KR102606574B1 - Ph measuring unit and apparatus including the same and method for treating a substrate using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 PH 측정 유닛을 제공한다. 일 실시예에 의하면, PH 측정 유닛은, 처리 공간 내에 제공된 지지 유닛에 지지 가능하며 액을 수용하는 수용홈을 가지는 베이스 플레이트와; 수용홈 내에 수용된 액의 PH를 측정하는 PH 센서를 구비하는 측정 블록을 구비한다.The present invention provides a PH measurement unit. According to one embodiment, the PH measuring unit includes a base plate that can be supported on a support unit provided in a processing space and has a receiving groove for receiving a liquid; A measurement block including a PH sensor that measures the PH of the liquid contained in the receiving groove is provided.
Description
본 발명은 PH 측정 유닛과 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 이를 이용하는 기판 처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a PH measurement unit, a substrate processing device including the same, and a substrate processing method using the same.
반도체 소자를 제조하기 위해서는 사진, 증착, 애싱, 식각, 그리고 이온주입 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 이러한 공정들은 기판을 처리하기 위해 다양한 처리액을 사용한다. 처리액은 산성 또는 염기성 액을 포함한다. 산성 또는 염기성 액은 인체에 유해하다. 이에, 처리액을 공급한 이후에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛이 중성화 되었는지 여부를 확인할 필요가 있다.To manufacture semiconductor devices, various processes such as photography, deposition, ashing, etching, and ion implantation are performed. These processes use various treatment liquids to treat the substrate. The treatment liquid includes an acidic or basic liquid. Acidic or basic liquids are harmful to the human body. Accordingly, after supplying the treatment liquid, it is necessary to check whether the liquid supply unit that supplies the treatment liquid has been neutralized.
특히, 액 공급 유닛을 유지 또는 보수하는 메인터넌스 과정 시, 작업자의 안전을 위해 액 공급 유닛 상의 배관, 노즐 등이 중성화 되었는지 여부를 확인할 필요가 있다. 종래에는, 리트머스 종이를 이용하여 액 공급 유닛으로부터 공급되는 처리액의 PH를 직접 측정한다. In particular, during the maintenance process of maintaining or repairing the liquid supply unit, it is necessary to check whether the piping, nozzles, etc. on the liquid supply unit are neutralized for the safety of workers. Conventionally, the PH of the treatment liquid supplied from the liquid supply unit is directly measured using litmus paper.
그러나, 처리액을 토출하여 처리액의 PH를 측정하는 과정에서 처리액이 작업자에 튀는 문제가 있다. 이에, 보호 장비 등을 구비하는 데 비용이 소요되고, 보호 장비 착용 등을 위해 PH 측정에 시간이 많이 소요되는 문제가 있다.However, in the process of discharging the treatment liquid and measuring the pH of the treatment liquid, there is a problem with the treatment liquid splashing onto the operator. Accordingly, there is a problem that it costs money to provide protective equipment, etc., and it takes a lot of time to measure PH to wear protective equipment.
또한, 리트머스지는 처리액의 PH를 수치화 하여 제공하지 못하므로, 처리액의 중성화 여부를 정확히 알 수 없는 문제가 있다.In addition, since litmus paper cannot provide a numerical value for the pH of the treatment liquid, there is a problem in that it is not possible to accurately determine whether the treatment liquid is neutralized.
본 발명은 액의 PH를 안전하게 측정할 수 있는 PH 측정 유닛과 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 이를 이용하는 기판 처리 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.One object of the present invention is to provide a PH measuring unit that can safely measure the PH of a liquid, a substrate processing device including the same, and a substrate processing method using the same.
본 발명은 액의 중성화 여부를 정확히 알 수 있는 PH 측정 유닛과 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 이를 이용하는 기판 처리 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.The purpose of the present invention is to provide a PH measuring unit that can accurately determine whether a liquid is neutralized, a substrate processing device including the same, and a substrate processing method using the same.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The object of the present invention is not limited here, and other objects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.
본 발명은 PH 측정 유닛을 제공한다. 일 실시예에 의하면, PH 측정 유닛은 처리 공간 내에 제공된 지지 유닛에 지지 가능하며 액을 수용하는 수용홈을 가지는 베이스 플레이트와; 수용홈 내에 수용된 액의 PH를 측정하는 PH 센서를 구비하는 측정 블록을 구비할 수 있다.The present invention provides a PH measurement unit. According to one embodiment, the PH measuring unit includes a base plate that can be supported on a support unit provided in the processing space and has a receiving groove for receiving a liquid; A measurement block including a PH sensor that measures the PH of the liquid contained in the receiving groove may be provided.
일 실시예에 의하면, 처리 공간의 외부에서 PH 센서로부터 측정된 액의 PH를 표시하는 표시부를 더 포함하고, 측정 블록은, 블루투스 통신을 이용하여 표시부에 액의 PH 정보를 전달하는 블루투스 통신 모듈; 그리고, PH 센서와 블루투스 통신 모듈에 전원을 공급하는 전원부를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment, it further includes a display unit that displays the PH of the liquid measured by a PH sensor outside the processing space, and the measurement block includes: a Bluetooth communication module that transmits PH information of the liquid to the display unit using Bluetooth communication; In addition, it may further include a power unit that supplies power to the PH sensor and the Bluetooth communication module.
일 실시예에 의하면, 베이스 플레이트는, 측정 블록의 장착 위치를 안내하는 가이드 돌기를 더 포함하고, 측정 블록은 가이드 돌기 내측에 장착 가능하게 제공될 수 있다.According to one embodiment, the base plate further includes a guide protrusion that guides the mounting position of the measurement block, and the measurement block may be provided to be mounted inside the guide protrusion.
일 실시예에 의하면, 베이스 플레이트와 측정 블록은 상부에서 바라볼 때 베이스 플레이트의 상면의 일부 영역이 노출되도록 형상 지어질 수 있다.According to one embodiment, the base plate and the measurement block may be shaped so that a portion of the upper surface of the base plate is exposed when viewed from the top.
일 실시예에 의하면, 베이스 플레이트의 상면은 그 중심을 향하는 방향으로 하향 경사지도록 제공될 수 있다.According to one embodiment, the upper surface of the base plate may be provided to be inclined downward in a direction toward its center.
일 실시예에 의하면, 수용홈은 베이스 플레이트의 중앙에 위치할 수 있다.According to one embodiment, the receiving groove may be located in the center of the base plate.
또한, 본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 처리 공간을 제공하는 컵과; 처리 공간에서 기판을 지지하고 회전 가능한 지지 유닛과; 지지 유닛에 지지된 기판의 처리면에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과; 액 공급 유닛으로부터 토출되는 액의 PH를 측정하는 PH 측정 유닛을 포함하고, PH 측정 유닛은, 지지 유닛에 지지 가능하고, 액 공급 유닛으로부터 토출되는 액을 수용하는 수용홈을 가지는 베이스 플레이트와; 수용홈 내에 수용된 액의 PH를 측정하는 PH 센서를 가지는 측정 블록을 구비할 수 있다.Additionally, the present invention provides a substrate processing apparatus. According to one embodiment, a substrate processing apparatus includes: a cup providing a processing space; a support unit that supports and rotates the substrate in the processing space; a liquid supply unit that supplies a processing liquid to the processing surface of the substrate supported on the support unit; It includes a PH measuring unit that measures the PH of the liquid discharged from the liquid supply unit, wherein the PH measuring unit includes a base plate that can be supported on the support unit and has a receiving groove for receiving the liquid discharged from the liquid supply unit; A measurement block having a PH sensor that measures the PH of the liquid contained in the receiving groove may be provided.
일 실시예에 의하면, 처리 공간의 외부에서 PH 센서로부터 측정된 액의 PH를 표시하는 표시부를 더 포함하고, 측정 블록은, 블루투스 통신을 이용하여 표시부에 처리액의 PH 정보를 전달하는 블루투스 통신 모듈; 그리고, PH 센서와 블루투스 통신 모듈에 전원을 공급하는 전원부를 더 포함할 수 있다.According to one embodiment, it further includes a display unit that displays the pH of the liquid measured from a PH sensor outside the processing space, and the measurement block is a Bluetooth communication module that transmits PH information of the processing liquid to the display unit using Bluetooth communication. ; In addition, it may further include a power unit that supplies power to the PH sensor and the Bluetooth communication module.
일 실시예에 의하면, 베이스 플레이트는, 측정 블록의 장착 위치를 안내하는 가이드 돌기를 더 포함하고, 측정 블록은 가이드 돌기 내측에 장착 가능하게 제공될 수 있다.According to one embodiment, the base plate further includes a guide protrusion that guides the mounting position of the measurement block, and the measurement block may be provided to be mounted inside the guide protrusion.
일 실시예에 의하면, 베이스 플레이트의 상면은 그 중심을 향하는 방향으로 하향 경사지도록 제공될 수 있다.According to one embodiment, the upper surface of the base plate may be provided to be inclined downward in a direction toward its center.
일 실시예에 의하면, 베이스 플레이트와 기판은 하면의 직경이 같게 제공될 수 있다.According to one embodiment, the base plate and the substrate may be provided with the same bottom diameter.
또한, 본 발명은 기판 처리 방법을 제공한다. 일 실시예에 의하면, 기판 처리 방법은, 회전하는 기판의 처리면에 처리액을 공급하고, 이후에 기판을 지지 유닛으로부터 제거한 후, 지지 유닛 상에 베이스 플레이트를 위치시켜 베이스 플레이트 상에 액을 공급하고, 베이스 플레이트에 공급된 액의 PH를 측정하여 액의 중성화 여부를 확인할 수 있다.Additionally, the present invention provides a substrate processing method. According to one embodiment, the substrate processing method includes supplying a processing liquid to the processing surface of a rotating substrate, then removing the substrate from the support unit, placing the base plate on the support unit, and supplying the liquid on the base plate. And, it is possible to check whether the liquid is neutralized by measuring the PH of the liquid supplied to the base plate.
일 실시예에 의하면, 기판을 지지 유닛으로부터 제거한 후에, 액 공급 유닛의 메인터넌스 과정을 포함할 수 있다.According to one embodiment, a maintenance process of the liquid supply unit may be included after removing the substrate from the support unit.
일 실시예에 의하면, 처리액은 산성 또는 염기성 액이고, 액은 중성액일 수 있다.According to one embodiment, the treatment liquid may be an acidic or basic liquid, and the liquid may be a neutral liquid.
일 실시예에 의하면, 액은 DIW(Deionized Water)를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the liquid may include DIW (Deionized Water).
본 발명의 일 실시예에 의하면, 액의 PH를 안전하게 측정할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the PH of a liquid can be safely measured.
또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 액의 중성화 여부를 정확히 알 수 있다.Additionally, according to one embodiment of the present invention, it is possible to accurately determine whether the liquid is neutralized.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects described above, and effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from this specification and the attached drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 2는 도 1의 액 처리 챔버의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 PH 측정 유닛을 보여주는 사시도이다.
도 4 내지 도 5는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 베이스 플레이트를 보여주는 사시도와 측면도이다.
도 6은 본 발명의 측정 블록을 보여주는 사시도이다.
도 7은 내지 도 10은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법을 순서대로 나타내는 도면이다.1 is a plan view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram schematically showing an embodiment of the liquid processing chamber of FIG. 1.
Figure 3 is a perspective view showing a PH measurement unit according to an embodiment of the present invention.
4 to 5 are a perspective view and a side view, respectively, showing a base plate according to an embodiment of the present invention.
Figure 6 is a perspective view showing the measurement block of the present invention.
7 to 10 are diagrams sequentially showing a substrate processing method according to an embodiment of the present invention.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장된 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the attached drawings. Embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This example is provided to more completely explain the present invention to those with average knowledge in the art. Therefore, the shapes of elements in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.
본 실시예에는 기판을 케미칼 처리 및 린스 처리하는 세정 공정을 일 예로 설명한다. 그러나 본 실시예는 세정 공정에 한정되지 않고, 식각 공정, 애싱 공정, 현상 공정 등, 처리액을 이용하여 기판을 처리하는 공정에 적용 가능하다.In this embodiment, a cleaning process of chemically treating and rinsing a substrate is explained as an example. However, this embodiment is not limited to the cleaning process, and can be applied to processes that process a substrate using a processing solution, such as an etching process, an ashing process, and a developing process.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치는 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)을 포함한다. 일 실시예에 의하면, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)은 일방향을 따라 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(10)과 처리 모듈(20)이 배치된 방향을 제1방향(92)이라 하고, 상부에서 바라볼 때 제1방향(92)과 수직한 방향을 제2방향(94)이라 하고, 제1방향(92) 및 제2방향(94)에 모두 수직한 방향을 제3방향(96)이라 한다.1 is a plan view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the substrate processing apparatus includes an index module 10 and a processing module 20. According to one embodiment, the index module 10 and the processing module 20 are arranged along one direction. Hereinafter, the direction in which the index module 10 and the processing module 20 are arranged is referred to as the first direction 92, and the direction perpendicular to the first direction 92 when viewed from the top is referred to as the second direction 94. And the direction perpendicular to both the first direction 92 and the second direction 94 is called the third direction 96.
인덱스 모듈(10)은 수납된 용기(80)로부터 기판(W)을 처리 모듈(20)로 반송하고, 처리 모듈(20)에서 처리가 완료된 기판(W)을 용기(80)로 수납한다. 인덱스 모듈(10)의 길이 방향은 제2방향(94)으로 제공된다. 인덱스 모듈(10)은 로드포트(12, loadport)와 인덱스 프레임(14)을 가진다. 인덱스 프레임(14)을 기준으로 로드포트(12)는 처리 모듈(20)의 반대 측에 위치된다. 기판(W)들이 수납된 용기(80)는 로드포트(12)에 놓인다. 로드포트(12)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 복수의 로드포트(12)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다. The index module 10 transfers the substrate W from the stored container 80 to the processing module 20 and stores the substrate W that has been processed in the processing module 20 into the container 80 . The longitudinal direction of the index module 10 is provided in the second direction 94. The index module 10 has a load port 12 and an index frame 14. Based on the index frame 14, the load port 12 is located on the opposite side of the processing module 20. The container 80 containing the substrates W is placed in the load port 12. A plurality of load ports 12 may be provided, and the plurality of load ports 12 may be arranged along the second direction 94.
용기(80)로는 전면 개방 일체 식 포드(Front Open Unified Pod:FOUP)와 같은 밀폐용 용기가 사용될 수 있다. 용기(80)는 오버헤드 트랜스퍼(Overhead Transfer), 오버헤드 컨베이어(Overhead Conveyor), 또는 자동 안내 차량(Automatic Guided Vehicle)과 같은 이송 수단(도시되지 않음)이나 작업자에 의해 로드포트(12)에 놓일 수 있다. The container 80 may be an airtight container such as a Front Open Unified Pod (FOUP). The container 80 is placed in the load port 12 by a transport means (not shown) such as an overhead transfer, overhead conveyor, or Automatic Guided Vehicle, or by an operator. You can.
인덱스 프레임(14)에는 인덱스 로봇(120)이 제공된다. 인덱스 프레임(14) 내에는 길이 방향이 제2방향(94)으로 제공된 가이드 레일(140)이 제공되고, 인덱스 로봇(120)은 가이드 레일(140) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 인덱스 로봇(120)은 기판(W)이 놓이는 핸드(122)를 포함하며, 핸드(122)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(122)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(122)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진 이동할 수 있다.An index robot 120 is provided in the index frame 14. A guide rail 140 is provided in the second direction 94 along the length of the index frame 14, and the index robot 120 can be moved on the guide rail 140. The index robot 120 includes a hand 122 on which a substrate W is placed, and the hand 122 moves forward and backward, rotates about the third direction 96, and moves in the third direction 96. It can be provided so that it can be moved along. A plurality of hands 122 are provided to be spaced apart in the vertical direction, and the hands 122 can move forward and backward independently of each other.
처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(200), 반송 챔버(300), 액 처리 챔버(400)를 포함한다. 버퍼 유닛(200)은 처리 모듈(20)로 반입되는 기판(W)과 처리 모듈(20)로부터 반출되는 기판(W)이 일시적으로 머무르는 공간을 제공한다. 액 처리 챔버(400)는 기판(W) 상에 액을 공급하여 기판(W)을 액 처리하는 액 처리 공정을 수행한다. 반송 챔버(300)는 버퍼 유닛(200), 액 처리 챔버(400) 간에 기판(W)을 반송한다.The processing module 20 includes a buffer unit 200, a transfer chamber 300, and a liquid processing chamber 400. The buffer unit 200 provides a space where the substrate W brought into the processing module 20 and the substrate W taken out from the processing module 20 temporarily stay. The liquid processing chamber 400 supplies liquid to the substrate W to perform a liquid treatment process on the substrate W. The transfer chamber 300 transfers the substrate W between the buffer unit 200 and the liquid processing chamber 400 .
반송 챔버(300)는 그 길이 방향이 제1방향(92)으로 제공될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 인덱스 모듈(10)과 반송 챔버(300) 사이에 배치될 수 있다. 액 처리 챔버(400)는 반송 챔버(300)의 측부에 배치될 수 있다. 액 처리 챔버(400)와 반송 챔버(300)는 제2방향(94)을 따라 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 반송 챔버(300)의 일단에 위치될 수 있다. The transfer chamber 300 may have its longitudinal direction oriented in the first direction 92 . The buffer unit 200 may be disposed between the index module 10 and the transfer chamber 300. The liquid processing chamber 400 may be disposed on a side of the transfer chamber 300 . The liquid processing chamber 400 and the transfer chamber 300 may be arranged along the second direction 94 . The buffer unit 200 may be located at one end of the transfer chamber 300.
일 예에 의하면, 액 처리 챔버(400)들은 반송 챔버(300)의 양측에 배치되고, 반송 챔버(300)의 일측에서 액 처리 챔버(400)들은 제1방향(92) 및 제3방향(96)을 따라 각각 A X B(A, B는 각각 1 또는 1보다 큰 자연수) 배열로 제공될 수 있다. According to one example, the liquid processing chambers 400 are disposed on both sides of the transfer chamber 300, and the liquid processing chambers 400 on one side of the transfer chamber 300 are disposed in the first direction 92 and the third direction 96. ) can be provided as an array of A
반송 챔버(300)는 반송 로봇(320)을 가진다. 반송 챔버(300) 내에는 길이 방향이 제1방향(92)으로 제공된 가이드 레일(340)이 제공되고, 반송 로봇(320)은 가이드 레일(340) 상에서 이동 가능하게 제공될 수 있다. 반송 로봇(320)은 기판(W)이 놓이는 핸드(322)를 포함하며, 핸드(322)는 전진 및 후진 이동, 제3방향(96)을 축으로 한 회전, 그리고 제3방향(96)을 따라 이동 가능하게 제공될 수 있다. 핸드(322)는 복수 개가 상하 방향으로 이격되게 제공되고, 핸드(322)들은 서로 독립적으로 전진 및 후진 이동할 수 있다.The transfer chamber 300 has a transfer robot 320. A guide rail 340 whose longitudinal direction is provided in the first direction 92 is provided within the transfer chamber 300, and the transfer robot 320 may be provided to be able to move on the guide rail 340. The transfer robot 320 includes a hand 322 on which the substrate W is placed, and the hand 322 moves forward and backward, rotates about the third direction 96, and moves in the third direction 96. It can be provided so that it can be moved along. A plurality of hands 322 are provided to be spaced apart in the vertical direction, and the hands 322 can move forward and backward independently of each other.
버퍼 유닛(200)은 기판(W)이 놓이는 버퍼(220)를 복수 개 구비한다. 버퍼(220)들은 제3방향(96)을 따라 서로 간에 이격되도록 배치될 수 있다. 버퍼 유닛(200)은 전면(front face)과 후면(rear face)이 개방된다. 전면은 인덱스 모듈(10)과 마주보는 면이고, 후면은 반송 챔버(300)와 마주보는 면이다. 인덱스 로봇(120)은 전면을 통해 버퍼 유닛(200)에 접근하고, 반송 로봇(320)은 후면을 통해 버퍼 유닛(200)에 접근할 수 있다.The buffer unit 200 includes a plurality of buffers 220 on which the substrate W is placed. The buffers 220 may be arranged to be spaced apart from each other along the third direction 96. The buffer unit 200 has open front and rear faces. The front side faces the index module 10, and the back side faces the transfer chamber 300. The index robot 120 may approach the buffer unit 200 through the front, and the transfer robot 320 may approach the buffer unit 200 through the rear.
도 2는 도 1의 액 처리 챔버(400)의 일 실시예를 개략적으로 보여주는 도면이다. FIG. 2 is a diagram schematically showing an embodiment of the liquid processing chamber 400 of FIG. 1.
도 2를 참조하면, 액 처리 챔버(400)는 하우징(410), 컵(420), 지지 유닛(440), 액 공급 유닛(460), 그리고 승강 유닛(480)을 가진다. Referring to FIG. 2 , the liquid processing chamber 400 includes a housing 410, a cup 420, a support unit 440, a liquid supply unit 460, and a lifting unit 480.
하우징(410)은 대체로 직육면체 형상으로 제공된다. 컵(420), 지지 유닛(440), 그리고 액 공급 유닛(460)은 하우징(410) 내에 배치된다.The housing 410 is provided in a generally rectangular parallelepiped shape. The cup 420, the support unit 440, and the liquid supply unit 460 are disposed within the housing 410.
컵(420)은 상부가 개방된 처리 공간(430)을 가지고, 기판(W)은 처리 공간(430) 내에서 액 처리된다. 지지 유닛(440)은 처리 공간(430) 내에서 기판(W)을 지지한다. 액 공급 유닛(460)은 지지 유닛(440)에 지지된 기판(W) 상으로 액을 공급한다. 액은 복수 종류로 제공되고, 기판(W) 상으로 순차적으로 공급될 수 있다. 승강 유닛(480)은 컵(420)과 지지 유닛(440) 간의 상대 높이를 조절한다.The cup 420 has a processing space 430 with an open top, and the substrate W is liquid-processed within the processing space 430 . The support unit 440 supports the substrate W within the processing space 430 . The liquid supply unit 460 supplies liquid onto the substrate W supported on the support unit 440. Liquids are provided in multiple types and can be sequentially supplied onto the substrate W. The lifting unit 480 adjusts the relative height between the cup 420 and the support unit 440.
일 예에 의하면, 컵(420)은 복수의 회수통(422, 424, 426)을 가진다. 회수통들(422, 424, 426)은 각각 기판 처리에 사용된 액을 회수하는 회수 공간을 가진다. 각각의 회수통들(422, 424, 426)은 지지 유닛(440)을 감싸는 링 형상으로 제공된다. 액 처리 공정이 진행시 기판(W)의 회전에 의해 비산되는 처리액은 각 회수통(422, 424, 426)의 유입구(422a, 424a, 426a)를 통해 회수 공간으로 유입된다. According to one example, the cup 420 has a plurality of recovery bins 422, 424, and 426. The recovery containers 422, 424, and 426 each have a recovery space for recovering the liquid used for processing the substrate. Each of the recovery bins 422, 424, and 426 is provided in a ring shape surrounding the support unit 440. When the liquid treatment process progresses, the treatment liquid scattered by the rotation of the substrate W flows into the recovery space through the inlets 422a, 424a, and 426a of each recovery container 422, 424, and 426.
일 예에 의하면, 컵(420)은 제1회수통(422), 제2회수통(424), 그리고 제3회수통(426)을 가진다. 제1회수통(422)은 지지 유닛(440)을 감싸도록 배치되고, 제2회수통(424)은 제1회수통(422)을 감싸도록 배치되고, 제3회수통(426)은 제2회수통(424)을 감싸도록 배치된다. 제2회수통(424)으로 액을 유입하는 제2유입구(424a)는 제1회수통(422)으로 액을 유입하는 제1유입구(422a)보다 상부에 위치되고, 제3회수통(426)으로 액을 유입하는 제3유입구(426a)는 제2유입구(424a)보다 상부에 위치될 수 있다.According to one example, the cup 420 has a first recovery container 422, a second recovery container 424, and a third recovery container 426. The first recovery container 422 is arranged to surround the support unit 440, the second recovery container 424 is arranged to surround the first recovery container 422, and the third recovery container 426 is the second recovery container 426. It is arranged to surround the recovery container 424. The second inlet 424a, which flows liquid into the second recovery tank 424, is located above the first inlet 422a, which flows liquid into the first recovery tank 422, and the third recovery tank 426 The third inlet 426a, which introduces liquid, may be located above the second inlet 424a.
지지 유닛(440)은 지지판(442)과 구동축(444)을 가진다. 지지판(442)의 상면은 대체로 원형으로 제공되고 기판(W)보다 큰 직경을 가질 수 있다. 지지판(442)의 중앙부에는 기판(W)의 후면을 지지하는 지지핀(442a)이 제공되고, 지지핀(442a)은 기판(W)이 지지판(442)으로부터 일정 거리 이격되도록 그 상단이 지지판(442)으로부터 돌출되게 제공된다. The support unit 440 has a support plate 442 and a drive shaft 444. The upper surface of the support plate 442 is provided in a generally circular shape and may have a larger diameter than the substrate (W). A support pin 442a is provided at the center of the support plate 442 to support the rear side of the substrate W, and the support pin 442a has an upper end of the support plate ( 442).
지지판(442)의 가장자리부에는 척핀(442b)이 제공된다. 척핀(442b)은 지지판(442)으로부터 상부로 돌출되게 제공되며, 기판(W)이 회전될 때 기판(W)이 지지 유닛(440)으로부터 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 구동축(444)은 구동기(446)에 의해 구동되며, 기판(W)의 저면 중앙과 연결되며, 지지판(442)을 그 중심축을 기준으로 회전시킨다.A chuck pin 442b is provided at the edge of the support plate 442. The chuck pin 442b is provided to protrude upward from the support plate 442 and supports the side of the substrate W so that the substrate W does not separate from the support unit 440 when the substrate W is rotated. The drive shaft 444 is driven by the driver 446, is connected to the center of the bottom of the substrate W, and rotates the support plate 442 about its central axis.
승강 유닛(480)은 컵(420)을 상하 방향으로 이동시킨다. 컵(420)의 상하 이동에 의해 컵(420)과 기판(W) 간의 상대 높이가 변경된다. 이에 의해 기판(W)에 공급되는 액의 종류에 따라 처리액을 회수하는 회수통(422, 424, 426)이 변경되므로, 액들을 분리 회수할 수 있다. 상술한 바와 달리, 컵(420)은 고정 설치되고, 승강 유닛(480)은 지지 유닛(440)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.The lifting unit 480 moves the cup 420 in the vertical direction. The relative height between the cup 420 and the substrate (W) changes as the cup 420 moves up and down. As a result, the recovery containers 422, 424, and 426 for recovering the processing liquid are changed depending on the type of liquid supplied to the substrate W, so the liquids can be recovered separately. Unlike the above-mentioned, the cup 420 is fixedly installed, and the lifting unit 480 can move the support unit 440 in the vertical direction.
액 공급 유닛(460)은 처리액을 기판(W)에 공급한다. 액 공급 유닛(460)은, 아암(461), 구동부재(466), 노즐(462), 액 공급 라인(463), 밸브(464) 그리고 리저버(465)를 포함한다. 아암(461)은, 구동부재(466)에 의해 상하 방향으로 이동되며 구동축(468)을 중심으로 회전된다. 노즐(462)은 아암(461)의 끝단에 고정 결합되어 기판(W)에 액을 토출 시킨다. 액 공급 라인(463)은 리저버(465)로부터 노즐(462)로 액을 공급한다. 밸브(464)는 리저버(465)로부터 노즐(462)로 공급되는 액의 유량을 조절한다.The liquid supply unit 460 supplies processing liquid to the substrate W. The liquid supply unit 460 includes an arm 461, a driving member 466, a nozzle 462, a liquid supply line 463, a valve 464, and a reservoir 465. The arm 461 is moved in the vertical direction by the drive member 466 and rotated around the drive shaft 468. The nozzle 462 is fixedly coupled to the end of the arm 461 and discharges liquid onto the substrate (W). The liquid supply line 463 supplies liquid from the reservoir 465 to the nozzle 462. The valve 464 controls the flow rate of liquid supplied from the reservoir 465 to the nozzle 462.
일 예에 의하면, 액 공급 유닛(460)은 복수 개가 제공되고, 각각의 액 공급 유닛(460)은 서로 상이한 종류의 처리액을 기판(W)에 공급할 수 있다. 처리액은 산성 또는 염기성을 띠는 액체로 제공된다. 처리액은, 케미칼, 유기 용제 등을 포함할 수 있다. 예컨대 케미칼은, 희석된 황산(H2SO4, Diluted Sulfuric acid Peroxide), 인산(P2O5), 불산(HF) 그리고 수산화 암모늄(NH4OH)을 포함할 수 있다. 유기용제는 이소프로필 알코올일 수 있다.According to one example, a plurality of liquid supply units 460 are provided, and each liquid supply unit 460 can supply different types of processing liquids to the substrate W. The treatment liquid is provided as an acidic or basic liquid. The treatment liquid may contain chemicals, organic solvents, etc. For example, chemicals may include diluted sulfuric acid peroxide (H2SO4), phosphoric acid (P2O5), hydrofluoric acid (HF), and ammonium hydroxide (NH4OH). The organic solvent may be isopropyl alcohol.
이하, 도 3 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 PH 측정 유닛(600)에 대해 설명한다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 PH 측정 유닛(600)을 보여주는 사시도이고, 도 4 내지 도 5는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 베이스 플레이트(610)를 보여주는 사시도와 측면도이고, 도 6은 본 발명의 측정 블록(620)을 보여주는 사시도이다.Hereinafter, the PH measurement unit 600 of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 6. Figure 3 is a perspective view showing the PH measurement unit 600 according to an embodiment of the present invention, and Figures 4 and 5 are a perspective view and a side view respectively showing the base plate 610 according to an embodiment of the present invention. 6 is a perspective view showing the measurement block 620 of the present invention.
도 3을 참조하면, PH 측정 유닛(600)은 베이스 플레이트(610)와 측정 블록(620) 그리고 표시부(630)를 포함한다. 일 예에서, 베이스 플레이트(610)는 도 2의 처리 공간(430) 내에 위치하는 지지 유닛(440)에 지지될 수 있도록 제공된다. 일 예에서, 베이스 플레이트(610)와 기판(W)은 하면의 직경이 같게 제공된다. 이에, 지지 유닛(440)에서 기판(W)을 지지하는 부품의 교체 없이 베이스 플레이트(610)를 처리 공간(430) 내에 위치시킬 수 있다. Referring to FIG. 3, the PH measurement unit 600 includes a base plate 610, a measurement block 620, and a display unit 630. In one example, the base plate 610 is provided so that it can be supported on a support unit 440 located within the processing space 430 of FIG. 2 . In one example, the base plate 610 and the substrate W are provided with the same bottom diameter. Accordingly, the base plate 610 can be placed in the processing space 430 without replacing the parts supporting the substrate W in the support unit 440.
측정 블록(620)은 액의 PH를 측정한다. 일 예에서, 측정 블록(620)은 베이스 플레이트(610)의 상부에 위치된다. 예컨대, 측정 블록(620)은 베이스 플레이트(610)의 상부에 장착된다. 일 예에서, 베이스 플레이트(610)와 측정 블록(620)은 상부에서 바라볼 때 베이스 플레이트(610)의 상면의 일부 영역이 노출되도록 형상 지어질 수 있다. 이에, 베이스 플레이트(610)의 상부 영역 중에서 측정 블록(620)이 위치하지 않는 영역에 노즐(462)이 위치하여 베이스 플레이트(610)로 액을 공급할 수 있다.The measurement block 620 measures the PH of the liquid. In one example, measurement block 620 is located on top of base plate 610. For example, the measurement block 620 is mounted on top of the base plate 610. In one example, the base plate 610 and the measurement block 620 may be shaped so that a portion of the upper surface of the base plate 610 is exposed when viewed from the top. Accordingly, the nozzle 462 is located in an upper area of the base plate 610 where the measuring block 620 is not located, so that liquid can be supplied to the base plate 610.
표시부(630)는 측정 블록(620)으로부터 측정된 액의 PH를 액정에 표시한다. 일 예에서, 표시부(630)는 도 2의 처리 공간(430) 외부에 위치한다. 이에, 작업자는 베이스 플레이트(610)로 토출된 액의 PH를 처리 공간(430) 외부에서 확인할 수 있다.The display unit 630 displays the pH of the liquid measured by the measurement block 620 on liquid crystal. In one example, the display unit 630 is located outside the processing space 430 of FIG. 2 . Accordingly, the operator can check the PH of the liquid discharged to the base plate 610 from outside the processing space 430.
도 4 내지 도 5를 참조하면, 베이스 플레이트(610)는 바디부(612), 수용홈(618), 경사부(616), 가이드 돌기(619) 그리고 핸들부(614)를 가진다. Referring to Figures 4 and 5, the base plate 610 has a body portion 612, a receiving groove 618, an inclined portion 616, a guide protrusion 619, and a handle portion 614.
수용홈(618)은 베이스 플레이트(610)로 토출된 액을 수용하도록 베이스 플레이트(610)의 상면에 제공된다. 일 예에서, 베이스 플레이트(610)는 소정의 높이를 가지는 바디부(612)를 포함하고, 수용홈(618)은 바디부(612)의 중앙에 위치된다. A receiving groove 618 is provided on the upper surface of the base plate 610 to accommodate the liquid discharged to the base plate 610. In one example, the base plate 610 includes a body portion 612 having a predetermined height, and the receiving groove 618 is located in the center of the body portion 612.
경사부(616)는 베이스 플레이트(610)의 상면에 형성된다. 경사부(616)는 베이스 플레이트(610)의 상면이 그 중심을 향하는 방향으로 하향 경사지도록 제공된다. 이에, 베이스 플레이트(610)로 토출되는 액이 베이스 플레이트(610)의 중심으로 모이게 된다. 일 예에서, 경사부(616)는 바디부(612)의 상면에 제공되고 경사부(616)로 토출된 액이 수용홈(618)에 모이도록 제공된다. The inclined portion 616 is formed on the upper surface of the base plate 610. The inclined portion 616 is provided so that the upper surface of the base plate 610 is inclined downward in a direction toward its center. Accordingly, the liquid discharged to the base plate 610 is collected at the center of the base plate 610. In one example, the inclined portion 616 is provided on the upper surface of the body portion 612 and the liquid discharged through the inclined portion 616 is provided to collect in the receiving groove 618.
가이드 돌기(619)는, 베이스 플레이트(610)의 상부에 장착되는 측정 블록(620)의 장착 위치를 안내한다. 가이드 돌기(619)는 바디부(612)의 상부에 제공된다. 일 예에서, 가이드 돌기(619)는 두 개가 마주 보도록 위치되어 가이드 돌기(619)의 내측에 측정 블록(620)이 장착되도록 제공된다. 예컨대, 두 개의 가이드 돌기(619)의 내측 같의 거리는 측정 블록(620)의 너비에 대응되어 측정 블록(620)이 베이스 플레이트(610) 상에 안정적으로 장착될 수 있도록 제공된다.The guide protrusion 619 guides the mounting position of the measurement block 620 mounted on the top of the base plate 610. Guide protrusion 619 is provided on the upper part of the body portion 612. In one example, the two guide protrusions 619 are positioned to face each other so that the measurement block 620 is mounted inside the guide protrusions 619. For example, the inner distance of the two guide protrusions 619 corresponds to the width of the measuring block 620 so that the measuring block 620 can be stably mounted on the base plate 610.
핸들부(614)는, 작업자가 베이스 플레이트(610)를 용이하게 운반할 수 있도록 바디부(612)의 측면에 링 형상으로 제공된다. 일 예에서, 핸들부(614)의 직경은 기판(W)의 직경과 동일하게 제공된다.The handle portion 614 is provided in a ring shape on the side of the body portion 612 so that the operator can easily carry the base plate 610. In one example, the diameter of the handle portion 614 is provided to be the same as the diameter of the substrate (W).
도 6을 참조하면, 측정 블록(620)은 PH 센서(622), 블루투스 통신 모듈(미도시), 전원부(626) 그리고 온도 센서(624)를 포함한다. Referring to FIG. 6, the measurement block 620 includes a PH sensor 622, a Bluetooth communication module (not shown), a power unit 626, and a temperature sensor 624.
PH 센서(622)는, 베이스 플레이트(610)로 토출된 액의 PH를 측정한다. 일 예에서, PH 센서(622)는 수용홈(618) 내에 수용된 액의 PH를 측정한다. 일 예에서, PH 센서(622)는 측정 블록(620)이 베이스 플레이트(610)에 장착되었을 때, 베이스 플레이트(610)르 향하는 방향으로 돌출되도록 제공된다. 이에, PH 센서(622)는 수용홈(618) 내에 수용된 액에 침지되어 수용홈(618) 내에 수용된 액의 PH를 측정한다. 일 예에서, PH 센서(622)는 유리 전극 PH 미터로 제공될 수 있다.The PH sensor 622 measures the PH of the liquid discharged to the base plate 610. In one example, the PH sensor 622 measures the PH of the liquid contained in the receiving groove 618. In one example, the PH sensor 622 is provided to protrude in a direction toward the base plate 610 when the measurement block 620 is mounted on the base plate 610. Accordingly, the PH sensor 622 is immersed in the liquid contained in the receiving groove 618 and measures the PH of the liquid contained in the receiving groove 618. In one example, PH sensor 622 may be provided as a glass electrode PH meter.
블루투스 통신 모듈(미도시)은, 블루투스 통신을 이용하여, PH 센서(622)로부터 측정된 액의 PH 정보를 표시부(630)에 전달한다. 또한, 블루투스 통신 모듈(미도시)은, 작업자의 PH 측정 명령에 따라 PH 센서(622)로 하여금 액의 PH를 측정하도록 한다.The Bluetooth communication module (not shown) transmits PH information of the liquid measured by the PH sensor 622 to the display unit 630 using Bluetooth communication. Additionally, the Bluetooth communication module (not shown) allows the PH sensor 622 to measure the PH of the liquid according to the operator's PH measurement command.
전원부(626)는 센서와 블루투스 통신 모듈(미도시)에 전원을 공급한다. 온도 센서(624)는, 처리 공간(430)의 온도를 측정한다. 온도 센서(624)는 PH 센서(622)가 측정한 PH의 신뢰성을 담보하기 위해 제공된다.The power unit 626 supplies power to the sensor and Bluetooth communication module (not shown). The temperature sensor 624 measures the temperature of the processing space 430. The temperature sensor 624 is provided to ensure the reliability of PH measured by the PH sensor 622.
이하, 도 7 내지 도 10을 참조하여 본 발명의 기판 처리 방법에 대해 설명한다. 도 7은 내지 도 10은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 방법을 순서대로 나타내는 도면이다.Hereinafter, the substrate processing method of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 to 10. 7 to 10 are diagrams sequentially showing a substrate processing method according to an embodiment of the present invention.
먼저, 지지 유닛(440)에 지지되어 회전하는 기판(W)의 처리면에 처리액을 공급한다. 액 공급 유닛(460)이 처리액을 공급함에 따라, 노즐(462), 액 공급 라인(463), 밸브(464) 등의 내부에는 처리액이 잔류한다. 기판(W)으로 처리액 공급이 완료되면, 기판(W)을 지지 유닛(440)으로부터 제거한다.First, a processing liquid is supplied to the processing surface of the substrate W that is supported and rotated by the support unit 440. As the liquid supply unit 460 supplies the processing liquid, the processing liquid remains inside the nozzle 462, the liquid supply line 463, and the valve 464. When the supply of the processing liquid to the substrate W is completed, the substrate W is removed from the support unit 440.
기판(W)으로 처리액을 공급한 후에, 액 공급 유닛(460)을 유지 보수하기 위한 메인터넌스 과정이 진행될 수 있다. 예컨대, 액 공급 라인(463) 상에 제공된 배관을 교체할 수 있다. 이 과정에서, 액 공급 유닛(460)이 중성화가 되지 않는다면, 작업자는 인체에 유해한 산성 또는 염기성의 처리액에 노출되게 된다. 이에, 액 공급 유닛(460)이 중성화가 되었는지 여부를 판단하기 위해 중성화 확인 작업을 수행한다. After supplying the processing liquid to the substrate W, a maintenance process to maintain the liquid supply unit 460 may be performed. For example, the pipe provided on the liquid supply line 463 can be replaced. In this process, if the liquid supply unit 460 is not neutralized, workers will be exposed to acidic or basic treatment liquid that is harmful to the human body. Accordingly, a neutralization confirmation operation is performed to determine whether the liquid supply unit 460 has been neutralized.
먼저, 중성화 확인 작업은, 베이스 플레이트(610) 상에 액 공급 유닛(460)을 통해 액을 공급함에 따라 진행된다. 도 7에 도시된 바와 같이, 처리 공간(430) 내의 지지 유닛(440)에 베이스 플레이트(610)를 위치시키고, 베이스 플레이트(610)의 상부에 측정 블록(620)을 장착한다. 노즐(462)은, 도 8에 도시된 바와 같이 베이스 플레이트(610)의 중심에서 벗어난 영역에 위치한다. 노즐(462)은 베이스 플레이트(610)의 상부에서 바디부(612) 상에 액을 토출한다. First, the neutralization confirmation work is performed by supplying liquid through the liquid supply unit 460 on the base plate 610. As shown in FIG. 7, the base plate 610 is placed on the support unit 440 in the processing space 430, and the measurement block 620 is mounted on the base plate 610. The nozzle 462 is located in an area off the center of the base plate 610, as shown in FIG. 8. The nozzle 462 discharges liquid onto the body portion 612 from the top of the base plate 610.
일 예에서, 액은 중성액이다. 예컨대, 액은 DIW(Deionized Water)로 제공된다. 일 예에서, 중성액은, 밸브(464)의 전단에 제공된 중성액 리저버로부터 공급될 수 있다. 중성액이 액 공급 유닛(460)을 따라 소정 시간 흐르면서 액 공급 유닛(460)을 중성화시킨다. In one example, the liquid is a neutral liquid. For example, the liquid is provided as DIW (Deionized Water). In one example, neutral liquid may be supplied from a neutral liquid reservoir provided in front of the valve 464. As the neutral liquid flows along the liquid supply unit 460 for a predetermined period of time, the liquid supply unit 460 is neutralized.
바디부(612) 상에 토출된 액은, 도 9에 도시된 바와 같이 경사부(616)를 따라 수용홈(618)으로 흘러들어 간다. 액 공급 유닛(460)으로부터 소정의 시간 동안 액이 공급되고 나면, 블루투스 통신 모듈(미도시)을 통해 PH 센서(622)로 하여금 수용홈(618)에 수용된 액의 PH를 측정한다. The liquid discharged on the body portion 612 flows into the receiving groove 618 along the inclined portion 616, as shown in FIG. 9. After the liquid is supplied from the liquid supply unit 460 for a predetermined period of time, the PH sensor 622 measures the PH of the liquid contained in the receiving groove 618 through a Bluetooth communication module (not shown).
일 예에서, PH 센서(622)는, 액 공급 유닛(460)으로부터 액이 토출되는 도중에 액의 PH를 측정할 수 있다. 측정된 액의 PH는 표시부(630)를 통해 확인한다. 액의 중성화 여부는 액의 PH가 6 내지 8의 범위 내에 있는지 여부로 판단한다. 바람직하게는, 액의 PH가 6.5 내지 7.5의 범위 내에 있는지 여부로 판단한다. 만약, 액의 PH가 6.5 내지 7.5의 범위 내에 있지 않은 경우, 액 공급 유닛(460)은 중성액을 계속하여 토출한다. PH 측정 유닛(600)의 액의 PH 측정 및 액 공급 유닛(460)의 액 공급은 액 공급 유닛(460)으로부터 토출되는 액이 중성화가 될 때까지 계속될 수 있다.In one example, the PH sensor 622 may measure the PH of the liquid while the liquid is being discharged from the liquid supply unit 460. The PH of the measured liquid is confirmed through the display unit 630. Whether the liquid is neutralized is judged by whether the pH of the liquid is within the range of 6 to 8. Preferably, it is determined whether the pH of the liquid is within the range of 6.5 to 7.5. If the pH of the liquid is not within the range of 6.5 to 7.5, the liquid supply unit 460 continues to discharge the neutral liquid. Measurement of the PH of the liquid by the PH measurement unit 600 and supply of the liquid by the liquid supply unit 460 may continue until the liquid discharged from the liquid supply unit 460 is neutralized.
액 공급 유닛(460)으로부터 토출된 액의 중성화가 완료되면, 액 공급 유닛(460)으로부터 액 토출을 종료한다. 액 공급이 중지된 이후에 작업자는 처리 공간(430)을 개방하여, 도 9에 도시된 바와 같이 베이스 플레이트(610)로부터 측정 블록(620)을 분리시킨다. 이후에 수용홈(618)에 담긴 액을 비워낸다.When neutralization of the liquid discharged from the liquid supply unit 460 is completed, liquid discharge from the liquid supply unit 460 ends. After the liquid supply is stopped, the operator opens the processing space 430 and separates the measurement block 620 from the base plate 610 as shown in FIG. 9. Afterwards, the liquid contained in the receiving groove 618 is emptied.
상술한 예에서는, 처리액이 공급되는 공정을 기판(W)을 세정하는 공정으로 설명하였다. 그러나, 이와 달리, 처리액이 공급되는 공정은 포토 공정이나 애싱 공정과 같은, 기판(W)에 산성 또는 염기성 액을 공급하는 공정일 수 있다.In the above example, the process of supplying the processing liquid was described as a process of cleaning the substrate W. However, unlike this, the process in which the processing liquid is supplied may be a process in which an acidic or basic liquid is supplied to the substrate W, such as a photo process or an ashing process.
상술한 예에서는, 베이스 플레이트(610)가 바디부(612)와 핸들부(614)로 구분되는 것으로 설명하였다. 그러나, 다른 예에서, 베이스 플레이트(610)는 원기둥 형상으로 제공되고, 그 직경이 기판(W)과 동일하게 제공될 수 있다.In the above example, the base plate 610 is described as being divided into a body portion 612 and a handle portion 614. However, in another example, the base plate 610 may be provided in a cylindrical shape and have the same diameter as the substrate W.
상술한 예에서는, 핸들부(614)는 바디부(612)의 하부에 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나, 다른 예에서, 핸들부(614)는 바디부(612)의 중앙 또는 상부의 외측면에 제공되고, 바디부(612)와 기판(W)의 하면의 직경이 동일하게 제공될 수 있다.In the above-described example, the handle portion 614 was described as being provided at the lower part of the body portion 612. However, in another example, the handle portion 614 may be provided on the outer surface of the center or upper portion of the body portion 612, and the diameters of the lower surfaces of the body portion 612 and the substrate W may be the same.
상술한 예에서는, 핸들부(614)는 링 형상으로 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나, 바디부(612)가 기판(W)과 같은 직경으로 제공되고 핸들부(614)는 바디부(612)의 외측면으로부터 돌출된 돌기 형상으로 제공될 수 있다.In the above-described example, the handle portion 614 was described as being provided in a ring shape. However, the body portion 612 may be provided with the same diameter as the substrate W, and the handle portion 614 may be provided in the shape of a protrusion protruding from the outer surface of the body portion 612.
상슬한 예에서는, 가이드 돌기(619)가 측정 블록(620)의 호의 길이에 상응하는 형상으로 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나, 다른 예에서, 가이드는 링 형상으로 제공될 수 있다.In a typical example, the guide protrusion 619 is described as being provided in a shape corresponding to the arc length of the measuring block 620. However, in another example, the guide may be provided in a ring shape.
상술한 예에서는, 베이스 플레이트(610)와 측정 블록(620)이 분리가 가능한 것으로 설명하였다. 그러나, 다른 예에서, 베이스 플레이트(610)와 측정 블록(620)은 일체로 제공될 수 있다.In the above example, the base plate 610 and the measurement block 620 were described as being separable. However, in other examples, the base plate 610 and the measurement block 620 may be provided as one piece.
상술한 예에서는, 액 공급 유닛(460)이 액을 토출하는 도중에 액의 PH를 측정하는 것으로 설명하였다. 그러나, 다른 예에서, 액 공급 유닛(460)이 액의 토출을 중지한 이후에 액의 PH를 측정할 수 있다.In the above-mentioned example, it was explained that the liquid supply unit 460 measures the PH of the liquid while discharging the liquid. However, in another example, the PH of the liquid may be measured after the liquid supply unit 460 stops discharging the liquid.
본 발명에 따르면, 액 공급 유닛(460)에서 액이 토출되지 않을 때 PH 측정 유닛(600)을 처리 공간(430)에 제공하고, 처리 공간(430)으로부터 제거한다. 또한, 처리 공간(430) 내에 제공되는 액의 중성화 여부를 블루투스 무선 통신을 이용하여 처리 공간(430) 외부에 제공된 표시부(630)에서 확인 가능하게 제공된다. 이에 따라 작업자의 안전을 확보하고, 보호구 구매 비용 절감할 수 있는 이점이 있다.According to the present invention, when liquid is not discharged from the liquid supply unit 460, the PH measuring unit 600 is provided in the processing space 430 and removed from the processing space 430. In addition, whether the liquid provided in the processing space 430 is neutralized can be confirmed on the display unit 630 provided outside the processing space 430 using Bluetooth wireless communication. This has the advantage of ensuring worker safety and reducing the cost of purchasing protective gear.
본 발명에 따르면, 처리 공간(430) 외부에서 액의 중성화 여부를 판단할 수 있게 제공되는 바, 액 공급 유닛(460)이 액을 토출하는 도중에도 액의 PH 확인이 가능한 이점이 있다.According to the present invention, it is possible to determine whether the liquid is neutralized from outside the processing space 430, so there is an advantage in that the pH of the liquid can be checked even while the liquid supply unit 460 is discharging the liquid.
본 발명에 따르면, PH 측정에 센서를 이용하여 수치화된 데이터로 확인할 수 있는 바, 액의 중성화 정도를 정확하게 판단할 수 있고 환경 오염을 줄일 수 있는 이점이 있다.According to the present invention, PH measurement can be confirmed through numerical data using a sensor, which has the advantage of accurately determining the degree of neutralization of the liquid and reducing environmental pollution.
본 발명에 따르면, 베이스 플레이트(610)와 측정 블록(620)이 분리 가능하게 제공되는 바, 센서를 보호하기 위한 보호 장비의 장착이 용이한 이점이 있다. 또한, 센서나 전원부(626) 등 측정 블록(620)에 제공된 부품의 교체가 용이한 이점이 있다. 또한, 액의 중성화 확인 작업이 완료된 후 베이스 플레이트(610)에 담긴 액 따라 버리기 용이한 이점이 있다.According to the present invention, since the base plate 610 and the measurement block 620 are provided to be separable, there is an advantage in that it is easy to install protective equipment to protect the sensor. In addition, there is an advantage that parts provided in the measurement block 620, such as sensors and the power supply unit 626, can be easily replaced. In addition, there is an advantage that it is easy to pour out and discard the liquid contained in the base plate 610 after the neutralization confirmation of the liquid is completed.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The above detailed description is illustrative of the present invention. Additionally, the foregoing is intended to illustrate preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications can be made within the scope of the inventive concept disclosed in this specification, a scope equivalent to the written disclosure, and/or within the scope of technology or knowledge in the art. The written examples illustrate the best state for implementing the technical idea of the present invention, and various changes required for specific application fields and uses of the present invention are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention above is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Additionally, the appended claims should be construed to include other embodiments as well.
440: 지지 유닛
460: 액 공급 유닛
462: 노즐
600: PH 측정 유닛
610: 베이스 플레이트
620: 측정 블록
630: 표시부440: support unit
460: Liquid supply unit
462: nozzle
600: PH measurement unit
610: base plate
620: Measurement block
630: display unit
Claims (15)
상기 수용홈 내에 수용된 상기 액의 PH를 측정하는 PH 센서를 구비하는 측정 블록을 포함하고,
상기 베이스 플레이트와 상기 측정 블록은 상부에서 바라볼 때 상기 베이스 플레이트의 상면의 일부 영역이 노출되도록 제공되고,
상기 베이스 플레이트의 상면은 그 중심을 향하는 방향으로 하향 경사지도록 제공되며,
상기 수용홈은, 상기 베이스 플레이트의 중앙에 위치되고,
상기 PH 센서는 상기 수용홈 내에 수용된 액에 침지되어 상기 수용홈 내에 수용된 액의 PH를 측정하는 PH 측정 유닛.A base plate that can be supported on a support unit provided in the processing space and has a receiving groove for receiving the liquid;
It includes a measuring block including a PH sensor that measures the pH of the liquid accommodated in the receiving groove,
The base plate and the measuring block are provided so that a portion of the upper surface of the base plate is exposed when viewed from the top,
The upper surface of the base plate is provided to be inclined downward in a direction toward its center,
The receiving groove is located in the center of the base plate,
The PH sensor is a PH measuring unit that is immersed in the liquid contained in the receiving groove and measures the PH of the liquid contained in the receiving groove.
상기 처리 공간의 외부에서 상기 PH 센서로부터 측정된 상기 액의 PH를 표시하는 표시부를 더 포함하고,
상기 측정 블록은,
블루투스 통신을 이용하여 상기 표시부에 상기 액의 PH 정보를 전달하는 블루투스 통신 모듈; 그리고,
상기 PH 센서와 상기 블루투스 통신 모듈에 전원을 공급하는 전원부를 더 포함하는 PH 측정 유닛.According to paragraph 1,
Further comprising a display unit displaying the pH of the liquid measured by the PH sensor outside the processing space,
The measurement block is,
a Bluetooth communication module that transmits PH information of the liquid to the display unit using Bluetooth communication; and,
A PH measurement unit further comprising a power supply unit that supplies power to the PH sensor and the Bluetooth communication module.
상기 베이스 플레이트는,
상기 측정 블록의 장착 위치를 안내하는 가이드 돌기를 더 포함하고,
상기 측정 블록은 상기 가이드 돌기 내측에 장착 가능하게 제공되는 PH 측정 유닛.According to paragraph 1,
The base plate is,
Further comprising a guide protrusion that guides the mounting position of the measurement block,
The measurement block is a PH measurement unit provided to be mounted inside the guide protrusion.
처리 공간을 제공하는 컵과;
상기 처리 공간에서 기판을 지지하고 회전 가능한 지지 유닛과;
상기 지지 유닛에 지지된 기판의 처리면에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과;
상기 액 공급 유닛으로부터 토출되는 액의 PH를 측정하는 PH 측정 유닛을 포함하고,
상기 PH 측정 유닛은,
상기 지지 유닛에 지지 가능하고, 상기 액 공급 유닛으로부터 토출되는 상기 액을 수용하는 수용홈을 가지는 베이스 플레이트와;
상기 수용홈 내에 수용된 상기 액의 PH를 측정하는 PH 센서를 가지는 측정 블록을 포함하며,
상기 베이스 플레이트와 상기 측정 블록은 상부에서 바라볼 때 상기 베이스 플레이트의 상면의 일부 영역이 노출되도록 제공되고,
상기 베이스 플레이트의 상면은 그 중심을 향하는 방향으로 하향 경사지도록 제공되며,
상기 수용홈은, 상기 베이스 플레이트의 중앙에 위치되고,
상기 PH 센서는 상기 수용홈 내에 수용된 액에 침지되어 상기 수용홈 내에 수용된 액의 PH를 측정하는 기판 처리 장치.In a device for processing a substrate,
a cup providing a processing space;
a support unit that supports and rotates the substrate in the processing space;
a liquid supply unit supplying a processing liquid to the processing surface of the substrate supported on the support unit;
It includes a PH measurement unit that measures the PH of the liquid discharged from the liquid supply unit,
The PH measurement unit is,
a base plate capable of being supported on the support unit and having a receiving groove for receiving the liquid discharged from the liquid supply unit;
It includes a measuring block having a PH sensor that measures the PH of the liquid accommodated in the receiving groove,
The base plate and the measuring block are provided so that a portion of the upper surface of the base plate is exposed when viewed from the top,
The upper surface of the base plate is provided to be inclined downward in a direction toward its center,
The receiving groove is located in the center of the base plate,
The PH sensor is a substrate processing device that is immersed in a liquid contained in the receiving groove and measures PH of the liquid contained in the receiving groove.
상기 처리 공간의 외부에서 상기 PH 센서로부터 측정된 상기 액의 PH를 표시하는 표시부를 더 포함하고,
상기 측정 블록은,
블루투스 통신을 이용하여 상기 표시부에 상기 처리액의 PH 정보를 전달하는 블루투스 통신 모듈; 그리고,
상기 PH 센서와 상기 블루투스 통신 모듈에 전원을 공급하는 전원부를 더 포함하는 기판 처리 장치.In clause 7,
Further comprising a display unit displaying the pH of the liquid measured by the PH sensor outside the processing space,
The measurement block is,
a Bluetooth communication module that transmits PH information of the processing liquid to the display unit using Bluetooth communication; and,
A substrate processing device further comprising a power supply unit that supplies power to the PH sensor and the Bluetooth communication module.
상기 베이스 플레이트는,
상기 측정 블록의 장착 위치를 안내하는 가이드 돌기를 더 포함하고,
상기 측정 블록은 상기 가이드 돌기 내측에 장착 가능하게 제공되는 기판 처리 장치.In clause 7,
The base plate is,
Further comprising a guide protrusion that guides the mounting position of the measurement block,
The measurement block is provided to be mounted inside the guide protrusion.
처리 공간을 제공하는 컵과;
상기 처리 공간에서 기판을 지지하고 회전 가능한 지지 유닛과;
상기 지지 유닛에 지지된 기판의 처리면에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과;
상기 액 공급 유닛으로부터 토출되는 액의 PH를 측정하는 PH 측정 유닛을 포함하고,
상기 PH 측정 유닛은,
상기 지지 유닛에 지지 가능하고, 상기 액 공급 유닛으로부터 토출되는 상기 액을 수용하는 수용홈을 가지는 베이스 플레이트와;
상기 수용홈 내에 수용된 상기 액의 PH를 측정하는 PH 센서를 가지는 측정 블록을 포함하며,
상기 베이스 플레이트의 상면은 그 중심을 향하는 방향으로 하향 경사지도록 제공되고,
상기 수용홈은, 상기 베이스 플레이트의 중앙에 위치되며,
상기 PH 센서는 상기 수용홈 내에 수용된 액에 침지되어 상기 수용홈 내에 수용된 액의 PH를 측정하는 기판 처리 장치.In a device for processing a substrate,
a cup providing a processing space;
a support unit that supports and rotates the substrate in the processing space;
a liquid supply unit supplying a processing liquid to the processing surface of the substrate supported on the support unit;
It includes a PH measurement unit that measures the PH of the liquid discharged from the liquid supply unit,
The PH measurement unit is,
a base plate capable of being supported on the support unit and having a receiving groove for receiving the liquid discharged from the liquid supply unit;
It includes a measuring block having a PH sensor that measures the PH of the liquid accommodated in the receiving groove,
The upper surface of the base plate is provided to be inclined downward in a direction toward its center,
The receiving groove is located in the center of the base plate,
The PH sensor is a substrate processing device that is immersed in a liquid contained in the receiving groove and measures PH of the liquid contained in the receiving groove.
상기 베이스 플레이트와 상기 기판은 하면의 직경이 같게 제공되는 기판 처리 장치.In clause 7,
A substrate processing device wherein the base plate and the substrate have the same bottom diameter.
회전하는 상기 기판의 처리면에 처리액을 공급하고, 이후에 상기 기판을 상기 지지 유닛으로부터 제거한 후,
상기 지지 유닛 상에 상기 베이스 플레이트를 위치시켜 상기 베이스 플레이트 상에 상기 액을 공급하고, 상기 베이스 플레이트에 공급된 상기 액의 PH를 측정하여 상기 액의 중성화 여부를 확인하는 기판 처리 방법.In the method of processing a substrate using the device of claim 8,
After supplying a processing liquid to the processing surface of the rotating substrate and then removing the substrate from the support unit,
A substrate processing method comprising placing the base plate on the support unit, supplying the liquid on the base plate, and measuring PH of the liquid supplied to the base plate to determine whether the liquid is neutralized.
상기 기판을 상기 지지 유닛으로부터 제거한 후에,
상기 액 공급 유닛의 메인터넌스 과정을 포함하는 기판 처리 방법.According to clause 12,
After removing the substrate from the support unit,
A substrate processing method including a maintenance process of the liquid supply unit.
상기 처리액은 산성 또는 염기성 액이고, 상기 액은 중성액인 기판 처리 방법.According to clause 12,
A substrate treatment method wherein the treatment liquid is an acidic or basic liquid, and the liquid is a neutral liquid.
상기 액은 DIW(Deionized Water)를 포함하는 기판 처리 방법.According to clause 14,
A substrate processing method wherein the liquid includes DIW (Deionized Water).
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