KR102617955B1 - Organic material depositing apparatus with position calibration and automatic oil injection - Google Patents

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Abstract

위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치가 개시된다. 본 발명은 증발물질을 증발시키는 증발유닛이 안착되는 이동플레이트가 구비되고, 만곡레일을 따라 주행되도록 이동블록이 구비된 증발원에 있어서, 상기 증발원에는 상기 이동플레이트의 상측을 회전시키는 상측위치보정부와, 상기 이동플레이트의 하측을 회전시키는 하측위치보정부가 구비되어 곡률반경이 다른 만곡레일에 따라 이동되면서 발생할 수 있는 증발원의 이송위치에 오차를 제거할 수 있고, 이송유닛에 구리스 등의 윤활제를 자동으로 주입할 수 있어 수작업으로 인한 윤활제의 재충진에 따른 안전사고를 방지할 수 있는 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치를 제공한다.A deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection is disclosed. The present invention relates to an evaporation source provided with a moving plate on which an evaporation unit for evaporating an evaporation material is mounted and a moving block to travel along a curved rail, wherein the evaporation source includes an upper position correction unit that rotates the upper side of the moving plate; , a lower position correction unit that rotates the lower side of the moving plate is provided to eliminate errors in the transfer position of the evaporation source that may occur while moving along curved rails with different curvature radii, and automatically applies lubricants such as grease to the transfer unit. We provide a deposition device that allows position correction and automatic injection of lubricant to prevent safety accidents caused by manual lubricant refilling.

Description

위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치{ORGANIC MATERIAL DEPOSITING APPARATUS WITH POSITION CALIBRATION AND AUTOMATIC OIL INJECTION}Deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection {ORGANIC MATERIAL DEPOSITING APPARATUS WITH POSITION CALIBRATION AND AUTOMATIC OIL INJECTION}

본 발명은 유기물 증착장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 만곡레일을 주행하는 증발원의 이동플레이트를 회전시켜 위치오차를 제거하고, 증발원 이송유닛에 윤활제를 자동을 주입할 수 있어 안전사고를 방지할 수 있는 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치에 관한 것이다.The present invention relates to an organic matter deposition device, and more specifically, to a device that rotates the moving plate of the evaporation source running on a curved rail to eliminate positional errors and automatically inject lubricant into the evaporation source transfer unit to prevent safety accidents. This relates to a deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection.

유기 전계 발광소자(Organic Luminescence Emitting Device: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 이러한 소자를 이용한 박형의 평판표시장치는 응답속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시장치로서 대두되고 있다.An Organic Luminescence Emitting Device (OLED) is a self-luminous device that emits light by itself using the electroluminescence phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound. A thin flat panel display using such a device has a low response speed. It is fast, has a wide viewing angle, and is emerging as a next-generation display device.

유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열증착방법으로 기판 상에 증착하게 된다.In an organic electroluminescent device, except for the anode and cathode electrodes, the remaining constituent layers, such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, are made of organic thin films, and these organic thin films are deposited on a substrate using a vacuum thermal evaporation method. It is deposited on.

진공열증착방법은 진공의 챔버 내에 기판을 이송시키고, 일정 패턴이 형성된 쉐도우 마스크(shadow mask)를 이송된 기판에 정렬시킨 후, 유기물이 담겨 있는 도가니에 열을 가하여 도가니에서 승화되는 유기물을 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다.The vacuum thermal evaporation method transfers a substrate into a vacuum chamber, aligns a shadow mask with a certain pattern on the transferred substrate, and then heats the crucible containing the organic material to transfer the organic material sublimated in the crucible onto the substrate. This is done by depositing on.

종래 기술에 따른 진공열증착방법을 사용하는 증착장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 증착 챔버(12), 제1 기판(32), 제2 기판(34), 제1 기판 로딩부(28), 제2 기판 로딩부(30), 하측레일(36), 상측레일(38), 증발원(40)을 포함하고 있다.As shown in FIG. 1, the deposition device using the vacuum thermal deposition method according to the prior art includes a deposition chamber 12, a first substrate 32, a second substrate 34, and a first substrate loading unit 28. , a second substrate loading unit 30, a lower rail 36, an upper rail 38, and an evaporation source 40.

자세하게는 상기 증착 챔버(12)는 진공이 유지되는 제1 증착영역(14)과 제2 증착영역(16)으로 구획되고, 하나의 중심점(18)에서 제1, 2 기판(32, 34)이 상기 제1, 2 증착영역(14, 16)에 제1, 2 방사 방향(20, 22)으로 각각 인출입되어 제1, 2 기판 로딩부(28, 30)에 안착된다.In detail, the deposition chamber 12 is divided into a first deposition area 14 and a second deposition area 16 in which a vacuum is maintained, and the first and second substrates 32 and 34 are separated from one central point 18. The substrate is drawn in and out of the first and second deposition regions 14 and 16 in the first and second radial directions 20 and 22, respectively, and is placed on the first and second substrate loading units 28 and 30.

이 후 엘엠가이드 등의 증발원 이송유닛에 의하여 증발물질을 분사하는 증발원(40)이 상측레일(38)과 하측레일(36)에 의해 가이드되어 제1 또는 제2 기판(32, 34)에 대향되는 위치로 이송된다.Afterwards, the evaporation source 40, which sprays the evaporation material by an evaporation source transfer unit such as LM Guide, is guided by the upper rail 38 and the lower rail 36 and faces the first or second substrate 32, 34. transported to location.

또한 제1 증착영역(14)과 제2 증착영역(16)이 소정각도를 이루어 제1, 2 증착영역(14)의 상부레일(38)을 연결하는 제1 만곡레일(52)이 제1, 2 증착영역(14)의 하부레일(36)을 연결하는 제2 만곡레일(46)보다 큰 곡률반경을 가지게 되고, 이에 따라 제1 만곡레일(52)이 제2 만곡레일(46)보다 더 길게 형성된다.In addition, the first deposition area 14 and the second deposition area 16 form a predetermined angle, and the first curved rail 52 connecting the upper rails 38 of the first and second deposition areas 14 is formed by forming the first and second deposition areas 14 and 16 at a predetermined angle. 2 It has a larger radius of curvature than the second curved rail 46 connecting the lower rail 36 of the deposition area 14, and accordingly, the first curved rail 52 is longer than the second curved rail 46. is formed

이 경우 기판(32, 34)에 대해 증발물질의 증착이 원활하게 이루어지기 위하여 증발원(40)이 증발원 이송유닛에 의하여 제1 또는 제2 기판(32, 34)에 정확한 위치로 이송되어야 하는데 서로 다른 길이를 갖는 제1, 2 만곡레일(52, 46)에 의해 증발원(40)이 동일한 거리로 이송되지 않게 되어, 증발원(40)의 이송위치에 오차가 발생할 수 있으며, 이에 따라 증발물질이 정밀하게 증착되지 않아 그림자 현상(Shadow effect)이 발생하는 문제점이 있었다.In this case, in order to smoothly deposit the evaporation material on the substrates 32 and 34, the evaporation source 40 must be transferred to the correct position on the first or second substrates 32 and 34 by an evaporation source transfer unit. The evaporation source 40 is not transported the same distance due to the first and second curved rails 52 and 46 having a length, so an error may occur in the transport position of the evaporation source 40, and as a result, the evaporation material is not accurately transported. There was a problem of shadow effect occurring due to lack of deposition.

또한 도 2에 도시된 바와 같이, 증발원(40)은 상기 레일(36, 38)에 의해 가이드되어 주행되도록 슬라이더(56)가 구비되는데, 이러한 슬라이더(56)에는 마찰을 줄이기 위하여 구리스가 주입되도록 구성되어 있다.In addition, as shown in FIG. 2, the evaporation source 40 is provided with a slider 56 to be guided by the rails 36 and 38, and grease is injected into the slider 56 to reduce friction. It is done.

그러나 상기 슬라이더(56)에 구리스를 주입한 후 일정한 기간이 경과하면 구리스가 경화되거나 자연소모가 발생하여 슬라이더(56)의 마모 현상에 의해 증발원(40)의 주행 운동에 저하 요인이 된다.However, when a certain period of time elapses after the grease is injected into the slider 56, the grease hardens or is naturally consumed, which reduces the running movement of the evaporation source 40 due to wear of the slider 56.

이 경우 구리스의 수작업으로 인한 재충진은 상기 증착 챔버(12)의 진공을 해제해야하므로 작업시간이 상당히 지체되고, 아울러 증착 챔버(12) 내부에 인체 유해 물질로 인하여 작업자에게 치명적인 손상을 안길 수 있는 안전상의 문제점이 있었다.In this case, manual refilling of grease requires releasing the vacuum of the deposition chamber 12, which significantly delays work time, and can cause fatal damage to workers due to substances hazardous to the human body inside the deposition chamber 12. There was a safety problem.

한국등록특허 제10-1239906호(2013년03월06일 공고)Korean Patent No. 10-1239906 (announced on March 6, 2013) 한국등록특허 제10-1481096호(2015년01월14일 공고)Korean Patent No. 10-1481096 (announced on January 14, 2015) 한국공개특허 제10-2015-0081951호(2015년07월15일 공개)Korean Patent Publication No. 10-2015-0081951 (published on July 15, 2015)

따라서 이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 증발물질을 증발시키는 증발유닛이 안착되는 이동플레이트가 구비되고, 만곡레일을 따라 주행되도록 이동블록이 구비된 증발원에 있어서, 상기 증발원에는 상기 이동플레이트의 상측을 회전시키는 상측위치보정부와, 상기 이동플레이트의 하측을 회전시키는 하측위치보정부가 구비되어 곡률반경이 다른 만곡레일에 따라 이동되면서 발생할 수 있는 증발원의 이송위치에 오차를 제거할 수 있고, 이송유닛에 구리스 등의 윤활제를 자동으로 주입할 수 있어 수작업으로 인한 윤활제의 재충진에 따른 안전사고를 방지할 수 있는 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치를 제공하는 것이다.Therefore, the purpose of the present invention to solve this problem is to provide an evaporation source provided with a moving plate on which an evaporation unit for evaporating the evaporation material is seated and a moving block to travel along a curved rail, wherein the evaporation source includes the moving plate of the evaporation source. An upper position correction unit that rotates the upper side and a lower position correction unit that rotates the lower side of the moving plate are provided to eliminate errors in the transfer position of the evaporation source that may occur when moving along curved rails with different curvature radii, and to remove errors in the transfer position of the evaporation source. It provides a deposition device that can automatically inject lubricants such as grease into the unit, thereby preventing safety accidents due to manual refilling of lubricants, position correction, and automatic injection of lubricants.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 내부에 진공이 유지되고, 제1, 2 증착영역으로 구획되며, 하나의 중심점에서 상기 제1, 2 증착영역에 제1, 2 방사 방향으로 각각 인출입되어 제1, 2 기판 로딩부에 안착되는 제1, 2 기판이 구비된 증착 챔버; 상기 제1 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제1 상부레일과, 제2 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제2 상부레일과, 제1 상부레일과 제2 상부레일을 연결하는 곡선의 제1 만곡레일이 구비된 상부레일; 상기 제1 상부레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제1 하부레일과, 상기 제2 상부레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제2 하부레일과, 상기 제1 하부레일과 상기 제2 하부레일을 연결하는 곡선의 제2 만곡레일이 구비된 하부레일; 증발물질을 증발시키는 증발유닛이 안착되는 이동플레이트와, 상기 이동플레이트의 상측을 회전시키는 상측위치보정부와, 상기 이동플레이트의 하측을 회전시키는 하측위치보정부가 구비되며, 상기 상부레일 및 하부레일을 따라 주행되는 증발원;을 포함하는 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention maintains a vacuum inside, is divided into first and second deposition areas, and is drawn into and out of the first and second deposition areas in the first and second radial directions, respectively, from one central point. 1, 2 A deposition chamber equipped with first and second substrates mounted on the substrate loading unit; A linear first upper rail perpendicular to the first radial direction, a linear second upper rail perpendicular to the second radial direction, and a first bend of a curve connecting the first upper rail and the second upper rail. Upper rail provided with rails; A linear first lower rail spaced apart from and parallel to the first upper rail, a linear second lower rail spaced apart from the second upper rail and parallel to the first upper rail, and the first lower rail and the second lower rail. A lower rail provided with a curved second curved rail connecting it; A moving plate on which an evaporation unit that evaporates the evaporating material is seated, an upper position correction part that rotates the upper side of the moving plate, and a lower position correction part that rotates the lower side of the moving plate, the upper rail and the lower rail are provided. Provides a deposition device capable of position correction and automatic injection of lubricant, including an evaporation source that travels along.

또한 상기 상측위치보정부는, 지지플레이트; 상기 지지플레이트의 하측에 결합되고, 상기 제2 상부레일에 주행되도록 결합되는 제1 이동블록; 상기 지지플레이트의 상측에 구비되는 곡선의 제3 만곡레일; 상기 이동플레이트의 하측에 결합되고 상기 제3 만곡레일에 주행되도록 결합되는 제2 이동블록;을 포함하고, 상기 하측위치보정부는, 지지판; 상기 지지판의 하측에 결합되고 제2 하부레일에 주행되도록 결합되는 제3 이동블록; 상기 지지판의 상측에 구비되는 곡선의 제4 만곡레일; 상기 이동플레이트의 하측에 결합되고 상기 제4 만곡레일에 주행되도록 결합되는 제4 이동블록;을 포함할 수 있다.Additionally, the upper position correction unit includes a support plate; A first moving block coupled to the lower side of the support plate and coupled to travel on the second upper rail; a third curved rail provided on the upper side of the support plate; A second moving block coupled to the lower side of the moving plate and coupled to travel on the third curved rail, wherein the lower position correction unit includes: a support plate; a third moving block coupled to the lower side of the support plate and coupled to travel on the second lower rail; a fourth curved rail provided on the upper side of the support plate; It may include a fourth moving block coupled to the lower side of the moving plate and coupled to travel on the fourth curved rail.

또한 상기 상부레일, 하부레일, 제3 만곡레일 및 제4 만곡레일 중 어느 하나의 레일과, 상기 제1 이동블록, 제2 이동블록, 제3 이동블록 및 제4 이동블록 중 어느 하나의 이동블록에 맞닿는 부위에 다수개의 구름볼이 배열되되, 상기 이동블록은, 내부에 상기 레일의 길이방향으로 관통된 삽입공; 상기 삽입공에 삽입되고, 상기 다수개의 구름볼이 삽입되어 순환되며, 일측에 윤활제가 내부로 투입되도록 관통된 투입공이 마련된 순환파이프; 상기 투입공과 연통되도록 투입공에 대응되는 위치에 관통된 주입공;을 포함할 수 있다.In addition, any one of the upper rail, the lower rail, the third curved rail, and the fourth curved rail, and any one of the first moving block, the second moving block, the third moving block, and the fourth moving block A plurality of rolling balls are arranged in a contact area, wherein the moving block includes an insertion hole penetrated in the longitudinal direction of the rail; A circulation pipe is inserted into the insertion hole, the plurality of rolling balls are inserted and circulated, and a circulation pipe is provided on one side with a penetration hole through which the lubricant is introduced into the inside. It may include an injection hole penetrated at a position corresponding to the injection hole so as to communicate with the injection hole.

상기에서 설명한 본 발명의 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치에 의하면, 증발원의 이동플레이트를 이송시키기 위해 사용되었던 상부레일과 하부레일 등의 설비를 그대로 사용할 수 있어 설비비용을 절감할 수 있고, 또한 이동플레이트의 정렬을 위해 사용되었던 종래의 슬라이더의 구성을 상측위치보정부와 하측위치보정부로 대체하여 이동플레이트에 보다 정밀한 위치제어가 가능한 효과가 있다.According to the deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection of the present invention described above, equipment costs such as the upper rail and lower rail that were used to transport the moving plate of the evaporation source can be used as is, thereby reducing equipment costs, In addition, the configuration of the conventional slider used to align the moving plate is replaced with an upper position correction unit and a lower position correction unit, which has the effect of enabling more precise position control of the moving plate.

또한 레일을 주행하는 이동블록에 다수개의 구름볼과, 상기 구름볼이 삽입되는 순환파이프 및, 상기 순환파이프에 윤활제가 자동으로 주입되기 위한 주입공이 형성되어 구름볼의 마모를 방지하고, 수작업으로 인한 윤활제의 재충진에 따른 안전사고를 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, a plurality of rolling balls are formed on a moving block running on a rail, a circulation pipe into which the rolling balls are inserted, and an injection hole for automatically injecting lubricant into the circulation pipe are formed to prevent wear of the rolling balls and prevent damage caused by manual labor. It has the effect of preventing safety accidents caused by refilling the lubricant.

도 1 및 도 2는 종래기술에 따른 진공열증착장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명에 의한 증착장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 4는 도 3에 도시된 증발원을 도시한 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 증발원의 분해 사시도이다.
도 6은 도 5에 도시된 이동블록과 레일이 결합된 모습을 도시한 사시도이다.
도 7은 도 6의 이동블록과 레인의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 의한 이동블록과 레인의 단면도이다.
Figures 1 and 2 are perspective views schematically showing a vacuum thermal evaporation apparatus according to the prior art.
Figure 3 is a perspective view schematically showing the deposition apparatus according to the present invention.
Figure 4 is a perspective view showing the evaporation source shown in Figure 3.
Figure 5 is an exploded perspective view of the evaporation source shown in Figure 4.
Figure 6 is a perspective view showing the moving block and rail shown in Figure 5 combined.
Figure 7 is a cross-sectional view of the moving block and lane of Figure 6.
Figure 8 is a cross-sectional view of a moving block and a lane according to another embodiment of the present invention.

본 발명을 충분히 이해하기 위해서 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상세히 설명하는 실시예로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공 되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어 표현될 수 있다. 각 도면에서 동일한 부재는 동일한 참조부호로 도시한 경우가 있음을 유의하여야 한다. 또한, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.In order to fully understand the present invention, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described in detail below. This example is provided to more completely explain the present invention to those with average knowledge in the art. Therefore, the shapes of elements in the drawings may be exaggerated to emphasize a clearer description. It should be noted that identical members in each drawing may be indicated by the same reference numerals. Additionally, detailed descriptions of known functions and configurations that are judged to unnecessarily obscure the gist of the present invention are omitted.

도 3은 본 발명에 의한 증착장치를 개략적으로 도시한 사시도이다.Figure 3 is a perspective view schematically showing the deposition apparatus according to the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이 본 발명에 의한 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치는 내부에 진공이 유지되고 기판이 구비된 증착 챔버(100)와, 상측위치보정부(220)와 하측위치보정부(230)가 구비되어 승화된 유기증발물질을 정확한 위치의 기판 상에 증착시키는 증발원(200)과, 상기 증발원(200)이 증착 챔버(100)내에서 정해진 길을 따라 주행되도록 안내하는 상부레일(300) 및 하부레일(400)을 포함한다.As shown in Figure 3, the deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection according to the present invention includes a deposition chamber 100 with a substrate maintained inside and a vacuum, an upper position correction unit 220, and a lower position information. An evaporation source 200 equipped with a top 230 to deposit the sublimated organic evaporation material on a substrate at a precise location, and an upper rail that guides the evaporation source 200 to travel along a designated path within the deposition chamber 100. Includes (300) and lower rail (400).

증착 챔버(100)는 진공이 유지되는 제1 증착영역(110)과 제2 증착영역(120)으로 구획되고, 하나의 중심점(18)에서 제1, 2 기판(131, 141)이 상기 제1, 2 증착영역(110, 120)에 제1, 2 방사 방향(111, 121)으로 각각 인출입되어 제1, 2 기판 로딩부(130, 140)에 안착된다.The deposition chamber 100 is divided into a first deposition area 110 and a second deposition area 120 in which a vacuum is maintained, and the first and second substrates 131 and 141 are positioned at one center point 18. , 2 are withdrawn and inserted into the deposition areas 110 and 120 in the first and second radial directions 111 and 121, respectively, and are placed on the first and second substrate loading units 130 and 140.

이 경우 상기 증발원(200)은 증착 챔버(100)의 내부에서 제1, 2 증착영역(110, 120)의 제1, 2 기판로딩부(130, 140)에 대향하여 정렬되도록 상하부레일(300, 400)을 따라 주행된다.In this case, the evaporation source 200 is aligned with the upper and lower rails 300, 400).

도 3에는 증착 챔버(100)내에 두 개의 증착영역이 도시되어 있으나, 다수개의 증착영역과 기판로딩부 및 기판이 구비될 수 있으며, 증발원(200)이 상하부레일(300, 400)을 따라 주행하여 다수개의 기판로딩부에 대향하여 정렬될 수 있다.Figure 3 shows two deposition areas within the deposition chamber 100, but multiple deposition areas, substrate loading units, and substrates may be provided, and the evaporation source 200 travels along the upper and lower rails 300 and 400. A plurality of substrate loading units may be aligned to face each other.

이 경우 상기 상부레일(300)은 제1 방사 방향(111)에 수직을 이루는 선형의 제1 상부레일(310)과, 제2 방사 방향(121)에 수직을 이루는 선형의 제2 상부레일(320)과, 제1 상부레일(310)과 제2 상부레일(320)을 연결하는 곡선의 제1 만곡레일(330)을 포함한다.In this case, the upper rail 300 includes a linear first upper rail 310 perpendicular to the first radial direction 111 and a linear second upper rail 320 perpendicular to the second radial direction 121. ) and a curved first curved rail 330 connecting the first upper rail 310 and the second upper rail 320.

또한 상기 하부레일(400)은 상기 제1 상부레일(310)과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제1 하부레일(410)과, 상기 제2 상부레일(320)과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제2 하부레일(420)과, 상기 제1 하부레일(410)과 상기 제2 하부레일(420)을 연결하는 곡선의 제2 만곡레일(430)을 포함한다. 이 경우 만곡레일(330, 430)은 완전한 곡선으로 이루어지거나, 또는 여러 개의 직선레일을 순차적으로 연결하여 곡선형태로 배치될 수 있다.In addition, the lower rail 400 includes a linear first lower rail 410 that is spaced apart and parallel to the first upper rail 310, and a linear first lower rail 410 that is spaced apart and parallel to the second upper rail 320. It includes two lower rails 420 and a curved second curved rail 430 connecting the first lower rail 410 and the second lower rail 420. In this case, the curved rails 330 and 430 may be completely curved, or may be arranged in a curved shape by sequentially connecting several straight rails.

이 경우 증발원(200)이 제1 기판로딩부(130)에서 제2 기판로딩부(140)에 대향되는 위치로 이동되는 과정을 설명하면, 상기 증발원(200)은 제1 증착영역(110)의 제1 상부레일(310)과, 제1 하부레일(410)를 따라 직선으로 이동하고, 제1 만곡레일(330)과 제2 만곡레일(430)의 곡선구간을 통과한 후, 제2 증착영역(120)의 제2 상부레일(320)과 제2 하부레일(420)을 따라 주행하여 제2 기판로딩부(140)에 대향되는 위치로 이동될 수 있다.In this case, when explaining the process in which the evaporation source 200 is moved from the first substrate loading unit 130 to a position opposite to the second substrate loading unit 140, the evaporation source 200 is located in the first deposition area 110. After moving in a straight line along the first upper rail 310 and the first lower rail 410 and passing through the curved section of the first curved rail 330 and the second curved rail 430, the second deposition area It can be moved to a position opposite to the second substrate loading unit 140 by traveling along the second upper rail 320 and the second lower rail 420 of 120 .

한편, 상기 증발원(200)이 기판로딩부(130, 140)로 이동된 후 기판(131, 141)에 증발물질을 증착시키는 과정은 선행기술문헌에 개시되어 있으므로 관련된 기술 설명은 생략하기로 한다.Meanwhile, the process of depositing the evaporation material on the substrates 131 and 141 after the evaporation source 200 is moved to the substrate loading units 130 and 140 is disclosed in prior art literature, and thus the related technical description will be omitted.

상기 제1 만곡레일(330)은 제2 만곡레일(430)에 비하여 큰 곡률반경을 가지므로 증발원(200)이 제1 기판로딩부(130)에서 제2 기판로딩부(140)으로 이동되면서 제2 방사 방향(121)에 수평으로 정렬되지 않는 경우가 발생된다. 즉 증발원(200)이 제2 기판로딩부(140)에 대향하는 위치에 오차가 발생될 수 있는데, 이 경우 제2 기판(141)에 증발물질이 정밀하게 증착되지 않아 그림자 현상(Shadow effect)이 발생하는 문제점이 있다.Since the first curved rail 330 has a larger radius of curvature than the second curved rail 430, the evaporation source 200 moves from the first substrate loading unit 130 to the second substrate loading unit 140. 2 There are cases where it is not aligned horizontally in the radial direction 121. That is, an error may occur in the position where the evaporation source 200 faces the second substrate loading unit 140. In this case, the evaporation material is not precisely deposited on the second substrate 141, resulting in a shadow effect. There is a problem that arises.

도 4 내지 도 5는 본 발명에 의한 증발원을 도시한 사시도이다.Figures 4 to 5 are perspective views showing an evaporation source according to the present invention.

도 4 내지 도 5에 도시된 바와 같이 상기 증발원(200)은 길이방향으로 이동되고 증발물질을 증발시키는 증발유닛(미도시)이 안착되는 이동플레이트(210)와, 상기 이동플레이트(210)의 상측을 회전시키는 상측위치보정부(220) 및 상기 이동플레이트(210)의 하측을 회전시키는 하측위치보정부(230)를 포함한다.As shown in Figures 4 and 5, the evaporation source 200 moves in the longitudinal direction and includes a moving plate 210 on which an evaporation unit (not shown) that evaporates the evaporation material is seated, and an upper side of the moving plate 210. It includes an upper position correction unit 220 that rotates and a lower position correction unit 230 that rotates the lower side of the moving plate 210.

상측위치보정부(220)는 지지플레이트(222)와 상기 지지플레이트(222)의 하측에 결합되고 제2 상부레일(320)에 슬라이드 이동이 가능하도록 결합되는 제1 이동블록(221)과, 상기 지지플레이트(222)의 상측에 구비되는 한 쌍의 제3 만곡레일(223)과, 이동플레이트(210)의 하측에 결합되고 상기 제3 만곡레일(223)에 슬라이드 이동이 가능하도록 결합되는 제2 이동블록(224)를 포함한다.The upper position correction unit 220 includes a support plate 222 and a first moving block 221 that is coupled to the lower side of the support plate 222 and is coupled to the second upper rail 320 to enable sliding movement, and the A second pair of third curved rails 223 provided on the upper side of the support plate 222 and the lower side of the moving plate 210 are coupled to the third curved rail 223 to enable slide movement. Includes a moving block 224.

마찬가지로, 하측위치보정부(230)는 지지판(232)과, 상기 지지판(232)의 하측에 결합되고 제2 하부레일(420)에 슬라이드 이동이 가능하도록 결합되는 제3 이동블록(231)과, 상기 지지판(232)의 상측에 구비되는 제4 만곡레일(233)과, 이동플레이트(210)의 하측에 결합되고 상기 제4 만곡레일(233)에 슬라이드 이동이 가능하도록 결합되는 제4 이동블록(234)를 포함한다.Likewise, the lower position correction unit 230 includes a support plate 232, a third moving block 231 coupled to the lower side of the support plate 232 and slidably coupled to the second lower rail 420, A fourth curved rail 233 provided on the upper side of the support plate 232 and a fourth moving block ( 234).

자세하게는 상기 지지플레이트(222)에 위치되는 한 쌍의 제3 만곡레일(223)은 상기 이동플레이트(210)의 길이 방향을 축으로 좌우 한 쌍이 대칭되어 구비되고, 그 만곡형상의 중심점이 서로 내측을 향하고 있다.In detail, the pair of third curved rails 223 located on the support plate 222 are provided symmetrically in left and right pairs about the longitudinal direction of the moving plate 210, and the center points of the curved shapes are inside each other. It is heading towards.

또한 제3 만곡레일(223)의 제2 이동블록(224)은 도시되지 않은 이송유닛을 통하여 제3 만곡레일(223) 상에서 주행되며, 이에 따라 제2 이동블록(224)에 결합되어 있는 이동플레이트(210)의 상부가 회전하게 된다.In addition, the second moving block 224 of the third curved rail 223 travels on the third curved rail 223 through a transfer unit (not shown), and thus the moving plate coupled to the second moving block 224 The upper part of (210) rotates.

마찬가지로 지지판(232)에 위치되는 제4 만곡레일(233)은 반원형상을 가지며 그 중심점이 하측을 향하고 있다. 또한 상기 제4 만곡레일(233)의 제4 이동블록(234)은 도시되지 않은 이송유닛을 통하여 제4 만곡레일(233) 상에서 주행되며, 이에 따라 제4 이동블록(234)에 결합되어 있는 이동플레이트(210)의 하부가 회전하게 된다.Likewise, the fourth curved rail 233 located on the support plate 232 has a semicircular shape and its center point is directed downward. In addition, the fourth moving block 234 of the fourth curved rail 233 travels on the fourth curved rail 233 through a transfer unit not shown, and thus the fourth moving block 234 is coupled to the fourth moving block 234. The lower part of the plate 210 rotates.

따라서 상술한 구성으로 이송유닛에 의하여 제2 이동블록(224)와 제4 이동블록(234)의 정밀한 위치제어를 통하여 상기 이동플레이트(210)에 증발유닛이 이동되는 길이방향과, 제1 방사 방향(111) 또는 제2 방사 방향(121)이 평행하게 형성될 수 있게 된다.Therefore, with the above-described configuration, the longitudinal direction in which the evaporation unit is moved to the moving plate 210 through precise position control of the second moving block 224 and the fourth moving block 234 by the transfer unit, and the first radial direction (111) or the second radial direction 121 can be formed in parallel.

이에 따라 이동플레이트(210)를 이송시키기 위해 사용되었던 상부레일(300)과 하부레일(400) 등의 설비를 그대로 사용할 수 있어 설비비용을 절감할 수 있고, 또한 이동플레이트(210)의 정렬을 위해 사용되었던 종래의 슬라이더의 구성을 상측위치보정부(220)와 하측위치보정부(230)로 대체하여 이동플레이트(210)에 보다 정밀한 위치제어가 가능한 효과가 있다.Accordingly, equipment such as the upper rail 300 and lower rail 400, which were used to transport the mobile plate 210, can be used as is, thereby reducing equipment costs, and also for alignment of the mobile plate 210. By replacing the configuration of the conventional slider used with the upper position correction unit 220 and the lower position correction unit 230, more precise position control of the moving plate 210 is possible.

도 6 본 발명의 다른 실시예에 의한 이동블록과 레일이 결합된 모습을 도시한 사시도이고, 도 7은 도 6의 이동블록과 레일의 단면도이다.Figure 6 is a perspective view showing a movable block and rail combined according to another embodiment of the present invention, and Figure 7 is a cross-sectional view of the movable block and rail of Figure 6.

도 6 및 도 7의 실시예에서 언급되는 레일(500)은 상부레일(300), 하부레일(400), 제3 만곡레일(223) 및 제4 만곡레일(233)에 적용될 수 있으며, 또한 이동블록(600)은 제1 이동블록(221), 제2 이동블록(224), 제3 이동블록(231) 및 제4 이동블록(234)에 적용될 수 있다.The rail 500 mentioned in the embodiments of FIGS. 6 and 7 can be applied to the upper rail 300, lower rail 400, third curved rail 223, and fourth curved rail 233, and can also be moved. Block 600 may be applied to the first moving block 221, the second moving block 224, the third moving block 231, and the fourth moving block 234.

한편, 이동블록은 레일 상에서 주행하기에 구리스 주입을 통하여 원활한 주행을 기대할 수 있게 된다. 그러나 구리스 주입 후 일정한 기간이 경과하면 구리스가 경화되거나 자연소모가 발생하여 이동블록의 마모 현상에 의해 증발원의 주행 운동에 저하 요인이 되는 문제점이 있다.Meanwhile, since the moving block runs on rails, smooth running can be expected through grease injection. However, if a certain period of time elapses after grease injection, the grease hardens or is naturally consumed, which causes a decrease in the running movement of the evaporation source due to wear of the moving block.

따라서 본 실시예에서는 증착 챔버(12)의 내부에 들어가 수작업으로 이동블록(600)에 구리스를 주입하는 것이 아닌 증착 챔버(12)의 외부에 구비되는 구리스 자동주입장치(미도시)를 통하여 증착 챔버(12)의 내부에 위치되는 이동블록(600)에 구리스를 자동으로 주입하도록 제어하는데 특징이 있다.Therefore, in this embodiment, rather than entering the inside of the deposition chamber 12 and manually injecting grease into the moving block 600, the grease is injected into the deposition chamber through an automatic grease injection device (not shown) provided outside the deposition chamber 12. It is characterized by controlling the automatic injection of grease into the moving block 600 located inside (12).

이에 따라 수작업으로 인한 구리스의 재충전으로 상기 증착 챔버(12)의 진공을 해제해야하는 작업을 생략할 수 있고, 증착 챔버(12) 내부에 인체 유해 물질로 인하여 작업자에게 치명적인 손상을 안길 수 있는 안전상의 문제점을 해결할 수 있게 된다. 한편, 구리스 자동주입장치는 기설정된 시간과, 주입량으로 이동블록(600)에 구리스를 주입하는 장치로 자세한 설명은 생략하기로 한다.Accordingly, the work of releasing the vacuum of the deposition chamber 12 by manually refilling the grease can be omitted, and there is a safety problem that can cause fatal damage to workers due to substances hazardous to the human body inside the deposition chamber 12. can be solved. Meanwhile, the automatic grease injection device is a device that injects grease into the moving block 600 at a preset time and injection amount, and detailed description will be omitted.

이하, 구리스가 자동으로 주입되는 과정을 설명하기 위하여 본 발명의 일실시예에 의한 이동블록(600) 및 레일(500)에 대한 구성을 설명하기로 한다.Hereinafter, in order to explain the process of automatically injecting grease, the configuration of the moving block 600 and the rail 500 according to an embodiment of the present invention will be described.

도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 본 실시예에서는 레일(500)과 이동블록(600)이 통상의 LM(Linear Motor) 가이드를 사용하여 이동되며, 이동블록(600)에는 레일(500) 상에서 구름운동으로 인한 이동성이 향상시키도록 레일(500)에 맞닿는 부위에 간극이 없이 다수개의 구름볼(610)이 배열된다.As shown in Figures 6 and 7, in this embodiment, the rail 500 and the moving block 600 are moved using a typical LM (Linear Motor) guide, and the moving block 600 includes the rail 500. A plurality of rolling balls 610 are arranged without gaps in the area in contact with the rail 500 to improve mobility due to rolling motion.

또한 이동블록(600)의 내부에는 레일(500)의 길이방향으로 삽입공(620)이 관통형성되고, 또한 상기 삽입공(620)에는 다수개의 구름볼(610)이 삽입되어 순환되는 순환파이프(640)가 삽입된다.In addition, an insertion hole 620 is formed through the inside of the moving block 600 in the longitudinal direction of the rail 500, and a circulation pipe in which a plurality of rolling balls 610 are inserted and circulated in the insertion hole 620 ( 640) is inserted.

상기 순환파이프(640)에는 구리스 등의 윤활제를 투입할 수 있는 투입공(641)이 일정 간격으로 관통형성되어 있고, 상기 이동블록(600)은 상기 투입공(641)과 연통되도록 투입공(641)과 대응되는 위치에 주입공(630)이 관통형성된다.The circulation pipe 640 has input holes 641 through which lubricants such as grease can be introduced at regular intervals, and the moving block 600 has input holes 641 so as to communicate with the input holes 641. ) An injection hole 630 is formed through the corresponding position.

초기 순환파이프(640)의 내부에는 구리스가 주입되는데, 구리스의 조기 경화가 발생하거나 또는 증발물질에 의한 화학적 작용으로 인하여 구리스의 기능이 상실되는 경우에 발생되는 구름볼(610)의 마모를 방지하기 위하여, 증착 챔버(12)의 외부에 구비되는 구리스 자동주입장치는 상기 주입공(630)에 구리스를 기설정된 시간과, 주입량으로 추가적, 반복적으로 주입하게 되는 것이다.Grease is injected into the initial circulation pipe 640 to prevent wear of the rolling ball 610, which occurs when premature hardening of the grease occurs or the function of the grease is lost due to chemical action by evaporated substances. To this end, the automatic grease injection device provided outside the deposition chamber 12 additionally and repeatedly injects grease into the injection hole 630 at a preset time and injection amount.

이에 따라 주입공(630)에 주입되는 구리스는 순환파이프(640)의 투입공(641)으로 유입되어 순환파이프(640)의 내부에 충진되어 구름볼(610)의 조기 마모를 방지할 수 있고, LM 가이드에 기능을 일정한 시간동안 유지할 수 있는 효과가 있다.Accordingly, the grease injected into the injection hole 630 flows into the injection hole 641 of the circulation pipe 640 and fills the inside of the circulation pipe 640 to prevent premature wear of the rolling ball 610, It has the effect of maintaining the function of the LM guide for a certain period of time.

또한 구리스 자동주입장치의 오작동으로 인하여 구리스 주입이 정지되거나, 또는 구리스의 기능이 상실되는 경우에도, 순환홀의 기능을 갖는 순환파이프(640)에 의하여 일정기간동안 구름볼(610)의 마모가 방지될 수 있어 LM 가이드에 기능을 한층 더 유지시킬 수 있게 된다.In addition, even if grease injection is stopped or the function of the grease is lost due to a malfunction of the automatic grease injection device, wear of the rolling ball 610 can be prevented for a certain period of time by the circulation pipe 640, which functions as a circulation hole. This makes it possible to further maintain the functionality of the LM guide.

이 경우 상기 순환파이프(640)는 기계적, 열적, 화학적으로 내구성을 갖는 열가소성물질로 사용되는 것이 바람직하다.In this case, the circulation pipe 640 is preferably made of a thermoplastic material that is mechanically, thermally, and chemically durable.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 의한 이동블록과 레인의 단면도이다. 특히 도 8에 도시된 레일(500)은 만곡레일, 즉 제3 만곡레일(223), 제4 만곡레일(233)에 적용될 수 있다.Figure 8 is a cross-sectional view of a moving block and a lane according to another embodiment of the present invention. In particular, the rail 500 shown in FIG. 8 can be applied to a curved rail, that is, the third curved rail 223 and the fourth curved rail 233.

도 8에 도시된 바와 같이, 이동블록(600)의 양측 내부에 구비되어 있는 구름볼(610) 중 레일(500)의 외주면에 접촉되는 구름볼(610)의 직경이 레일(500)의 내주면에 접촉되는 구름볼(610)의 직경보다 크게 형성된다.As shown in FIG. 8, among the rolling balls 610 provided inside both sides of the moving block 600, the diameter of the rolling balls 610 in contact with the outer peripheral surface of the rail 500 is on the inner peripheral surface of the rail 500. It is formed to be larger than the diameter of the cloud ball 610 that is in contact.

이는 만곡레일의 특성 상, 이동거리가 더 긴 만곡레일의 외주면 측에 접촉되는 구름볼(610)에 마모가 더 발생하여 증발원의 주행운동 저하요인이 발생할 수 있는데, 이러한 레일(500)의 외주면에 접촉되는 구름볼(610)의 크기를 크게 형성하여, 불균일 마모에 대한 요인을 어느 정도 제거할 수 있게 되는 것이다.Due to the nature of the curved rail, more wear may occur on the rolling ball 610 in contact with the outer peripheral surface of the curved rail, which has a longer moving distance, which may cause a decrease in the running motion of the evaporation source. The outer peripheral surface of the rail 500 By increasing the size of the rolling ball 610 in contact, it is possible to eliminate the factors causing uneven wear to some extent.

이상에서 설명된 본 발명의 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치의 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그러므로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.The embodiments of the deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection of the present invention described above are merely exemplary, and those skilled in the art will be able to make various modifications and other equivalent implementations thereof. You can see that an example is possible. Therefore, it will be understood that the present invention is not limited to the forms mentioned in the detailed description above. Therefore, the true scope of technical protection of the present invention should be determined by the technical spirit of the attached patent claims. In addition, the present invention should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes within the spirit and scope of the present invention as defined by the appended claims.

100 : 증착 챔버 110 : 제1 증착영역
111 : 제1 방사 방향 120 : 제2 증착영역
121 : 제2 방사 방향 130 : 제1 기판로딩부
131 : 제1 기판 140 : 제2 기판로딩부
141 : 제2 기판 200 : 증발원
210 : 이동플레이트 220 : 상측위치보정부
221 : 제1 이동블록 222 : 지지플레이트
223 : 제3 만곡레일 224 : 제2 이동블록
230 : 하측위치보정부 230 : 하측위치보정부
231 : 제3 이동블록 232 : 지지판
233 : 제4 만곡레일 234 : 제4 이동블록
300 : 상부레일 310 : 제1 상부레일
320 : 제2 상부레일 330 : 제1 만곡레일
400 : 하부레일 410 : 제1 하부레일
420 : 제2 하부레일 430 : 제2 만곡레일
500 : 레일 600 : 이동블록
610 : 구름볼 620 : 삽입공
630 : 주입공 640 : 순환파이프
641 : 투입공
100: deposition chamber 110: first deposition area
111: first radiation direction 120: second deposition area
121: second radial direction 130: first substrate loading unit
131: first substrate 140: second substrate loading unit
141: second substrate 200: evaporation source
210: moving plate 220: upper position correction unit
221: first moving block 222: support plate
223: Third curved rail 224: Second moving block
230: Lower position correction unit 230: Lower position correction unit
231: Third moving block 232: Support plate
233: Fourth curved rail 234: Fourth moving block
300: upper rail 310: first upper rail
320: second upper rail 330: first curved rail
400: lower rail 410: first lower rail
420: second lower rail 430: second curved rail
500: Rail 600: Moving block
610: cloud ball 620: insertion hole
630: injection hole 640: circulation pipe
641: Insertion hole

Claims (5)

내부에 진공이 유지되고, 제1, 2 증착영역으로 구획되며, 하나의 중심점에서 상기 제1, 2 증착영역에 제1, 2 방사 방향으로 각각 인출입되어 제1, 2 기판 로딩부에 안착되는 제1, 2 기판이 구비된 증착 챔버;
상기 제1 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제1 상부레일과, 제2 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제2 상부레일과, 제1 상부레일과 제2 상부레일을 연결하는 곡선의 제1 만곡레일이 구비된 상부레일;
상기 제1 상부레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제1 하부레일과, 상기 제2 상부레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제2 하부레일과, 상기 제1 하부레일과 상기 제2 하부레일을 연결하는 곡선의 제2 만곡레일이 구비된 하부레일; 및
증발물질을 증발시키는 증발유닛이 안착되는 이동플레이트와, 상기 이동플레이트의 상측을 회전시키기 위해 상기 상부 레일에 위치되는 상측위치보정부와, 상기 이동플레이트의 하측을 회전시키기 위해 상기 하부 레일에 위치되는 하측위치보정부가 구비되며, 상기 상부레일 및 하부레일을 따라 주행되는 증발원을 포함하며,
상기 상측위치보정부는,
지지플레이트와, 상기 지지플레이트의 하측에 결합되고, 상기 제2 상부레일에 주행되도록 결합되는 제1 이동블록과, 상기 지지플레이트의 상측에 구비되는 곡선의 제3 만곡레일과, 상기 이동플레이트의 하측에 결합되고 상기 제3 만곡레일에 주행되도록 결합되는 제2 이동블록을 포함하고,
상기 하측위치보정부는,
지지판과, 상기 지지판의 하측에 결합되고 제2 하부레일에 주행되도록 결합되는 제3 이동블록과, 상기 지지판의 상측에 구비되는 곡선의 제4 만곡레일과, 상기 이동플레이트의 하측에 결합되고 상기 제4 만곡레일에 주행되도록 결합되는 제4 이동블록을 포함하는 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치.
A vacuum is maintained inside, and it is divided into first and second deposition areas, and is drawn in and out of the first and second deposition areas in the first and second radial directions from a central point, respectively, and is seated on the first and second substrate loading units. A deposition chamber equipped with first and second substrates;
A linear first upper rail perpendicular to the first radial direction, a linear second upper rail perpendicular to the second radial direction, and a first bend of a curve connecting the first upper rail and the second upper rail. Upper rail provided with rails;
A linear first lower rail spaced apart from and parallel to the first upper rail, a linear second lower rail spaced apart from the second upper rail and parallel to the first upper rail, and the first lower rail and the second lower rail. A lower rail provided with a curved second curved rail connecting it; and
A moving plate on which the evaporation unit for evaporating the evaporating material is seated, an upper position correction unit located on the upper rail to rotate the upper side of the moving plate, and a lower rail located in the lower rail to rotate the lower side of the moving plate. It is provided with a lower position correction unit and includes an evaporation source running along the upper rail and lower rail,
The upper position correction unit,
A support plate, a first moving block coupled to the lower side of the support plate and coupled to run on the second upper rail, a curved third curved rail provided on the upper side of the support plate, and a lower side of the moving plate It is coupled to and includes a second moving block coupled to travel on the third curved rail,
The lower position correction unit,
A support plate, a third moving block coupled to the lower side of the support plate and coupled to run on the second lower rail, a curved fourth curved rail provided on the upper side of the support plate, and a third moving block coupled to the lower side of the moving plate and the second lower rail. 4 A deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection including a fourth moving block coupled to run on a curved rail.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 제3 만곡레일은,
상기 이동플레이트의 길이 방향을 축으로 대칭되어 좌우로 한 쌍으로 구비되고, 곡선형상의 중심점이 내측을 향하고,
상기 제4 만곡레일은, 곡선형상을 갖되, 그 중심점이 하측을 향하는 것을 특징으로 하는 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치.
In claim 1,
The third curved rail,
The moving plate is symmetrical about the longitudinal axis and is provided in pairs on the left and right, and the curved center point is directed inward,
The fourth curved rail is a deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection, characterized in that the fourth curved rail has a curved shape and its center point points downward.
청구항 3에 있어서,
상기 상부레일, 하부레일, 제3 만곡레일 및 제4 만곡레일 중 어느 하나의 레일과, 상기 제1 이동블록, 제2 이동블록, 제3 이동블록 및 제4 이동블록 중 어느 하나의 이동블록에 맞닿는 부위에 다수개의 구름볼이 배열되되,
상기 이동블록은,
내부에 상기 레일의 길이방향으로 관통된 삽입공;
상기 삽입공에 삽입되고, 상기 다수개의 구름볼이 삽입되어 순환되며, 일측에 윤활제가 내부로 투입되도록 관통된 투입공이 마련된 순환파이프;
상기 투입공과 연통되도록 투입공에 대응되는 위치에 관통된 주입공;
을 포함하는 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치.
In claim 3,
On any one of the upper rail, the lower rail, the third curved rail, and the fourth curved rail, and on any one of the first moving block, the second moving block, the third moving block, and the fourth moving block. Multiple cloud balls are arranged in the contact area,
The moving block is,
an insertion hole penetrating inside the longitudinal direction of the rail;
A circulation pipe is inserted into the insertion hole, the plurality of rolling balls are inserted and circulated, and a circulation pipe is provided on one side with a penetration hole through which the lubricant is introduced into the inside.
an injection hole penetrated at a position corresponding to the injection hole so as to communicate with the injection hole;
A deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection.
청구항 4에 있어서,
상기 제2 이동블록 및 제4 이동블록는,
상기 제3 만곡레일과 제4 만곡레일에 외주면에 접촉되는 구름볼의 크기가 내부면에 접촉되는 구름볼의 크기보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 위치보정 및 윤활제 자동주입이 가능한 증착장치.
In claim 4,
The second moving block and the fourth moving block are,
A deposition device capable of position correction and automatic lubricant injection, characterized in that the size of the rolling balls in contact with the outer peripheral surfaces of the third and fourth curved rails is larger than the size of the rolling balls in contact with the inner surfaces.
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