KR102638692B1 - Rotational coating device - Google Patents

Rotational coating device Download PDF

Info

Publication number
KR102638692B1
KR102638692B1 KR1020210137780A KR20210137780A KR102638692B1 KR 102638692 B1 KR102638692 B1 KR 102638692B1 KR 1020210137780 A KR1020210137780 A KR 1020210137780A KR 20210137780 A KR20210137780 A KR 20210137780A KR 102638692 B1 KR102638692 B1 KR 102638692B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
hole
coating
chuck
seating space
seating
Prior art date
Application number
KR1020210137780A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20230054145A (en
Inventor
이진우
Original Assignee
에스브이에스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스브이에스 주식회사 filed Critical 에스브이에스 주식회사
Priority to KR1020210137780A priority Critical patent/KR102638692B1/en
Publication of KR20230054145A publication Critical patent/KR20230054145A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102638692B1 publication Critical patent/KR102638692B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/6875Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of individual support members, e.g. support posts or protrusions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68785Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by the mechanical construction of the susceptor, stage or support

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명의 회전 코팅 장치는 일 측으로 개방된 안착공간과, 상기 안착공간과 연통되는 관통홀이 형성된 척; 상기 척의 일 측에 결합되어 상기 안착공간을 폐쇄시키는 탑커버; 상기 관통홀을 통해 상기 안착공간으로 승강되어 웨어퍼를 상기 척에 안착시키는 포크핀; 및 상기 관통홀에 개폐시키는 차폐부;를 포함하고, 상기 차폐부는 상기 포크핀이 코팅부재를 안착시킨 후 상기 척의 외측으로 하강되면 상기 관통홀을 폐쇄하여 외기가 상기 안착공간으로 유입되는 것을 방지하여 제품의 품질을 크게 향상시킨다.The rotation coating device of the present invention includes a chuck having a seating space open on one side and a through hole communicating with the seating space; A top cover coupled to one side of the chuck to close the seating space; a fork pin that is lifted into the seating space through the through hole to seat the wafer on the chuck; and a shield that opens and closes the through hole, wherein the shield closes the through hole when the fork pin is lowered to the outside of the chuck after seating the coating member to prevent outside air from flowing into the seating space. Significantly improves product quality.

Description

회전 코팅 장치{Rotational coating device}Rotational coating device

본 발명은 회전 코팅 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 회전 코팅 시 밀페되는 밀폐형 회전 코팅 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a spin coating device, and more particularly, to a closed rotary coating device that is sealed during spin coating.

일반적으로 포토리소그래피 공정은 감광제 도포 공정, 노광 공정, 현상 공정을 순차로 반복하여 진행하며, 그 원리는 빛에 민감한 감광제(photoresist)를 사용하여 코팅부재 상에 원하는 미세 회로 패턴을 형성하는 공정이다.In general, the photolithography process is carried out by sequentially repeating the photoresist application process, exposure process, and development process, and the principle is to form a desired fine circuit pattern on a coating member using a light-sensitive photoresist.

여기서 감광제 도포 공정은 감광제 도포 공정 또는 현상 공정을 진행하는 장비인 코팅부재 카세트에 수납된 코팅부재를 순차적으로 이송시켜 감광제 또는 현상액을 코팅부재에 도포한 후 척을 회전시켜 코팅부재에 균일하게 감광제가 코팅되도록 한다.Here, the photosensitizer application process involves sequentially transferring the coating members stored in the coating member cassette, which is equipment that performs the photosensitizer application or development process, and applying the photosensitizer or developer to the coating members. Then, the chuck is rotated to evenly apply the photosensitizer to the coating members. Make sure it is coated.

이때 코팅부재를 안착시키기 위하여 포크핀의 승하강하는 관통홀이 필연적으로 생성되어 회전 코팅 시 관통홀을 통해 외기가 유입되면서 밀폐력이 저하되는 동시에 코팅부재에 떨림 등이 발생된다.At this time, in order to seat the coating member, a through hole is inevitably created through which the fork pin is raised and lowered, and during rotary coating, external air flows in through the through hole, thereby lowering the sealing force and causing vibration in the coating member.

이에 따라 코팅부재의 코팅층의 두께의 균일도 및 제품의 저하되었으며, 더 나아가서는 코팅부재가 깨지는 등의 손상까지 발생되는 문제점이 있었다.As a result, the uniformity of the thickness of the coating layer of the coating member and the product deteriorated, and furthermore, there was a problem of damage such as breaking of the coating member.

본 발명의 일실시 예는 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 회전 코팅 과정에서 외부로부터 공기가 유입되는 않도록 하여 제품의 신뢰성을 현저히 향상시킬 수 있는 회전 코팅 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.One embodiment of the present invention was devised to solve the above problems, and its purpose is to provide a spin coating device that can significantly improve the reliability of the product by preventing air from entering from the outside during the spin coating process. .

본 발명의 일실시 예의 회전 코팅 장치는 일 측으로 개방된 안착공간과, 상기 안착공간과 연통되는 관통홀이 형성된 척; 상기 척의 일 측에 결합되어 상기 안착공간을 폐쇄시키는 탑커버; 상기 관통홀을 통해 상기 안착공간으로 승강되어 웨어퍼를 상기 척에 안착시키는 포크핀; 및 상기 관통홀에 개폐시키는 차폐부;를 포함하고, 상기 차폐부는 상기 포크핀이 코팅부재를 안착시킨 후 상기 척의 외측으로 하강되면 상기 관통홀을 폐쇄하여 외기가 상기 안착공간으로 유입되는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.The rotation coating device of one embodiment of the present invention includes a chuck having a seating space open on one side and a through hole communicating with the seating space; A top cover coupled to one side of the chuck to close the seating space; a fork pin that is lifted into the seating space through the through hole to seat the wafer on the chuck; and a shield that opens and closes the through hole, wherein the shield closes the through hole when the fork pin is lowered to the outside of the chuck after seating the coating member to prevent outside air from flowing into the seating space. It is characterized by

상기 차폐부는 회전 가능하도록 상기 척에 고정되는 회전부와, 상기 회전부에서 연장되어 상기 관통홀의 일 측에 밀착되는 연장부로 형성되어 상기 척의 회전에 의해 발생되는 원심력에 의해 상기 회전부를 중심으로 회전하여 상기 관통홀을 폐쇄할 수 있다.The shield is formed of a rotating part fixed to the chuck so as to be rotatable, and an extension part extending from the rotating part and in close contact with one side of the through hole, and rotates around the rotating part by centrifugal force generated by the rotation of the chuck to penetrate the The hall may be closed.

제1 실시예의 상기 차폐부는 상기 회전부와 상기 연장부 사이에 방지돌기를 형성하여 회전 시 상기 척과의 걸림을 방지할 수 있다. The shield of the first embodiment may form an anti-protrusion between the rotating part and the extending part to prevent it from being caught by the chuck when rotating.

제2 실시예의 상기 차폐부는 상기 관통홀의 일 측으로 탈착시키는 개폐부;를 더 포함할 수 있으며, 상기 척은 상기 관통홀의 위치에 대응하여 일정 면적의 금속부가 더 형성될 수 있으며, 상기 차폐부는 회전 가능하도록 상기 척에 고정되는 회전부와, 상기 중심부의 일 측에서 연장되어 상기 관통홀의 일 측에 밀착되는 연장부와, 상기 연장부의 일 측에 형성되어 자성을 발생시키는 자성부와, 상기 회전부의 타 측에서 연장되어 상기 연장부를 상기 관통홀에서 분리시키는 연동부로 형성될 수 있으며, 이에 따라 상기 개폐부에 의해 발생되는 압력에 의해 상기 회전부를 중심으로 회전하여 자성에 의해 상기 금속부에 부착되어 상기 관통홀을 폐쇄할 수 있다.The shield of the second embodiment may further include an opening and closing part that attaches and detaches to one side of the through hole, and the chuck may further have a metal part of a certain area corresponding to the position of the through hole, and the shield may be rotatable. A rotating part fixed to the chuck, an extension part extending from one side of the center and in close contact with one side of the through hole, a magnetic part formed on one side of the extending part to generate magnetism, and a magnetic part forming on one side of the extending part to generate magnetism, and on the other side of the rotating part It may be extended and formed as an interlocking part that separates the extension part from the through hole. Accordingly, the pressure generated by the opening/closing part rotates around the rotating part and attaches to the metal part by magnetism to close the through hole. can do.

상기 개폐부는 상기 연장부의 말단부로 공기를 분사시켜 상기 연장부를 상기 금속부의 일 측에 부착시키는 블로워와, 상기 연동부를 가압하여 상기 연장부를 상기 금속부로부터 분리시키는 가압부로 형성될 수 있다.The opening and closing part may be formed of a blower that attaches the extension to one side of the metal part by spraying air to a distal end of the extension, and a pressurizing part that pressurizes the linkage part to separate the extension from the metal part.

상기 자성부는 상기 블로워에서 분사되는 공기가 상기 연장부의 일 지점에 집중되도록 개방면적이 점진적으로 좁아지도록 형성되어 상기 연장부가 일 지점이 노출되도록 형성될 수 있다.The magnetic part may be formed so that the open area is gradually narrowed so that the air sprayed from the blower is concentrated at one point of the extension part, so that one point of the extension part is exposed.

코팅부재가 상기 안착공간에 안착된 후 코팅제를 분사시키는 노즐부;를 더 포함할 수 있다.It may further include a nozzle unit that sprays the coating agent after the coating member is seated in the seating space.

이상에서 살펴 본 바와 같이 본 발명의 과제해결 수단에 의하면 다음과 같은 사항을 포함하는 다양한 효과를 기대할 수 있다. 다만, 본 발명이 하기와 같은 효과를 모두 발휘해야 성립되는 것은 아니다.As discussed above, various effects including the following can be expected according to the problem-solving means of the present invention. However, the present invention does not require all of the following effects to be achieved.

본 발명의 회전 코팅 장치는 포크핀이 안착공간으로 승하강할 수 있도록 형성된 관통홀을 개폐하는 차폐부를 구비하여 회전 공정 중 관통홀을 폐쇄하여 외부의 공기가 유입되는 것을 방지하여 코팅부재에 발생할 수 있는 진동을 방지하여 코팅의 신뢰도 향상시키는 동시에 제품의 불량률을 현저히 저하시킨다.The rotary coating device of the present invention is equipped with a shielding part that opens and closes a through hole formed to allow the fork pin to rise and fall into the seating space, and closes the through hole during the rotation process to prevent external air from flowing in, preventing damage that may occur in the coating member. By preventing vibration, it improves the reliability of the coating and at the same time significantly reduces the defect rate of the product.

이때 코팅액이 회수되는 회수홀로 코팅액과 안착공간에 잔존하는 공기가 배출된 후 외부 공기가 유입되는 것을 방지하여 내부를 저압상태로 안정적으로 유지하여 코팅부재 전체 면적에 코팅액이 균일하게 분산되도록 하여 제품 신뢰성 향상 효과를 증대시킨다.At this time, the coating liquid and the air remaining in the seating space are discharged through the recovery hole where the coating liquid is recovered. This prevents external air from entering, stably maintaining the interior at low pressure, and ensuring that the coating liquid is evenly distributed over the entire area of the coating member, thereby improving product reliability. Increases the improvement effect.

여기서 제1 실시 예의 차폐부는 별도의 개폐 구조 없이도 척의 회전 정도에 따라 관통홀이 개폐될 수 있도록 하여 유지 관리 비용 및 스핀 코팅 장치의 비용을 절감시킨다.Here, the shield of the first embodiment allows the through hole to be opened and closed according to the degree of rotation of the chuck without a separate opening and closing structure, thereby reducing maintenance costs and the cost of the spin coating device.

여기서 제2 실시 예의 차폐부는 별도의 개폐부를 가져 차폐부의 개방과 폐쇄가 정확히하고, 척의 회전 시작부터 외부 공기를 폐쇄하여 코팅 공정의 안정성을 보다 향상시켜 제품의 신뢰성 및 생산성 향상 효과를 극대화한다.Here, the shield of the second embodiment has a separate opening and closing part to accurately open and close the shield, and by blocking external air from the start of rotation of the chuck, the stability of the coating process is further improved, thereby maximizing the effect of improving product reliability and productivity.

또한 유로플레이트를 구비하여 안착공간에 잔존하는 공기가 코팅부재의 둘레를 따라 균일하고 안정적으로 배출되도록 하여 공기가 배출되는 과정에서도 코팅부재가 안정적으로 회전할 수 있도록 하여 제품 신뢰성을 극대화한다.In addition, it is equipped with a flow plate to ensure that the air remaining in the seating space is discharged uniformly and stably along the circumference of the coating member, allowing the coating member to rotate stably even during the air discharge process, thereby maximizing product reliability.

도 1은 본 발명의 일 실시 예의 회전 코팅 장치의 사시도.
도 2는 도 1의 탑커버가 하강된 상태를 도시한 도면.
도 3은 도 2의 분해사시도.
도 4는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ 방향의 단면도.
도 5(a)는 도 4의 A 부분을 확대한 사시면, 도 5(b)는 도 5(a)의 포크핀이 승강한 상태를 도시한 도면.
도 6(a)는 도 5(b)의 승강된 상태의 포크핀에 코팅부재가 안착된 상태를 도시한 도면, 도 6(b)는 도 6(a)의 포크핀이 재하강하면서 코팅부재가 척에 안착된 상태를 도시한 도면.
도 7은 도 1의 척의 다른 방향 사시도.
도 8은 도 7의 제1 실시예의 차폐부 부분을 확대 도시한 도면.
도 9는 도 8의 차폐부의 개폐 과정을 도시한 단면도.
도 10은 도 7의 제2 실시예의 차폐부 및 개폐부 부분을 확대 도시한 도면.
도 11은 도 10의 차폐부의 개폐 과정을 도시한 단면도.
도 12는 도 1의 회전 코팅 장치의 코팅 방법의 순서도.
도 13은 도 12의 차폐부의 개폐 방법을 구체화한 순서도.
도 14(a) 내지 도 14(c)는 도 12의 회전 코팅 장치의 코팅 방법을 도시한 도면.
1 is a perspective view of a rotary coating device according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a view showing the top cover of Figure 1 in a lowered state.
Figure 3 is an exploded perspective view of Figure 2.
Figure 4 is a cross-sectional view taken in the direction IV-IV of Figure 1.
FIG. 5(a) is an enlarged perspective view of portion A of FIG. 4, and FIG. 5(b) is a view showing the fork pin of FIG. 5(a) in an elevated state.
Figure 6(a) shows a state in which the coating member is seated on the fork pin in the lifted state of Figure 5(b), and Figure 6(b) shows the coating member as the fork pin of Figure 6(a) is lowered again. A drawing showing the state where it is seated on the chuck.
Figure 7 is a perspective view of the chuck of Figure 1 in another direction.
Figure 8 is an enlarged view of the shield portion of the first embodiment of Figure 7.
Figure 9 is a cross-sectional view showing the opening and closing process of the shield of Figure 8.
Figure 10 is an enlarged view of the shielding part and the opening/closing part of the second embodiment of Figure 7.
Figure 11 is a cross-sectional view showing the opening and closing process of the shield of Figure 10.
Figure 12 is a flow chart of the coating method of the rotary coating device of Figure 1.
Figure 13 is a flowchart detailing the opening and closing method of the shield of Figure 12.
FIGS. 14(a) to 14(c) illustrate a coating method of the rotary coating device of FIG. 12.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시 예를 상세히 설명하도록 한다. 다만, 본 발명의 요지를 흩트리지 않도록 하기 위하여 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은 생략한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, in order not to confuse the gist of the present invention, descriptions of well-known functions or configurations are omitted.

또한 차폐부에 대한 중복 설명을 피하기 위하여 각 실시 예의 공동적인 부분은 제1 실시 예에서 설명하도록 하고, 다른 실시 예의 설명에서는 공동적인 부분에 대한 설명은 생략하도록 한다. 설명의 편의를 위하여 공동적인 부분에 대해서는 제2 실시 예의 구성 중 제1 실시 예와 동일한 기능을 가지는 구성의 경우에는 제1 실시 예의 부호의 맨 앞에 '2'를 추가하도록 한다.Additionally, in order to avoid redundant description of the shielding unit, common parts of each embodiment will be described in the first embodiment, and descriptions of common parts will be omitted in descriptions of other embodiments. For convenience of explanation, for common parts, if a component of the second embodiment has the same function as that of the first embodiment, '2' is added to the beginning of the code of the first embodiment.

도 1은 본 발명의 일 실시 예의 회전 코팅 장치의 사시도이고, 도 2는 도 1의 탑커버가 하강된 상태를 도시한 도면이며, 도 3은 도 2의 분해사시도이고, 도 4는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ 방향의 단면도이며, 도 5(a)는 도 4의 A 부분을 확대한 사시도 이고, 도 5(b)는 도 5(a)의 포크핀이 승강한 상태를 도시한 도면이며, 도 6(a)는 도 5(b)의 승강된 상태의 포크핀에 코팅부재가 안착된 상태를 도시한 도면이고, 도 6(b)는 도 6(a)의 포크핀이 재하강하면서 코팅부재가 척에 안착된 상태를 도시한 도면이다.FIG. 1 is a perspective view of a rotation coating device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a view showing the top cover of FIG. 1 in a lowered state, FIG. 3 is an exploded perspective view of FIG. 2, and FIG. 4 is a view of FIG. 1. It is a cross-sectional view in the direction IV-IV, and Figure 5(a) is an enlarged perspective view of part A of Figure 4, and Figure 5(b) is a diagram showing the fork pin of Figure 5(a) in an elevated state. 6(a) is a diagram showing the state in which the coating member is seated on the fork pin in the elevated state of Figure 5(b), and Figure 6(b) shows the coating member as the fork pin in Figure 6(a) is lowered again. This is a drawing showing the state where it is seated on the chuck.

도 7은 도 1의 척의 다른 방향 사시도이고, 도 8은 도 7의 제1 실시예의 차폐부 부분을 확대 도시한 도면이며, 도 9는 도 8의 차폐부의 개폐 과정을 도시한 단면도이고, 도 10은 도 7의 제2 실시예의 차폐부 및 개폐부 부분을 확대 도시한 도면이며, 도 11은 도 10의 차폐부의 개폐 과정을 도시한 단면도이다.FIG. 7 is a perspective view of the chuck of FIG. 1 in another direction, FIG. 8 is an enlarged view of the shield portion of the first embodiment of FIG. 7, FIG. 9 is a cross-sectional view showing the opening and closing process of the shield of FIG. 8, and FIG. 10 is an enlarged view of the shielding unit and the opening/closing unit of the second embodiment of FIG. 7, and FIG. 11 is a cross-sectional view showing the opening/closing process of the shielding unit of FIG. 10.

도 1 내지 도 11를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예의 회전 코팅 장치(10)는 일 측으로 개방된 안착공간(111)과, 상기 안착공간(111)과 연통되는 관통홀(122)이 형성된 척(100), 상기 척(100)의 일 측에 결합되어 상기 안착공간(111)을 폐쇄시키는 탑커버(200), 상기 관통홀(122)을 통해 상기 안착공간(111)으로 승강되어 웨어퍼를 상기 척(100)에 안착시키는 포크핀(310) 및 상기 관통홀(122)에 개폐시키는 차폐부(400)를 포함하고, 상기 차폐부(400)는 상기 포크핀(310)이 코팅부재(1)를 안착시킨 후 상기 척(100)의 외측으로 하강되면 상기 관통홀(122)을 폐쇄하여 외기가 상기 안착공간(111)으로 유입되는 것을 방지하는 것을 특징으로 한다.Referring to FIGS. 1 to 11, the rotation coating device 10 of an embodiment of the present invention includes a chuck having a seating space 111 open on one side and a through hole 122 communicating with the seating space 111. (100), a top cover 200 that is coupled to one side of the chuck 100 and closes the seating space 111, and is lifted and lowered into the seating space 111 through the through hole 122 to hold the wafer. It includes a fork pin 310 seated on the chuck 100 and a shield 400 that opens and closes the through hole 122, and the shield 400 is configured such that the fork pin 310 is coated with the coating member 1. ) is seated and then lowered to the outside of the chuck 100, the through hole 122 is closed to prevent outside air from flowing into the seating space 111.

이때 코팅부재(1)가 상기 안착공간(111)에 안착된 후 코팅액을 분사시키는 노즐부(600)를 더 포함하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable to further include a nozzle unit 600 that sprays the coating liquid after the coating member 1 is seated in the seating space 111.

본 발명의 회전 코팅 장치(10)는 코팅부재(1)의 상측에 코팅액을 분사한 후 탑커버(200)를 안착시켜 닫은 후 코팅부재(1)를 회전시켜 코팅층을 균일하게 형성시키는 장치로, 여기서 코팅부재(1)는 기판 또는 코팅부재와 같이 정교한 코팅을 필요로 하는 부재를 의미한다.The rotary coating device 10 of the present invention is a device that sprays a coating liquid on the upper side of the coating member 1, seats and closes the top cover 200, and then rotates the coating member 1 to form a uniform coating layer, Here, the coating member 1 refers to a member that requires elaborate coating, such as a substrate or a coating member.

척(100)은 코팅부재(1)가 안착되는 안착부(110)와, 안착부(110)의 저면에 형성되어 회전하는 회전플레이트(120)와, 안착부(110)에 외측 둘레에 형성되는 유로링(150)과, 유로링(150) 하측에 형성되는 집적링(160)과, 공기의 배출 시 유로를 형성하는 유로플레이트(170)와, 안착부(110)의 상측을 감싸도록 형성되는 바울(180)과, 회전플레이트(120)와 연결되어 회전 구동력을 제공하는 회전구동부(190)로 형성되어 코팅부재(1)가 안정적으로 회전하도록 하는 동시에 남은 코팅액과 안착공간(111)에 잔존하는 공기를 원활하고 안정적으로 배출시킨다.The chuck 100 includes a seating portion 110 on which the coating member 1 is seated, a rotating plate 120 formed on the bottom of the seating portion 110 and rotating, and a rotating plate 120 formed around the outer periphery of the seating portion 110. The flow ring 150, the integrated ring 160 formed on the lower side of the flow ring 150, the flow path plate 170 that forms a flow path when air is discharged, and the upper side of the seating portion 110 are formed to surround the It is formed by a bowl 180 and a rotation drive unit 190 that is connected to the rotation plate 120 and provides rotational driving force to allow the coating member 1 to rotate stably while at the same time removing the remaining coating liquid and the remaining coating in the seating space 111. It exhausts air smoothly and stably.

안착부(110)는 코팅부재(1)가 수용될 수 있도록 코팅부재(1)의 외측을 감싸도록 형성되어 안착공간(111)을 형성하고, 둘레를 따라 회전 시 코팅부재(1)에서 방사되는 코팅액 및 안착공간(111)에 잔존하는 공기가 배출될 수 있는 회수홀(112)이 일정간격으로 형성된다.The seating portion 110 is formed to surround the outside of the coating member 1 so that the coating member 1 can be accommodated, forming a seating space 111, and when rotating along the circumference, radiates from the coating member 1. Recovery holes 112 through which the coating liquid and air remaining in the seating space 111 can be discharged are formed at regular intervals.

따라서 코팅부재(1)는 회전 시 안착부(110)의 내측 안착공간(111)에 수용되어 안정적인 상태로 회전되어 방사되는 코팅액 또한 외부로 배출되어 회전이 멈춘 후 코팅부재(1)로 남은 코팅액이 떨어지는 것을 방지하여 코팅 공정의 신뢰도를 향상시킨다.Therefore, when the coating member 1 rotates, it is accommodated in the inner seating space 111 of the seating part 110 and rotates in a stable state. The coating liquid radiated is also discharged to the outside, and the coating liquid remaining in the coating member 1 after the rotation stops is It improves the reliability of the coating process by preventing falling.

회전플레이트(120)는 안착부(110)의 저면에 형성되고, 코팅부재(1)가 안착되는 안착리브(121)와, 포크핀(310)이 안착공간(111)으로 승하강할 수 있는 관통홀(122)과, 커버(210)플레이트에 형성된 정렬핀(221)과 체결되는 체결홈(122)과, 차폐부(400)가 안착되는 수용홈(123)이 형성되어 코팅부재(1)가 안정적으로 회전할 수 있도록 한다.The rotating plate 120 is formed on the bottom of the seating part 110, and has a seating rib 121 on which the coating member 1 is seated, and a through hole through which the fork pin 310 can be raised and lowered into the seating space 111. (122), a fastening groove 122 that is fastened to the alignment pin 221 formed on the cover 210 plate, and a receiving groove 123 in which the shield 400 is seated are formed so that the coating member 1 is stable. Allow it to rotate.

안착리브(121)는 코팅부재(1)의 둘레를 사방으로 지지하여 회전 시 안정적으로 고정될 수 있도록 하며, 일 예의 안착리브(121)는 코팅부재(1)의 각 모서리를 양 측에서 지지할 수 있도록 서로 대향하는 한 쌍이 사방으로 배치된다. 이때 포크핀(310)의 하강에 따라 코팅부재(1)가 안착되면서 안착리브(121)의 간섭에 의해 손상이 발생되지 않도록 하측으로 갈수록 돌출되도록 경사져 형성되는 것이 바람직하다.The seating rib 121 supports the circumference of the coating member 1 in all directions so that it can be stably fixed when rotating, and an example of the seating rib 121 supports each corner of the coating member 1 on both sides. A pair facing each other is placed in all directions so that At this time, as the coating member 1 is seated as the fork pin 310 descends, it is preferable to be inclined so as to protrude downward to prevent damage due to interference of the seating rib 121.

따라서 코팅부재(1)의 외주면의 사방 각 모서리의 양 외측면을 안착리브(121)가 지지할 수 있도록 하여 코팅부재(1)와 안착리브(121)가 최소한의 접촉면적을 갖는 동시에 사방을 지지하여 회전 시 및 정지 시에도 코팅부재(1)가 안정적으로 고정되도록 한다.Therefore, the seating ribs 121 are able to support both outer surfaces of each corner of the outer peripheral surface of the coating member 1, so that the coating member 1 and the seating ribs 121 have a minimum contact area and support all directions at the same time. This ensures that the coating member (1) is stably fixed even when rotating and stopping.

또한 회전플레이트(120)에서 일정 거리 이격되되 안착공간(111) 내 수용될 수 있도록 안착공간(111)으로 소정 길이 돌출되어 형성된다. 여기서 안착리브(121)의 수 및 배치 방법은 코팅부재(1)의 종류 및 형상에 따라 달라질 수 있으며, 이는 통상의 기술자의 수준에서 자명한 사항에 해당한다.In addition, it is formed to be spaced a certain distance from the rotation plate 120 and protrude a predetermined length into the seating space 111 so that it can be accommodated in the seating space 111. Here, the number and arrangement method of the seating ribs 121 may vary depending on the type and shape of the coating member 1, and this is obvious to those skilled in the art.

관통홀(122)은 포크핀(310)이 승하강하면서 코팅부재(1)가 안착공간(111)으로 안착되거나 안착공간(111)으로부터 외측으로 안전하게 이동될 수 있도록 포크핀(310)이 회전플레이트(120)를 관통하도록 형성된다. 따라서 관통홀(122)은 안착리브(121)의 근접하여 형성되는 것이 바람직하다.The through hole 122 is a rotating plate for the fork pin 310 so that the coating member 1 can be seated in the seating space 111 or safely moved outward from the seating space 111 as the fork pin 310 moves up and down. It is formed to penetrate (120). Therefore, it is preferable that the through hole 122 is formed adjacent to the seating rib 121.

체결홈(122)은 커버(210)플레이트에 형성된 정렬핀(221)이 체결되어 회전 시에도 척(100)과 탑커버(200)가 안정적으로 체결되어 안착공간(111)의 밀폐력을 보다 향상시키며, 이를 위해 체결홈(122)은 정렬핀(221)의 위치에 대응하여 형성되고, 적어도 2 개 이상으로 형성되는 것이 바람직하다.The fastening groove 122 is fastened with the alignment pin 221 formed on the cover 210 plate, so that the chuck 100 and the top cover 200 are stably fastened even when rotating, further improving the sealing force of the seating space 111. , for this purpose, the fastening grooves 122 are formed to correspond to the positions of the alignment pins 221, and are preferably formed in at least two pieces.

수용홈(123)은 회전플레이트(120)의 저면에 형성되고, 차폐부(400)가 관통홀(122)을 폐쇄하였을 때 연장부(420)가 안착될 수 있도록 하여, 차폐부(400)를 보호하며, 회전부(410)를 기준으로 차폐부(400)가 회동할 때 간섭이 발생되지 않도록 한다.The receiving groove 123 is formed on the bottom of the rotating plate 120 and allows the extension part 420 to be seated when the shielding part 400 closes the through hole 122, thereby securing the shielding part 400. It protects and prevents interference from occurring when the shielding unit 400 rotates with respect to the rotating unit 410.

구체적으로 제1 실시 예의 차폐부(400)가 형성된 경우에는 관통홀(122)을 폐쇄한 상태에서 연장부(420)만이 수용되도록 하나의 수용홈(123)이 형성되나, 제2 실시 예의 차폐부(2400)가 형성된 경우에는 관통홀(122)을 폐쇄한 상태에서는 연장부(2420)가 수용되는 수용홈(2123)과 관통홀(122)이 개방된 상태에서는 연동부(2450)가 수용되는 수용홈(2123)이 각각 형성된다.Specifically, when the shielding portion 400 of the first embodiment is formed, one receiving groove 123 is formed to accommodate only the extension portion 420 with the through hole 122 closed, but the shielding portion of the second embodiment is formed. When (2400) is formed, the receiving groove 2123 accommodates the extension portion 2420 when the through hole 122 is closed, and the receiving groove 2123 accommodates the linking portion 2450 when the through hole 122 is open. A groove 2123 is formed, respectively.

또한 제2 실시 예의 차폐부(2400)가 형성된 경우에는 추가로 금속부(2124)가 추가로 형성되어 자성부(2440)가 부착될 수 있도록 한다. 차폐부(2400) 작동 방법에 대해서는 추후 자세히 설명하기로 한다.Additionally, when the shielding portion 2400 of the second embodiment is formed, a metal portion 2124 is additionally formed to enable the magnetic portion 2440 to be attached. The operation method of the shield 2400 will be described in detail later.

유로링(150)은 안착부(110)의 하측에 배치되고, 회수홀(112)을 통해 배출되는 코팅액을 모으는 동시에 배출되는 공기의 이동 경로를 가이드하는 경사부(151)와, 공기의 배출유로를 형성하는 제1유로리브(152)로 형성되어 방사되는 코팅액은 일 측으로 모일 수 있도록 하며 배출된 공기는 안정적으로 척(100)의 외부로 배출되도록 한다.The flow ring 150 is disposed on the lower side of the seating portion 110 and includes an inclined portion 151 that collects the coating liquid discharged through the recovery hole 112 and guides the movement path of the discharged air, and an air discharge passage. It is formed by the first channel rib 152, which allows the emitted coating liquid to collect on one side and the discharged air to be stably discharged to the outside of the chuck 100.

집적링(160)은 유로링(150)의 하측에 배치되고, 경사부(151)의 최외측 둘레를 따라 형성된 집적홈(161)과, 제1유로리브(152)의 내측으로 소정 거리 이격된 제2유로리브(162)로 형성되어 유로링(150)과의 상호 관계에서 코팅액을 안정적으로 집적하는 동시에 공기의 배출이 원활하도록한다.The integration ring 160 is disposed on the lower side of the flow ring 150, and is spaced a predetermined distance apart from the integration groove 161 formed along the outermost circumference of the inclined portion 151 and the inside of the first flow path rib 152. It is formed of a second flow path rib 162 to stably accumulate the coating liquid in a mutual relationship with the flow path ring 150 and at the same time ensure smooth discharge of air.

구체적으로 유로링(150)과 집적링(160)은 상하방향으로 결합되고, 경사면을 따라 흘러내리는 코팅액은 집적홈(161)에 안정적으로 모이고, 제1유로리브(152)과 제2유로리브(162)를 통해 공기가 배출되는 공기 유로를 형성하여 회전 하는 동안에도 집적된 코팅액이 재유입되는 것으로 방지하고, 공기가 안정적으로 배출되도록 하여 안착공간(111)에 진공이 형성되는 동안 코팅부재(1)에 진동 등과 같은 현상이 발생되지 않도록 한다.Specifically, the flow ring 150 and the integration ring 160 are coupled in the vertical direction, and the coating liquid flowing down the inclined surface is stably collected in the integration groove 161, and the first flow path rib 152 and the second flow path rib ( 162) to form an air flow path through which air is discharged, preventing the accumulated coating liquid from re-introducing even during rotation, and allowing air to be discharged stably, so that while a vacuum is formed in the seating space 111, the coating member (1) ) to prevent phenomena such as vibration from occurring.

이를 위해 집적링(160)은 제2유로리브(162)의 내측으로 배출홀(1621)이 형성되어 제1,2유로리브(152,162)에 의해 형성된 유로를 통해 이동되는 공기가 원활하게 배출할 수 있도록 한다. 이때 제1,2 유로리브(152,162)에 의해 형성되는 유로와 배출홀(1621) 사이에는 공기가 전체면적으로 분산되어 안정적으로 배출될 수 있도록 유로플레이트(170)가 형성되는 것이 바람직하다.For this purpose, the collecting ring 160 has a discharge hole 1621 formed on the inside of the second flow path rib 162 so that air moving through the flow path formed by the first and second flow path ribs 152 and 162 can be smoothly discharged. Let it happen. At this time, it is preferable that a flow path plate 170 is formed between the flow path formed by the first and second flow path ribs 152 and 162 and the discharge hole 1621 so that air can be distributed over the entire area and discharged stably.

유로플레이트(170)는 제1,2 유로리브(152,162)에 의해 형성되는 유로와 배출홀(1621) 사이에 배치되는 링으로 형성되고, 유로와 배출홀(1621)을 연통시키는 연통홀(171)이 형성되어 공기가 배출될 수 있도록 하며, 유로플레이트(170)는 2개의 층으로 형성될 수 있고, 서로 다른 유로플레이트(170)에 형성된 연통홀(171)은 서로 어긋나도록 형성되어 공기가 보다 안정적으로 배출될 수 있도록 하는 것이 바람직하다.The flow path plate 170 is formed as a ring disposed between the flow path formed by the first and second flow path ribs 152 and 162 and the discharge hole 1621, and has a communication hole 171 that communicates the flow path and the discharge hole 1621. This is formed to allow air to be discharged, and the euro plate 170 can be formed in two layers, and the communication holes 171 formed in different euro plates 170 are formed to be offset from each other to make the air more stable. It is desirable to allow it to be discharged to .

따라서 본 발명의 회전 코팅 장치(10)는 코팅에 필요한 양을 초과하는 코팅액이 척(100)의 외부로 배출되도록 하여 코팅부재(1)에 형성되는 코팅층이 균일하도록 하는 동시에 코팅 후 코팅액이 코팅부재(1)로 재유입되지 않도록 하여 코팅의 신뢰도를 현저히 향상시킨다.Therefore, the rotary coating device 10 of the present invention allows the coating liquid in excess of the amount required for coating to be discharged to the outside of the chuck 100 to ensure that the coating layer formed on the coating member 1 is uniform, and at the same time, the coating liquid after coating is discharged to the outside of the chuck 100. (1) The reliability of the coating is significantly improved by preventing re-inflow.

또한 안착공간(111)에 잔존하는 공기를 전체 면적에서 균일하게 배출될 수 있도록 하여 안착공간(111)에 발생할 수 있는 공기의 불규칙한 흐름을 최소화하여 코팅층이 불균일하게 형성되는 것을 방지하는 동시에 코팅부재(1)의 흔들림을 방지하여 코팅 신뢰도 향상 효과를 증대시킨다.In addition, by allowing the air remaining in the seating space 111 to be discharged uniformly over the entire area, the irregular flow of air that may occur in the seating space 111 is minimized to prevent the coating layer from being formed unevenly, and at the same time, the coating member ( 1) Prevents shaking and increases the effect of improving coating reliability.

바울(180)은 척(100)의 안착부(110)의 외측으로 감싸는 동시에 내주면 말단부가 절곡되어 안착공간(111)의 상측 일부를 덮도록 형성되어 안착공간(111)을 외부로부터 보호하는 동시에 탑커버(200)가 밀착될 수 있는 일정 면적을 제공하여 안착공간(111)의 밀폐력을 확보한다.The bowl 180 wraps around the outside of the seating portion 110 of the chuck 100 and is formed at the end of the inner circumferential surface to be bent to cover a portion of the upper side of the seating space 111, thereby protecting the seating space 111 from the outside and protecting the top. The sealing force of the seating space 111 is secured by providing a certain area where the cover 200 can be closely adhered.

회전구동부(190)는 회전플레이트(120)에 연결되어 코팅부재(1)가 안착된 후 회전 구동력을 제공한다. 이때 회전구동부(190)와 회전플레이트(120)가 연결될 수 있도록 척(100)을 구성하는 다른 구성들은 링 형상을 가질 수 있다.The rotation drive unit 190 is connected to the rotation plate 120 and provides rotational driving force after the coating member 1 is seated. At this time, other components constituting the chuck 100 may have a ring shape so that the rotation drive unit 190 and the rotation plate 120 can be connected.

탑커버(200)는 바울(180)의 개방된 상측면을 덮는 커버(210)와 안착부(110)의 상측에 결합되어 안착공간(111)을 밀폐시키는 커버(210)플레이트와, 척(100)으로부터 탑커버(200)를 안착 및 분리시키는 커버(210)구동부로 형성되어 회전 코팅 공정 시 안착공간(111)이 외부와 구별되도록 하는 동시에 코팅부재(1)를 쉽게 안착 및 이탈시킬 수 있도록 한다.The top cover 200 includes a cover 210 that covers the open upper side of the bowl 180, a cover 210 plate that is coupled to the upper side of the seating portion 110 to seal the seating space 111, and a chuck 100. ) It is formed as a cover 210 driving part that seats and separates the top cover 200 from the top cover 200, so that the seating space 111 can be distinguished from the outside during the rotation coating process and at the same time allows the coating member 1 to be easily seated and removed. .

이때 커버(210)의 외주면에는 바울(180)의 상측면에 밀착되는 씰링(211)을 더 구비하고 있으며, 커버(210)플레이트에는 회전 시에도 안착부(110)와 안정적으로 결합될 수 있도록 체결홈(122)에 삽입되어 고정되는 정렬핀(221)이 형성된다. 이때 안정적인 고정을 위하여 정렬핀(221)은 적어도 2개 이상으로 형성되는 것이 바람직하다.At this time, the outer peripheral surface of the cover 210 is further provided with a sealing 211 that is in close contact with the upper side of the bowl 180, and the cover 210 plate is fastened so that it can be stably coupled to the seating portion 110 even when rotating. An alignment pin 221 is formed that is inserted and fixed into the groove 122. At this time, for stable fixation, it is preferable that at least two alignment pins 221 are formed.

또한 커버(210)구동부는 탑커버(200)의 상하방항의 이동의 가이드하는 커버(210)이동라인과, 커버(210)이동라인과 커버(210) 및 커퍼플레이트를 연결하는 커버(210)연결부로 형성되어 탑커버(200)를 승하강시킨다.In addition, the cover 210 driving part includes a cover 210 moving line that guides the upward and downward movement of the top cover 200, and a cover 210 connection part that connects the cover 210 moving line with the cover 210 and the cover plate. It is formed to raise and lower the top cover 200.

포크핀부(300)는 척(100)의 하측에 형성되고, 승하강되며 안착공간(111)의 내외부로 이동되는 포크핀(310)과, 포크핀(310)의 이동을 가이드하는 가이드플레이트(320)와, 포크핀(310)을 이동시키는 포크구동부(330)로 형성되어 코팅부재(1)와 최소 접촉면적을 가지면서 안착리브(121)에 안착시킨다.The fork pin unit 300 is formed on the lower side of the chuck 100, and includes a fork pin 310 that moves up and down and moves in and out of the seating space 111, and a guide plate 320 that guides the movement of the fork pin 310. ) and a fork driving part 330 that moves the fork pin 310 and is seated on the seating rib 121 while having a minimum contact area with the coating member 1.

포크핀(310)은 코팅부재(1)의 안정적인 승하강을 위해 각 모서리에서 내측으로 일정 거리 이격된 위치를 지지할 수 있도록 복수 개로 형성되며, 이에 따라 안착리브(121)의 근접하여 형성되는 바람직하다.The fork pins 310 are formed in plural pieces to support positions spaced a certain distance inward from each corner for stable raising and lowering of the coating member 1. Accordingly, they are preferably formed close to the seating rib 121. do.

가이드플레이트(320)는 이동방향으로 길게 연장된 포크핀(310)이 안정적으로 이동될 수 있도록 포크핀부(300)가 이동 경로 상에 설치되어 복수 개의 포크핀(310)의 위치에 대응하여 가이드홀(321)이 형성된다. 이에 따라 포크핀(310)은 반복적인 승하강에도 미리 설계된 오차범위 내에서만 이동가능하여 코팅부재(1)은 안정적인 고정이 가능하도록 한다.The guide plate 320 has a fork pin portion 300 installed on the movement path so that the fork pins 310 extending long in the direction of movement can be moved stably, and has a guide hole corresponding to the position of the plurality of fork pins 310. (321) is formed. Accordingly, the fork pin 310 can move only within a pre-designed error range even if it is repeatedly raised and lowered, so that the coating member 1 can be stably fixed.

포크구동부(330)는 복수 개의 포크핀(310)이 고정된 포크플레이트(331)와, 포크플레이트(331) 일 측에 연결되어 포크플레이트(331)를 승하강시키는 포크플레이트(331)이동부로 형성되어 복수 개의 포크핀(310)이 일체로서 승하강하도록 하여 코팅부재(1)의 안정적인 이동이 가능하도록 한다.The fork driving unit 330 is formed of a fork plate 331 to which a plurality of fork pins 310 are fixed and a fork plate 331 moving part that is connected to one side of the fork plate 331 and raises and lowers the fork plate 331. The plurality of fork pins 310 are raised and lowered as one unit to enable stable movement of the coating member 1.

이에 따라 코팅부재(1)는 복수의 안착리브(121) 사이에 안정적으로 안착될 수 있어 안착 시 안착위치 오류로 인해 스크레치 등의 손상을 최소화하고, 회전 시에도 안정적인 고정이 가능하여 코팅액이 코팅부재(1)의 전체적인 면적에 고루 분산될 수 있도록 하여 코팅의 신뢰성을 향상시킨다.Accordingly, the coating member 1 can be stably seated between the plurality of seating ribs 121, minimizing damage such as scratches due to seating position errors during seating, and stable fixation is possible even when rotating, so that the coating liquid is not absorbed into the coating member. (1) It improves the reliability of the coating by allowing it to be evenly distributed over the entire area.

차폐부(400)는 회전플레이트(120)의 저면에 회전가능하도록 고정된 회전부(410)와, 회전부(410)의 일 측에서 연장되어 관통홀(122)을 개폐시키는 연장부(420)로 형성되어 포크핀(310)이 안착공간(111)의 내측으로 이동될 수 있도록 형성된 관통홀(122)을 개폐시킨다.The shield 400 is formed of a rotating part 410 rotatably fixed to the bottom of the rotating plate 120, and an extension part 420 extending from one side of the rotating part 410 to open and close the through hole 122. This opens and closes the through hole 122 formed so that the fork pin 310 can be moved inside the seating space 111.

구체적으로 제1 실시 예의 차폐부(400)는 회전부(410)와, 회전부(410)의 일 측에서 반경방향으로 연장된 연장부(420)와, 회전부(410)의 타 측에서 연장된 방지돌기(430)로 형성되고, 회전플레이트(120)의 회전에 의해 발생되는 원심력에 의해 회전부(410)를 기준으로 연장부(420)가 회전하면서 수용홈(123)에 밀착된다.Specifically, the shielding part 400 of the first embodiment includes a rotating part 410, an extension part 420 extending radially from one side of the rotating part 410, and an anti-protrusion extending from the other side of the rotating part 410. It is formed as (430), and the extension part 420 rotates with respect to the rotary part 410 by the centrifugal force generated by the rotation of the rotary plate 120 and comes into close contact with the receiving groove 123.

이에 따라 회전플레이트(120)가 회전하기 시작하여 회전 속도에 따라 점진적으로 연장부(420)가 상승하면서 미리 설계된 회전 속도에 도달하면 수용홈(123)에 안착되어 회전 코팅 공정동안 안착공간(111)을 밀폐하고, 회전이 중지되면 자동으로 수용홈(123)에서 연장부(420)가 분리되면서 안착공간(111)으로 외부 공기가 유입되어 탑커버(200)와 척(100)이 분리가 용이하도록 한다.Accordingly, the rotation plate 120 begins to rotate, and the extension portion 420 gradually rises according to the rotation speed, and when it reaches the pre-designed rotation speed, it is seated in the receiving groove 123 and is placed in the seating space 111 during the rotation coating process. is sealed, and when rotation stops, the extension part 420 is automatically separated from the receiving groove 123 and external air flows into the seating space 111 to facilitate separation of the top cover 200 and chuck 100. do.

이때 방지돌기(430)는 연장부(420)와 다른 방향으로 연장되어 회전부(410)의 회전에 간섭되지 않는 동시에 원심력에 따라 차폐부(400)가 관통홀(122)에 밀착된 상태에서 회전축과 나란하게 형성되어 안정적인 밀착이 가능하도록 한다.At this time, the prevention protrusion 430 extends in a different direction from the extension part 420 so as not to interfere with the rotation of the rotating part 410, and at the same time, the shielding part 400 is in close contact with the through hole 122 according to centrifugal force. They are formed side by side to enable stable adhesion.

제2 실시 예의 차폐부(2400)는 회전부(2410)와, 회전부(2410)의 일 측에서 연장된 연장부(2420)와, 연장부(2420)의 일 측에 형성된 자성부(2440)와, 회전부(2410)에서 돌출되어 형성된 방지돌기(2430)와, 회전부(2410)의 타 측에서 연장된 연동부(2450)로 형성되어 개폐부(2500)를 통해 연장부(2420)를 수용홈(2123)에 밀착 및 이탈되도록 한다. 이때 제2 실시 예의 차폐부(2400)는 자력으로 회전플레이트(120)에 밀착되고, 가압력에 의해 회전플레이트(120)에서 분리되어 안착공간(111)의 안정적인 밀폐력을 제공한다.The shielding part 2400 of the second embodiment includes a rotating part 2410, an extension part 2420 extending from one side of the rotating part 2410, and a magnetic part 2440 formed on one side of the extending part 2420, It is formed by an prevention protrusion 2430 protruding from the rotating part 2410 and an interlocking part 2450 extending from the other side of the rotating part 2410, and a receiving groove 2123 for receiving the extension part 2420 through the opening and closing part 2500. Ensure that it adheres closely to and separates from. At this time, the shielding portion 2400 of the second embodiment is in close contact with the rotating plate 120 by magnetic force, and is separated from the rotating plate 120 by pressing force to provide a stable sealing force of the seating space 111.

구체적으로 제2 실시 예의 차폐부(2400)는 연장부(2420)의 말단으로 고압의 공기를 분사시켜 회전부(2410)를 기준으로 연장부(2420)를 회전시켜 금속부(2124)에 연장부(2420) 일 측에 형성된 자성부(2440)가 자력에 의해 부착되도록 하여 관통홀(122)을 폐쇄시키고, 코팅부재(1)의 코팅이 완료된 후에는 개폐부(2500)로 연동부(2450)를 가압하여 지렛대 원리를 통해 연장부(2420)가 회전부(2410)를 기준으로 반대로 회전하도록 하여 금속부(2124)로부터 분리시켜 관통홀(122)을 개방한다.Specifically, the shielding part 2400 of the second embodiment sprays high-pressure air to the end of the extension part 2420 to rotate the extension part 2420 based on the rotating part 2410 to form an extension part ( 2420) The magnetic part 2440 formed on one side is attached by magnetic force to close the through hole 122, and after the coating of the coating member 1 is completed, the linking part 2450 is pressed by the opening and closing part 2500. Accordingly, the extension part 2420 is rotated in the opposite direction relative to the rotating part 2410 through the lever principle, thereby separating it from the metal part 2124 to open the through hole 122.

또한 가압부(2512)가 연동부(2450)를 가압하여 관통홀(122)이 개방된 상태에서 방지돌기(2430)가 가압부(2512)의 일 측에 닿아서 더 이상 회전하지 않도록 하여 블로워(2511)와 연장부(2420)가 일직선상에 위치할 수 있도록 하여 차후 회전 코팅 공정이 원활하도록 한다.In addition, when the pressing part 2512 presses the linking part 2450 and the through hole 122 is open, the prevention protrusion 2430 touches one side of the pressing part 2512 to prevent further rotation, thereby preventing the blower ( 2511) and the extension portion 2420 are positioned in a straight line to ensure smooth subsequent rotation coating process.

이에 따라 제2 실시 예의 차폐부(2400)가 형성된 회전 코팅 장치(10)는 회전을 시작 전부터 관통홀(122)을 폐쇄시켜 회전 초기부터 공기가 배출되도록 하여, 회전 공정 내내 안착공간(111)의 압력이 안정적으로 유지되어 코팅부재(1)에 발생될 수 있는 진동 등을 최소화한다.Accordingly, the rotation coating device 10 in which the shielding portion 2400 of the second embodiment is formed closes the through hole 122 before starting rotation to allow air to be discharged from the beginning of rotation, so that the seating space 111 is maintained throughout the rotation process. The pressure is maintained stably to minimize vibration that may occur in the coating member (1).

정리 하면, 본 발명의 회전 코팅 장치(10)는 제1,2 실시 예의 차폐부(400,2400)는 서로 다른 장점을 가져 필요 및 설계에 맞춰 선택하여 설치할 수 있으며, 구체적으로는 제1 실시 예의 차폐부(400)는 간단한 구조를 가지고 회전에 의해 발생되는 원심력을 구동력으로 하여 별도의 장치 및 구조를 필요로 하지 않아 활용도가 높으며, 제2 실시 예의 차폐부(2400)는 회전 공정 시작부터 관통홀(122)을 폐쇄시켜 안착공간(111)의 안정성을 높이면서, 개폐를 보다 확실히하여 코팅 공정의 신뢰도 향상을 증대시킨다.In summary, the rotation coating device 10 of the present invention has different advantages from the shielding portions 400 and 2400 of the first and second embodiments, so that they can be selected and installed according to needs and designs. Specifically, the shielding portions 400 and 2400 of the first and second embodiments can be selected and installed according to needs and designs. The shielding unit 400 has a simple structure and uses the centrifugal force generated by rotation as a driving force, so it is highly usable as it does not require separate devices or structures. The shielding unit 2400 of the second embodiment has a through hole from the start of the rotation process. By closing (122), the stability of the seating space 111 is increased, and opening and closing is made more reliable, thereby increasing the reliability of the coating process.

개폐부(2500)는 제2 실시 예의 차폐부(2400)를 개폐시키는 개폐유닛(2500)과, 복수 개의 개폐유닛(2500)이 설치되는 개폐플레이트(2520)와, 개폐플레이트(2520)를 이동시키는 개폐플레이트(2520)이동부로 구성되어 승하강하며 차폐부(2400)를 개폐한다.The opening and closing unit 2500 includes an opening and closing unit 2500 that opens and closes the shielding unit 2400 of the second embodiment, an opening and closing plate 2520 on which a plurality of opening and closing units 2500 are installed, and an opening and closing unit that moves the opening and closing plate 2520. The plate 2520 is composed of a moving part and moves up and down to open and close the shield 2400.

개폐유닛(2500)은 하강된 위치에서 연장부(2420)의 말단에 공기를 분사시키는 블로워(2511)와, 승강된 위치에서 연동부(2450)를 가압하는 가압부(2512)로 형성되어 고압의 공기를 통해 개폐부(2500)를 관통홀(122)로 부착시켜 폐쇄하고, 가압력을 통해 연장부(2420)를 회동시켜 관통홀(122)로부터 개폐부(2500)를 이탈시켜 개방한다.The opening and closing unit 2500 is formed of a blower 2511 that sprays air to the end of the extension part 2420 in the lowered position and a pressurizing part 2512 that pressurizes the linking part 2450 in the raised position to provide high pressure. The opening and closing part 2500 is attached to the through hole 122 through air to close it, and the extension part 2420 is rotated through pressing force to separate the opening and closing part 2500 from the through hole 122 to open it.

또한 개폐유닛(2500)은 복수의 관통홀(122)을 개폐할 수 있도록 복수 개로 형성되고, 복수의 관통홀(122)이 동시에 개폐될 수 있도록 개폐플레이트(2520)에 일정 간격을 두고 설치되고, 개폐플레이트(2520) 일 측에는 개폐플레이트(2520)이동부가 형성되어 개폐플레이트(2520)를 상하방향으로 승강시킨다.In addition, the opening and closing units 2500 are formed in plural pieces to open and close the plurality of through holes 122, and are installed at regular intervals on the opening and closing plate 2520 so that the plurality of through holes 122 can be opened and closed at the same time, An opening and closing plate 2520 moving part is formed on one side of the opening and closing plate 2520 to lift and lower the opening and closing plate 2520 in the vertical direction.

따라서 개폐플레이트(2520)이동부에 의해 개폐유닛(2500)은 하강된 상태에는 블로워(2511)의 공기 분사 방향과 연장부(2420)의 말단에 형성된 개방면(2441)이 일직선 상에 놓이도록 하며, 승강된 상태에는 가압부(2512)가 수용홈(2123)의 내측에 위치될 수 있는 위치까지 상승하며 관통홀(122)을 안정적으로 개폐시킨다.Therefore, when the opening and closing unit 2500 is lowered by the moving part of the opening and closing plate 2520, the air injection direction of the blower 2511 and the open surface 2441 formed at the end of the extension part 2420 are aligned in a straight line. , In the lifted state, the pressurizing portion 2512 rises to a position where it can be located inside the receiving groove 2123 and stably opens and closes the through hole 122.

노즐부(600)는 코팅액을 분사시키는 분사노즐(610)과, 분사노즐(610)이 척(100)의 상측과 척(100)의 외측으로 이동되도록 회동시키는 노즐회동부(620)로 형성되어 코팅부재(1)의 일 측에 코팅액을 분사시킨다.The nozzle unit 600 is formed of a spray nozzle 610 that sprays the coating liquid, and a nozzle rotation portion 620 that rotates the spray nozzle 610 to move to the upper side of the chuck 100 and the outside of the chuck 100. Spray the coating liquid on one side of the coating member (1).

이에 따라 노즐부(600)는 코팅 공정 전에 회동하여 안착리브(121)에 안착된 코팅부재(1)의 상측에 코팅액을 분사하고, 분사가 완료된 후에는 탑커버(200)가 하강되도록 다시 회동하여 척(100)의 외측으로 배치된다.Accordingly, the nozzle unit 600 rotates before the coating process to spray the coating liquid on the upper side of the coating member 1 seated on the seating rib 121, and after the spraying is completed, it rotates again to lower the top cover 200. It is disposed on the outside of the chuck 100.

따라서 본 발명의 회전 코팅 장치(10)는 회전 코팅 공정에서 탑커버(200)를 하강시켜 안착공간(111)을 폐쇄시키는 closed 방식이 코딩 장치이며, 안착공간(111) 폐쇄 시 포크핀(310)이 이동되는 관통홀(122)을 폐쇄시키는 차폐부(400,2400)를 구비하여 회수홀(112)로 안착공간(111)에 잔존하는 공기를 배출시켜 코팅부재(1)의 안정적인 회전이 가능하도록 한다.Therefore, the rotary coating device 10 of the present invention is a closed coding device that lowers the top cover 200 in the rotary coating process to close the seating space 111, and when the seating space 111 is closed, the fork pin 310 It is provided with shielding parts 400 and 2400 that close the moving through hole 122 to discharge the air remaining in the seating space 111 through the recovery hole 112 to enable stable rotation of the coating member 1. do.

또한 코팅부재(1)에 안착리브(121)가 접촉되는 면적을 최소화하여 회전 시 코팅부재(1)에 발생하는 손상을 최소화하고, 안착공간(111)의 내부 압력을 진공으로 유지할 수 있도록 하여 코팅부재(1)에 진동 및 휨이 발생되는 것을 방지하여 코팅층이 균일하게 형성되도록 하는 동시에 원심력과 표면 장력에 의해 코팅부재(1)의 에지에 리코일링 되어 발생되는 에지비드를 방지하여 코팅 고정의 신뢰도를 현저히 향상시킨다.In addition, the area where the seating rib 121 is in contact with the coating member 1 is minimized to minimize damage to the coating member 1 when rotating, and the internal pressure of the seating space 111 can be maintained in a vacuum to maintain the coating. It prevents vibration and bending from occurring in the member (1) and ensures that the coating layer is formed evenly. At the same time, it prevents edge beads caused by recoil on the edge of the coating member (1) due to centrifugal force and surface tension, thereby increasing the reliability of coating fixation. significantly improves.

이에 따라 궁극적으로 코팅부재(1)의 코팅 신뢰도를 향상시켜 제품의 불량률을 현저히 낮아지고, 제품의 신뢰도가 향상되는 효과를 갖는다.Accordingly, the coating reliability of the coating member 1 is ultimately improved, thereby significantly lowering the defect rate of the product and improving product reliability.

이하에서는 본 발명의 코팅 회전 장치의 코딩 방법에 대해 보다 구체적으로 알아보도록 한다.Below, we will look at the coding method of the coating rotation device of the present invention in more detail.

도 12는 도 1의 회전 코팅 장치의 코팅 방법의 순서도이고, 도 13은 도 12의 차폐부의 개폐 방법을 구체화한 순서도이며, 도 14(a) 내지 도 14(c)는 도 12의 회전 코팅 장치의 코팅 방법을 도시한 도면이다.FIG. 12 is a flowchart of the coating method of the rotary coating device of FIG. 1, FIG. 13 is a flowchart specifying the opening and closing method of the shield of FIG. 12, and FIGS. 14(a) to 14(c) are the rotary coating device of FIG. 12. This is a diagram showing the coating method.

도 12 내지 도 14를 참조하면, 본 발명의 회전 코팅 장치(10)의 코팅 방법은 초기 탑커버(200)가 상승된 상태에서 포크핀(310)을 승하강시키면서 코팅부재(1)를 안착공간(111)에 안착시키는 안착단계(S10)와, 코팅액을 분사시키고 안착공간(111)을 폐쇄시켜 회전 코팅을 준비하는 준비단계(S20)와, 척(100)을 회전시켜 코팅부재(1)의 일 측에 코팅층을 형성하는 코팅단계(S30)와, 안착공간(111)을 개방하고, 포크핀(310)을 상승시켜 코팅이 완료된 코팅부재(1)를 이동시키는 코팅부재(1)를 이동시키는 코팅 완료단계(S40)로 형성된다.12 to 14, the coating method of the rotary coating device 10 of the present invention involves raising and lowering the fork pin 310 while the initial top cover 200 is raised and placing the coating member 1 in the seating space. A seating step (S10) of seating the coating liquid on (111), a preparation step (S20) of preparing for rotary coating by spraying the coating liquid and closing the seating space (111), and rotating the chuck (100) to prepare the coating member (1). A coating step (S30) of forming a coating layer on one side, opening the seating space 111, and moving the coated member 1 by raising the fork pin 310. It is formed in the coating completion step (S40).

안착단계(S10)는 외부에서 코팅이 필요한 코팅부재(1)를 안착공간(111)에 안착시키는 단계로 탑커버(200)가 상승되어 안착공간(111)이 개방된 상태로 포크핀(310)을 상승시켜 안착공간(111)을 관통하여 상측으로 돌출되도록 하는 제1포크핀(310) 상승단계(S11)와, 코팅부재(1)가 안착된 로딩포크(2)를 이동시켜 포크핀(310)의 상측으로 코팅부재(1)를 안착시키는 제1 안착단계(S12)와, 포크핀(310)을 하강시켜 코팅부재(1)가 안착리브(121)에 접촉면적이 최소화되면서 안착 고정되는 제2 안착단계(S13)로 형성된다.The seating step (S10) is a step of seating the coating member 1 that requires coating from the outside into the seating space 111. The top cover 200 is raised and the seating space 111 is opened, and the fork pin 310 is placed in the seating space 111. The first fork pin 310 is raised to protrude upward through the seating space 111 (S11), and the fork pin 310 is moved by moving the loading fork 2 on which the coating member 1 is seated. ), a first seating step (S12) in which the coating member (1) is seated on the upper side, and a first seating step (S12) in which the fork pin (310) is lowered so that the coating member (1) is seated and fixed on the seating rib (121) while minimizing the contact area. 2 It is formed in the settling step (S13).

이와 같이 본 발명의 회전 코팅 장치(10)의 코팅 방법은 로딩포크(2)와 포크핀(310)과 안착리브(121)를 통해 코팅부재(1)가 회전 코팅을 위해 안착공간(111)에 안착되기까지 최소한의 접촉 면적을 갖도록 하여 과정 중 코팅부재(1)에 발생될 수 있는 벗겨짐 등을 최소화한다.In this way, the coating method of the rotary coating device 10 of the present invention is that the coating member 1 is placed in the seating space 111 for rotary coating through the loading fork 2, the fork pin 310, and the seating rib 121. By ensuring that there is a minimum contact area until it is seated, peeling that may occur on the coating member (1) during the process is minimized.

준비단계(S20)는 코팅부재(1)가 안착된 후 척(100)의 외측에 설치된 노즐부(600)의 분사노즐(610)이 안착공간(111)의 상측에 배치되도록 회전시키고, 일정 양의 코팅액을 분사하는 코팅액 분사단계(S21)와, 코팅액이 분사된 후 분사노즐(610)을 원위치로 복귀시키고, 탑커버(200)를 하강시켜 안착공간(111)을 폐쇄시키는 코팅 준비단계(S22)로 형성된다.In the preparation step (S20), after the coating member 1 is seated, the spray nozzle 610 of the nozzle unit 600 installed on the outside of the chuck 100 is rotated so that it is placed on the upper side of the seating space 111, and a predetermined amount A coating liquid spraying step (S21) in which the coating liquid is sprayed, and a coating preparation step (S22) in which the spray nozzle 610 is returned to its original position and the top cover 200 is lowered to close the seating space 111 after the coating liquid is sprayed. ) is formed.

코팅단계(S30)는 안착공간(111)이 폐쇄된 상태로 척(100)을 회전시켜 코팅부재(1)에 분사된 코팅액을 원심력에 의해 분산시켜 코팅층을 균일하게 형성한다. 구체적으로 코팅단계(S30)는 코팅 준비단계 후 관통홀(122)을 폐쇄하고 척(100)을 회전시켜 코팅층을 형성하고, 다시 관통홀(122)을 개방하여 탑커버(200)의 상승을 준비한다.In the coating step (S30), the chuck 100 is rotated with the seating space 111 closed to disperse the coating liquid sprayed on the coating member 1 by centrifugal force to uniformly form a coating layer. Specifically, in the coating step (S30), after the coating preparation step, the through hole 122 is closed and the chuck 100 is rotated to form a coating layer, and the through hole 122 is opened again to prepare for the top cover 200 to rise. do.

이때 제1 실시 예의 차폐부(400)의 경우 척(100)의 회전에 발생되는 원심력에 의해 관통홀(122)을 폐쇄할 수 있어 별도의 개폐 구조를 필요로 하지 않으며, 관통홀(122)의 개폐 및 회전 코팅이 동시에 이루어진다. 이때 척(100)은 0 rpm에서 점진적으로 회전 속도가 증가하여 150 rpm까지 증가되고 150rpm에서 안착홈에 밀착되어 관통홀(122)을 폐쇄한다.At this time, in the case of the shield 400 of the first embodiment, the through hole 122 can be closed by the centrifugal force generated by the rotation of the chuck 100, so a separate opening and closing structure is not required, and the through hole 122 Opening/closing and rotational coating are carried out simultaneously. At this time, the rotation speed of the chuck 100 gradually increases from 0 rpm to 150 rpm, and comes into close contact with the seating groove at 150 rpm to close the through hole 122.

제2 실시 예의 차폐부(2400)의 경우에는 별도의 개폐부(2500)를 가져, 블로워(2511)를 통해 고압의 공기의 분사력에 의해 금속부(2124)에 연장부(2420)의 일 측면에 형성된 자성부(2440)를 부착시켜 관통홀(122)의 폐쇄시키는 관통홀(122) 폐쇄단계(S31)와, 척(100)을 회전시켜 코팅액을 분산시켜 코팅층을 형성하는 단계(S32)와, 회전 완료 후 개폐유닛(2500)을 상승시켜 가압부(2512)가 연동부(2450)를 가압하도록 하여 금속부(2124)로부터 연장부(2420)를 분리시키는 관통홀(122) 개방단계(S33)로 형성된다.In the case of the shielding part 2400 of the second embodiment, it has a separate opening and closing part 2500, and is formed on one side of the extension part 2420 in the metal part 2124 by the injection force of high pressure air through the blower 2511. A step (S31) of closing the through hole 122 by attaching the magnetic portion 2440, a step (S32) of forming a coating layer by rotating the chuck 100 to disperse the coating liquid, and rotating the chuck (100). After completion, the opening and closing unit 2500 is raised to allow the pressing part 2512 to press the linking part 2450 to separate the extension part 2420 from the metal part 2124 in the opening step (S33) of the through hole 122. is formed

이와 같이 탑커버(200)의 개방 전 관통홀(122)을 먼저 개방함으로써 안착공간(111)으로 외부 공기가 일부 유입되도록 하여 압력차에 의해 발생되는 개방간섭을 감소시켜 코팅이 완료된 코팅부재(1)로 예상히지 못한 손상이 발생되지 않도록 한다.In this way, by first opening the through hole 122 before opening the top cover 200, some external air is allowed to flow into the seating space 111, thereby reducing the open interference caused by the pressure difference, and the coated member (1) has been coated. ) to prevent unexpected damage from occurring.

코팅 완료단계(S40)는 탑커버(200)를 상승시켜 안착공간(111)을 개방시키는 탑커버(200) 상승단계와, 포크핀(310)을 상승시켜 코팅층이 형성된 코팅부재(1)를 안착리브(121)에서 이탈시키는 제2포크핀(310) 상승단계(S41)와, 로딩포크(2)를 사용하여 코팅층이 형성된 코팅부재(1)를 외부로 이동시키는 완료단계(S42)로 형성되어 이동시에도 최소한의 접촉 면적을 통해 외부로 이동시킬 수 있어 코팅부재(1)의 손상을 방지한다.The coating completion step (S40) involves raising the top cover 200 to open the seating space 111 by raising the top cover 200, and seating the coating member 1 on which the coating layer is formed by raising the fork pin 310. It is formed of a step (S41) of raising the second fork pin 310 to separate from the rib 121, and a completion step (S42) of moving the coating member 1 on which the coating layer is formed to the outside using the loading fork 2. Even when moving, it can be moved to the outside with a minimum contact area, preventing damage to the coating member (1).

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시 예에 한정되는 것이 아니며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것은 본 발명의 보호범위에 해당한다.In the above, preferred embodiments of the present invention have been described by way of example, but the scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and any appropriate changes that can be made within the scope described in the patent claims are within the scope of protection of the present invention. It applies.

1 코팅부재 2 로딩포크
10 회전 코팅 장치
100 척 110 안착부
111 안착공간 112 회수홀
120 회전플레이트 121 안착리브
122 관통홀 122 체결홈
123,2123 수용홈
2124 금속부
150 유로링 151 경사부
152 제1유로리브
160 집적링 161 집적홈
162 제2유로리브 1621 배출홀
170 유로플레이트 171 연통홀
180 바울 190 회전구동부
200 탑커버 210 커버
211 씰링 220 커버플레이트
221 정렬핀 230 커버구동부
231 커버이동라인 232 커버연결부
300 포크핀부 310 포크핀
320 가이드플레이트 321 가이드홀
330 포크구동부 331 포크플레이트
332 포크플레이트이동부
400,2400 차폐부 410,2410 회전부
420,2420 연장부 430 방지돌기
2440 자성부 2441 개방면
2450 연동부
2500 개폐부 2510 개폐유닛
2511 블로워 2512 가압부
2520 개폐플레이트 2530 개폐플레이트이동부
600 노즐부 610 분사노즐
620 노즐회동부
1 Coating member 2 Loading fork
10 Rotating coating device
100 Chuck 110 Seating part
111 Seating space 112 Recovery hole
120 Rotating plate 121 Seating rib
122 through hole 122 fastening groove
123,2123 acceptance home
2124 metal parts
150 Euro ring 151 Inclined part
152 1st Eurolib
160 Integration ring 161 Integration groove
162 2nd euro rib 1621 discharge hole
170 Europlate 171 Plumbing hole
180 Paul 190 Rotation drive unit
200 top cover 210 cover
211 Sealing 220 Cover plate
221 Alignment pin 230 Cover driving part
231 Cover moving line 232 Cover connection part
300 fork pin part 310 fork pin
320 guide plate 321 guide hole
330 Fork driving part 331 Fork plate
332 Fork plate moving part
400,2400 Shielding part 410,2410 Rotating part
420,2420 Extension part 430 Anti-protrusion
2440 magnetic part 2441 open side
2450 linkage
2500 opening/closing unit 2510 opening/closing unit
2511 blower 2512 pressurizing part
2520 opening and closing plate 2530 opening and closing plate moving part
600 nozzle part 610 spray nozzle
620 Nozzle rotation part

Claims (7)

일 측으로 개방된 안착공간과, 상기 안착공간과 연통되는 관통홀과, 상기 관통홀의 위치에 대응하여 일정 면적의 금속부가 형성된 척;
상기 척의 일 측에 결합되어 상기 안착공간을 폐쇄시키는 탑커버;
상기 관통홀을 통해 상기 안착공간으로 승강되어 코팅부재를 상기 척에 안착시키는 포크핀;
상기 포크핀에 코팅부재가 안착된 후 상기 척의 외측으로 하강되면, 상기 관통홀을 폐쇄하여 외기가 상기 안착공간으로 유입되는 것을 방지하는 차폐부; 및
상기 차폐부를 상기 관통홀의 일 측으로 탈착시키는 개폐부;를 포함하고,
상기 차폐부는
회전 가능하도록 상기 척에 고정되는 회전부와, 상기 회전부의 일 측에서 연장되어 상기 관통홀의 일 측에 밀착되는 연장부와, 상기 연장부의 일 측에 형성되어 자성을 발생시키는 자성부와, 상기 회전부의 타 측에서 연장되어 상기 연장부를 상기 관통홀에서 분리시키는 연동부로 형성되어,
상기 개폐부에 의한 압력에 의해 상기 회전부를 중심으로 회전하고, 상기 자성부가 상기 금속부에 부착되며 상기 관통홀을 폐쇄시키는 것을 특징으로 하는 회전 코팅 장치.
A chuck having a seating space open on one side, a through hole communicating with the seating space, and a metal portion having a certain area corresponding to the position of the through hole.
A top cover coupled to one side of the chuck to close the seating space;
a fork pin that is lifted into the seating space through the through hole to seat the coating member on the chuck;
When the coating member is seated on the fork pin and lowered to the outside of the chuck, a shielding portion that closes the through hole to prevent outside air from flowing into the seating space; and
It includes an opening and closing part that attaches and detaches the shielding part to one side of the through hole,
The shielding part
A rotating part fixed to the chuck so as to be rotatable, an extension part extending from one side of the rotating part and in close contact with one side of the through hole, a magnetic part formed on one side of the extending part to generate magnetism, and the rotating part It is formed as an interlocking part that extends from the other side and separates the extension part from the through hole,
A rotational coating device, wherein the magnetic part is attached to the metal part and closes the through hole.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 개폐부는
상기 연장부의 말단부로 공기를 분사시켜 상기 연장부를 상기 금속부의 일 측에 부착시키는 블로워와, 상기 연동부를 가압하여 상기 연장부를 상기 금속부로부터 분리시키는 가압부로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전 코팅 장치.
According to paragraph 1,
The opening and closing part
A rotation coating device characterized in that it is formed by a blower that attaches the extension to one side of the metal part by spraying air to the distal end of the extension, and a pressurizing part that pressurizes the linkage part to separate the extension from the metal part.
제5항에 있어서,
상기 자성부는
상기 블로워에서 분사되는 공기가 상기 연장부의 일 지점에 집중되도록 개방면적이 점진적으로 좁아지도록 형성되어 상기 연장부의 일 지점이 노출되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 회전 코팅 장치.
According to clause 5,
The magnetic part
A rotation coating device characterized in that the open area is formed to gradually narrow so that the air sprayed from the blower is concentrated at one point of the extension section, so that one point of the extension section is exposed.
제1항에 있어서,
코팅부재가 상기 안착공간에 안착된 후 코팅제를 분사시키는 노즐부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 코팅 장치.
According to paragraph 1,
A rotary coating device further comprising a nozzle unit that sprays a coating agent after the coating member is seated in the seating space.
KR1020210137780A 2021-10-15 2021-10-15 Rotational coating device KR102638692B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210137780A KR102638692B1 (en) 2021-10-15 2021-10-15 Rotational coating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210137780A KR102638692B1 (en) 2021-10-15 2021-10-15 Rotational coating device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20230054145A KR20230054145A (en) 2023-04-24
KR102638692B1 true KR102638692B1 (en) 2024-02-20

Family

ID=86141524

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210137780A KR102638692B1 (en) 2021-10-15 2021-10-15 Rotational coating device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102638692B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100776281B1 (en) * 2006-06-20 2007-11-13 세메스 주식회사 Apparatus for treating substrates
JP2008501913A (en) 2004-06-08 2008-01-24 ライボルト オプティクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Gate device
JP2009236527A (en) 2008-03-26 2009-10-15 Dowa Technology Kk Weighing hopper
JP2010219190A (en) * 2009-03-16 2010-09-30 Dainippon Printing Co Ltd Thin film forming apparatus and thin film forming method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2845738B2 (en) * 1993-10-28 1999-01-13 大日本スクリーン製造株式会社 Substrate rotation holder for rotary substrate processing equipment
KR20160032501A (en) * 2014-09-16 2016-03-24 엘아이지인베니아 주식회사 The apparatus for chucking a substrate and the substrate processing apparatus comprising that

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008501913A (en) 2004-06-08 2008-01-24 ライボルト オプティクス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Gate device
KR100776281B1 (en) * 2006-06-20 2007-11-13 세메스 주식회사 Apparatus for treating substrates
JP2009236527A (en) 2008-03-26 2009-10-15 Dowa Technology Kk Weighing hopper
JP2010219190A (en) * 2009-03-16 2010-09-30 Dainippon Printing Co Ltd Thin film forming apparatus and thin film forming method

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230054145A (en) 2023-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7328713B2 (en) Nozzle apparatus for stripping edge bead of wafer
KR102638692B1 (en) Rotational coating device
US7276118B2 (en) Spin-coating apparatus for use in manufacturing semiconductor devices
JP3625752B2 (en) Liquid processing equipment
KR102269900B1 (en) Method and system for photoresist coating of a semiconductor wafer with backside edge bead removal using an ebr nozzle
JPH09298181A (en) Substrate rear surface washer
KR20070105162A (en) Apparatus for treating substrate
US11823914B2 (en) Apparatus for treating substrate
JP4005257B2 (en) Semiconductor device manufacturing apparatus provided with nozzle and spin chuck
TW391893B (en) Method and apparatus for spin-coating chemicals
JP3341869B2 (en) Rotary substrate processing equipment
CN218446373U (en) Glue spreading device and photoresist spreading equipment
JPH031823B2 (en)
KR100663013B1 (en) Photoresist Coater and Method of Removing a Photoresist on a Wafer
JP2021044487A (en) Optimal exposure of bottom surface of substrate material and/or edges thereof for cleaning in spin coating device
KR100619399B1 (en) Apparatus for coating substrate with resist materials
WO2004036633A1 (en) Liquid processing device
JP3421557B2 (en) Coating method and coating apparatus
KR0135791Y1 (en) Photoresist coater having guide ring
US20240047237A1 (en) Liquid processing apparatus and liquid processing method
KR100563911B1 (en) Spin coater
KR20020084444A (en) A bake apparatus for manufacturing semiconductor
JPS60194522A (en) Applicator for resist onto semiconductor wafer
KR200357133Y1 (en) Spin coater
JP2995263B2 (en) Seal structure of rotary chemical treatment equipment

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant