 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 매개 변수 중 적어도 하나는 예를 들어, 미리 정해진 빔 패턴을 형성하고 유지하기 위해 설정되는 시간과 관련하여 측정에 유연하게 적응할 수 있도록 장치로 전송되는 신호에 표시될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 빔 관련 정보는 장치의 메모리에 저장된다. 신호는 빔 관련 정보를 나타낸다. 이것은 각각의 필요한 정보가 이미 장치에 저장되어 있기 때문에 낮은 통신 부하를 가능하게 한다.
일 실시 예에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어하는 단계는 측정 환경에서 장치로 신호를 전송하는 단계를 포함하고, 신호는 장치에 의해 형성될 복수의 미리 정해진 빔 패턴의 시퀀스 또는 빔 패턴을 명확하게 나타내는 정보를 포함한다. 이로 인해 장치의 동작을 측정하고 신호에 의해 식별된 목표 상태 또는 원하는 조건에 대한 동작을 평가할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계는, 빔 패턴의 총 방사 전력을 측정하고, 등가 등방성 복사 전력을 측정하고, 유효 등방성 감도를 측정하고, Rx 및/또는 Tx 복합 방사 패턴을 상대적 크기 및 상대적 위상으로 측정하고; 장치에 대한 빔 패턴의 방향을 측정하고; 구체 커버리지, 커버된 구체 빔 그리드 밀도, 빔 세트의 모든 활성화된 빔 패턴의 특정 빔 패턴, 메인 빔/빔 패턴의 적어도 하나의 사이드로브, 빔 패턴 변경/전환/팽창/수축의 확장성/선형성/히스테리시스, 공간 해상도를 갖는 스퓨리어스 방출 및/또는 인접 채널 누출 비율(ACLR), 널 스티어링(null steering) 및 다중 빔 스티어링의 능력 및 정확도, Tx와 Rx 빔 간의 빔 대응의 정확성, 안테나 어레이/패널의 교정 등을 측정하는 것 중 하나 이상을 포함한다. 이로 인해 형성된 빔 패턴을 정확하게 평가할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계는 장치에 의해 사용되는 통신 대역의 대역 내 방출을 측정하는 단계를 포함한다. 이로 인해 장치의 대역 내 동작을 평가할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계는 통신 대역의 대역 외 방출을 측정하는 단계를 더 포함한다. 이를 통해 장치의 간섭 동작을 특성화할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 장치는 미리 정해진 빔 패턴으로 결합된 빔을 형성하도록 중첩을 위해 적어도 제 1 및 제 2 빔을 사용하도록 적응된다. 개별 빔은 측정 환경에 따라 구별 가능하거나 구별 불가능할 수 있다. 빔은 예를 들어, 측정 환경으로 평가할 수 있는 서로 다른 참조 파일럿 또는 참조 기호를 사용하여 구별할 수 있으며, 이 때 전송 전력만을 평가하는 경우, 단일 빔은 구별 불가능하게 유지될 수 있다. 이로 인해 획득된 정보의 확장 가능한 정도를 허용할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 미리 정해진 빔 패턴은 복수의 미리 정해진 빔 패턴 중 하나이다. 상기 장치는 복수의 빔 패턴 각각을 순차적으로 형성하도록 제어되고, 여기서 복수의 미리 정해진 빔 패턴은 측정 환경의 패턴에 따라 배열된다. 패턴은 규칙적이거나 불규칙한 패턴, 복수의 빔이 등거리 방식으로 배열되는 패턴 및/또는 장치의 방위각 및/또는 앙각 범위를 커버하는 패턴 및/또는 편광 성분의 중첩 또는 하나를 갖는 패턴일 수 있다. 측정 환경에서 또한 미리 정해진 패턴에 따라 복수의 미리 정해진 빔을 선택함으로써 측정 중에 높은 정확도를 얻을 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 장치를 제어할 때, 미리 정해진 빔 패턴은 링크 안테나와 독립적으로 형성된다. 이로 인해 간단한 측정 환경 및/또는 측정에 대한 낮은 간섭을 허용할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 비 일시적 저장 매체는 일 실시 예에 따른 방법을 컴퓨터에서 실행할 때 이를 수행하기 위한 프로그램 코드를 갖는 컴퓨터 프로그램을 저장하고 있다.
일 실시 예에 따르면, 장치는 적어도 하나의 안테나 어레이를 포함한다. 장치는 안테나 어레이를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴을 형성하도록 구성된다. 장치는 미리 정해진 빔 패턴으로서 복수의 통신 빔 패턴 중 적어도 하나를 명확하게 나타내는 빔 관련 정보를 저장한 메모리를 포함한다. 장치는 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위한 요청을 나타내는 신호를 수신하도록 구성된 인터페이스를 포함한다.장치는 빔 관련 정보를 사용하여 신호에 응답하여 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 구성된다. 예를 들어, 수신 빔을 측정하는 경우, 장치는 다음 중 하나 이상을 포함하는 측정 결과를 피드백할 수 있다:
-고유한 빔 설정 식별자
-수신 신호 강도 표시기(RSSI)
-참조 신호 수신 전력(RSRP)
-참조 신호 수신 품질(RSRQ)
-예를 들어, 임의 테스트 신호의 경우, 전력
-정의된 주파수에서의 크기 및 위상
-정의된 주파수에서 상대적 크기 및 상대적 위상
-도달 각도와 같은 빔 방향.
일 실시 예에 따르면, 비 일시적 저장 매체는 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위한 요청을 장치에 나타내는 빔 식별 신호를 저장한다.
일 실시 예에 따르면, 측정 환경은 장치를 고정하도록 구성된 고정 유닛 및 명령을 실행하도록 구성된 제어 유닛을 포함하고, 상기 명령은 측정 환경 또는 장치로 하여금 본 실시 예에서 설명된 방법에 따른 방법을 실행하게 하도록 구성된다.
추가 실시 예는 추가 종속 항에서 설명된다.
이하 본 발명의 실시 예가 첨부된 도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명된다:
도 1은 일 실시 예에 따른 측정 환경을 포함하는 측정 시스템의 개략적인 블록도를 도시한다;
도 2는 도 1의 측정 환경에서 장치로서 사용될 수 있는, 실시 예에 따른 장치의 개략적인 블록도를 도시한다;
도 3은 일 실시 예에 따른 방법의 개략적인 흐름도를 도시한다;
도 4는 측정이 반복되는 실시 예에 따른 방법의 개략적인 흐름도를 도시한다;
도 5는 실시 예에서 사용되는 미리 정해진 빔 패턴과 통신 빔 패턴 사이의 관계를 설명하기 위한 개략도를 도시한다;
도 6은 도 3 또는 도 4의 방법에서 사용되는 미리 정해진 빔 패턴 세트를 획득하기 위해 수행될 수 있는, 실시 예에 따른 방법의 개략적인 흐름도를 도시한다;
도 7a는 일 실시 예에 따른 교정 환경의 개략적인 블록도를 도시하며, 상기 교정 환경은 링크 안테나를 포함한다;
도 7b는 도 7a의 교정 환경의 개략적인 블록도를 도시하며, 상기 장치는 링크 안테나에 대한 상대적 위치와 관련하여 이동된다;
도 8은 도 1의 측정 환경에서 장치의 일부에 대한 개략적인 블록도를 도시한다;
도 9는 일 실시 예에 따른 도 1의 미리 정해진 빔 패턴의 개략적인 블록도를 도시하고 미리 정해진 빔 패턴에 대한 추가 세부 사항을 설명한다;
도 10a-c는 상이한 미리 정해진 빔 패턴을 형성하는 측정 환경에서의 장치를 도시한다;
도 11a는 알려진 측정 절차에 대한 의사 코드를 나타내는 예시의 테이블을 도시한다;
도 11b는 실시 예들에 따른 방법에 대한 의사 코드를 제시하는 예시의 테이블을 도시한다;
도 12a는 공지된 방법에 사용되는 기계적 위치의 개략도를 보여준다;
도 12b는 일 실시 예에 따른 방법에 사용되는 기계적 위치의 개략적인 개요를 도시한다;
도 13은 일 실시 예에 따른 공간 디더링 또는 지터링된 예시적인 빔 패턴의 개략적인 평면도를 도시한다;
도 14a는 일 실시 예에 따른 빔 스위프를 예시하는 개략적인 블록도를 도시한다; 및
도 14b는 일 실시 예에 따라 궤적에 의해 상호 연결된 예시적인 4 개의 웨이포인트를 갖는 상이한 경로의 구성의 개략적인 블록도를 도시한다.
도 1은 일 실시 예에 따른 측정 환경을 포함하는 측정 시스템의 개략적인 블록도를 도시한다;
도 2는 도 1의 측정 환경에서 장치로서 사용될 수 있는, 실시 예에 따른 장치의 개략적인 블록도를 도시한다;
도 3은 일 실시 예에 따른 방법의 개략적인 흐름도를 도시한다;
도 4는 측정이 반복되는 실시 예에 따른 방법의 개략적인 흐름도를 도시한다;
도 5는 실시 예에서 사용되는 미리 정해진 빔 패턴과 통신 빔 패턴 사이의 관계를 설명하기 위한 개략도를 도시한다;
도 6은 도 3 또는 도 4의 방법에서 사용되는 미리 정해진 빔 패턴 세트를 획득하기 위해 수행될 수 있는, 실시 예에 따른 방법의 개략적인 흐름도를 도시한다;
도 7a는 일 실시 예에 따른 교정 환경의 개략적인 블록도를 도시하며, 상기 교정 환경은 링크 안테나를 포함한다;
도 7b는 도 7a의 교정 환경의 개략적인 블록도를 도시하며, 상기 장치는 링크 안테나에 대한 상대적 위치와 관련하여 이동된다;
도 8은 도 1의 측정 환경에서 장치의 일부에 대한 개략적인 블록도를 도시한다;
도 9는 일 실시 예에 따른 도 1의 미리 정해진 빔 패턴의 개략적인 블록도를 도시하고 미리 정해진 빔 패턴에 대한 추가 세부 사항을 설명한다;
도 10a-c는 상이한 미리 정해진 빔 패턴을 형성하는 측정 환경에서의 장치를 도시한다;
도 11a는 알려진 측정 절차에 대한 의사 코드를 나타내는 예시의 테이블을 도시한다;
도 11b는 실시 예들에 따른 방법에 대한 의사 코드를 제시하는 예시의 테이블을 도시한다;
도 12a는 공지된 방법에 사용되는 기계적 위치의 개략도를 보여준다;
도 12b는 일 실시 예에 따른 방법에 사용되는 기계적 위치의 개략적인 개요를 도시한다;
도 13은 일 실시 예에 따른 공간 디더링 또는 지터링된 예시적인 빔 패턴의 개략적인 평면도를 도시한다;
도 14a는 일 실시 예에 따른 빔 스위프를 예시하는 개략적인 블록도를 도시한다; 및
도 14b는 일 실시 예에 따라 궤적에 의해 상호 연결된 예시적인 4 개의 웨이포인트를 갖는 상이한 경로의 구성의 개략적인 블록도를 도시한다.
동일하거나 동등한 요소 또는 동일하거나 동등한 기능을 갖는 요소들은 서로 다른 도면에서 발생하더라도 다음 설명에서 동일하거나 동등한 참조 부호로 표시된다.
본 명세서에 설명된 실시 예는 장치에 관한 것일 수 있다. 장치는 측정 환경 또는 테스트 환경과 관련하여 위치, 사용 및/또는 제어될 수 있다. 따라서 이 장치는 테스트 중이거나 적어도 테스트 전용인, 테스트 대상 장치(Device Under Test; DUT)로 지칭될 수 있다. 즉, 장치는, 현재 테스트되고 있지 않더라도, 본 명세서에 설명된 실시 예들의 범위를 제한하지 않고 여전히 DUT로 지칭될 수 있다.
본 명세서에 설명된 실시 예는 빔 패턴을 형성하기 위해 사용되는 안테나 어레이와 관련될 수 있다. 안테나 어레이는 적어도 하나의 안테나 요소를 포함할 수 있으며, 다양한 방향/방사 패턴으로, 송신(Tx) 및/또는 수신(Rx) 빔, 즉 통신 빔을 형성하도록 설명된 실시 예의 범위 내에서 구성된다. 따라서 안테나 어레이는 예를 들어, 기생 용량 변화, 위상 및/또는 진폭이 다른 여러 안테나 요소의 사용에 의해, 방사/수신된 빔 패턴의 적응형 변경을 허용하는, 하나 또는 다수의 전파 방출/수신(안테나) 요소로 구성된다.
따라서, 본 실시 예에 따른 안테나 어레이는 또한 어레이 안테나, 안테나 패널 또는 공동으로 작동되는 다중 안테나/안테나 어레이로 지칭될 수 있다. 예를 들어, 단일 안테나 요소는 모노폴 안테나, 다이폴 안테나, 패치 안테나 또는 혼 안테나와 같은 전방향성 또는 방향성 방사 에너지를 위해 구성된 방사 요소를 포함할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 용량성 소자와 같은 기생 소자는 PIN(positive intrinsic negative) 다이오드에 의해 활성화될 수 있으며, 비활성 및 활성 상태 중 적어도 하나에서 방사 소자에 대해 효과적이도록 배열될 수 있다. 효과적이므로 방사된 에너지(빔)의 적어도 일부가 방향되게 하거나 신호가 바람직하게 수신될 수 있게 하는 방사가 조정될 수 있다. 대안적으로 또는 기생 요소에 추가하여, 적어도 제 2 방사 요소가 안테나 어레이에 배열되어 적어도 하나의 방사 요소의 전력 및/또는 위상을 적용하여 송신 및/또는 수신 방향에 영향을 미치거나 제어하는 것을 가능하게 한다.
본 명세서에 설명된 실시 예는 장치에 의해 형성된 하나 이상의 빔 패턴에 관련될 수 있다. 빔 패턴은 하나 이상의 빔을 포함할 수 있다. 빔은 예를 들면, 안테나 어레이와 위상 및 그 사이의 진폭 계수를 형성하기 위해 개별 안테나 요소의 안테나 패턴의 중첩을 활용하여 형성된 특정 안테나 빔 패턴을 나타내는, 송신 및/또는 수신 목적을 위해 안테나 어레이의 공간 방향성 속성으로 이해될 수 있다. 즉, 특정 방향으로의 전송/송신 능력 및/또는 수신 능력으로, 이는 전방향성 로브로서 빔을 형성하는 것을 배제하지 않는다. 즉, 각각의 빔 패턴은 단일 빔 패턴 또는 다중 빔 패턴 일 수 있다. 빔은 하나 이상의 메인 로브를 포함할 수 있다. 빔 외에, 빔 패턴은 하나 이상의 사이드 로브를 포함할 수 있다. 빔과 로브 사이 및/또는 로브들 사이에 널(null)이 배열될 수 있다. 로브는 다른 영역과 비교할 때 신호가 더 높은 품질로 전송/수신되는 공간 영역으로 이해될 수 있다. 빔 패턴은 예를 들어, 제 1 및 제 2 로브 사이에 또는 다른 위치에 널을 포함할 수 있다. 널은 로브의 영역과 비교할 때 적은 양의 전송 전력이 전송되거나 낮은 품질로 신호가 수신되는 공간 영역으로 이해될 수 있다. 예를 들어, 널에서의 전송 전력은 로브의 중심에 비해 적어도 20dB, 적어도 40dB 또는 적어도 60dB 이상 더 낮을 수 있다. 다시 말해, "널(null)"을 형성하는 것은 형성된 빔 패턴이 공간적으로 구조화되어 특정 방향 또는 공간 섹터로 거의 또는 완전하게는 전혀 전력이 전송되거나 수신되지 않는 것으로 이해될 수 있다. 이러한 "널"은 예를 들어, 다른 통신 장치 A가 동일한 시간 주파수 자원에서 다른 통신 장치 B와 통신하는 경우, 특정 방향으로 간섭을 유발하지 않기 위해 중요할 수 있다. 즉, 빔은 하나 이상의 로브를 포함할 수 있고 로브 사이에 널을 포함할 수 있다. 빔은 전송 목적을 위해, 즉 장치에 대한 특정 방향으로 무선 신호를 전송하기 위해 전송 전력을 지향하는 것으로 이해될 수 있는 전송 빔으로서 형성될 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 빔은 수신 목적, 즉 수신 빔으로 형성될 수 있다. 즉, 무선 신호의 선호되는 수신 방향을 생성하도록 안테나 이득이 조정되거나 제어된다. 빔은 빔 포밍에 사용될 수 있는 규칙적이거나 불규칙한 공간 패턴으로 무선 주파수에서 신호를 전송 및/또는 수신하는 데 사용될 수 있다.
본 명세서에서 설명된 실시 예는 통신 빔 패턴, 교정 빔 패턴 및 미리 정해진 빔 패턴을 참조한다. 빔 포밍이 가능한 장치는 정상 작동 중에 하나 이상의 빔을 형성하도록 구성될 수 있으며, 각 빔은 전송 및/또는 수신 목적으로 구성된다. 이러한 빔을 통신 빔 패턴이라고 한다. 교정 빔 패턴은 통신 빔 패턴의 서브세트일 수 있으며, 예를 들어, 복수의 통신 빔 패턴의 빔을 형성하기 위해 장치 또는 이와 유사한 장치 빔, 즉 동일한 시리즈의 모델과 같은 참조 장치를 제어할 때 성취될 수 있다. 교정 빔 패턴과 관련된 하나 이상의 매개 변수는 메모리에 저장 및/또는 메모리로부터 판독될 수 있고, 장치에 적용되어 매개 변수에 의해 표시된 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어할 수 있다. 따라서, 적어도 하나의 매개 변수에 의해, 형성된 빔은 미리 정해진 빔 패턴이 교정 빔 패턴의 복원 또는 복구된 버전으로 지칭될 수 있도록 미리 정해진다.
본 명세서에 설명된 실시 예는 확장된 빔 패턴과 관련될 수 있다. 확장된 빔 패턴은 단일 빔 패턴 또는 적어도 제 1 빔 패턴과 제 2 빔 패턴의 중첩으로 이해될 수 있으며, 여기서 이러한 중첩은 둘 이상의 송신 빔 또는 빔 패턴, 둘 이상의 수신 빔 또는 빔 패턴 및/또는 적어도 하나의 송신 빔 또는 빔 패턴 및 적어도 하나의 수신 빔 또는 빔 패턴에 대해 획득될 수 있다. 즉, 실시 예들에 따라 패턴 잠금을 수행할 때, 이것은 빔 잠금 및/또는 널 잠금과 관련될 수 있다. 빔 잠금은 빔 패턴의 하나 이상의 빔 및/또는 로브를 잠그는 것과 관련될 수 있으며, 여기서 널 잠금은 적어도 하나의 널을 잠그는 것과 관련될 수 있다. 따라서 패턴 잠금은 또한 다른 빔의 잠금 요소 또는 심지어 하나 이상의 완전한 빔 및/또는 빔 잠금 및 널 잠금의 조합과 관련될 수 있다. 즉, 전송은 신호를 전송하고 신호를 수신하는 것을 포함한다. 통신 매개 변수는 적어도 수신기 속성 및/또는 송신기 속성에 영향을 미치는 매개 변수와 관련될 수 있다. 따라서 실시 예는 업 링크 및 다운 링크를 제한하지 않고, 전송 및/또는 수신과 관련된다.
본 명세서에 설명된 실시 예는 빔 속성 및/또는 빔 패턴의 적어도 일부를 잠그는 것과 참조한다. 이러한 잠금(locking)은 각 요소 또는 매개 변수를 불변 상태 또는 적어도 적은 양의 변화를 포함하는 상태(예: 10 % 미만, 5 % 미만 또는 1 % 미만)를 포함하도록 하여 제어하는 것으로 이해될 수 있다. 이러한 잠금은, 예를 들어, 상기 빔 패턴 또는 그 적어도 일부 및/또는 매개 변수가 현재 동작의 요구 사항을 준수하도록 적응, 변경 또는 제어되도록 하는 정상 동작 중에 실행될 수 있다. 상기 빔을 잠그는 것에 기초하여, 그것의 일부 또는 매개 변수는 상기 표시된 허용 오차 범위 내에서 잠금, 즉 보존, 동결, 또는 일정하게 유지되므로, 예를 들어, 방향 또는 위치와 관련한 장치의 변경이 링크 안테나에 대한 상대 위치를 변경할 때 얻을 수 있는 것과 같이 정상 작동 중에 장치의 변경을 유발할 경우에도 빔 패턴 및/또는 통신 매개 변수는 그대로 유지된다. 본 명세서에 설명된 실시 예와 관련된 상대적 위치는 3D 공간의 벡터 및/또는 한 물체와 다른 물체에 대한 방향과 관련될 수 있으므로, 상대 방향을 갖는 하나 또는 두 물체의 방향을 변경할 때, 이에 따라 상대적 위치도 변경된다. 잠금 해제와 관련하여, 빔 패턴, 그 일부 및/또는 통신 매개 변수가 해제되어 현재 동작 모드에 따른 적응이 수행될 수 있다.
단 하나의 링크 안테나만을 갖는 것이 측정에 충분할 수 있지만, 실시 예는 복수 또는 한 세트의 링크 안테나를 갖는 측정 환경을 제공한다. 일 예에 따르면, 복수의 링크 안테나(161 내지 1615)는 장치(14)에 대한 앙각(α) 및/또는 방위각(β)을 커버하도록 배치될 수 있다.
실시 예는 신호를 전송하는 데에에 사용되는 안테나, 즉 전송 안테나의 측정 또는 신호를 수신하는 데에 사용되는 안테나, 즉 수신 안테나의 측정을 위한 특정 방사 패턴 특성의 잠금에 관한 것이다. 따라서 통신 매개 변수를 참조하는 실시 예는 전송 및 수신 모두를 포함한다. 실시 예는 일반성을 잃지 않고 시간 속성, 주파수 속성, 공간 속성 및 코딩 속성, 예를 들어 공간-시간 코드, 공간-주파수 코드 및 공간-시간-주파수 코드를 포함하는 빔 패턴 속성을 포괄한다.
도 1은 측정 환경(12) 및 장치(14)를 포함하는 측정 시스템(10)의 개략적인 블록도를 도시한다. 측정 환경(12)은 하나 이상의 센서(161 내지 166)를 포함할 수 있으며, 여기서 다수의 센서는 필요한 임의의 개수 중 적어도 하나일 수 있다. 센서(161 내지 166)는 장치(14)에 의해 형성된 빔 패턴(18)을 평가하도록 단독으로 및/또는 조합하여 구성될 수 있다. 즉, 측정 환경은 빔 패턴을 측정하기 위해 구성될 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 측정 환경은 송신(Tx) 빔 패턴과 수신(Rx) 빔 패턴 사이의 빔 대응을 측정, 평가 또는 결정할 수 있다. 평가를 위해, 측정 환경(12)은 센서(161 내지 166)로부터 정보를 수신하도록 구성된 제어 유닛(22)을 포함할 수 있다. 센서(161 내지 166)는 임의의 패턴에 따라 임의의 개수로 배열될 수 있지만, 센서(161 내지 166)는 일정한 체적으로 부분적으로 또는 완전히 수용하도록 배열될 수 있다. 센서(161 내지 166)들 각각은 측정된 빔 패턴의 위상 및/또는 진폭을 측정하도록 구성될 수도 있는 전력 센서일 수 있다.
"+" 기호를 사용하여 조합 신호를 형성하는 것으로 예시되었지만, 실시 예는 여기에 제한되지 않고 제어 유닛(22)에 대한 개별 신호 라인의 개별 측정 또는 하나 이상의 센서를 순차적으로 사용하기 위한 전환 구성에 관한 것힐 수 있다.
제어 유닛(22)은 유선 또는 무선 인터페이스를 사용하여 장치(14)에 신호(24)를 송신하고 빔 패턴(18)을 형성하도록 장치(14)에 지시하도록 구성될 수 있다.
장치(14)는 신호(25)를 측정 환경(12), 예를 들어 제어기(22)로 선택적으로 전송하도록 구성될 수 있다. 신호(25)는 장치(14)에 의해 결정된 결과, 매개 변수 또는 기타 정보를 나타내는 정보를 포함할 수 있다. 예를 들어, 장치(14)는 수신 품질, 빔 정밀성 및/또는 다른 속성과 관련하여 Rx 빔을 측정하거나 평가할 수 있다. 각각의 결과는 측정 환경(12)이 이들 결과를 평가할 수 있도록 신호(25)를 사용하여 측정 환경(12)에 보고될 수 있다. 측정 환경(12)에 보고될 수 있는 관심 정보의 예는 장치에 의해 형성된 빔 패턴을 나타내는, 고유한 빔 설정 식별자; 수신 신호 강도 표시자(RSSI); 참조 신호 수신 전력(RSRP), 참조 신호 수신 품질(RSRQ); 예를 들어, 임의의 테스트 신호의 경우, 전력; 주파수 설정; 정의된 주파수에서의 크기 및 위상; 정의된 주파수에서의 상대적 크기 및 상대적 위상; 및/또는 도달 각도와 같은 빔 방향이다. 즉, Rx 빔 측정의 경우, 측정 결과는 신호(25)를 사용하여 측정 환경으로 피드백될 수 있다.
측정 환경(12)은 장치(14)를 고정하도록 구성된 홀딩 유닛(26)을 더 포함한다. 홀딩 유닛(26)은 예를 들어 테이블, 척(chuck), JIG 또는 작동식 고정구 등을 포함할 수 있다. 추가 예는 포지셔너, 턴테이블, 조작기, 고정구, 어셈블리, 반송파, 프레임, 홀더, 그립, 컨베이어, 트랙, 암, 사용자 및 전자기 팬텀을 포함한다. 작동된 고정구는 유선 또는 무선 인터페이스를 사용하여 제어 유닛(22)에서 홀딩 유닛(26)으로 전송된 선택적 신호(28)에 응답하여 적어도 하나, 둘, 셋, 넷, 다섯 또는 여섯 방향을 따라 장치(14)를 이동시키는 것을 허용할 수 있다.
도 2는 예를 들어, 장치(14) 또는 장치(14)에 대한 모델, 예 또는 참조로서 사용될 수 있는, 장치(20)의 개략적인 블록도를 도시한다. 장치(20)는 다수의 적어도 하나의 안테나 어레이(321 내지 325)를 포함할 수 있으며, 각각의 안테나 어레이(321 내지 325)는 장치(20)의 하우징(34) 내부, 하우징(34) 또는 하우징(34) 외부에 배열될 수 있다. 안테나 어레이(321 내지 325) 각각은 하나 이상의 빔 통신 빔 패턴(361 내지 366)을 형성하도록 구성될 수 있고, 각각의 통신 빔 패턴(361 내지 366)은 신호를 수신 및/또는 송신하기 위해 형성된 하나 이상의 로브 및/또는 널을 포함한다.
통신은 예를 들어 장치(20)의 정상 동작 동안, 통신을 위해 장치(20)에 의해 형성될 수 있는 빔 패턴을 지칭할 수 있다. 따라서 통신 빔 패턴(361 내지 366)은 장치(20)로 형성 가능한 빔 패턴 세트를 정의한다. 적어도 그것의 서브세트, 즉 통신 빔 패턴(36) 중 하나 이상은 미리 정해진 빔 패턴으로서 선택, 정의 또는 라벨링될 수 있다. 정상 동작 동안, 장치(20)는 링크 안테나 또는 기지국을 향한 통신 빔 패턴(361 내지 366)을 형성하는 것을 허용하는 각각의 안테나 어레이 또는 안테나 패널(321 내지 325)을 선택하도록 구성될 수 있다. 장치(20)를 측정 또는 평가하기 위해, 이들 빔의 서브세트만을 평가하는 것으로 충분할 수 있으며, 여기서 하나 이상의 미리 정해진 빔 패턴은 그러한 측정에 대한 광범위한 기초를 제공할 수 있다.
다시 도 1을 참조하면, 장치(14)는 링크 안테나와 독립적인 신호(24)에 응답하여 하나 이상의 미리 정해진 빔 패턴을 생성하도록 구성될 수 있다.
예를 들어, 장치(14)는 빔 형성을 허용하는 빔 관련 정보를 메모리에 저장할 수 있다. 빔 관련 정보는 하나 이상의 빔 식별자, 안테나 어레이 및/또는 안테나 어레이를 사용하여 통신될 관련 기저 대역 신호에 적용될 하나 이상의 매개 변수를 나타내는 정보, 각각의 안테나 어레이를 나타내는 정보, 빔 편광, 빔 패턴의 반송파 주파수 등을 포함할 수 있다. 일 실시 예에서, 빔 관련 정보는 각각의 빔이 구조화되고 빔 식별자로 명명되거나 라벨링된 테이블에 따른 구조를 가질 수 있으므로, 각각의 빔 식별자를 포함하는 신호(24)를 수신할 때, 요청된 빔은 코드북에 따라 빔 식별자와 연관된 빔 관련 정보를 판독함으로써 장치(14)로 형성될 수 있다. 따라서 빔 관련 정보는 빔 패턴의 속성을 나타낼 수 있다. 이러한 표시는 직접적으로 "전력을 0dB(m)로 설정"하는 것과 같지만 대안적으로 또는 추가적으로 "전력을 레벨 2로 설정"하는 것과 같이 속성과 관련하여 간접적으로 인코딩 및/또는 해석될 수도 있다.
장치(20)는 복수의 통신 빔 패턴(361 내지 366) 중 적어도 하나를 미리 정해진 빔 패턴으로서 명확하게 나타내는 빔 관련 정보를 위에 저장하도록 구성된 메모리(37)를 포함할 수 있다. 장치(20)를 장치(14)로서 사용할 때, 메모리(37)는 각각의 빔 관련 정보를 포함한다. 일 예에 따르면, 신호(24)가 미리 정해진 빔 패턴을 형성하라는 장치(14)에 대한 요청을 나타내는 빔 식별 신호로 지칭될 수 있도록 미리 정해진 빔의 식별을 허용하는 정보를 포함하는 신호(24)가 비 일시적 저장 매체에 저장될 수 있다.
빔 관련 정보는 또한 빔 설정 또는 빔 매개 변수 설정, 즉 장치에 의해 형성될 빔 패턴을 바람직하게는 명확하게 설명하는 매개 변수 또는 매개 변수 세트로 지칭될 수 있다. 빔 설정 세트는 또한 매개 변수 또는 매개 변수 세트 및/또는 이에 의해 식별되는 빔 설정과 연관된 빔 설정 식별자를 포함할 수 있는 빔 구성으로 지칭될 수 있다.
실시 예들에 따르면, 장치(20) 및/또는 장치(14)는 측정 환경(12)과 같은 측정 환경으로부터 수신된 명령에 응답하여 동작하도록 구성될 수 있다. 다음 설명은 장치/장치의 동작에 대한 것이다. 따라서, 장치/장치에 의한 신호 수신과 관련하여 주어진 설명은 측정 환경에 의해 전송된 각 신호를 의미하며 그 반대의 경우도 마찬가지이다.
장치(14) 및/또는 장치(20)와 같은 장치는 장치로 하여금 안테나 어레이와 함께 복수의 통신 빔 패턴을 형성하도록 하는 안테나 어레이(32)와 같은 적어도 하나의 안테나 어레이를 포함할 수 있다. 안테나 어레이는 송신 빔을 형성하기 위해 송신기로서 적응될 수 있고/있거나 수신 빔을 형성하기 위해 수신기로서 적응될 수 있으며, 이 때 두 구성은 모두 병렬적으로 구현될 수 있다. 따라서 송신기와 관련하여 설명된 실시 예는 송수신기 또는 수신기로서 안테나 어레이의 구성을 배제하지 않는다.
장치는 형성된 통신 빔 패턴의 빔 구성을 측정 환경에 시그널링하도록 구성될 수 있다. 즉, 장치는 형성되었거나 현재 형성되거나 형성될 빔 패턴에 대해 측정 환경에 알릴 수 있다. Tx 및/또는 Rx에 대해 유효한 시그널링 빔 구성은:
고유한 빔 설정 식별자;
빔 전력;
빔 이득;
빔 방향성;
빔 반송파 주파수;
빔 편광;
빔 방향;
빔 대역폭 부분;
빔 사용,
빔을 형성하기 위해 Tx 및/또는 Rx에서 안테나 어레이의 해당 설정이 포함된 값의 목록,
빔 대응 플래그(Rx와 Tx 빔 사이에 빔 대응이 존재하는 경우), 및
빔 대응 ID(해당 Rx 또는 Tx 빔/빔 스위프의 빔/빔 스위프 식별자)
중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
설명된 바와 같이, 측정은 Rx 빔 패턴 뿐만 아니라 Tx 빔 패턴에 대해서도 수행될 수 있다. 실시 예들에 따른 측정 환경은 장치 또는 DUT로부터, 복수의 측정 결과 및 매개 변수를 포함하는 고유한 빔 식별자와 연관된 적어도 하나의 수신 빔 측정에 관한 결과를 수신하도록 구성될 수 있다. 이것은:
고유한 빔 설정 식별자,
수신 신호 강도 표시기(RSSI),
참조 신호 수신 전력(RSRP),
참조 신호 수신 품질(RSRQ),
예를 들어, 임의 테스트 신호의 경우, 전력,
주파수 설정,
정의된 주파수에서의 크기 및 위상,
정의된 주파수에서 상대적 크기 및 상대적 위상,
도달 각도와 같은 빔 방향,
중 하나 이상를 포함할 수 있다.
띠라서 장치(14 및/또는 20)와 같은 실시 예들에 따른 장치는:
고유한 빔 설정 식별자,
수신 신호 강도 표시기(RSSI),
기준 신호 수신 전력(RSRP),
기준 신호 수신 품질(RSRQ),
예를 들어, 임의 테스트 신호의 경우, 전력,
주파수 설정,
정의된 주파수에서의 크기 및 위상,
정의된 주파수에서 상대적 크기 및 상대적 위상, 및
도달 각도와 같은, 빔 방향
중 적어도 하나인, 복수의 측정 결과 및 매개 변수를 포함하는, 고유한 빔 식별자와 연관된 수신 빔 측정 결과(들)를 피드백하도록 구성될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 측정 환경은 설명된 바와 같이, 즉 고유한 빔 식별자와 관련되는 수신 빔 측정 결과(들)의 피드백을 개시하기 위해 장치에 트리거 신호를 시그널링하도록 구성될 수 있다. 이러한 측정 결과는 무엇보다도 수신된 전력/RSRP/RSSI 또는 수신된 신호의 수신 전력 또는 수신 크기 및 위상과 관련된 메트릭을 포함할 수 있다. 이러한 트리거 신호는 장치의 학습 또는 측정 중에 사용되는 각각의 학습 신호의 적어도 일부일 수 있다.
언급된 장치는 고유한 빔 식별자와 관련된 수신 빔 측정 결과(들)의 피드백을 개시하기 위해 측정 환경으로부터 트리거 신호를 수신하도록 구성될 수 있다.
측정 환경 및/또는 장치는 트리거 신호에 응답하여 일련의 빔 설정 식별자에 대한 수신 빔 측정 결과를 수신하거나 전송할 수 있다.
즉, 장치는 Rx 빔 패턴에 대한 측정을 수행하여 수신 품질을 평가할 수 있다. 장치는 이런 측정 결과를 측정 환경으로부터 수신될 수 있는 트리거 신호에 선택적으로 응답하여, 측정 환경에 전송할 수 있다.
하나의 빔은 통신 목적과 같은 첫 번째 목적으로 구성되고 다른 빔은 참조 목적과 같은 다른 목적으로 사용되는 특정 시나리오가 있을 수 있다. 이러한 빔은 전력; 반송 주파수; 편광; 및/또는 방향 중 적어도 하나에서 다를 수 있다. 또한, 이러한 빔은 각각의 정보에 의해 표시될 수 있는 다른 목적을 가지고 있다.
장치는 예를 들어, 스마트 폰과 같은 UE와 같은 통신 장치, 태블릿 컴퓨터, 기지국, 차량에 탑재된 안테나/통신 모듈 등일 수 있다. 안테나 어레이는 송신기로 채택될 수 있다. 장치는 빔 설정 식별자를 포함하는 신호를 측정 환경으로부터 수신하도록 구성될 수 있으며, 이때 빔 설정 식별자는 빔 구성의 빔 설정과 연관된다. 신호를 수신하기 위해, 장치는 전용 요소이거나 안테나 어레이의 동작 모드로 사용 가능한 송수신기를 사용할 수 있다. 예를 들어, 신호(24)는 이러한 정보의 전송을 위해 사용될 수 있다.
장치는 프로세서, 마이크로 제어기, 응용 주문형 집적 회로(ASIC) 등일 수 있는 제어기를 포함할 수 있고, 이 제어기는 송신기에 의한 빔 설정에 따라 복수의 통신 빔 패턴 중 하나의 통신 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어하도록 구성된다. 즉, 장치는 미리 정해진 빔 패턴 또는 그 순서를 형성하기 위해 환경의 지시를 따를 수 있다. 이를 위해 적용될 매개 변수(빔 설정)가 장치로 전송될 수 있고/있거나 이러한 매개 변수를 식별하는 식별자(빔 설정 식별자, ID)가 전송될 수 있다.
측정 환경에서 시그널링된 빔 설정 신호를 받을 때 Tx 및/또는 Rx에 대해 유효한 빔 구성은:
-고유한 빔 설정 식별자
-빔 전력;
-빔 이득;
-빔 반송파 주파수;
-빔 편광;
-빔 방향;
-빔 대역폭 부분;
-빔을 형성하기 위해 Tx 및/또는 Rx에서 안테나 어레이의 대응 설정을 갖는 값 목록;
- 예를 들어, DUT가 Tx와 Rx 사이에 빔 대응이 존재한다고 신호를 보낸 경우 사용되기 위해, 예를 들어, Rx를 측정할 때 Tx 전원이 꺼져 있음을 반이중 방식으로 보장하기 위해, Rx 또는 Tx 빔이 측정되는지 식별하는 Tx-Rx 플래그
- 예를 들어, 수신된 전력/RSRP/RSSI 또는 신호의 수신된 전력 또는 수신된 신호의 크기 및 위상과 관련된 메트릭을 측정하는 Rx 트리거; 및
-빔 사용
중 하나 이상을 포함할 수 있다
이러한 빔 구성의 시그널링은 장치로의 신호 전송을 포함할 수 있으며, 이 신호는 각각의 설정 또는 매개 변수를 나타내는 정보를 포함한다. 즉, 정보 또는 구성의 시그널링을 언급할 때, 이는 각각의 정보를 포함하는 신호를 전송하는 것을 포함할 수 있다.
제어기는 장치에서 수신 및 송신시 복수의 통신 빔 패턴 중 하나인 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 빔 설정을 적용하도록 구성될 수 있다.
빔 설정 및/또는 빔 설정 식별자는 복수의 빔 설정 및/또는 빔 설정 식별자 중 하나일 수 있으며, 즉 빔 설정 및/또는 빔 설정 식별자의 시퀀스가 측정 환경(12)으로부터, 예를 들어 신호(24)를 사용하여 장치로 시그널링될 수 있다. 시퀀스는 형성이 요청된 복수의 빔에 대한 정보 및/또는 그 순서에 대한 정보를 전송할 수 있다. 측정 환경은 트리거 신호를 장치로 더 전송할 수 있다. 각각의 트리거 신호의 수신은 시퀀스에 표시된 다음 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치에 지시할 수 있다. 시퀀스의 각각의 빔 설정 식별자는 장치의 빔 구성의 빔 설정과 연관될 수 있으며, 즉, 복수의 통신 빔 패턴 중 하나를 명확하게 나타낼 수 있다. 제어기는 제 1 트리거링 신호에 응답하여 송신기로 복수의 통신 빔 패턴 중 제 1 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 제 1 빔 설정을 적용하고, 송신기를 사용하여 제 2 트리거링 신호에 응답하여 복수의 통신 빔 패턴 중 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 시퀀스에 의해 표시된 바와 같은 제 2 빔 설정을 적용하도록 구성될 수 있다. 이를 통해 먼저 신호를 전송하여 장치를 구성한 후 정보량이 적은만큼 짧을 수 있는 트리거 신호를 전송하여 빠른 전환을 수행하는 것을 가능하게 한다. 예를 들어, "시퀀스에서 다음"에 따른 정보이면 충분할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 수신 빔을 측정하는 경우, 장치는 다음 중 하나 이상을 포함하는 측정 결과를 피드백할 수 있다.
-고유한 빔 설정 식별자;
-적용된 주파수 및/또는 주파수 대역;
-수신 신호 강도 표시기(RSSI);
-참조 신호 수신 전력(RSRP);
-참조 신호 수신 품질(RSRQ);
-임의의 테스트 신호의 경우, 전력;
-정의된 주파수에서의 크기 및 위상;
-정의된 주파수에서 상대적 크기 및 상대적 위상; 및
-도달 각도와 같은 빔 방향.
이러한 피드백은 각 빔을 측정하고 이를 장치에 저장한 후 직접 수행하거나 모든 빔의 일부/모든 빔의 시퀀스를 측정한 후 수행할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 생성된 빔 패턴의 관점에서 변화를 적용하기 위해, 대안적으로 또는 추가적으로 소위 빔 스위핑(beam-sweeping)이 구현될 수 있으며, 이때 일련의 공간적으로 인접한 빔이 주소 지정되어 공간을 통해 광선을 이동하는 것과 같은 공간 스위프를 생성한다. 즉, 빔은 활성 상태를 유지하면서 방향을 지속적으로 또는 불연속적으로 변경하도록 변경된다. 이러한 빔 스위프를 고려하면, 각 빔 스위프는 앞서 언급한 정적 빔과 같이 주소 지정/식별될 수 있다.
따라서 빔 스위프는 미리 정해진 빔 패턴의 매개 변수, 즉 방향, 하나 이상의 로브의 초점, 편광, 전송 전력 등과 같은 빔 설정의 변경을 포함할 수 있다. 하나 이상의 빔 스위프를 적용할 때 이러한 빔 스위프 동안 빔 스위프의 특정 세그먼트의 전력은 시간이 지남에 따라 변경될 수 있다. 정의된 기간과 관련하여 이러한 전력의 변화는 빔 (스위프) 설정의 일부일 수 있다. 예를 들어 빔 패턴이 활성 상태로 유지되는 동안 변경이 실행될 수 있다. 장치는 예를 들어, 일 실시예에 따른 제어기에 의해 제어되어, 빔 스위프인 미리 정해진 빔 패턴을 형성할 수 있으며, 이때 빔 스위프는 시간에 따른 통신 빔 패턴의 변화에 기초한다.
동일한 방식으로 일련의 빔 스위프를 측정 프로세스 중에 사용할 수 있다. 따라서 실시 예는 빔 스위프로서 미리 정해진 빔 패턴을 정의하는 것과 관련된다. 따라서, 미리 정해진 빔 패턴을 식별함으로써 빔 스위프 식별자를 사용하거나 생성할 수 있다.
미리 정해진 빔 패턴을 식별자 등과 연관시킬 때, 하나 이상의 식별자가 빔 스위프와 연관될 수 있고/있거나 하나 이상의 식별자가 가능하게 정적인 미리 정해진 빔 패턴과 연관될 수 있다. 미리 정해진 정적 빔 패턴과 비교하면, 편광 변경, 전력 변경, 방향 및/또는 초점의 변경, 변경 속도, 시작 및/또는 종료 값, 시간 정보 또는 다음과 같은 추가 정보를 포함할 수 있는 빔 스위프를 설명하는 매개 변수가 저장 및/또는 회수될 수 있다. 이에 의해, 빔 설정 식별자는 정적인 미리 정해진 빔 패턴 및/또는 빔 스위프를 여전히 명확하게 식별할 수 있다.
대안적으로 또는 추가적으로, 미리 정해진 빔 패턴을 고정된 상태로 유지하기 위해 사용되는 지속 시간은 예를 들어 시퀀스와 함께 또는 별도의 신호로 전송될 수 있다. 이러한 정보는 지속 시간 표시자라고 지칭될 수 있다. 제어기는 트리거링 신호에 응답하여 시퀀스에 표시된대로 빔 설정을 하나씩 순차적으로 적용하도록 구성될 수 있고, 각각의 빔 설정에 대해 장치는 송신기를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴의 표시된 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 구성된다. 제어기는 형성된 미리 정해진 빔 패턴을 지속 시간 표시자에 의해 표시된 지속 시간 동안 고정되도록 구성될 수 있다. 그 후, 빔은 비활성화될 수 있고/있거나 다음 빔이 형성될 수 있거나 후속 트리거 신호가 대기될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 장치는 측정 환경으로부터 수신된 신호에 응답하여 빔 형성 학습 신호를 전송하도록 구성될 수 있다. 이러한 학습 신호는 예를 들어, 단일 연속파 신호, 다중 사인 신호, 사운딩 참조 신호, 복조 참조 신호 및/또는 물리적 랜덤 액세스 시퀀스 신호일 수 있다. 그러한 학습 신호는 빔을 구별할 수 있도록 하나 이상의 빔 또는 빔 패턴에 통합될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 청구항 중 하나의 장치는 측정 환경으로부터 빔 설정 측정 요청을 나타내는 신호를 수신하도록 구성될 수 있다. 이것은 장치에게 자신의 능력을 보고하도록, 즉 통신 빔 패턴 및/또는 생성할 수 있는 미리 정해진 빔 패턴에 대해 측정 환경에 알리도록 지시하는 요청일 수 있다. 측정 환경은 측정 절차 중에 빔 구성 능력을 평가할 수 있다. 이에 의해, 장치는 장치의 빔 구성의 지원되는 빔 설정의 총 수를 나타내는 빔 구성 능력을 측정 환경에 보고하도록 구성될 수 있다.
제어기는 장치의 빔 구성의 일부로서 빔 설정을 생성하도록 구성될 수 있으며; 제어기는 송신기를 사용하여 측정 환경의 일부일 수 있는 링크 안테나를 향해 빔 패턴을 형성하기 위해 빔 설정을 적용하도록 추가로 구성될 수 있다. 제어기는 생성된 빔 설정을 메모리에 저장할 수 있다. 즉, 링크 안테나를 향한 방향을 얻기 위해 사용되는 빔 설정을 저장할 수 있다. 제어기는 빔 설정 측정 요청에 응답하여 측정 환경에 빔 설정을 보고하도록 장치를 제어할 수 있다. 이를 기반으로 측정 환경은 송신기에서 생성되거나 생성될 특정 빔을 평가하거나 요청할 수 있다.
도 3은 일 실시 예에 따른 방법(300)의 개략적인 흐름도를 도시한다. 방법(300)을 실행하여, 장치, 예를 들어 장치(14)가 평가될 수 있다. 장치는 적어도 하나의 안테나 어레이를 포함하고 적어도 하나의 안테나 어레이를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴을 형성하도록 구성된다. 단계 310은 예를 들어, 측정 환경에서 장치 주변의 측정 환경의 프로브 안테나를 이동/전환함으로써, 장치의 위치를 결정하거나 측정 환경의 프로브 안테나/안테나의 상대적 위치를 변경하는 것을 포함하고, 이 때 예를 들어, 측정 환경(12)은 빔 패턴을 측정하도록 적응된다. 단계 320는 복수의 통신 빔 패턴의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어하는 단계를 포함한다. 예를 들어, 신호(24)는 장치로 전송되어 신호(24)에 표시된 하나 이상의 빔 패턴을 형성하도록 장치에 요청할 수 있다. 단계 330는 Tx 빔을 측정하기 위해 측정 환경을 사용하여 미리 정해진 빔 패턴을 측정하고, 또 다른 실시 예에 따라 Tx-Rx 플래그가 Rx로 설정되는 경우 장치로부터 Rx 빔 측정(예를 들어, RSRP,…)을 요청하는 단계를 포함한다.
본 명세서에서 설명된 실시 예와 관련하여 빔을 측정하는 측정 및/또는 학습은 장치/DUT의 상대 위치의 변경을 포함할 수 있다. 첫 번째 가능성은 예를 들어 DUT 및/또는 안테나의 기계적 움직임과 관련하여 제 1 및 제 2 편광을 갖는 단일 링크 안테나를 사용하는 것이다. 두 번째 가능성은 기계적 움직임과 관련하여 순차 및/또는 병렬 측정에 사용되는 복수의 링크 안테나를 사용하는 것이다. 세 번째 가능성은 그리드의 모든 포인트/영역을 측정하기 위해 DUT의 기계적 이동이 없는 순차 및/또는 병렬 이동을 위해 언급된 복수의 링크 안테나를 사용하는 것이다.
도 4는 단계 410, 420 및 430이 도 3과 관련하여 설명된 단계 310, 320 및 330에 대응하는 실시 예에 따른 방법(400)의 개략적인 흐름도를 도시한다. 또한, 단계 440에서 복수의 통신 빔 패턴 중 적어도 제 2 미리 정해진 빔 패턴이 형성되고, 이때 단계 450은 측정 환경을 사용하여 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계를 포함하고/하거나 장치는 수신 빔을 측정한다. 제 2 미리 정해진 빔 패턴은 제 1 미리 정해진 빔 패턴을 측정한 후에 형성될 수 있고/있거나 동시에 측정될 수 있다. 선택적으로 추가 미리 정해진 빔 패턴이 측정될 수 있다. 이에 의해, Tx 및/또는 Rx에서 미리 정해진 복수의 빔 패턴이 동시에 및/또는 순차적으로 측정될 수 있다. 측정된 시퀀스가 주어지면, 시퀀스, 즉 미리 정해진 빔 패턴의 순서가 또한 미리 정의되어 신호(24)에 표시될 수 있다. 예를 들어, 신호(24)는 시퀀스 1, 시퀀스 2, 시퀀스 3,…, 시퀀스 x와 같은 식별된 시퀀스의 사용을 나타내는 명령을 포함할 수 있고/있거나 식별자의 시퀀스를 포함함으로써 시퀀스를 나타내는 정보를 포함할 수 있으며, 이때 각 식별자는 미리 정해진 빔 패턴과 연관된다. 대안적으로 또는 추가적으로, 신호(24)는 각각의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치를 반복적으로 제어하도록 반복적으로 송신될 수 있다.
복수의 미리 정해진 빔 패턴을 순차적으로 형성하도록 장치를 제어하는 경우, 형성된 각각의 빔 패턴을 측정한 후 형성된 빔에 관련하여 장치가 전환될 수 있다. 이는 측정 환경에서 장치의 상대적 위치를 유지하므로 많은 시간을 절약할 수 있게 하는데, 이는 위치 변경에 많은 시간이 소요되기 때문이다. 따라서, 특정 위치에서 관심 빔 패턴, 즉 미리 정해진 빔 패턴을 순차적으로 형성하고 측정한 후에, 장치는 측정 환경에서 상대적 위치와 관련하여 변경될 수 있고, 예를 들어, 다시 장치가 이동되고 /되거나 장치 주변의 프로브 안테나(들)가 이동되거나 다른 위치로 전환된다. 장치의 상대적 위치를 변경한 후, 장치는 미리 정해진 빔 패턴의 추가 시퀀스, 즉 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 제어될 수 있다. 복수의 빔 패턴 또는 그 시퀀스는 반복, 즉 2 차 반복으로 형성된다.
방법(300 및/또는 400)은 장치(14)와 같은 장치를 평가하기 위한 측정 환경(12)과 같은 측정 환경을 사용하여 실행될 수 있다. 측정 또는 평가의 정확한 결과는 장치와 측정 환경이 조정된 방식으로 작동할 때 얻을 수 있다. 따라서, 단계 310, 410 또는 440와 같이 장치의 제어를 포함하는 단계 및/또는 단계 330, 430 또는 450 단계와 같이 측정 환경에 측정을 지시하는 단계는 전용 또는 가상/분산 제어기, 즉 필요한 구성 요소를 조정하는 엔티티에 의해 제어될 수 있다. 제어기는 장치에서 적어도 부분적으로, 예를 들어 제어 유닛(22)과 같은 측정 환경의 일부로서, 또는 별개의 엔티티로서 적어도 부분적으로 구현될 수 있다. 따라서 장치가 미리 정해진 테스트 절차를 측정 환경에 전달하여 그 동작을 제어하고, 예를 들어 테스트 모드 등으로 설정된 후에 자율적이진 않지만 미리 정해진 빔 패턴의 형성을 수행하라고 측정 환경에 지시할 수 있다.
이러한 제어기는 예를 들어, 빔 ID, 다른 빔 매개 변수 및/또는 그 시퀀스를 장치에 제공함으로써, 빔 관련 정보를 이용하여 장치(14 또는 20)와 같은 장치를 제어하도록 구성될 수 있다. 또한, 제어기는 측정 환경과 장치가 조정된 방식으로 작동하도록 장치에 의해 수행될 측정 절차에 따라 작동하도록 측정 환경에게 지시하거나, 즉 제어할 수 있다. 즉, 빔 관련 정보는 측정 환경 제어에도 사용된다. 제어기는 장치 및 측정 환경의 성능에 관한 정보에 액세스할 수 있다. 예를 들어, 그러한 정보는 측정 환경의 센서 그리드 및 장치에 의해 형성 가능한 빔 패턴의 입도에 대한 지식을 포함할 수 있다. 제어기는 그러한 정보에 따라 테스트 절차, 즉 하나 이상의 미리 정해진 빔 패턴을 선택할 수 있다.
도 5는 통신 빔 패턴과 미리 정해진 빔 패턴 사이의 관계를 설명하기 위한 개략도를 보여준다. 세트(38)는 매개 변수의 세트 P1 내지 PX를 포함하고, 각각의 세트 P1 내지 PX는 장치, 예를 들어 장치(20) 또는 장치(14)로 형성될 수 있는 빔 패턴의 적어도 일부를 설명하는 매개 변수의 세트이다. 이러한 매개 변수 세트를 빔 설정이라고 할 수 있다. 세트(38)의 적어도 서브세트는 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 설명하는 세트(42)에 결합될 수 있다. 세트(42)는 예를 들어 방법(300 또는 400)을 사용하여 형성 및 측정될 수 있다.
세트(42)를 측정한 후 장치의 상대적 방향을 변경한 후 미리 정해진 빔 패턴의 세트(44)가 형성되어 장치로 측정될 수 있으며, 여기서 세트(44)는 세트(42)에 대응할 수 있고, 그 서브세트일 수 있고/있거나 세트(42)에 포함되지 않는 매개 변수 Pi를 포함할 수 있다.
장치는 미리 정해진 순서로 세트(42)의 복수의 미리 정해진 빔 패턴 및/또는 복수의 미리 정해진 빔 패턴의 세트(44)를 형성하도록 제어될 수 있다. 이 순서는 신호(24)에 명시적으로 또는 암시적으로 표시될 수 있고, 순서는 신호(24)에 포함될 수 있거나, 순서가 신호(24)에 포함된 정보로부터 도출될 수 있도록 장치가 액세스할 수 있는 메모리에 저장될 수 있다. 복수의 빔 패턴을 형성하고 측정할 때, 이에 따라 미리 정해진 빔 패턴의 미리 정해진 시퀀스가 생성되고 측정 환경으로 측정될 수 있다.
도 6은 미리 정해진 빔 패턴의 세트를 획득하기 위해 수행될 수 있는 방법(600)의 개략적인 흐름도를 도시하고, 여기서 방법(600)은 방법(300 및/또는 400)을 실행하기 전에 부분적으로 수행될 수 있다. 방법(600)은 통신 빔 패턴의 적어도 서브세트가 미리 정해진 빔 패턴으로서 선택되는 단계(610)를 포함한다. 빔 속성이 제조업체에 의해 전달되는 경우 선택에 의해 미리 정해진 빔 패턴을 결정하는 것이 유리할 수 있다. 단계 620는 예를 들어 방법 300 및/또는 400에서 측정을 위해 미리 정해진 빔 패턴의 적어도 서브세트, 예를 들어 세트(42 및/또는 44)를 형성하도록 장치를 제어하는 것을 포함한다.
도 7a는 교정 환경(70)의 개략적인 블록도를 도시하고, 이때 교정 환경(70)은 장치(20)가 통신 빔 패턴, 예를 들어, 통신 빔 패턴(361)을 예를 들어 링크 안테나(46)를 향하여 형성하게 하도록 하기 위해 기지국의 동작을 시뮬레이션할 수 있는 링크 안테나(46)를 포함한다. 통신 빔 패턴(361)을 형성하기 위해 장치(20)에 의해 사용되는 매개 변수는 아마도 추가 정보 또는 빔 식별자 등과 같은 유도된 정보와 함께, 장치(20) 또는 다른 저장 매체에 저장될 수 있다. 따라서 통신 빔 패턴(361)은 교정 빔 패턴으로 지칭될 수 있다. 예를 들어, Tx-Rx 플래그와 같이 시그널링되는 정보에 기초하여, 교정 빔 패턴의 유효성이 제한될 수 있다. 예를 들어, 플래그 등은 교정 빔 패턴이 Tx 또는 Rx 측정에 유효한지 또는 Tx 및 Rx에 대해 Tx-Rx 플래그가 설정되지 않았는지를 나타내므로 두 경우 모두에 대한 유효성을 나타낼 수 있다.
도 7b는 교정 환경(70)의 개략적인 블록도를 도시하고, 여기서, 장치(20)는 링크 안테나(46)를 향해 상이한 통신 빔 패턴(362)을 형성하도록 링크 안테나(46)에 대한 상대적 위치에 관련하여 변경되었다. 링크 안테나에 대한 상대적 위치를 변경하는 것은 DUT를 회전시키고/하거나 다른 위치에서 링크 안테나를 선택함으로써 달성될 수 있다. 따라서 통신 빔 패턴(361)은 변경되거나 비활성화될 수 있다. 대안적으로, 장치(20)는 빔 패턴(361)을 잠금하도록 구성될 수 있다. 빔 잠금은 통신 빔 패턴(361)을 정상적인 동작으로 유지하여, 링크 안테나(46)가 활성화된 동안 링크 안테나(46)에 대한 장치(20)의 상대적 위치가 변경되더라도 장치(20)에 대한 통신 빔 패턴(361)의 상대 위치가 변경되지 않도록하는 것으로 이해될 수 있다. 다시, 통신 빔 패턴(362) 생성에 사용되는 장치(20)의 매개 변수는 메모리에 저장될 수 있다. 메모리에는 도 5와 관련하여 설명한 빔 관련 정보가 저장될 수 있다.
빔 관련 정보는 장치(20) 및/또는 장치(14)의 메모리에 저장될 수 있다. 예를 들어, 일련의 샘플 중 하나는 교정 절차 장치(20)에 사용될 수 있고, 다른 장치 각각은 도출된 데이터, 즉 빔 관련 정보를 구비할 수 있다. 따라서 장치(14)는 자체적으로 보정되지 않은 경우에도 빔 관련 정보에 액세스할 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 장치(20) 자체가 장치(14)로서 사용될 수 있다. 두 경우 모두에서, 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 장치를 제어하는 것은 메모리로부터 빔 관련 정보를 판독하고 빔 관련 정보에 따라 미리 정해진 빔 패턴을 형성하는 것을 포함한다.
도 8은 측정 환경(12)에서 장치(14)의 일부의 개략적인 블록도를 도시한다. 신호(24)를 사용하고 신호(25)를 적용 가능하다면, 장치는 미리 정해진 빔 패턴(18)을 형성하도록 제어될 수 있다. 신호(24)는 미리 정해진 빔 패턴(18) 또는 미리 정해진 빔 패턴의 시퀀스를 식별하기 위한 식별자를 포함할 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 신호(24)는 미리 정해진 빔 패턴을 형성하는 지속 시간 및/또는 미리 정해진 빔 패턴을 포함하는 빔 스위프의 지속 시간, 즉 미리 정해진 빔 패턴을 형성하는 시퀀스를 나타내는 정보, 시간 동기화를 가능하게 하는 장치 또는 측정 환경에서의 시간, 및/또는 장치에 의해 형성될 미리 정해진 빔 패턴의 순서를 포함할 수 있다. 장치(14)는 매개 변수와 같은 빔 관련 정보가 저장된 메모리에 액세스할 수 있다. 신호(24)는 빔 관련 정보가 사용될 장치(14)를 나타내기 위해 빔 관련 정보를 나타낼 수 있다.
바람직하게는, 신호(24)는 장치에 의해 형성되는 미리 정해진 빔 패턴 또는 미리 정해진 빔 패턴의 시퀀스를 명확하게 표시한다. 이것은 예상된 결과에 대해 측정된 빔 패턴을 신뢰성 있게 평가할 수 있게 하며, 즉 장치(14)가 요청한 빔 이외의 다른 빔을 형성하는 것을 피할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 장치(14)는 미리 정해진 빔 패턴의 시퀀스를 생성하도록 제어된다. 시퀀스는 측정 환경에서의 패턴에 따라 배열되는 미리 정해진 빔 패턴을 포함하거나 이로 구성될 수 있다. 패턴은 규칙적이거나 불규칙한 패턴일 수 있다. 일 예에 따르면, 복수의 미리 정해진 빔 패턴은 하나 이상의 평면, 예를 들어 센서(161 내지 1615)를 포함하는 평면에서 등거리 방식으로 배열된다. 대안적으로 또는 추가적으로, 패턴은 각도 α 및/또는 β의 적어도 특정 부분, 즉 장치(14)의 방위각 및/또는 앙각 범위의 적어도 일부를 커버할 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 복수의 미리 정해진 빔 패턴은 하나 또는 편광 성분의 중첩을 갖는 패턴을 형성할 수 있다.
측정 환경은 일련의 센서 또는 프로브(161 내지 1615)를 포함할 수 있다. 일 예에 따르면, 센서(161 내지 1615)는 장치(14)에 대한 앙각(α) 및/또는 방위각(β)을 커버하도록 배치될 수 있다. 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 것은, 총 방사 전력(TRP)을 측정하고, 등가 등방성 관련 전력(EIRP)을 측정하고, 장치(14)에 대한 미리 정해진 빔 패턴의 방향을 측정하고, 예를 들어, 각도 α 및 β를 따른 구체 커버리지, 커버된 구체 빔 그리드 밀도, 미리 정해진 빔 패턴 세트의 활성화된 모든 미리 정해진 빔 패턴의 특정 빔 패턴, 메인 빔/미리 정해진 빔 패턴의 적어도 하나의 사이드로브, 빔 패턴 변경/전환/팽창/수축의 확장성/선형성/히스테리시스, 공간 해상도를 갖는 스퓨리어스 방출 및/또는 인접 채널 누출 비율(ACLR), 장치(14)의 널 스티어링(null steering) 및 다중 빔 스티어링의 능력 및 정확도, 빔 대응의 정확성, 즉 예상되는 빔과 비교할 때 실제로 생성되는 빔의 비교, 및/또는 안테나 어레이/패널의 교정, 및/또는 Rx와 Tx 빔 간의 대응을 측정하는 것 중 하나 이상을 포함한다. 예를 들어, 한 쌍의 Tx/Rx 빔 패턴을 고유하게 식별할 수 있을 때, 둘 중 하나를 식별하는 것으로 충분할 수 있다.
예를 들어, 단계 330, 430 및/또는 450에서 미리 정해진 빔 패턴을 측정할 때, 미리 정해진 빔 패턴(18)을 형성하기 위해 장치(14)에 의해 사용되는 통신 대역의 대역 내 방출이 측정 및/또는 평가될 수 있다. 또한, 측정 환경(12)은 통신 대역의 대역 외 방출을 측정하도록 구성될 수 있다. 빔을 평가하기 위해, 대역 내 방출은 대역 내 방출을 사용할 때 위치, 모양 및/또는 방향이 바람직하게 평가될 수 있기 때문에 주요 관심사일 수 있다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 미리 정해진 빔 패턴은 적어도 하나의 빔을 포함할 수 있다.
도 9는 일 실시 예에 따른 미리 정해진 빔 패턴(18)의 개략적인 블록도를 도시하고 미리 정해진 빔 패턴(18)에 대한 추가 세부 사항을 설명한다. 미리 정해진 빔 패턴(18)은 적어도 원거리 필드에서, 결합된 빔(52)을 형성하도록 제 1 빔/로브(481) 및 제 2 빔/로브(482)의 중첩을 예로서 포함한다. 따라서 빔(481 및 482)의 방사 전력이 결합될 수 있으며, 여기서 빔(481 및 482) 각각은 상이한 안테나 어레이/패널 또는 대안적으로 동일한 안테나 어레이의 상이한 안테나 요소로 생성될 수 있다. 빔(481 및 482)은 측정 환경 또는 시스템에 대해 구별 가능하거나 구별 불가능할 수 있다. 예를 들어, 훈련 신호와 관련하여 설명한 바와 같이, 빔(481 및 482)은 구별 가능한 파일럿 요소 또는 파일럿 신호를 사용하여 형성되므로 상기 파일럿을 평가할 때 측정 환경은 두 빔을 구별할 수 있고 따라서 부분 빔(481, 482) 및 결합된 빔(52) 모두의 평가를 가능하게 할 수 있다. 대안적으로, 측정 환경은 파일럿 정보를 무시하면서 빔 전력을 평가하도록 구성되므로 측정 환경이 빔(481 및 482)을 구별할 수 없어도 빔(52)을 인식할 수 있다.
미리 정해진 빔 패턴 (18)은 정적 빔 패턴 또는 시간 변형 빔 패턴일 수 있다. 즉, 예를 들어 빔 (481 및 482)의 송신 전력을 적응시켜, 빔 (52)의 방향을 변경할 수 있다. 따라서, 형성된 미리 정해진 빔 패턴의 변경은 빔 자체를 적응시킴으로써 또한 변경될 수 있는 하나 이상의 빔 또는 빔 패턴을 온 오프 전환하는 것으로 획득될 수있다. 신호 (24)를 사용함으로써, 미리 정해진 빔 패턴은 링크 안테나와 독립적으로 형성될 수 있다. 또한, 미리 정해진 빔 패턴은 반복적 및 결정적으로 형성될 수 있다.
또한, 식별 가능한 빔이 반드시 겹칠 필요는 없다. 식별 가능한 빔은 추가로 적어도 제 1 및 제 2 빔 패턴을, 가능하면 이들을 사운딩 참조 신호 (SRS)와 같은 파일럿 신호/기호로 식별하고 병렬로 평가함으로써 병렬로 사용할 수 있게 하고, 이때, 차이는 예를 들어, 파일럿 반송파의 서브세트에서만 OFDM 시스템에서 직교 파일럿을 사용할 때, 적어도 부분적으로 구별될 수 있는 것으로 언급될 수 있다. 시그널링은 폐쇄 루프 요청을 가능하게 하고 개념을 확인하기 위해 수행될 수 있다. 필요에 따라 일련의 빔을 형성한 후 장치를 회전시키거나 이동시킬 수 있으나, 이러한 이동은 측정 시간을 절약하기 위해 드물게 구현될 수 있다. 즉, 총 방사 전력(TRP) 및 등가 등방성 방사 전력(EIRP) 및/또는 유효 등방성 감도(EIS)를 측정해야 한다. 장치에 의해 형성되는 충분히 많은 수의 빔이 측정되고 각 빔의 방출 및/또는 수신 전력 또는 패턴이 측정될 수 있도록 한다. 모든 빔에 대해 (특히 빔의 방향과 그 패턴이 알려지지 않고 블랙 박스 또는 그레이 박스 접근 방식으로 선험적인 경우), 전체 또는 부분 구체를 스캔/측정해야 하므로 측정 시간에 상당한 노력이 필요할 수 있다. 실시 예는 예를 들어 TRP, EIS 및 EIRP 측정에 대해, 상당한 감소 측정 시간을 제공한다.
즉, 빔의 중첩은 각 송수신 빔과 관련된 전자기장이 통신 신호의 송수신에 사용되는 안테나뿐만 아니라 공간의 위치에서 중첩된다는 사실을 나타낸다. 무선 무선 통신에 사용되는 RF 반송파로 변조된 신호/기호의 구조에 따라, 예를 들어, 현재 LTE, WiFi 및 향후 5G 시스템에서, 복합 QAM 기호는 송신기에서 수신기로 정보/데이터를 전송하기 위해 데이터 기호 및 알려진 파일럿에 기초하는 채널 추정 후에 무선 채널을 추정하고, 무선 채널을 균등화하고, 전송된 데이터 기호를 재구성하기 위한 알려진 참조 기호를 나타내는 시간/주파수 방식으로 OFDM 반송파에 매핑된다.
이러한 메커니즘을 고려할 때, 참조 기호(RS)는 빔을 식별할 수 있도록 만드므로, 여러 빔이 서로 다른 RS 또는 데이터 기호로 식별될 경우, 적절한 측정 시스템/장비는 서로 다른 빔 또는 빔의 일부를 구별할 수 있는 반면, 빔을 통해 전송되는 신호의 다른 부분은 구분할 수 없으므로 수신기 관점에서 보면 중첩 원리를 활용하여 두 개의 빔에서 공동으로 생성된 빔과 동일하다. 또한, 측정 시스템은 빔들이 사용된 RS, 데이터 페이로드 또는 할당된 주파수 리소스가 다르더라도, 구별될 수 없도록 하기 위해 에너지 감지용 센서를 사용하도록 적응될 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 장치는 적어도 제 1 빔 패턴 및 제 2 빔 패턴을 생성하도록 구성 및/또는 제어되며, 즉 측정 빔 세트가 생성되는 반면, 빔 패턴은 적어도 부분적으로 구별 가능하다. 측정 환경은 복수의 빔 패턴, 즉 측정 시간을 줄이기 위해 병렬로 설정된 측정 빔을 측정하기 위해 구별 가능성에 대한 정보를 사용하도록 적응될 수 있다.
도 10a는 측정 환경(20)의 센서(16i)의 그리드(54)를 향해 방향된 장치(14)의 표면의 개략적인 사시도를 도시하고, 여기서 그리드(54)에 대해 제 1 방향을 갖는 제 1 미리 정해진 빔 패턴(181)이 형성된다. 미리 정해진 빔 패턴(181)은 예를 들어, 측정 환경(12)에서 기준 방향(56)을 따라 향하는 제 1 방향을 갖는 메인 로브(55)를 포함할 수 있다.
도 10b는 메인 로브(55)가 기준 방향(55)에 대해 각도 γ1만큼 기울어진 제 2 미리 정해진 빔 패턴(182)을 형성하는 장치(14)의 표면의 개략적인 사시도를 도시한다.
도 10c는 메인 로브(55)가 기준 방향(55)에 대해 각도 γ2만큼 기울어진 제 3 미리 정해진 빔 패턴(183)을 형성하는 장치(14)의 표면의 개략적인 사시도를 도시한다.
미리 정해진 빔 패턴 각각은 장치(14)를 이동하지 않고 및/또는 미리 정해진 방식으로 장치를 동시에 이동하는 동안 형성될 수 있다. 대안적으로 또는 미리 정해진 빔 패턴(181 내지 183) 중 하나 이상에 부가하여, 하나 이상의 빔 스위프가 실행될 수 있으므로 미리 정해진 빔 패턴(181 내지 183)은 스위프의 상이한 상태로 간주될 수도 있다.
본 발명의 일부 측면은 장치의 위치/방향을 변경하는 일련의 정적 및/또는 스위핑 미리 정해진 빔 패턴의 시퀀스, 그 이후 미리 정해진 빔 패턴의 추가 시퀀스를 형성하는 것에 관한 것이지만, 본 발명은 이에 제한되지 않고 미리 정해진 빔 패턴 또는 그 시퀀스를 형성하면서 미리 정해진 방식으로 장치가 이동되는 실시 예를 정의한다. 따라서, 미리 정해진 빔 패턴 또는 그 시퀀스를 형성하는 동안, 장치는 정적 또는 변화하는 위치/방향을 가질 수 있다.
본 실시 예의 기초가 되는 아이디어는 빔, 편광 및/또는 반송파 주파수를 식별하고 빔을 장치의 안테나 포트에 매핑, 즉 생성된 빔을 변수화하는 데 있다. 상이한 빔 패턴은 상이한 수의 빔, 상이한 빔, 분할 빔 패턴 등을 포함할 수 있다. 실시 예는 장치의 많은 재위치 설정를 피하면서 다중 빔 패턴을 특성화하는 것에 관한 것이다. 시그널링은 가능하게는 응답 확인을 사용하여 개별 ID 명령에 의하거나, 복수의 장치로 전파하는 것으로 수행될 수 있다. 바람직하게는, 미리 정해진 빔 시퀀스 및/또는 지속 시간이 사용되며, 빔 시퀀스 및 지속 시간이 장치에 전달되거나 미리 저장되어 있다.
빔을 형성하고 이 빔에 대한 TRP 및 EIRP를 측정해야 하는 장치 및 안테나 어레이 사양의 TRP 및 EIRP에 대한 무선 측정(over-the-air OTA 측정)과 비교할 때, 알려진 방법은 테스트중인 장치 주변에 분산된 하나 또는 여러 개의 전력 센서를 사용하고 측정 시스템에 대한 장치의 상대적인 움직임/회전을 생성하여 EIRP/TRP를 측정하는 개념을 사용한다. 이것은 측정의 구체 커버리지가 달성되도록 장치를 장치의 3D 위치 및 단계적 또는 연속적인 회전에 장착시키는 것으로 수행될 수 있다. TRP 및/또는 EIS/EIRP를 캡처하기 위해, 장치에 의해 형성되는 다양한/여러 다른 빔에 사용되는 경우 장치에 의해 형성될 수 있는 많거나 모든 가능한 빔에 대해 반복적으로 측정되어야 한다. 대조적으로, 실시 예는 연관된 시그널링을 포함하는 종단 간 측정 절차를 가능하게 하는 아이디어를 기반으로 한다.
1. 정의할 지원되는 빔 세트를 정의하거나 요청하므로, 예를 들어 이러한 빔은 충분히 우수한 구체 커버리지에 커버될 구체의 일부에 대해 적절하게 분포된 빔 방향을 제공하는데, 즉 미리 정해진 빔 패턴을 정의한다. 대안적으로, 예를 들어, TRP 및/또는 EIS, EIRP와 같은 도출할 다른 적절한 메트릭이 선택/정의될 수 있다. 빔의 세트는 동일한 방향 또는 동일한 빔 모양(빔 패턴)으로 전송되는 다른 편광을 포함할 수도 있다. 구체적으로 말하자면, 특정 빔이 정의되면 보완 편광과 관련된 후보도 정의될 수 있음을 의미한다(선편광, 원형 편광 등을 포함). 이 기능을 지원하기 위해 링크 안테나 및/또는 프로브/측정 안테나는 편광을 구별할 수 있거나 다른 편광 상태를 측정/검출하도록 재구성될 수 있다.
2. 장치와 측정 시스템이 특정 측정 단계 동안 빔 세트 중 어떤 빔이 작동되었는지 인식하도록 빔의 번호를 지정(식별)한다.
3. 빔의 세트가 정의된다고 하면, 세트의 빔이 예를 들어, TRP 및/또는 EIS, EIRP의 측정을 ID 좌표에 의해 번호 매기고/마킹하므로 장치 및 측정 프로세스는 어떤 빔 ID가 특정 시간 인스턴스/기간에 활성화되고 측정될 것인지 인식하고 동기화한다.
4. 포지셔너에 장치를 장착하는 경우: 측정할 모든 위치/각도에 대해 다음을 수행한다.
a. 위치/각도 α1, β1, θ1로 이동
b. 빔 전환 절차 시작
c. 알려진 순서로 빔을 자동으로 전환하도록 요청하거나 개별적으로 선택된 빔을 요청
i. 각 빔에 대해 주어진 상대적 장치 센서/프로브 위치 간의 TRP, EIRP, EIS에 필요한 대상 측정을 수행하고,
ii. 수신 빔 측정 DUT의 경우 각 빔에 대해 측정 결과를 피드백한다(예를 들어, RSRP, 다른 구현 참조).
d. 세트의 모든 빔이 측정되면: 위치/각도 α2, β2, θ2로 이동
5.. 각 위치에서 모든 빔에 대한 측정에는 평균화, 최대 값 결정 또는 기타 작업과 같은 추가 처리가 이루어진다.
6. 4.c.ii에서 DUT와 측정 환경 간의 피드백은 모든 빔 ID 및 각도에 대해 4에서 측정 루틴의 종료(마지막 각도 측정)에서 수행할 수도 있다. 이는 측정 환경과 DUT 간의 연결이 항상 가능한 것은 아니므로 필요할 수 있다.
빔 전환은 매우 빠르고 일반적으로 마이크로 초 이내에 수행될 수 있으므로, 시스템은 다음 위치로 이동하기 전에 한 위치에서 조사중인 모든 빔을 측정할 수 있다.
시그널링 및/또는 동기화를 위해 활성 안테나 어레이 인터페이스(IF)에서 방출되는 다중 빔 간의 조정된 전환 측정을 시작하고 수행해야 한다. IF는 기기와 측정 시스템/측정 환경 간에 정의되어야 한다. 이러한 인터페이스는 지원되는 다음 기능을 포함할 수 있다:
1. 다음 간의 시간 동기화
a. 측정 환경에 의해 수행되는 빔 전환/빔 선택 및 측정 절차, 예를 들어, 측정에 사용되는 파일럿 시퀀스의 길이, 필요한 평균화 등.
b. 수신 빔 측정의 경우, 측정 환경에서 시작되고 DUT에서 측정되는 빔 전환/빔 선택 및 측정 절차, 예를 들어, 측정에 사용되는 파일럿 시퀀스의 길이, 필요한 평균화, Rx 트리거, Rx 측정 타이밍.
c. 빔 전환/빔 선택 및 장치와 측정 환경 간의 상대적 위치는 예를 들어 모든 단계 이후 재배치 단계 또는 재전송 단계 간의 보호 간격을 포함함.
2, 수신 빔 측정에서 장치의 빔 튜닝 범위 및 측정 환경 및 DUT의 측정 방법과 같은 기능을 고려하여, 장치 및/또는 측정 환경에 의한 빔 세트 정의.
3. 빔 세트들 및 빔 세트의 빔들의 번호 지정 및/또는 주소 지정.
a. 장치에 의해 정의/선택된 미리 정해진 빔 세트에 대한 정보를 교환하고; 및/또는
b. 측정 환경의 특정 측징 형상 또는 기타 요인에 따라 측정 환경에서 요청한 빔 세트에 대한 정보를 교환하고;
c. 다음과 같은 절차를 사용하여:
i. 장치는 링크 안테나에 대한 상대적인 위치로 위치 A1에 놓인다. 그런 다음, 장치는 링크 안테나를 향하는 적절한 빔을 선택한다. 그런 다음, 이후 절차를 위해 동일한 빔 설정 매개 변수 ID-A1을 호출하기 위해 빔 잠금 명령이 전송 및 실행되고 이어서 "ID 빔 매개 변수 n 퍼센트 저장"이 이어진다. Tx와 Rx 간의 빔 대응의 경우 설정에는 Tx 및 Rx를 설정하는 정보가 포함될 수 있다. 다른 경우에는 예를 들어, Rx 또는 Tx 정보 만 포함할 수 있다.
ii. 장치가 위치 A2에 배치되고 위치 A1에 대해 설명된 모든 다음 단계가 실행되어, ID-A2에 대해 저장된 빔 매개 변수 세트가 결과된다.
iii. 위에서 설명한 절차에 따라 전체 빔 세트가 정의되면, 빔 세트 또는 이를 설명하는 매개 변수(예를 들어, 빔의 수 등)는 고속 빔 전환 절차 중에 나중의 리콜 주소 지정 또는 배치(batch) 리콜을 위해 장치와 측정 환경간에 교환된다.
4, 잠금 빔, 해제 빔, 잠금 전력, Tx-Rx 플래그 등과 같은 신호를 포함하여 측정 절차에 대한 단계적 작업을 시작, 수행 및 확인하기 위한 개별 또는 연속(자동)적인 단계 지원을 위한 시그널링.
현재 활성 안테나 어레이 및 관련 OTA 적합성 및 성능 테스트를 사용하는 빔 형성은 상당히 새롭고 예를 들어, 3GPP WG RAN4에서 논의 중이다.
TRP, EIS(유효 등방성 민감도), EIRP와 같은 핵심 성과 지표(KPI)를 측정하는 절차는 측정 불확실성도 측면에서 동등하거나 다른 방법이 필요하지만 다양한 방법이 적용될 수 있도록 정의된다. 이러한 잠재적 측정은 장치, 센서 또는 둘 모두를 움직이는 것으로 측정될 구체의 스캐닝 및 단일 및 다중 프로브/센서 측정 환경을 포함한다.
다양한 측정을 위해 특정 KPI는 안테나 어레이로 형성된 가능한 빔의 각각 또는 적어도 일부에 대해 측정되어야 하기 때문에, 필요한 전체 측정 시간은 시간 및 일 단위일 수 있다. 실시 예는 이러한 측정 시간의 상당한 감소를 제공하고 다음 측면에서 이점을 제공한다:
1. 전체 빔 세트는 장치의 상대적 위치와 주변의 측정 시스템/환경에 대해 OTA 측정될 수 있다.
2. 빔 전환은 관련된 미케닉으로 장치 및 측정 시스템의 상대적 위치를 초 단위로 변경하면서, 마이크로 초 단위로 매우 빠르게 수행될 수 있다.
3. 빔 전환의 순서가 없으면 장치와 측정 시스템 간의 시그널링을 최소화하면서 전환 프로세스를 일괄 처리할 수 있다.
4. 빔 전환 프로세스의 동기화, 특정 KPI의 측정 프로세스 및 장치와 MS 간의 상대적 각도 변경은 장치와 MS 간의 시그널링을 최소화하면서 장기간에 걸쳐 완전 자동화된 측정을 가능하게 한다.
5. 빔 세트 및 번호 지정에 대한 지식을 통해 선택된 빔이 특히 활성화하도록 요청할 수 있으며, 다른 것들은 전체 측정의 특정 단계/기간 동안 활성화되지 않는다. 이것은 측정 시간을 더욱 감소시킬 수 있어, 예를 들어 각도 또는 빔 방향에 따른 측정 개선을 가능하게 한다.
6. 선택적 측정 그리드(MS에 대한 장치의 상대적 위치)와 빔 세트 또는 빔 세트 중 빔의 선택의 조합은 측정 프로세스의 추가 감소를 허용할 수 있다.
7. 장치와 MS 사이에 시그널링이 거의 없거나 전혀 없는 동기화 및 일괄적인 측정 절차의 경우, 측정 프로세스는 RRC(무선 자원 제어) 연결 상태에서 장치와 MS 사이의 링크 또는 테스트 인터페이스 제어 링크가 중단된 경우에도 수행될 수 있다. 이를 통해 측정 프로세스 중에 장애 또는 특정한 바람직하지 않은 측정 형상에 대해 더 강력한 측정 절차를 가능하게 할 수 있다. 또한, 시간적 시그널링 손실로 인한 수신 없이 계속될 수 있는 모든 측정은 측정 시간 단축에 크게 기여한다.
8. 모든 위치에 대해 포지셔너를 사용하는 대신 부품 또는 전체 관심 각도 범위에 대해 특정 링크 프로브 분포를 사용하며, 이때 이들 프로브는 스위치 방식으로 작동할 수 있거나 기지국 참조 기호, 예를 들어 CSI-RS는 링크 안테나를 병렬로 자극하는 데 사용된다. 이는 포지셔너 및 다중 링크 프로브 안테나를 사용하여 전체 관심 각도 범위를 커버하는 하이브리드 모드에 적용될 수 있다.
전술한 실시 예는 무엇보다도 무선(OTA) 측정 환경에서 장치 또는 DUT를 평가하기 위한 짧은 측정 시간을 허용한다. OTA 측정 및 관련 측정 그리드의 정의는 테스트 시간을 줄이고; 측정 지점의 수를 줄일 필요성을 충족시키고; 거칠고 미세한 측정 그리드의 조합을 허용하고; 측정 그리드와 TRP 통계에 미치는 이들의 영향에 대한 추가 연구를 자세히 설명하고; Rx 스캔 지식을 Tx 스캔 최적화에 적용하고; Rx 스캔을 최적화하는 것을 목표로 한다.
이 주제에서 두 가지 일반적인 관찰이 이루어질 수 있다:
관찰 1 : 해결해야 할 문제-측정 불확실성의 감소; 및
관찰 2 : 해결해야 할 문제-측정 시간 단축.
측정 중에 호출되는 트레이닝 빔의 개념과 관련하여, 다음과 같이 각 빔이 형성된 후 장치를 기계적으로 재배치하는 측정과 비교할 때, 많은 양의 측정 시간이 절약될 수 있다:
측정을 수행하는 단계는 다음 단계의 기간을 식별하는 주석이 추가되는 알고리즘 의사 코드의 형태로 재작성될 수 있다: 기계적 위치 지정, Tpos; 링크 설정, Test-link; 빔 잠금, Tlock; 및 측정 시간, Tmeas. 두 개의 추가 변수가 도입된다: M은 링크 각도(빔)의 수를 나타내고; N은 측정 각도(측정 그리드 포인트)의 수이다.
도 11a는 알려진 측정 절차에 대한 의사 코드를 나타내는 예제 테이블을 보여 주며, 이는 이후에 기계적 재배치 방법 또는 "케이스 A"라고 한다. 도 11a는 루프 내의 루프 또는 소위 중첩된 루프를 식별한다.
도 11b는 실시 예에 따른 방법, 즉 도 11a에 예시된 방법에 대한 대안적인 방법에 대한 의사 코드를 제시하는 예시적인 테이블을 도시한다. 이전과 마찬가지로 다음 단계의 지속 시간을 식별하기 위해 주석이 추가된다: 기계적 위치, Tpos; 링크 설정, Test-link; 빔 잠금, Tlock; 측정 시간, Tmeas; 위치 및 빔 상태 정보 저장 Tstore; 위치 및 빔 상태 정보 호출 Trecall. 즉, 도 11b는 대체 측정 절차에 대한 의사 코드를 나타내며, 이후에 전자 빔 인덱싱 방법 또는 "케이스 B"에서의 기계적 재배치라고 한다.
도 11a와 비교할 때, 도 11b에 따른 방법은 하나의 루프 다음에 다른 루프를 포함하는 반면, 도 11a에 따른 방법은 소위 중첩 루프를 포함한다.
실제로 3D 스캔은 가상 구체의 표면에 대해 수행될 수 있지만, 2 차원으로 단순화된 도면이 위에 제시된 측정 방법을 시각화하는 데 편리하게 사용할 수 있다. 도 12a는 도 11a에 따른 기계적 재배치 측정의 공지된 방법의 개략적인 2D 뷰, 즉 케이스 A를 도시한다. 도 12b는 전자 빔 인덱싱 측정을 사용한 기계적 재배치를 위한 개략적인 2D 뷰, 즉 케이스 B를 도시한다.
도 12a(기계적 재배치 측정 방법)에는, 도 12b(전자 빔 인덱싱 측정 방법을 사용한 기계적 재배치)에서 나타낸 것보다 측정 절차를 완료하는 데 필요한 기계적 위치가 훨씬 더 많다. 실제 측정 시스템에서, 테스트 대상 장치(DUT)의 기계적 회전은 원하는 방향에 도달하기 전에 가속, 감속 및 안정화를 위한 시간이 필요하다는 점에 유의해야 한다. 도 11a 및 11b에 각각 주어진 표에서 이러한 기계적으로 관련된 세 가지 포지셔닝 지연은 모두 합산되어 매개 변수 Tpos로 표시된다. 지금까지 측정 시간의 향상은 주로 측정 포인트 수의 감소에 주로 초점을 맞추었다. 일정한 단계 크기 측정 그리드의 경우, 이는 공간 샘플링 포인트 사이의 각도 간격에 의해 결정되는 반면, 일정한 밀도 그리드의 경우 그리드 포인트의 수가 결정 요인이다. 측정 포인트 수의 감소는 일반적으로 측정 불확실성의 증가와 관련이 있다.
현재 및 대체 측정 절차 모두에 기계적 위치 지정이 필요하지만, 도 12a 및 도 12b의 표현은 측정 각도의 수를 줄이지 않고 총 기계적 위치 수를 N * M 대신에 N + M으로 줄일 수 있음을 나타낸다 (따라서 측정 불확실성에 영향을 주지 않음). 테스트 시간의 잠재적 절약을 정량화하기 위해, 두 가지 측정 절차에 대한 대수적 분석을 수행할 수 있다.
관찰 3 : 측정 각도의 수를 줄이지 않고 기계적 위치의 총 수를 줄일 수 있다(따라서 측정 불확실성에 영향을 미치지 않음).
대수 분석
케이스 A의 경우 도 11a, 케이스 B의 경우 도 11b에 나열된 지속 시간 매개 변수를 참조하여, M 개의 링크 각도와 N 개의 측정 각도로 구성된 측정을 수행하는 데 필요한 총 시간이 방정식 1 및 2에서 각각 제시된다.
케이스 A : 기계적 재배치 측정 방법
[수학식 1]
케이스 B : 전자 빔 인덱싱 측정 방법을 사용한 기계적 재배치
[수학식 2]
측정 시간 단축
시간 절약 계수는 케이스 A의 기간 대 케이스 B의 기간의 비율 또는 즉, 방정식 1과 방정식 2의 비율이다.
[수학식 3]
방정식 3은 Tpos로 표현되는 기계적으로 관련된 포지셔닝 지연이 방정식 4에 언급된 다른 모든 요소를 지배한다고 가정하여 단순화될 수 있다.
[수학식 4]
따라서
[수학식 5]
특별 조건은
방정식을 방정식 5에 표시된 형식으로 단순화하면, 세 가지 특수 조건이 고려된다.
제1 사용 사례에서, 링크 각도의 수 M는 측정 각도 수 N 보다 훨씬 크다. 이 시나리오는 다소 비현실적이지만 방정식 6은 새로운 방법이 측정 시간을 약 (1 + N)의 계수로 축소한다는 것을 보여준다.
[수학식 6]
1.
관찰 4: 링크 각도의 수 M이 측정 각도의 수 N보다 훨씬 클 때, 새로운 방법인 case B는 측정 시간을 대략 (1 + N)의 계수로 줄인다.
제 2 사용 사례에서, 측정 각도의 수 N는 링크 각도의 수 M보다 훨씬 크므로 일반적이고 현실적인 시나리오를 나타낸다. 여기에서 새로운 방법이 제공하는 측정 시간의 감소는 이전 방법의 약 M 배이다.
[수학식 7]
2.
관찰 5: 관찰 각도의 수 N이 링크 각도의 수 M보다 훨씬 클 때, 새로운 방법은 측정 시간을 대략 M의 계수로 줄인다.
제 3 사용 사례에서, 측정 각도의 수 N은 링크 각도의 수 M와 거의 같다. 이 시나리오에서 새로운 방법은 이전 방법의 계수 (1 + M)/2 배와 동일한 측정 시간의 잠재적인 감소를 약속한다.
[수학식 8]
3.
관찰 6: 측정 각도의 수 N가 링크 각도의 수 M과 거의 같을 때, 새로운 방법은 측정 시간을 대략(1 + M)/2의 계수로 줄인다.
세 가지 조건 모두 측정 시간이 단축되었음을 보여준다. 특히, 측정 각도의 수 N가 링크 각도의 수 M 보다 훨씬 큰 경우, 새로운 방법은 기존 방법에 비해 약 M 배의 계수의 잠재적인 개선을 제공한다.
관찰 7: 새로운 방법은 측정 각도 및 링크 각도의 수에 관계없이 측정 시간을 단축한다.
즉, 실시 예에 따른 측정 방식은 예를 들어, 총 방사 전력(TRP), 등가 등방성 방사 전력(EIRP), 총 방사 감도(TRS), 유효 등방성 감도(EIS) 및 복합 빔 방사 패턴 측정을 포함하여, 측정 시간의 대폭 단축을 목표로 한다.
측정을 더욱 향상시키기 위해, 실시 예는 측정 불확실성을 줄이는 것과 관련된다. 예를 들어, 이러한 불확실성은 측정 환경에서 거친 그리드를 형성하는 적은 수의 센서 요소로 인해 발생할 수 있다. 실시 예는 측정에 일종의 디더링(dithering) 또는 지터링(jittering)을 통합하는 것에 관한 것이다. 즉, 측정하는 동안, 예를 들어, 장치에 대한 빔 패턴의 이동 및 장치와 측정 환경, 특히 센서 요소 및/또는 하나 이상의 링크 안테나 사이의 상대 이동 중 하나 이상을 구현함으로써, 장치에 의해 생성된 통신 빔 패턴의 디더링 또는 지터링이 생성된다. 통신 빔 패턴의 이동은 장치를 각각 제어함으로써 획득될 수 있다. 대안적으로, 링크 안테나에 대한 장치의 상대적 위치/방향은 장치가 빔의 방향에 적응되도록 둘 중 적어도 하나를 이동/회전시킴으로써 변경될 수 있다. 미세한 단계로 아날로그 또는 양자화된 제어가 가능한 경우, 지터링을 직접 제어할 수 있다. 더 거친 양자화 단계가 있을 때, 예를 들어, 장치가 하나의 빔 패턴에서 다른 빔 패턴으로 전환하게 하는 전환 지점을 조정할 때, 가능하면 상대적인 움직임과 관련하여, 예를 들어, 링크 안테나에 대한 가변 상대적 위치에 기초하여, 지터링이 구현될 수 있다. 즉, 지터링은 단계 320, 420 동안 및/또는 측정, 예를 들어 단계 620 동안, 적용될 수 있다.
지터링은 의도된 움직임 (정지 상태 포함)의 중첩으로 이해될 수 있으며 빔 패턴의 추가의 지터링 또는 디더링 이동, 즉 이상적인 스위프 또는 위치는 위조될 수 있다. 중첩된 지터링, 즉, 지터링은 일정하거나 변화하는 진폭으로 앞뒤로 단일 방향을 따르는 움직임을 포함할 수 있지만 여기에 제한되지는 않는다. 이동은 임의 개수의 방향을 따라 이루어질 수 있으며, 예를 들어 지그재그 이동, 타원형 이동, 원형 이동, 나선형 이동, 십자형 이동 또는 삼각형 등 다각형에 따른 이동을 구현할 수 있다.
지터링 이동은 결정적인 이동, 예를 들어 스위프를 결정론적으로 이동하도록 제어하거나 비결정적 또는 무작위적일 수 있다. 예를 들어, 임의의 움직임과 관련하여, 이동의 하한 및 상향 경계는, 예를 들어 빔 패턴의 위치를 최대 ± 5 °, ± 3 °또는 ± 1 °로 변경하고/하거나, 빔 패턴의 진폭을 최대 ± 10 %, ± 5 % 또는 ± 1 %로 변경하게 설정될 수 있고, 획득된 움직임은 위치 및/또는 진폭의 통계적 특성이 알려지도록 경계 내에서 무작위일 수 있다.
상술된 바와 같이, 지터링 또는 디더링은 또한 학습 중에 적용될 수 있다. 각각의 방법은:
측정 환경(12)에서 상기 장치(14)를 위치 결정하거나 송신 빔 패턴과 수신 빔 패턴 사이의 빔 패턴 및/또는 빔 대응을 측정하도록 적응된 상기 측정 환경의 상기 프로브 안테나/안테나의 상기 상대적 위치를 변경하는 단계;
장치로 하여금 지터링 빔 패턴으로서 통신 빔 패턴을 형성하게 하는 단계;
측정 결과를 얻기 위해 상기 통신 빔 패턴을 측정하는 단계; 및
측정 결과에 따라 나중에 테스트할 수 있도록 통신 빔 패턴을 미리 정해진 빔 패턴으로 저장하는 단계
를 포함한다.
빔 관련 정보는 빔 패턴이 지터의 영향을 받았는지 또는 받을 것인지를 나타낼 수 있다.
장치가 지터링 빔 패턴을 형성하도록 하는 것은 그러한 구현에 적합한 장치를 제어하는 것을 포함하므로 지터링 빔 패턴을 생성하기 위해 안테나 구조 또는 안테나 어레이를 여기하는 데 사용되는 신호에 지터가 적용된다. 신호는 여기 신호, 제어 신호 등일 수 있다. 대안적으로 또는 추가로, 지터는 장치가 링크 안테나의 추적에 응답하여 지터를 구현하도록 상대적 위치의 변경에 의해 구현될 수 있다.
즉, 지터링을 제어하는 것은, 이 방법이 랜덤 변수를 사용하여 선택될 수 있지만, 빔 패턴이 알려진 방식으로 지터링을 나타내도록 하는 명령을 장치에 제공하므로 투명하거나 결정적이거나 직접적일 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 지터링은 알려지지 않은 효과를 초래하는 블라인드 또는 간접 측정에 의해 적어도 부분적으로 얻어질 수 있다. 이러한 블라인드 측정의 예는 빔 형성에 사용되는 복수의 매개 변수 중 하나의 매개 변수, 예를 들어, 복수의 진폭 값과 위상 값을 결합하는 빔 형성 네트워크에 적용되는 진폭 값 및/또는 위상 값을 변경하는 것이다. 값들 중 하나, 서브세트 또는 모두는 빔 패턴에서 블라인드 또는 알려지지 않은 효과를 얻기 위해 결정론적 또는 무작위로 변경될 수 있다.
빔 패턴의 주요 구조가 본질적으로 변하지 않도록 지터링을 수행할 수 있으며, 예를 들어, 메인 로브의 위치, 사이드 로브 널, 그 크기 및/또는 그 상대적 위치 중 하나 이상은 빔 패턴의 식별을 가능하게 하기 위해 특정 경계 내에서 변경되지 않거나 변경될 수 있다.
도 13은 일 실시 예에 따른 공간 디더링 또는 지터링을 받는 예시적인 빔 패턴(18a)의 개략적인 평면도를 도시한다. 빔 패턴(18a)은 디더링된 빔 패턴(18b, 18c, 18d 및 18e)처럼 순차적으로 작용하도록 다른 방향, 로브의 크기 등을 갖도록 변경될 수 있으며, 디더링되지 않은/지터링되지 않은 빔 패턴(18a)과 비교할 때 약간 다를 수 있다. 예를 들어, 매개 변수 변동은 다른 빔(18f)을 활성화하는 데 필요한 매개 변수 변동의 최대 50 % 또는 최대 40 % 또는 최대 30 %, 예를 들어 최대 10 %이다. 예를 들어, 디더링으로 인한 방향의 오프셋 OD는 이러한 경계 내에 있을 수 있는데, 즉, 다른 빔을 얻기 위한 방향 오프셋 OB는 OD와 비교할 때 더 클 수 있다. 빔을 디더링하면, 센서 요소/프로브 또는 링크 안테나와 관련하여 오프셋될 수 있는 빔 패턴의 최대 값이 공간에서 달라지고, 이로써 빔 패턴 속성이 높은 정밀도로 평가될 수 있도록 최대 값이 센서 요소, 링크 안테나를 타격하거나 조명할 확률을 증가시킨다.
예를 들어, 송신 빔 패턴을 측정하는 동안, 각도 변화 또는 스테라디안(steradian)을 효과적으로 나타내는 지터링 인자를 구현함으로써, 측정 환경의 센서는 빔 패턴의 변화하는 부분들에 의해 타격되거나 조명될 수 있으며, 따라서 빔의 최대 레벨 등을 측정할, 즉 최대값을 식별할 확률을 증가시킬 수 있다. 대안 적으로 또는 추가적으로, 장치의 빔 패턴을 양자화함으로써 획득된 측정 불확실성은 적어도 부분적으로 보상될 수 있다. 예를 들어, 도 2와 관련하여 설명한 것처럼 측정을 위해 빔 패턴의 서브세트만 선택하는 경우, 장치 주변의 구체에는 간격이 있거나 커버되지 않은 공간이 있을 수 있다. 이러한 간격은 적어도 부분적으로 줄어들 수 있다. 통신 빔 패턴의 이동 방향은 미리 정해진 패턴에 따라 선택될 수 있지만 임의적일 수도 있다.
즉, 빔 스위핑 또는 빔 전환/선택을 할 때, 특정 진폭의 공간 디더링/지터링을 선형 또는 원형(나선형) 지그재그 엇갈림 등의 이용은 거친 서브샘플링을 피하기 위해 알려진 블러링(blurring)을 생성하고, 특정 그리드에서 고정된 수의 센서를 사용하여 측정 해상도를 개선하고/하거나, 더 많은 샘플로 인해 측정의 노이즈 감소를 효과적으로 얻기 위해서 설명된다.
실시 예는 빔 스위핑, 즉 통신 빔 패턴 및/또는 교정 빔 패턴의 연속/아날로그 또는 불연속/디지털 또는 양자화된 이동을 갖는 것과 관련된다. 예를 들어, 빔이 전환/스위핑되어 포지셔너의 움직임에 대한 결정론적 특성으로 인해 측정 환경이 정확한 측정(공간 스캔)을 수행하게 하면서, 측정 환경의 포지셔너가 지속적으로 움직일 수 있도록 제어되는 합리적인 구현으로 발생할 수 있다. 이것은 알려진 빔 스위프(각 빔 ID가 활성화되었을 때)와 포지셔너의 알려진 움직임의 오버레이이다.
스위프는 도 14a에 도시된 바와 같이 하나 이상의 웨이포인트를 선택하거나 결정함으로써 획득될 수 있다. 장치는 "A"로 표시된 제 1 웨이포인트(581)를 향해 제 1 빔을 형성함으로써 빔 스위프를 시작할 수 있고, 웨이포인트(581)에서 시작하여 "B"로 표시된 제 2 웨이포인트(582)로 빔을 보낼 수 있다. 웨이포인트(581 및 582)는 거리(62)만큼 이격될 수 있으므로, 장치(예를 들어, 장치(14 또는 20))는 하나 이상의 중간 위치/방향(641 내지 649)에서 통신 빔 패턴을 형성할 수 있고, 여기서 이러한 중간 위치(64)의 수는 임의적일 수 있고/있거나 장치의 성능에 의존할 수 있다. 그러한 빔이 형성되는 영역은 중간 위치(641 내지 643)에 대해 표시된 바와 같이 인접 영역과 중첩될 수 있지만 중간 위치(647 및 648)에 대해 표시된 바와 같이 서로 이격될 수도 있다. 예를 들어, 웨이포인트(581 및 582) 사이의 비선형 보간은 형성되는 등거리가 아닌 빔의 형성을 허용할 수 있으며, 반대로 선형 보간은 등거리 빔의 형성으로 이어질 수 있다. 이러한 빔 스위프는 예를 들어 테스트 절차 등을 정의할 때 장치에 대해 학습될 수 있고/있거나 웨이포인트에 대한 지식을 획득함으로써 장치에 의해 구현될 수 있다.
단지 2 개의 웨이포인트가 예시되어 있지만, 임의 개수의 웨이포인트가 구현할 수 있다. 웨이포인트의 수는 다각형과 같은, 개방 또는 폐쇄 코스를 형성할 수 있다.
장치에 의해 수행되는 상이한 스위프는 장치의 후속되는 반복 및/또는 위치/방향에서 다르게 구현될 수 있다. 차이는 예를 들어 웨이포인트의 주소가 지정되는 시퀀스, 예를 들어, A → B 또는 B → A와 관련하여 및/또는 제 1 웨이포인트에서 제 2 웨이포인트로 및/또는 완전한 스위프 내에서 빔 패턴과 함께 이동하기 위한 속도와 관련하여 구현될 수 있다. 예를 들어, 학습 시퀀스 중에 미리 정해진 빔 패턴을 정의할 때, 장치는 스위프를 수행하거나 장치(Rx 빔)에 의해 보고되거나 센서(16)(Tx 빔)로 측정한 결과를 평가하여 검사할 수 있다. 예를 들어, 장치의 빔 형성 능력을 결정하기 위해 장치에 의해 얼마나 많은 중간 빔 패턴이 형성되는지 관찰될 수 있다. 이를 통해 장치에 대해 지정된 테스트 절차를 정의할 수 있게 하며, 예를 들어, 장치가 더 적은 양의 빔, 예를 들어, 16 개의 빔만을 형성할 수 있을 때 측정 중에 100 개의 빔을 요구하는 것이 방지될 수 있다. 이를 통해 측정 시간을 필요한 수준으로 줄일 수 있다. 대안적으로 또는 추가적으로, 장치의 추적 능력은, 예를 들어 이들 중 하나 또는 둘 모두를 이동/회전시킴으로써 및/또는 상이하거나 추가의 링크 안테나로 전환함으로써 장치와 링크 안테나 사이의 상대적 위치를 변경할 때 평가될 수 있다. 이것은 장치가 스위프에 따라 다양한 빔을 형성하게 할 수 있다.
도 14b는 궤적(66ii,j)에 의해 상호 연결된 예시적인 4 개의 웨이포인트(581 내지 584)를 갖는 구성의 개략적인 블록도를 도시하고, 여기서 i는 복수의 스위프 중 스위프의 수를 나타내고 j는 스위프 i 내의 궤적의 수를 나타낸다. 예를 들어, 제1 스위프는 패턴 ABCAD를 형성하기 위해 웨이포인트(581, 582, 583 및 584) 사이에서 이동하기 위해서, 궤적(661,1, 661,2, 661,3, 661,4 및 661,5)을 포함할 수 있다. 제 2 경로를 따른 제 2 스위프는 제 1 스위프의 일부 또는 전부 및 선택적으로 추가 웨이포인트를 포함할 수 있다. 궤적(662,1, 662,2, 662,3 및 662,4)을 따라 웨이포인트(581, 583, 584 및 582 및 581)는 ACDBA 패턴에 따라 이러한 스위프에 의해 명중되거나 조명될 수 있다. 두 스위프를 함께 사용하면 자세한 측정 결과를 얻기 위해 넓은 영역을 커버할 수 있다.
유리한 실시 예는 빔 스위핑 및 빔 지터링의 조합에 관한 것이다. 예를 들어, 학습 중에 미리 정해진 빔 패턴의 서브세트가 선택될 수 있고 선택된 서브세트가 빔 스위프를 정의하는 데 사용될 수 있다. 빔 스위핑은 웨이포인트와 관련되거나 이들을 향하는 두 개의 상대적 각도 사이의 보간, 선형 또는 비선형을 포함할 수 있다. 스위핑은 예를 들어 웨이포인트를 사용하고 이들 사이의 최단 경로를 정의하는 것과 같이 궤적을 정의하는 것을 추가로 포함할 수 있다. 경로 사이의 연결의 시퀀스는 전체 테스트 절차에서 웨이포인트 사이에 형성된 많은 수의 빔을 얻기 위해 주기적으로 또는 무작위로 변경될 수 있다. 이산 빔을 사용하는 경우, 궤적을 따르는 동안 형성될 수 있는 가능한 빔의 최대 개수가 생성될 수 있다. 이것은 높은 재현성을 허용한다. 빔의 선택은 하나 이상의 추가 단계 또는 반복에서 조정되거나 변경될 수 있다. 웨이포인트에서 다른 웨이포인트로 및/또는 웨이포인트에서의 경로를 따라, 각각의 빔 패턴에는 지터링/디더링이 이루어져 빔 패턴에 의해 커버되는 많은 공간을 허용할 수 있다.
즉, 실시 예에 따른 방법은 공간에 복수의 웨이포인트를 포함하기 위해서, 적응된 측정 환경 및/또는 장치가 학습 및/또는 테스트 중에, 빔 스위프의 경로가 결정되도록 제어되는 방식으로 구현된다. 또한, 웨이포인트의 시퀀스가 결정되고, 시퀀스는 빔 패턴의 이동 경로를 따라 포인트를 형성한다. 적어도 2 개의 웨이포인트 사이에는, 특히 각각의 후속 웨이포인트 쌍 사이에서 그리고 선택적으로 마지막 웨이포인트와 제 1 웨이포인트 사이에서 적어도 하나의 궤적이 결정된다. 각 웨이포인트는 경로에서 한 번 이상 발생할 수 있다. 궤적은 복수의 웨이포인트를 상호 연결할 수 있다. 장치는 빔 패턴이 빔 스위프의 경로에 따라 이동되게 빔 스위프를 형성하도록 제어될 수 있다.
궤도는 두 웨이포인트 사이의 최단 경로를 설명할 수 있다. 빔 스위프는 제 1 경로를 갖는 제 1 빔 스위프일 수 있다. 동일하거나 다양한 상대 위치에서, 제 2 및/또는 더 많은 수의 빔 스위프는 대응하는 방법이 제 2 경로를 갖는 제 2 빔 스위프를 결정하는 단계를 포함하도록 구동되고, 제 2 경로는 제 1 경로와 동일한 웨이포인트를 적어도 부분적으로 포함하고 제 1 경로와 비교할 때 변경된 웨이포인트 시퀀스를 갖는다.
일부 측면이 장치의 맥락에서 설명되었지만, 이러한 측면은 블록 또는 장치가 방법 단계 또는 방법 단계의 특징에 해당하는 해당 방법에 대한 설명을 나타낸다. 유사하게, 방법 단계의 맥락에서 설명된 측면은 또한 대응하는 장치의 대응하는 블록 또는 항목 또는 특징의 설명을 나타낸다.
특정 구현 요구 사항에 따라, 본 발명의 실시 예는 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현될 수 있다. 이 구현은 각각의 방법이 수행되도록 프로그램 가능한 컴퓨터 시스템과 협력하는 (또는 협력할 수 있는) 전자적으로 판독 가능한 제어 신호가 저장되어 있는, 플로피 디스크, DVD, CD, ROM, PROM, EPROM, EEPROM 또는 FLASH 메모리와 같은 디지털 저장 매체를 사용하여 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 일부 실시 예는 프로그램 가능한 컴퓨터 시스템과 협력할 수 있는, 전자적으로 판독 가능한 제어 신호를 갖는 데이터 반송파를 포함하므로, 본 명세서에 설명된 방법 중 하나가 수행되도록 한다.
일반적으로, 본 발명의 실시 예는 프로그램 코드를 갖는 컴퓨터 프로그램 제품으로서 부분적으로 구현될 수 있으며, 이 프로그램 코드는 컴퓨터 프로그램 제품이 컴퓨터에서 실행될 때 방법 중 하나를 수행하기 위해 작동한다. 프로그램 코드는 예를 들어 기계 판독 가능 반송파에 저장될 수 있다.
다른 실시 예는 기계 판독 가능 반송파에 저장된 본 명세서에 설명된 방법 중 하나를 수행하기위한 컴퓨터 프로그램을 포함한다.
즉, 본 발명의 방법의 실시 예는 컴퓨터 프로그램이 컴퓨터에서 실행될 때 본 명세서에 설명된 방법 중 하나를 수행하기 위한 프로그램 코드를 갖는 컴퓨터 프로그램이다.
따라서, 본 발명의 방법의 추가 실시 예는 본 명세서에 설명된 방법 중 하나를 수행하기 위한 컴퓨터 프로그램을 포함하는 데이터 반송파 (또는 디지털 저장 매체 또는 컴퓨터 판독 가능 매체)이다.
따라서, 본 발명의 방법의 추가 실시 예는 본 명세서에 설명된 방법 중 하나를 수행하기 위한 컴퓨터 프로그램을 나타내는 데이터 스트림 또는 신호 시퀀스이다. 데이터 스트림 또는 신호 시퀀스는 예를 들어 데이터 통신 연결을 통해, 예를 들어 인터넷을 통해 전송되도록 구성될 수 있다.
추가 실시 예는 본 명세서에 설명된 방법 중 하나를 수행하도록 구성되거나 적응된 처리 수단, 예를 들어 컴퓨터, 또는 프로그램 가능한 논리 장치를 포함한다.
추가 실시 예는 본 명세서에 설명된 방법 중 하나를 수행하기 위한 컴퓨터 프로그램이 설치된 컴퓨터를 포함한다.
일부 실시 예에서, 프로그램 가능 논리 장치 (예를 들어, 필드 프로그램 가능 게이트 어레이)는 본 명세서에 설명된 방법의 일부 또는 모든 기능을 수행하는 데 사용될 수 있다. 일부 실시 예에서, 필드 프로그래밍 가능 게이트 어레이는 여기에 설명된 방법 중 하나를 수행하기 위해 마이크로 프로세서와 협력할 수 있다. 일반적으로, 방법은 바람직하게 임의의 하드웨어 장치에 의해 수행된다.
전술 한 실시 예는 본 발명의 원리에 대한 예시 일 뿐이다. 본 명세서에 기술된 배열 및 세부 사항의 수정 및 변경은 당업자에게 명백할 것임이 이해된다. 따라서, 본 명세서의 실시 예의 설명 및 설명에 의해 제시된 특정 세부 사항이 아니라 임박한 특허 청구 범위에 의해서만 제한되는 것이 의도이다.
Claims (73)
- 적어도 하나의 안테나 어레이(32)를 갖는 장치(14)를 평가하기 위한 방법(300; 400)에 있어서, 상기 장치는 상기 안테나 어레이(32)를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴(36)을 형성하도록 구성되고, 상기 방법은:
측정 환경(12)에서 상기 장치(14)를 위치 결정하거나(310; 410) 송신 빔 패턴과 수신 빔 패턴 사이의 빔 패턴 및/또는 빔 대응을 측정하도록 적응된 상기 측정 환경(12)의 적어도 하나의 프로브 안테나의 상대적 위치를 변경하는 단계;
상기 장치 및 상기 측정 환경(12)이 복수의 통신 빔 패턴(36) 중 어떤 빔 패턴이 측정 단계 동안 활성화되는지를 인식하는, 빔 식별자를 나타내는 빔 관련 정보를 장치에 나타냄으로써, 상기 복수의 통신 빔 패턴(36)의 미리 정해진 빔 패턴(18)을 형성하도록 장치를 제어하는 단계(320; 420); 및
상기 측정 환경(12) 및/또는 상기 장치를 사용하여 상기 미리 정해진 빔 패턴(18)을 측정하는 단계(330; 430)
를 포함하는 방법. - 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴(18)은 복수의 미리 정해진 빔 패턴(18) 중 제 1 미리 정해진 빔 패턴이고, 상기 복수의 미리 정해진 빔 패턴은 상기 복수의 통신 빔 패턴의 서브세트이고, 상기 방법은:
상기 제 1 미리 정해진 빔 패턴의 측정 후에 상기 복수의 미리 정해진 빔 패턴들 중 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치(14)를 제어하는 단계(440); 및
상기 측정 환경(12) 및/또는 상기 장치를 사용하여 상기 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계(450)
를 더 포함하는, 방법. - 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴은 복수의 미리 정해진 빔 패턴 중 제 1 미리 정해진 빔 패턴이고, 상기 복수의 미리 정해진 빔 패턴은 상기 복수의 통신 빔 패턴(36)의 서브세트이고, 상기 방법은:
상기 제 1 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 동안 복수의 미리 정해진 빔 패턴(42; 44) 중 제 3 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치(14)를 제어하는 단계; 및
상기 측정 환경(12) 및/또는 상기 장치를 사용하여 상기 제 3 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계
를 더 포함하는, 방법. - 제 3 항에 있어서, 상기 장치(14)는 상기 미리 정해진 복수의 빔 패턴(42; 44)을 순차적으로 형성하도록 제어되고, 상기 각각의 미리 정해진 빔 패턴이 측정되고, 상기 방법은:
상기 복수의 미리 정해진 빔 패턴을 측정 한 후에 장치(14)와 상기 측정 환경(12) 사이의 상대 위치를 변경하는 단계; 및
상기 복수의 미리 정해진 빔 패턴(42) 또는 추가의 복수의 미리 정해진 빔 패턴(44)을 형성 및 측정하기 위해 상기 장치의 제어를 반복하는 단계
를 더 포함하는, 방법. - 제 4 항에 있어서, 상기 장치(14)는 미리 정해진 순서로 복수의 미리 정해진 빔 패턴(42) 및/또는 상기 추가의 복수의 미리 정해진 빔 패턴(44)을 형성하도록 제어되는, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴(18)은 복수의 미리 정해진 빔 패턴(42; 44) 중 제 1 미리 정해진 빔 패턴이고,
상기 방법은 미리 정해진 빔 패턴의 미리 정해진 시퀀스가 상기 장치(14)에 의해 생성되고 상기 측정 환경(12) 및/또는 상기 장치로 측정되도록 수행되는, 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 복수의 통신 빔 패턴(36)으로부터 상기 미리 정해진 빔 패턴을 선택함으로써(610) 상기 미리 정해진 빔 패턴을 결정하는 단계
더 포함하는, 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 복수의 통신 빔 패턴(36) 중 하나인 교정 빔 패턴을 형성하기 위해 상기 장치(14) 또는 상기 장치와 비교 장치(20)를 제어하는 단계; 및
상기 교정 빔 패턴을 나타내는 빔 관련 정보(Pi)를 메모리(37)에 저장하는 단계
를 더 포함하는, 방법. - 제 8 항에 있어서, 복수의 교정 빔 패턴이 형성되고 대응하는 복수의 빔 관련 정보(Pi)가 상기 메모리(37)에 저장되는, 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 교정 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치(14) 또는 상기 비교 장치(20)를 제어하는 단계는:
링크 안테나(46)에 대한 상대적 위치를 포함하도록 상기 장치(14) 또는 상기 장치와 유사한 상기 비교 장치(20)의 위치를 지정하거나 상기 장치의 위치를 유지하고 상기 장치(14) 또는 상기 비교 장치가 상기 링크 안테나(46)를 향해 상기 교정 빔 패턴을 형성하도록 다른 링크 안테나로 이동 또는 전환함으로써 상기 링크 안테나(46)의 상기 상대적 위치를 변경하는 단계를 포함하는, 방법. - 제 10 항에 있어서, 상기 교정 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치 또는 상기 비교 장치를 제어하는 단계는:
상기 링크 안테나(46)에 대해 상기 장치(14) 또는 상기 비교 장치(20)의 상기 상대적 위치를 변경할 때 상기 장치(14) 또는 상기 비교 장치(20)가 상기 장치(14)의 표면에 대해 상기 빔 패턴의 상대적인 배향을 유지하도록 상기 빔 패턴을 잠그도록 상기 장치(14) 또는 상기 비교 장치(20)를 제어하는 단계를 더 포함하는, 방법. - 제 8 항에 있어서, 상기 교정 빔 패턴은 제 1 교정 빔 패턴이고 상기 빔 관련 정보(Pi)는 제 1 빔 관련 정보이고, 상기 방법은:
상기 장치(14) 또는 상기 비교 장치(20)가 제 2 교정 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치(14) 또는 상기 비교 장치(20)와 링크 안테나(46) 사이의 상기 상대적 위치를 변경하는 단계; 및
상기 제 2 교정 빔 패턴을 나타내는 제 2 빔 관련 정보(Pi)를 상기 메모리(37)에 저장하는 단계
를 포함하는 방법. - 제 8 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치(14)를 제어하는 단계는 상기 메모리(37)에서 상기 빔 관련 정보를 읽는 단계 및 상기 빔 관련 정보(Pi)에 따라 상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 빔 관련 정보(Pi)는:
빔/빔 스위프 식별자;
상기 안테나 어레이에 인가되는 송신 및/또는 수신 빔 및/또는 상기 안테나 어레이를 사용하여 통신되는 관련 기저 대역 신호에 대한 하나 또는 다수의 빔 관련 매개 변수를 나타내는 정보;
빔 편광;
상기 빔 패턴의 반송파 주파수;
빔 대응 플래그; 및
빔 대응 ID
중 적어도 하나를 포함하는, 방법. - 제 1 항에 있어서, 상기 복수의 통신 빔 패턴(36) 중 상기 미리 정해진 빔 패턴(18)을 형성하도록 상기 장치(14)를 제어하는 단계는 상기 측정 환경(12)에 의해 상기 장치에 구성 신호(24)를 전송하는 단계를 포함하고, 상기 구성 신호(24)는:
상기 미리 정해진 빔 패턴의 활성화 시간 및/또는 지속 시간;
상기 미리 정해진 빔 패턴을 포함하는 빔 스위프의 활성화 시간 및/또는 지속 시간;
시간 동기화를 가능하게 하는 상기 장치 또는 상기 측정 환경(12)에서의 시간;
상기 장치에 의해 형성될 미리 정해진 빔 패턴의 순서; 및
Tx-Rx 플래그
중 적어도 하나를 나타내는 정보를 포함하는, 방법. - 제 15 항에 있어서, 빔 관련 정보(Pi)는 상기 장치(14)의 메모리(37)에 저장되며, 상기 구성 신호(24)는 빔 관련 정보(Pi)를 나타내는, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴(18)을 형성하도록 상기 장치(14)를 제어하는 단계는 상기 측정 환경(12)에서 상기 장치(14)로 구성 신호(24)를 전송하는 단계를 포함하고, 상기 구성 신호(24)는 상기 미리 정해진 빔 패턴(18) 또는 상기 장치(14)에 의해 형성되는 복수의 미리 정해진 빔 패턴의 시퀀스를 명확하게 나타내는 정보를 포함하는, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계(330; 430)는:
상기 빔 패턴의 총 방사 전력을 측정하는 단계;
등가 등방성 방사 전력을 측정하는 단계;
유효 등방성 감도를 측정하는 단계;
Rx 및/또는 Tx 복합 방사 패턴을 크기 및 위상으로 측정하는 단계;
Rx 및/또는 Tx 복합 방사 패턴을 상대적 크기 및 상대적 위상으로 측정하는 단계;
상기 장치에 대한 상기 빔 패턴의 방향을 측정하는 단계; 및
구체 커버리지,
커버된 구체 빔 그리드 밀도,
복수의 통신 빔 패턴 중 모든 활성화된 빔의 특정 빔 패턴,
메인 빔/빔 패턴의 적어도 하나의 사이드로브,
빔 패턴 변경/전환/팽창/수축의 확장성/선형성/히스테리시스
공간 해상도가 있는 스퓨리어스 방출/ACLR,
널 스티어링 및 다중 빔 스티어링의 능력 및 정확도,
빔 대응의 정확성, 및
안테나 어레이/패널의 교정
을 측정하는 단계
중 적어도 하나를 포함하는, 방법. - 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계(330; 430)는 상기 장치에 의해 사용되는 통신 대역의 대역 내 방출을 측정하는 단계를 포함하는, 방법.
- 제 19 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴을 측정하는 단계(330; 430)는, 상기 통신 대역의 대역 외 방출을 측정하는 단계를 포함하는, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 빔 패턴(18)은 적어도 하나의 빔(48)을 포함하는, 방법.
- 제 21 항에 있어서, 상기 장치(14)는 결합된 빔(57)을 형성하기 위해 다른 빔(482)과 중첩하기 위해 상기 적어도 하나의 빔(481)을 사용하도록 구성되는, 방법.
- 제 22 항에 있어서, 상기 빔(481)과 상기 다른 빔(482)은 측정 시스템(42)에 대해 구별 가능한, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴은 제1 미리 정해진 빔 패턴이고, 상기 장치는 상기 제 1 미리 정해진 빔 패턴 및 적어도 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 동시에 형성하고 구별 가능하도록 제어되고, 상기 방법은 상기 제 1 미리 정해진 빔 패턴 및 상기 제 2 미리 정해진 빔 패턴의 평가를 포함하는, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴(18)은 복수의 미리 정해진 빔 패턴(42; 44) 중 제 1 미리 정해진 빔 패턴이고,
상기 방법은 상기 복수의 미리 정해진 빔 패턴 각각을 순차적으로 형성하도록 상기 장치를 제어하는 단계를 포함하고, 상기 복수의 미리 정해진 빔 패턴은 상기 측정 환경(12)의 시퀀스 패턴에 따라 배열되는, 방법. - 제 25 항에 있어서, 상기 시퀀스 패턴은:
규칙적인 패턴;
상기 복수의 빔이 등거리 방식으로 배열된 패턴;
상기 장치의 방위각 및/또는 앙각 범위를 커버하는 패턴; 및/또는
하나, 둘 또는 중첩된 편광 성분을 갖는 패턴
중 적어도 하나인, 방법. - 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴은 정적 빔 패턴 또는 시간 변형 빔 패턴인, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴(18)은 정적 빔 패턴 또는 빔 스위프를 설명하는, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 장치(14)를 제어할 때, 상기 미리 정해진 빔 패턴은 링크 안테나와 독립적으로 형성되는, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴은 반복적 및 결정적으로 형성 가능한, 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치를 제어하는 단계(320; 420)는:
상기 장치로 하여금 결정적 지터링 빔 패턴으로서 상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 하는 단계를 포함하는, 방법. - 적어도 하나의 안테나 어레이(32)를 갖는 장치(14)를 평가하는 방법에 있어서, 상기 장치는 상기 안테나 어레이(32)를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴(36)을 형성하도록 구성되고, 상기 방법은:
빔 패턴을 측정하도록 적응된 측정 환경(12)에서 상기 장치(14)의 상대적 위치를 지정하는 단계;
상기 장치가 복수의 통신 빔 패턴(36) 중 어떤 빔 패턴이 측정 단계 동안 활성화되는지를 인식하는, 빔 식별자를 나타내는 빔 관련 정보를 장치에 나타냄으로써, 시간에 따른 통신 빔 패턴의 변화에 기초하여 빔 스위프인 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치를 제어하는 단계; 및
상기 측정 환경(12) 및/또는 상기 장치를 사용하여 상기 미리 정해진 빔 패턴(18)을 측정하는 단계
를 포함하는, 방법. - 제 32 항에 있어서,
공간 내에 복수의 웨이포인트, 상기 복수의 웨이포인트를 궤적으로 상호 연결하기 위해 두 연속의 웨이포인트 간에 상기 웨이포인트의 시퀀스와 적어도 하나의 궤적을 포함하도록 상기 빔 스위프의 경로를 결정하는 단계;
상기 빔 스위프의 상기 경로에 따라 빔 패턴이 이동하도록 상기 빔 스위프를 형성하도록 상기 장치를 제어하는 단계
를 포함하는, 방법. - 제 33 항에 있어서, 적어도 하나의 궤도는 두 웨이포인트 사이의 최단 경로를 설명하는, 방법.
- 제 33 항에 있어서, 상기 빔 스위프는 제 1 경로를 갖는 제 1 빔 스위프이고, 상기 방법은:
제 2 경로를 갖는 제 2 빔 스위프를 결정하는 단계
를 더 포함하고, 상기 제 2 경로는 상기 제 1 경로와 동일한 웨이포인트를 적어도 부분적으로 포함하고 상기 제 1 경로와 비교할 때 변경된 웨이포인트의 시퀀스를 갖는, 방법. - 제 35 항에 있어서, 상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치를 제어하는 단계는:
상기 장치로 하여금 지터링 빔 패턴으로서 상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 하는 단계를 포함하는, 방법. - 적어도 하나의 안테나 어레이(32)를 갖는 장치(14)에 대해 미리 결정된 빔 패턴을 결정하는 방법에 있어서, 상기 장치(14)는 상기 안테나 어레이(32)를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴(36)을 형성하도록 구성되고, 상기 방법은:
측정 환경(12)에서 상기 장치(14)의 위치를 지정하거나 송신 빔 패턴과 수신 빔 패턴 사이의 빔 패턴 및/또는 빔 대응을 측정하도록 적응된 상기 측정 환경(12)의 적어도 하나의 프로브 안테나의 상대적 위치를 변경하는 단계;
결정적 지터링 통신 빔 패턴을 얻기 위해 상기 장치(14)로 하여금 결정적 지터링 통신 빔 패턴으로서 통신 빔 패턴을 형성하도록 하는 단계;
측정 결과를 얻기 위해 상기 결정적 지터링 통신 빔 패턴을 측정하는 단계; 및
상기 측정 결과에 따라 나중에 테스트하기 위해 상기 통신 빔 패턴을 미리 정해진 빔 패턴으로 저장하는 단계
를 포함하는, 방법. - 제 1 항 또는 제 32 항 또는 제 37 항 중 하나에 따른 방법을 컴퓨터에서 실행할 때, 상기 방법을 수행하기 위한 프로그램 코드를 갖는 컴퓨터 프로그램이 저장되어 있는 비 일시적 저장 매체.
- 장치(14, 20)에 있어서,
하나 이상의 안테나 어레이 - 상기 장치는 상기 안테나 어레이를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴을 형성하도록 구성됨 - ;
상기 복수의 통신 빔 패턴 중 적어도 하나를 미리 정해진 빔 패턴으로서 명확하게 나타내는 빔 식별자를 포함하는 빔 관련 정보를 저장한 메모리; 및
상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위한 요청을 나타내는 신호를 수신하도록 구성된 인터페이스
를 포함하고, 상기 장치는 상기 빔 식별자를 사용하여 상기 신호에 응답하여 상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 구성되는, 장치. - 제 39 항에 있어서, 상기 장치는 상기 미리 정해진 빔 패턴을 결정적 지터링 빔 패턴으로 형성하도록 구성되는, 장치.
- 제 40 항에 있어서, 상기 장치는 결정적 지터링 빔 패턴을 생성하기 위해 안테나 구조 또는 안테나 어레이를 여기시키는 데 사용되는 신호에 지터를 적용함으로써 결정적 지터링 빔 패턴을 획득하도록 구성되는, 장치.
- 빔 식별 신호가 미리 정해진 빔 패턴을 형성하라는 요청을 장치에 나타내며, 빔 식별자를 포함하는 빔 식별 신호를 저장한 비 일시적 저장 매체.
- 측정 환경(12)에 있어서,
장치(14)를 고정하도록 구성된 고정 유닛(26); 및
명령을 실행하도록 적응된 제어 유닛(22)
을 포함하고, 상기 명령은 상기 측정 환경(12) 및/또는 상기 장치(14)로 하여금 제 1 항 또는 제 32 항 또는 제 37 항 중 어느 하나에 따른 방법을 실행하게 하도록 구성된, 측정 환경. - 제 43 항에 있어서, 상기 측정 환경(12)은 상기 장치로부터 상기 통신 빔 패턴과 연관된 빔 구성을 수신하도록 구성되고, 상기 빔 구성은 복수의 빔 설정을 포함하며, 각 빔 설정은:
고유한 빔 설정 식별자;
를 적어도 포함하는, 측정 환경. - 제 43 항에 있어서, 상기 측정 환경(12)은 상기 장치로부터, 상기 장치로 전송된 트리거 신호에 응답하여,
고유한 빔 설정 식별자;
수신 신호 강도 표시기(RSSI);
참조 신호 수신 전력(RSRP);
참조 신호 수신 품질(RSRQ);
예를 들어, 임의의 테스트 신호의 경우, 전력;
주파수 설정;
정의된 주파수에서의 크기 및 위상;
정의된 주파수에서의 상대적 크기 및 상대적 위상; 및
도달 각도와 같은 빔 방향
중 적어도 하나를 포함하는, 복수의 측정 결과 및 매개 변수를 포함하는 고유한 빔 식별자와 연관된 수신 빔 측정 결과(들)를 수신하도록 구성되는, 측정 환경. - 제 45 항에 있어서, 상기 측정 환경(12)은 상기 고유한 빔 식별자와 관련된 수신 빔 측정 결과(들)의 피드백을 시작하도록 상기 장치에 트리거 신호를 신호하도록 구성되는, 측정 환경.
- 제 43 항에 있어서, 트리거 신호에 응답하여 빔 설정 식별자의 시퀀스에 대한 수신 빔 측정 결과를 수신하도록 구성되는, 측정 환경.
- 제 43 항에 있어서, 상기 측정 환경(12)은 상기 장치로 하여금 결정적 지터링 빔 패턴으로서 상기 미리 정해진 빔 패턴을 형성하게 하도록 구성되는, 측정 환경.
- 제 48 항에 있어서, 상기 측정 환경(12)은 상기 장치와 센서 및/또는 상기 측정 환경(12)의 링크 안테나 사이의 상대적 위치에 지터를 적용함으로써 지터를 구현하도록 구성되는, 측정 환경.
- 장치(14; 20)에 있어서, 상기 장치는:
고유한 빔 설정 식별자;
수신 신호 강도 표시기(RSSI);
참조 신호 수신 전력(RSRP)
참조 신호 수신 품질(RSRQ);
예를 들어, 임의의 테스트 신호의 경우, 전력
주파수 설정;
정의된 주파수에서의 크기 및 위상;
정의된 주파수에서의 상대적 크기 및 상대적 위상; 및
도달 각도와 같은 빔 방향
중 적어도 하나를 포함하는, 복수의 측정 결과 및 매개 변수를 포함하는 고유한 빔 식별자와 연관된 수신 빔 측정 결과(들)를 피드백하도록 구성되는, 장치. - 장치(14; 20)에 있어서, 상기 장치는 측정 환경으로부터 트리거 신호를 수신하도록 구성되고 고유 빔 식별자와 연관된 수신 빔 측정 결과(들)의 피드백을 시작하도록 더욱 구성되는, 장치.
- 제 50 항 또는 제 51 항에 있어서, 트리거 신호에 응답하여 빔 설정 식별자의 시퀀스에 대한 수신 빔 측정 결과를 전송하도록 구성되는, 장치.
- 제 50 항 또는 제 51 항에 있어서, 상기 장치는 미리 정해진 빔 패턴을 결정적 지터링 빔 패턴으로 형성하도록 구성되는, 장치.
- 장치(14; 20)에 있어서,
적어도 하나의 안테나 어레이(32)
를 포함하고, 상기 장치(14; 20)는 상기 안테나 어레이(32)를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴(36)을 형성하도록 구성되고,
상기 장치는 상기 통신 빔 패턴과 연관된 빔 구성을 전송하도록 구성되고, 상기 빔 구성은 복수의 빔 설정을 포함하며, 각 빔 설정은:
고유한 빔 설정 식별자;
를 포함하는, 장치. - 제 54 항에 있어서, 상기 장치는 통신 장치이고, 상기 안테나 어레이는 송신기 및/또는 수신기로 구성되며, 상기 장치는:
측정 환경으로부터 빔 설정 식별자를 포함하는 신호를 수신하도록 구성된 송수신기 - 상기 빔 설정 식별자는 상기 빔 구성의 빔 설정과 연관됨 - ; 및
상기 송신기와의 상기 빔 설정에 따라 상기 복수의 통신 빔 패턴의 통신 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치를 제어하도록 구성된 제어기
를 포함하는, 장치. - 제 55 항에 있어서, 상기 장치는 통신 장치이고, 상기 안테나 어레이는 송신기 및/또는 수신기로 구성되며, 상기 장치는:
빔 전력;
빔 이득;
빔 반송파 주파수;
빔 편광;
빔 방향;
빔 대역폭 부분;
빔 사용;
상기 빔을 형성하기 위해 Tx 및/또는 Rx에서 상기 안테나 어레이의 대응하는 설정을 갖는 값 목록;
Rx 빔 또는 Tx 빔이 측정되는지 식별하기 위한 Tx-Rx 플래그; 및
수신 빔 패턴을 측정하고 관련 측정 결과를 상기 측정 환경으로 전송하라는 요청을 상기 장치에 나타내는 Rx 트리거
중 적어도 하나를 포함하는 빔 설정을 포함하는 구성을 나타내는 정보를 포함하는 신호를, 상기 측정 환경으로부터 수신하도록 구성된 송수신기;
를 포함하고,
상기 장치는 상기 송신기 및/또는 수신기와 함께, 상기 복수의 통신 빔 패턴 중 하나인 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 상기 빔 설정을 적용하도록 구성된 제어기를 포함하는, 장치. - 제 54 항에 있어서, 상기 안테나 어레이는 송신기 및/또는 수신기로서 적응되며, 상기 장치는 복수의 빔 설정 식별자를 포함하는 빔 설정 식별자의 시퀀스를 측정 환경으로부터 수신하고 적어도 제 1 트리거 신호 및 제 2 트리거 신호를 수신하도록 구성되며, 상기 시퀀스의 각 빔 설정 식별자는 상기 장치의 빔 구성의 빔 설정과 연관되고;
상기 장치는 상기 제 1 트리거 신호에 응답하여 상기 복수의 통신 빔 패턴 중 제 1 미리 정해진 빔 패턴을 상기 송신기 및/또는 수신기로 형성하기 위해 제 1 빔 설정을 적용하고, 상기 송신기 및/또는 상기 수신기를 사용하여 상기 제 2 트리거 신호에 응답하여 상기 복수의 통신 빔 패턴 중 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 상기 시퀀스에 의해 표시된 바와 같은 제 2 빔 설정을 적용하도록 구성된 제어기를 포함하는, 장치. - 제 54 항에 있어서, 상기 안테나 어레이는 송신기 및/또는 수신기로서 적응되고, 상기 장치는 측정 환경으로부터 빔 설정 식별자의 시퀀스, 트리거 신호 및 지속 시간 표시기를 수신하도록 구성되고, 상기 시퀀스의 각 빔 설정 식별자는 상기 장치의 빔 구성의 빔 설정과 연관되고;
상기 장치는 상기 트리거 신호에 응답하여 상기 시퀀스에 의해 지시된 바와 같이 상기 빔 설정을 하나씩 순차적으로 적용하도록 구성된 제어기를 포함하고, 각각의 빔 설정에 대해 상기 장치는 상기 지속 시간 표시자에 의해 표시된 지속 시간 동안 상기 형성된 미리 정해진 빔 패턴을 고정되게 유지하기 위해 상기 송신기 및/또는 수신기를 사용하여 상기 복수의 통신 빔 패턴의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 구성되는, 장치. - 제 54 항에 있어서, 상기 장치는 측정 환경으로부터 수신된 신호에 응답하여 빔 형성 트레이닝 신호를 전송하도록 구성되는, 장치.
- 제 54 항에 있어서, 상기 장치는 수신 빔 측정을 수행하기 위해 측정 환경으로부터 적어도 하나의 트레이닝 신호를 수신하도록 구성되는, 장치.
- 제 54 항에 있어서, 상기 장치는 측정 환경으로부터 빔 설정 측정 요청을 나타내는 신호를 수신하도록 구성되고,
상기 장치는:
상기 장치의 상기 빔 구성의 일부로서 빔 설정을 생성하고;
송신기를 사용하여 링크 안테나를 향하는 빔 패턴을 형성하도록 상기 빔 설정을 적용하고;
상기 생성된 빔 설정을 메모리에 저장하고,
상기 빔 설정 측정 요청에 응답하여, 상기 측정 환경에 상기 빔 설정을 보고하기 위해 상기 장치를 제어하도록
구성된 제어기를 포함하는, 장치. - 제 54 항에 있어서, 상기 장치는 상기 장치의 상기 빔 구성의 지원되는 총 빔 설정 수를 나타내는 빔 구성 능력을 측정 환경에 보고하도록 구성되는, 장치.
- 제 54 항에 있어서, 상기 장치는 결정적 지터링 빔 패턴으로서 상기 통신 빔 패턴을 형성하도록 구성되는, 장치.
- 측정 환경(12)에 있어서,
장치(14; 20)를 고정하도록 구성된 고정 유닛(26), - 상기 장치는 적어도 하나의 안테나 어레이(32)를 포함하고, 상기 장치(14)는 안테나 어레이(들)(32)를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴(36)을 형성하도록 구성됨 - ;
상기 측정 환경이 상기 안테나 어레이(들)(32)를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴(36)을 형성하기 위해 상기 장치에 적응하도록 명령을 실행하고; 및 상기 장치에 형성된 통신 빔 패턴의 빔 구성을 전송하도록 지시하도록 적응된 제어 유닛(22)
을 포함하고,
상기 빔 구성은:
고유한 빔 설정 식별자;
를 적어도 포함하는, 측정 환경. - 제 64 항에 있어서, 상기 장치는 통신 장치이고, 상기 안테나 어레이는 송신기 및/또는 수신기로 적응되며, 상기 측정 환경은:
빔 설정 식별자를 포함하는 신호를 상기 장치로 전송하도록 구성된 수단 - 상기 빔 설정 식별자는 상기 송신기로 상기 빔 설정에 따라 상기 복수의 통신 빔 패턴의 통신 빔 패턴을 형성하도록 상기 장치에 지시하기 위해, 상기 빔 구성의 빔 설정과 연관됨 - ;을 포함하며,
상기 빔 구성은 복수의 빔 설정을 포함하며, 각 빔 설정은;
빔 전력;
빔 이득;
빔 반송파 주파수;
빔 편광;
빔 방향;
빔 대역폭 부분; 및
빔 사용
상기 빔을 형성하기 위해 Tx 및/또는 Rx에서 상기 안테나 어레이의 대응하는 설정을 갖는 값 목록;
Rx 빔 또는 Tx 빔이 측정되는지 식별하기 위한 Tx-Rx 플래그; 및
수신 빔 패턴을 측정하고 관련 측정 결과를 측정 환경으로 전송하기 위한 요청을 상기 장치에 나타내는 Rx 트리거
중 적어도 하나를 포함하는, 측정 환경. - 제 64 항에 있어서, 상기 장치는 통신 장치이고, 상기 안테나 어레이는 송신기 및/또는 수신기로서 적응되고, 상기 측정 환경은:
상기 송신기로, 상기 복수의 통신 빔 패턴 중 하나인 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 상기 빔 설정을 적용하도록 상기 장치에 지시하기 위해서,
빔 전력;
빔 이득;
빔 반송파 주파수;
빔 편광;
빔 방향;
빔 대역폭 부분;
상기 빔을 형성하기 위해 Tx 및/또는 Rx에서 상기 안테나 어레이의 대응하는 설정을 갖는 값 목록;
Rx 빔 또는 Tx 빔이 측정되는지 식별하기 위한 Tx-Rx 플래그; 및
수신 빔 패턴을 측정하고 관련 측정 결과를 측정 환경으로 전송하기 위한 요청을 상기 장치에 나타내는 Rx 트리거
중 적어도 하나를 포함하는 빔 설정을 포함하는 신호를 상기 장치에 전송하도록 구성되는, 측정 환경. - 제 64 항에 있어서, 상기 장치의 상기 안테나 어레이는 송신기 및/또는 수신기로 적응되고, 상기 측정 환경은 복수의 빔 설정 식별자를 포함하는 빔 설정 식별자의 시퀀스를 상기 장치에 전송하고, 적어도 제 1 트리거 신호 및 제 2 트리거 신호를 상기 장치에 전송하도록 구성되고, 상기 시퀀스의 각 빔 설정 식별자는 상기 장치의 빔 구성의 빔 설정과 연관되어;
상기 제 1 트리거 신호에 응답하여 상기 송신기 및/또는 상기 수신기로 상기 복수의 통신 빔 패턴 중 제 1 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 제 1 빔 설정을 적용하고, 상기 송신기 및/또는 수신기를 사용하여 상기 제 2 트리거 신호에 응답하여 상기 복수의 통신 빔 패턴 중 제 2 미리 정해진 빔 패턴을 형성하기 위해 상기 시퀀스에 의해 표시된 바와 같은 제 2 빔 설정을 적용하도록 상기 장치에 지시하는, 측정 환경. - 제 64 항에 있어서, 상기 장치의 상기 안테나 어레이는 송신기 및/또는 수신기로 적응되고, 상기 측정 환경은 빔 설정 식별자의 시퀀스, 트리거 신호 및 지속 시간 표시자를 상기 장치로 전송하도록 구성되고, 상기 시퀀스의 각 빔 설정 식별자는 상기 장치의 상기 빔 구성의 빔 설정과 연관되어;
상기 트리거 신호에 응답하여 순차적으로 상기 빔 설정을 상기 시퀀스에 표시된 대로 하나씩 적용하고, 각각의 빔 설정에 대해, 상기 송신기 및/또는 수신기를 사용하여 상기 복수의 통신 빔 패턴의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하고 상기 형성된 미리 정해진 빔 패턴을 상기 지속 시간 표시자에 의해 표시된 지속 시간 동안 고정된 상태로 유지하도록 상기 장치에 지시하는, 측정 환경. - 제 64 항에 있어서, 상기 측정 환경은 빔 형성 학습 신호를 전송하도록 상기 장치에 지시하기 위해 상기 장치에 신호를 전송하도록 구성되는, 측정 환경.
- 제 64 항에 있어서, 상기 측정 환경은 빔 설정 측정 요청을 나타내는 신호를 상기 장치에 전송하도록 구성되어,
상기 장치의 상기 빔 구성의 일부로서 빔 설정을 생성하고;
상기 장치의 송신기를 사용하여 링크 안테나를 향하는 빔 패턴을 형성하도록 상기 빔 설정을 적용하고;
상기 생성된 빔 설정을 메모리에 저장하고;
상기 빔 설정 측정 요청에 응답하여, 상기 측정 환경에 상기 빔 설정을 보고하기 위해 상기 장치를 제어하도록
상기 장치에 지시하는, 측정 환경. - 제 64 항에 있어서, 상기 측정 환경은 상기 장치의 상기 빔 구성의 지원되는 총 빔 설정 수를 나타내는 빔 구성 능력의 보고를 상기 장치로부터 수신하고, 측정 절차 중에 상기 빔 구성 능력을 평가하도록 구성되는, 측정 환경.
- 제 64 항에 있어서, 상기 측정 환경은 상기 장치로 하여금 미리 정해진 빔 패턴을 결정적 지터링 빔 패턴으로 형성하게 하도록 구성되는, 측정 환경.
- 적어도 하나의 안테나 어레이를 포함하는 장치(14; 20)를 제어하고 - 상기 장치는 상기 안테나 어레이를 사용하여 복수의 통신 빔 패턴을 형성하여, 복수의 통신 빔 패턴 중 어떤 빔 패턴이 측정 단계 동안 활성화되는지를 나타내는 빔 식별자를 나타내는, 빔 관련 정보를 사용하여 상기 통신 빔 패턴의 적어도 하나의 미리 정해진 빔 패턴을 형성하도록 구성됨 - ;
상기 빔 관련 정보를 사용하여 상기 미리 정해진 빔 패턴을 측정하기 위해 측정 환경을 제어하도록
적응된 제어기.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP18179398 | 2018-06-22 | ||
| EP18179398.5 | 2018-06-22 | ||
| EP18204132.7 | 2018-11-02 | ||
| EP18204132 | 2018-11-02 | ||
| PCT/EP2019/066266 WO2019243449A2 (en) | 2018-06-22 | 2019-06-19 | Method and measurement environment, apparatus to be tested |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20210034590A KR20210034590A (ko) | 2021-03-30 |
| KR102650668B1 true KR102650668B1 (ko) | 2024-03-25 |
Family
ID=67106006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020217001912A KR102650668B1 (ko) | 2018-06-22 | 2019-06-19 | 방법 및 측정 환경, 테스트될 장치 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210109145A1 (ko) |
| EP (1) | EP3811089A2 (ko) |
| JP (2) | JP2021528650A (ko) |
| KR (1) | KR102650668B1 (ko) |
| CN (1) | CN112639493A (ko) |
| WO (1) | WO2019243449A2 (ko) |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20130095747A1 (en) | 2011-10-17 | 2013-04-18 | Mehran Moshfeghi | Method and system for a repeater network that utilizes distributed transceivers with array processing |
| US10854995B2 (en) | 2016-09-02 | 2020-12-01 | Movandi Corporation | Wireless transceiver having receive antennas and transmit antennas with orthogonal polarizations in a phased array antenna panel |
| US10199717B2 (en) | 2016-11-18 | 2019-02-05 | Movandi Corporation | Phased array antenna panel having reduced passive loss of received signals |
| US10321332B2 (en) | 2017-05-30 | 2019-06-11 | Movandi Corporation | Non-line-of-sight (NLOS) coverage for millimeter wave communication |
| US10916861B2 (en) | 2017-05-30 | 2021-02-09 | Movandi Corporation | Three-dimensional antenna array module |
| US10484078B2 (en) | 2017-07-11 | 2019-11-19 | Movandi Corporation | Reconfigurable and modular active repeater device |
| US10348371B2 (en) | 2017-12-07 | 2019-07-09 | Movandi Corporation | Optimized multi-beam antenna array network with an extended radio frequency range |
| US10862559B2 (en) | 2017-12-08 | 2020-12-08 | Movandi Corporation | Signal cancellation in radio frequency (RF) device network |
| US10090887B1 (en) * | 2017-12-08 | 2018-10-02 | Movandi Corporation | Controlled power transmission in radio frequency (RF) device network |
| US11088457B2 (en) | 2018-02-26 | 2021-08-10 | Silicon Valley Bank | Waveguide antenna element based beam forming phased array antenna system for millimeter wave communication |
| US10637159B2 (en) | 2018-02-26 | 2020-04-28 | Movandi Corporation | Waveguide antenna element-based beam forming phased array antenna system for millimeter wave communication |
| CN110798253B (zh) * | 2018-08-02 | 2021-03-12 | 大唐移动通信设备有限公司 | 一种天线校准方法及装置 |
| US11205855B2 (en) | 2018-12-26 | 2021-12-21 | Silicon Valley Bank | Lens-enhanced communication device |
| US11145986B2 (en) | 2018-12-26 | 2021-10-12 | Silicon Valley Bank | Lens-enhanced communication device |
| US11245552B2 (en) | 2019-03-29 | 2022-02-08 | Skyworks Solutions, Inc. | Sounding reference signal switching |
| US11764888B2 (en) * | 2019-06-07 | 2023-09-19 | Qualcomm Incorporated | Beam characterization |
| US20230094596A1 (en) * | 2020-02-19 | 2023-03-30 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Wireless Signal Transmission and Reception for Device to Device Communication |
| US11963201B2 (en) * | 2020-04-28 | 2024-04-16 | Qualcomm Incorporated | User equipment antenna subarray selection dependent beam switching capability reporting |
| CN111628806B (zh) * | 2020-05-12 | 2021-03-09 | 鹏城实验室 | 天线波束指向的调控方法、设备及可读存储介质 |
| CN111812418B (zh) * | 2020-07-17 | 2021-09-28 | 中国汽车工程研究院股份有限公司 | 一种胎压监测天线性能测试系统及方法 |
| US11515927B2 (en) * | 2020-10-30 | 2022-11-29 | Qualcomm Incorporated | Beam management with backtracking and dithering |
| US11476909B2 (en) * | 2020-11-23 | 2022-10-18 | Hewlett Packard Enterprise Development Lp | Automatic antenna beam alignment |
| KR102434971B1 (ko) * | 2020-11-23 | 2022-08-22 | 한국항공우주연구원 | 안테나 포지셔닝을 위한 장치 및 방법 |
| JP2022162743A (ja) | 2021-04-13 | 2022-10-25 | 株式会社アドバンテスト | アンテナアレイの試験装置 |
| US20220407755A1 (en) | 2021-06-14 | 2022-12-22 | Skyworks Solutions, Inc. | Sounding reference signal switching system |
| CN117792526B (zh) * | 2024-02-27 | 2024-04-26 | 深圳市思翰铭科技有限公司 | 一种天线射频性能的测试系统及方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012251903A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Mitsubishi Electric Corp | アンテナ配置算出装置 |
| JP2016178677A (ja) * | 2013-06-06 | 2016-10-06 | インテル モバイル コミュニケーションズ ゲーエムベーハー | セル測定とシステム情報識別とを結合した方法 |
| JP2016539505A (ja) * | 2013-11-22 | 2016-12-15 | トルンプフ レーザー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＴＲＵＭＰＦ Ｌａｓｅｒ ＧｍｂＨ | 波長選択外部共振器、及び、高密度波長ビーム結合レーザーのためのビーム結合システム |
| KR101744131B1 (ko) * | 2016-03-15 | 2017-06-20 | 주식회사 담스테크 | 가상공간에서의 전자파 무반향실 설계 및 평가방법 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4877778B2 (ja) * | 2006-11-07 | 2012-02-15 | 株式会社国際電気通信基礎技術研究所 | 無線装置およびそれを備えた無線通信ネットワーク |
| US8923189B2 (en) * | 2009-08-06 | 2014-12-30 | Truepath Technologies, Llc | System and methods for scalable processing of received radio frequency beamform signal |
| US9002287B2 (en) * | 2009-10-09 | 2015-04-07 | Apple Inc. | System for testing multi-antenna devices |
| US8805397B2 (en) * | 2010-03-26 | 2014-08-12 | Apple Inc. | Wireless interference mitigation |
| US20120230380A1 (en) * | 2011-03-11 | 2012-09-13 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E. V. | Method for determining beamforming parameters in a wireless communication system and to a wireless communication system |
| KR101667802B1 (ko) * | 2011-10-21 | 2016-10-20 | 한국전자통신연구원 | 랜덤 지터 빔포밍 방법, 이를 이용한 송신기 및 수신기 |
| US9936352B2 (en) * | 2015-02-02 | 2018-04-03 | Qualcomm, Incorporated | Techniques for estimating distance between wireless communication devices |
| EP3104539B1 (en) * | 2015-06-08 | 2017-09-13 | Rohde & Schwarz GmbH & Co. KG | Measuring system and measuring method for measuring devices under test with antenna-arrays |
| US10085162B2 (en) * | 2016-07-22 | 2018-09-25 | Ets-Lindgren, Inc. | System and method for over-the-air testing of milli-meter wave and other beamforming technologies |
| AR109333A1 (es) * | 2016-08-12 | 2018-11-21 | Ericsson Telefon Ab L M | Métodos para verificar por aire la sensibilidad de recepción de estaciones de base |
| US9954279B1 (en) * | 2017-06-14 | 2018-04-24 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Test system and test method |
-
2019
- 2019-06-19 WO PCT/EP2019/066266 patent/WO2019243449A2/en active Application Filing
- 2019-06-19 KR KR1020217001912A patent/KR102650668B1/ko active IP Right Grant
- 2019-06-19 CN CN201980054739.1A patent/CN112639493A/zh active Pending
- 2019-06-19 JP JP2020571697A patent/JP2021528650A/ja active Pending
- 2019-06-19 EP EP19734006.0A patent/EP3811089A2/en active Pending
-
2020
- 2020-12-21 US US17/129,561 patent/US20210109145A1/en active Pending
-
2023
- 2023-08-17 JP JP2023133025A patent/JP2023162272A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012251903A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Mitsubishi Electric Corp | アンテナ配置算出装置 |
| JP2016178677A (ja) * | 2013-06-06 | 2016-10-06 | インテル モバイル コミュニケーションズ ゲーエムベーハー | セル測定とシステム情報識別とを結合した方法 |
| JP2016539505A (ja) * | 2013-11-22 | 2016-12-15 | トルンプフ レーザー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＴＲＵＭＰＦ Ｌａｓｅｒ ＧｍｂＨ | 波長選択外部共振器、及び、高密度波長ビーム結合レーザーのためのビーム結合システム |
| KR101744131B1 (ko) * | 2016-03-15 | 2017-06-20 | 주식회사 담스테크 | 가상공간에서의 전자파 무반향실 설계 및 평가방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN112639493A (zh) | 2021-04-09 |
| US20210109145A1 (en) | 2021-04-15 |
| JP2021528650A (ja) | 2021-10-21 |
| WO2019243449A3 (en) | 2020-02-06 |
| JP2023162272A (ja) | 2023-11-08 |
| EP3811089A2 (en) | 2021-04-28 |
| WO2019243449A2 (en) | 2019-12-26 |
| KR20210034590A (ko) | 2021-03-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102650668B1 (ko) | 방법 및 측정 환경, 테스트될 장치 | |
| US10306494B2 (en) | System and method for over-the-air testing of milli-meter wave and other beamforming technologies | |
| US11824272B2 (en) | In-field millimeter-wave phased array radiation pattern estimation and validation | |
| US20230258759A1 (en) | Determining a Position of User Equipment by using Adaptive Phase-Changing Devices | |
| US11456806B2 (en) | Apparatus, measurement system and measurement setup and methods for testing an apparatus | |
| KR102198841B1 (ko) | Esa 계측을 위한 방법 및 시스템 | |
| CN110402548B (zh) | 基于用户设备定位精度配置参考信号波束的设备 | |
| JP7337705B2 (ja) | 被試験デバイスを正確に評価するための方法および測定システム | |
| CN106712864B (zh) | 一种智能天线性能测试及优化的方法及装置 | |
| US10393786B2 (en) | Test system and method for over the air (OTA) measurements based on randomly adjusted measurement points | |
| JP6861225B2 (ja) | 適切なインプリシットビームフォーミング動作に関して無線周波数（ｒｆ）データパケット信号送受信機を試験するための方法 | |
| JP2010096706A (ja) | マルチアンテナ測定方法、マルチアンテナ測定システム | |
| KR20230031337A (ko) | 송신 장치의 포지셔닝 방법과 장치, 시스템, 저장 매체 및 전자 장치 | |
| KR20230004586A (ko) | 빔 대응성 파라미터 결정 | |
| Li et al. | Digital Twins of Electromagnetic Propagation Environments for Live 5G networks-Part I: Channel Acquisition, EM Simulation and Verification | |
| US20240039608A1 (en) | Integrated Access Backhaul with an Adaptive Phase-Changing Device | |
| JP2010133768A (ja) | アンテナ測定システム及び方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |