KR102554557B1 - 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 - Google Patents
터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102554557B1 KR102554557B1 KR1020180089968A KR20180089968A KR102554557B1 KR 102554557 B1 KR102554557 B1 KR 102554557B1 KR 1020180089968 A KR1020180089968 A KR 1020180089968A KR 20180089968 A KR20180089968 A KR 20180089968A KR 102554557 B1 KR102554557 B1 KR 102554557B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- touch
- electrode
- common power
- display area
- layer
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 144
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims abstract description 71
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 68
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 278
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 15
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 230000004044 response Effects 0.000 description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical group [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 6
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 2
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 2
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910017115 AlSb Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/40—OLEDs integrated with touch screens
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
- H01L27/153—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
- H01L27/156—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/88—Dummy elements, i.e. elements having non-functional features
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Geometry (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
Abstract
본 출원은 공통 전원 라인의 저항이 감소될 수 있는 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치를 제공하는 것으로, 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 표시 영역과 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 포함하는 기판, 기판의 표시 영역 상에 배치된 화소 구동 전극과 화소 구동 전극 상의 발광층 및 발광층 상의 공통 전극을 포함하는 화소 어레이층, 기판의 비표시 영역 상에 배치되고 공통 전극에 전기적으로 연결된 공통 전원 라인, 화소 어레이층을 둘러싸며 공통 전원 라인의 일부를 노출시키는 봉지층, 및 공통 전원 라인과 중첩되도록 봉지층 상에 배치되고 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 공통 전원 더미 패턴을 포함할 수 있다.
Description
본 출원은 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치에 관한 것이다.
터치 스크린은 표시 장치에 설치되어 사용자가 디스플레이 화면을 보면서 손가락이나 펜 등으로 화면을 터치하여 정보를 입력하는 입력 장치의 한 종류이다.
최근, 텔레비전, 휴대 전화, 태블릿 컴퓨터, 네비게이션, 게임기 등과 같은 멀티 미디어 표시 장치는 사용자의 터치를 인식할 수 있는 터치 스크린을 포함한다.
터치 스크린을 포함하는 터치 스크린 일체형 표시 장치에서, 표시 장치로는 액정 표시 장치, 발광 표시 장치, 또는 양자점 표시 장치 등이 사용될 수 있다. 발광 표시 장치는 고속의 응답 속도를 가지며, 소비 전력이 낮고, 액정 표시 장치와 달리 별도의 광원이 필요하지 않는 자체 발광이므로 차세대 표시 장치로 주목 받고 있다.
발광 표시 장치를 구성하는 복수의 화소 각각은 화소 구동 전극(또는 애노드 전극)과 공통 전극(또는 캐소드 전극) 사이에 개재된 발광층을 포함하는 발광 소자, 및 발광 소자를 구동하는 화소 회로를 포함할 수 있다. 화소 회로는 주로 스위칭 박막 트랜지스터와 구동 트랜지스터 및 스토리지 커패시터를 포함할 수 있다.
화소에서 발광 소자에 흐르는 전류는 공통 전극과 공통 전원 라인을 통해 흐를 수 있다. 이 경우, 공통 전원 라인의 저항이 크면, 발광 소자의 전류 흐름이 방해되기 때문에 공통 전원 라인의 전압 변화(또는 라이징)로 인하여 얼룩과 같은 화질 불량이 발생될 수 있다.
공통 전원 라인의 저항을 확보하기 위하여, 공통 전원 라인의 폭을 증가시킬 수 있지만, 이 경우 공통 전원 라인의 폭이 증가함에 따라 발광 표시 장치의 베젤 폭이 증가하는 문제점이 있다.
본 출원은 공통 전원 라인의 저항이 감소될 수 있는 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
또한, 본 출원은 공통 전원 라인의 저항이 감소되고 얇은 베젤 폭을 갖는 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 표시 영역과 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 포함하는 기판, 기판의 표시 영역 상에 배치된 화소 구동 전극과 화소 구동 전극 상의 발광층 및 발광층 상의 공통 전극을 포함하는 화소 어레이층, 기판의 비표시 영역 상에 배치되고 공통 전극에 전기적으로 연결된 공통 전원 라인, 화소 어레이층을 둘러싸며 공통 전원 라인의 일부를 노출시키는 봉지층, 및 공통 전원 라인과 중첩되도록 봉지층 상에 배치되고 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 공통 전원 더미 패턴을 포함할 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 표시 영역과 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 갖는 기판, 기판의 표시 영역 상에 배치된 공통 전극을 포함하는 화소 어레이층, 기판의 비표시 영역 상에 배치되고 공통 전극에 전기적으로 연결된 공통 전원 라인, 공통 전원 라인의 제 1 부분을 제외한 나머지 제 2 부분과 화소 어레이층을 덮는 봉지층, 및 봉지층 상에 배치된 터치 센서층을 포함하며, 터치 센서층은 표시 영역 상의 봉지층 상에 배치된 터치 전극을 갖는 터치 전극부, 및 공통 전원 라인과 중첩되도록 봉지층 상에 배치되고 공통 전원 라인의 제 1 부분과 전기적으로 연결된 공통 전원 더미 패턴을 갖는 더미 패턴부를 포함할 수 있다.
본 출원에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 공통 전원 라인의 저항이 감소됨으로써 공통 전원 라인의 전압 변화에 따른 얼룩과 같은 화질 불량을 방지할 수 있다
또한, 본 출원에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 베젤 폭을 줄일 수 있다.
위에서 언급된 본 출원의 효과 외에도, 본 출원의 다른 특징 및 이점들이 이하에서 기술되거나, 그러한 기술 및 설명으로부터 본 출원이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치를 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 화소 어레이층을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 터치 라우팅 라인을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 도 1에 도시된 선 I-I'의 단면도이다.
도 5는 도 1에 도시된 선 II-II'의 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 화소 어레이층을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 터치 라우팅 라인을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 도 1에 도시된 선 I-I'의 단면도이다.
도 5는 도 1에 도시된 선 II-II'의 단면도이다.
본 출원의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 일 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 출원은 이하에서 개시되는 일 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 출원의 일 예들은 본 출원의 개시가 완전하도록 하며, 본 출원의 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 출원의 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 출원의 일 예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 출원이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 출원의 예를 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 출원의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.
구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.
시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.
제 1, 제 2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제 1 구성요소는 본 출원의 기술적 사상 내에서 제 2 구성요소일 수도 있다.
"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제 1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다.
본 출원의 여러 예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.
이하에서는 본 출원에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치의 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다
도 1은 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치를 나타내는 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 화소 어레이층을 설명하기 위한 도면이며, 도 3은 도 1에 도시된 터치 라우팅 라인을 설명하기 위한 도면이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 기판(100), 화소 어레이층, 공통 전원 라인(CPL), 봉지층, 및 공통 전원 더미 패턴(CPDP)을 포함할 수 있다.
기판(100)은 베이스 기판(또는 베이스층)으로서, 플라스틱 재질 또는 유리 재질을 포함한다. 일 예에 따른 기판(100)은 평면적으로 사각 형태, 각 모서리 부분이 일정한 곡률반경으로 라운딩된 사각 형태, 또는 적어도 6개의 변을 갖는 비사각 형태를 가질 수 있다. 여기서, 비사각 형태를 갖는 기판(100)은 적어도 하나의 돌출부 또는 적어도 하나의 노치부(notch portion)를 포함할 수 있다.
일 예에 따른 기판(100)은 표시 영역(AA)과 비표시 영역(IA)으로 구분될 수 있다.
표시 영역(AA)은 기판(100)의 중간 영역에 마련되는 것으로, 영상을 표시하는 영역으로 정의될 수 있다. 일 예에 따른 표시 영역(AA)은 평면적으로 사각 형태, 각 모서리 부분이 일정한 곡률 반경을 가지도록 라운딩된 사각 형태, 또는 적어도 6개의 변을 갖는 비사각 형태를 가질 수 있다. 여기서, 비사각 형태를 갖는 표시 영역(AA)은 적어도 하나의 돌출부 또는 적어도 하나의 노치부를 포함할 수 있다.
비표시 영역(IA)은 표시 영역(AA)을 둘러싸도록 기판(100)의 가장자리 영역에 마련되는 것으로, 영상이 표시되는 않는 영역 또는 주변 영역으로 정의될 수 있다. 일 예에 따른 비표시 영역(IA)은 기판(100)의 제 1 가장자리에 마련된 제 1 비표시 영역(IA1), 제 1 비표시 영역(IA1)과 나란한 기판(100)의 제 2 가장자리에 마련된 제 2 비표시 영역(IA2), 기판(100)의 제 3 가장자리에 마련된 제 3 비표시 영역(IA3), 및 제 3 비표시 영역과 나란한 기판(100)의 제 4 가장자리에 마련된 제 4 비표시 영역(IA4)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제 1 비표시 영역(IA1)은 기판(100)의 상측(또는 하측) 가장자리 영역, 제 2 비표시 영역(IA2)은 기판(100)의 하측(또는 상측) 가장자리 영역, 제 3 비표시 영역(IA3)은 기판(100)의 좌측(또는 우측) 가장자리 영역, 그리고 제 4 비표시 영역(IA4)은 기판(100)의 우측(또는 좌측) 가장자리 영역일 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다.
화소 어레이층은 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 마련될 수 있다. 일 예에 따른 화소 어레이층은 스캔 라인(SL), 데이터 라인(DL), 화소 구동 전원 라인(PL), 및 화소(P)를 포함할 수 있다.
스캔 라인(SL)은 제 1 방향(X)을 따라 길게 연장되고 제 1 방향(X)과 교차하는 제 2 방향(Y)을 따라 배치된다. 기판(100)의 표시 영역(AA)은 제 1 방향(X)과 나란하면서 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격된 복수의 스캔 라인(SL)을 포함한다. 여기서, 제 1 방향(X)은 기판(100)의 가로 방향으로 정의될 수 있고, 제 2 방향(Y)은 기판(100)의 세로 방향으로 정의될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고 그 반대로 정의될 수도 있다.
데이터 라인(DL)은 제 2 방향(Y)을 따라 길게 연장되고 제 1 방향(X)을 따라 배치된다. 기판(100)의 표시 영역(AA)은 제 2 방향(Y)과 나란하면서 제 1 방향(X)을 따라 서로 이격된 복수의 데이터 라인(DL)을 포함한다.
화소 구동 전원 라인(PL)은 데이터 라인(DL)과 나란하도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다. 기판(100)의 표시 영역(AA)은 데이터 라인(DL)과 나란한 복수의 화소 구동 전원 라인(PL)을 포함한다. 선택적으로, 화소 구동 전원 라인(PL)은 스캔 라인(SL)과 나란하도록 배치될 수도 있다.
화소(P)는 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 정의된 화소 영역에 배치되고 인접한 스캔 라인(SL)과 데이터 라인(DL) 및 화소 구동 전원 라인(PL)에 전기적으로 연결된다. 여기서, 화소 영역은 스캔 라인(SL)과 데이터 라인(DL)의 교차에 의해 정의될 수 있다.
일 예에 따른 화소(P)는 표시 영역(AA) 상에 스트라이프(stripe) 구조를 가지도록 배치될 수 있다. 이 경우, 하나의 단위 화소는 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소를 포함할 수 있으며, 나아가 하나의 단위 화소는 백색 화소를 더 포함할 수 있다.
다른 예에 따른 화소(P)는 표시 영역(AA) 상에 펜타일(pentile) 구조를 가지도록 배치될 수 있다. 이 경우, 하나의 단위 화소는 평면적으로 다각 형태로 배치된 적어도 하나의 적색 화소, 적어도 2개의 녹색 화소, 및 적어도 하나의 청색 화소들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 펜타일 구조를 갖는 하나의 단위 화소는 하나의 적색 화소, 2개의 녹색 화소, 및 하나의 청색 화소가 평면적으로 팔각 형태를 가지도록 배치될 수 있고, 이 경우 청색 화소는 상대적으로 가장 큰 크기의 개구 영역(또는 발광 영역)을 가질 수 있으며, 녹색 화소는 상대적으로 가장 작은 크기의 개구 영역을 가질 수 있다.
화소(P)는 인접한 스캔 라인(SL)과 데이터 라인(DL) 및 화소 구동 전원 라인(PL)에 전기적으로 연결된 화소 회로(PC), 및 화소 회로(PC)에 전기적으로 연결된 발광 소자(ED)를 포함할 수 있다.
화소 회로(PC)는 인접한 적어도 하나의 스캔 라인(SL)으로부터 공급되는 스캔 신호에 응답하여 인접한 데이터 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 전압을 기반으로 화소 구동 전원 라인(PL)으로부터 발광 소자(ED)에 흐르는 전류(Ied)를 제어한다.
일 예에 따른 화소 회로(PC)는 2개의 박막 트랜지스터 및 하나의 커패시터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일 예에 따른 화소 회로(PC)는 데이터 전압을 기반으로 하는 데이터 전류(Ied)를 발광 소자(ED)에 공급하는 구동 박막 트랜지스터, 데이터 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 전압을 구동 박막 트랜지스터에 공급하는 스위칭 트랜지스터, 및 구동 박막 트랜지스터의 게이트-소스 전압을 저장하는 커패시터를 포함할 수 있다.
다른 예에 따른 화소 회로(PC)는 적어도 3개의 박막 트랜지스터 및 적어도 하나의 커패시터를 포함할 수 있다. 예를 들어, 일 예에 따른 화소 회로(PC)는 적어도 3개의 박막 트랜지스터 각각의 동작(또는 기능)에 따라 전류 공급 회로와 데이터 공급 회로 및 보상 회로를 포함할 수 있다. 여기서, 전류 공급 회로는 데이터 전압을 기반으로 하는 데이터 전류(Ied)를 발광 소자(ED)에 공급하는 구동 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 데이터 공급 회로는 적어도 하나의 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 전압을 전류 공급 회로에 공급하는 적어도 하나의 스위칭 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 보상 회로는 적어도 하나의 스캔 신호에 응답하여 구동 박막 트랜지스터의 특성 값(임계 전압 및/또는 이동도) 변화를 보상하는 적어도 하나의 보상 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다.
발광 소자(ED)는 화소 회로(PC)로부터 공급되는 데이터 전류(Ied)에 의해 발광하여 데이터 전류(Ied)에 해당하는 휘도의 광을 방출한다. 이 경우, 데이터 전류(Ied)는 화소 구동 전원 라인(PL)으로부터 구동 박막 트랜지스터와 발광 소자(ED)를 통해 공통 전원 라인(CPL)으로 흐를 수 있다.
일 예에 따른 발광 소자(ED)는 화소 회로(PC)와 전기적으로 연결된 화소 구동 전극(또는 제 1 전극), 화소 구동 전극 상에 형성된 발광층, 및 발광층에 전기적으로 연결된 공통 전극(또는 제 2 전극)(CE)을 포함할 수 있다.
공통 전원 라인(CPL)은 기판(100)의 비표시 영역(IA) 상에 배치되고 표시 영역(AA) 상에 배치된 공통 전극(CE)과 전기적으로 연결된다.
일 예에 따른 공통 전원 라인(CPL)은 일정한 라인 폭을 가지면서 기판(100)의 표시 영역(IA)에 인접한 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)을 따라 배치되고, 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에 인접한 표시 영역(AA)의 일부를 제외한 나머지 부분을 둘러싼다. 공통 전원 라인(CPL)의 일단은 제 1 비표시 영역(IA1)의 일측 상에 배치되고, 공통 전원 라인(CPL)의 타단은 제 1 비표시 영역(IA1)의 타측 상에 배치될 수 있다. 그리고, 공통 전원 라인(CPL)의 일단과 타단 사이는 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)을 둘러싸도록 배치될 수 있다. 이에 따라, 일 예에 따른 공통 전원 라인(CPL)은 평면적으로 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에 해당하는 일측이 개구된 ‘∩'자 형태를 가질 수 있다.
봉지층은 기판(100) 상에 형성되어 화소 어레이층을 둘러싸며 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 마련된 공통 전원 라인(CPL)의 제 1 부분을 노출시킨다. 봉지층은 산소 또는 수분이 화소 어레이층에 마련된 발광 소자(ED)로 침투하는 것을 방지할 수 있다. 일 예에 따른 봉지층은 적어도 하나의 무기막을 포함할 수 있다. 다른 예에 따른 봉지층은 복수의 무기막 및 복수의 무기막 사이의 유기막을 포함할 수 있다.
공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 공통 전원 라인(CPL)과 중첩되도록 기판(100)의 비표시 영역(IA) 상에 배치되고 공통 전원 라인(CPL)의 제 1 부분과 전기적으로 연결된다. 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 기판(100)의 비표시 영역(IA) 상에서 공통 전원 라인(CPL)과 전기적으로 연결되어 공통 전원 라인(CPL)의 저항(또는 라인 저항 값)을 감소시킴으로써 공통 전원 라인(CPL)의 전압 변화(또는 라이징)에 따른 얼룩과 같은 화질 불량을 방지할 수 있다. 또한, 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 공통 전원 라인(CPL)과 중첩되도록 배치됨으로써 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치의 베젤 폭을 증가시키지 않으면서 공통 전원 라인(CPL)의 저항(또는 라인 저항 값)을 감소시킬 수 있다. 일 예에 따른 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 평면적으로 기판(100)의 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)을 따라 배치된 ‘∩'자 형태를 가지도록 형성되고 기판(100)의 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)에서 공통 전원 라인(CPL)과 중첩될 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 봉지층 상에 배치된 터치 센서층을 더 포함할 수 있다.
터치 센서층은 봉지층 상에 배치되고 터치 객체에 따른 터치를 센싱한다. 여기서, 터치 객체는 사용자의 손가락 또는 터치 펜을 포함할 수 있다.
일 예에 따른 터치 센서층은 터치 전극부(TEP), 터치 라우팅부(TRP), 및 더미 패턴부(DPP)를 포함할 수 있다.
터치 전극부(TEP)는 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된 터치 전극(TE)을 포함할 수 있다.
터치 전극(TE)은 복수의 제 1 터치 전극(TE1) 및 복수의 제 2 터치 전극(TE2)을 포함할 수 있다.
복수의 제 1 터치 전극(TE1)은 제 1 방향(X)을 따라 길게 연장되면서 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다. 이러한 복수의 제 1 터치 전극(TE1)은 터치 객체의 터치 위치 센싱을 위한 터치 센싱 전극(또는 터치 구동 전극)으로 사용될 수 있다.
일 예에 따른 복수의 제 1 터치 전극(TE1) 각각은 복수의 제 1 전극 패턴(EP1) 및 복수의 브리지 패턴(BP)을 포함할 수 있다.
복수의 제 1 전극 패턴(EP1) 각각은 제 1 방향(X)을 따라 서로 이격되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다.
복수의 브리지 패턴(BP) 각각은 제 1 방향(X)을 따라 서로 이격되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치되고 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(EP1)을 전기적으로 연결한다. 복수의 브리지 패턴(BP) 각각은 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(EP1) 사이와 중첩되도록 배치됨으로써 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2)이 그 교차 영역에서 서로 쇼트되는 것을 방지한다.
복수의 브리지 패턴(BP) 각각의 일측은 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(EP1) 중 일측에 배치된 제 1 전극 패턴(EP1)에 전기적으로 연결되고, 복수의 브리지 패턴(BP) 각각의 타측은 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(EP1) 중 타측에 배치된 제 1 전극 패턴(EP1)에 전기적으로 연결된다. 일 예에 따른 복수의 브리지 패턴(BP) 각각은 직선 형태로 형성될 수 있지만, 이에 한정되지 않고 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(EP1)을 전기적으로 연결시킬 수 있는 곡선 형태, 꺾쇠 형태, 또는 메쉬 형태 등의 다양한 형태를 가질 수 있다.
복수의 제 2 터치 전극(TE2)은 제 1 방향(X)을 따라 길게 연장되면서 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격되면서 복수의 제 1 터치 전극(TE1)과 전기적으로 분리되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다. 이러한 복수의 제 2 터치 전극(TE2)은 터치 객체의 터치 위치 센싱을 위한 터치 구동 전극(또는 터치 센싱 전극)으로 사용될 수 있다.
일 예에 따른 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각은 복수의 제 2 전극 패턴(EP2) 및 복수의 연결 라인(CL)을 포함할 수 있다.
복수의 제 2 전극 패턴(EP2) 각각은 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 상에 배치된다.
복수의 연결 라인(CP) 각각은 제 2 방향(Y)을 따라 서로 인접한 2개의 제 2 전극 패턴(EP2) 사이사이에 배치되어 제 2 방향(Y)을 따라 서로 인접한 2개의 제 2 전극 패턴(EP2)을 전기적으로 연결한다. 복수의 연결 라인(CP) 각각은 복수의 제 2 전극 패턴(EP2) 각각과 동일층에 배치될 수 있다. 이에 따라, 복수의 연결 라인(CP) 각각과 복수의 제 2 전극 패턴(EP2) 각각은 하나의 몸체로 이루어질 수 있다. 이러한 복수의 연결 라인(CP) 각각은 복수의 브리지 패턴(BP) 각각과 교차하도록 배치된다.
한편, 제 1 터치 전극(TE1)의 복수의 브리지 패턴(BP)은 제 2 터치 전극(TE2)의 복수의 연결 라인(CL)으로 변경될 수 있다. 그리고, 제 2 터치 전극(TE2)의 복수의 연결 라인(CL)은 제 1 터치 전극(TE1)의 복수의 브리지 패턴(BP)으로 변경될 수도 있다.
일 예에 따른 터치 센서층은 복수의 브리지 패턴(BP)을 포함하는 제 1 터치 전극층, 복수의 제 1 전극 패턴(EP1)과 복수의 제 2 터치 전극(TE2)을 포함하는 제 2 터치 전극층, 및 제 1 터치 전극층과 제 2 터치 전극층 사이에 배치된 터치 절연층을 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 터치 전극층은 터치 절연층을 사이에 두고 제 2 터치 전극층의 하부 또는 상부에 배치될 수 있다. 일 예로서, 터치 센서층은 브리지 패턴(BP)을 갖는 제 1 터치 전극층, 제 1 터치 전극층 상에 배치된 터치 절연층, 및 터치 절연층 상에 배치된 제 1 터치 전극들(TE1)과 제 2 터치 전극들(TE2)을 갖는 제 2 터치 전극층을 포함할 수 있다. 다른 예로서, 터치 센서층은 제 1 터치 전극들(TE1)과 제 2 터치 전극들(TE2)을 갖는 제 1 터치 전극층, 제 1 터치 전극층 상에 배치된 터치 절연층, 및 터치 절연층 상에 배치된 브리지 패턴(BP)을 갖는 제 2 터치 전극층을 포함할 수 있다.
터치 절연층은 제 1 전극 패턴(EP1)과 브리지 패턴(BP)의 중첩 영역에 마련된 브리지 컨택홀(BCH)을 포함한다. 이에 따라, 복수의 브리지 패턴(BP) 각각은 터치 절연층에 마련된 브리지 컨택홀(BCH)을 통해서 해당하는 제 1 전극 패턴(EP1)의 일측과 타측에 전기적으로 연결됨으로써 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(EP1)을 전기적으로 연결한다.
일 예에 따른 복수의 제 1 터치 전극(TE1)과 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각은 매우 얇은 선폭을 갖는 메탈 라인들이 서로 교차하여 이루어진 메쉬 구조를 포함할 수 있다. 여기서, 메탈 라인은 몰리브덴(Mo), 은(Ag), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 알루미늄(Ti), 티타늄/알루미늄/티타늄(Ti/Al/Ti), 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴(Mo/Al/Mo) 등의 전도성 물질로 이루어진 단층 또는 다층 구조를 가질 수 있다.
일 예에 따른 복수의 제 1 전극 패턴(EP1)과 복수의 제 2 전극 패턴(EP2) 각각은 평면적으로 다각 형태, 예를 들어, 마름모 형태를 가질 수 있다. 이 경우, 표시 영역(AA)의 가장자리 부분을 따라 배치된 전극 패턴(EP1, EP2) 각각은 삼각 형태를 가질 수 있다. 이러한 복수의 제 1 전극 패턴(EP1)과 복수의 제 2 전극 패턴(EP2) 각각은 봉지층 상에 서로 교차하는 메쉬 형태의 메탈 라인들을 형성하는 공정, 및 표시 영역(AA) 상에 미리 설정된 터치 전극 경계 영역 상에 형성된 메탈 라인들을 컷팅하여 복수의 제 1 전극 패턴(EP1)과 복수의 제 2 전극 패턴(EP2) 및 복수의 연결 라인(CL)을 형성하는 공정에 의해 동시에 형성될 수 있다.
본 출원에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 간의 상호 정전 용량(mutual capacitance)을 이용해 터치를 센싱하는데, 상호 정전 용량은 터치 경계 영역을 사이에 두고 서로 인접한 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 각각의 외곽부에서 대부분 형성된다. 이에 따라, 본 출원은 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 각각의 외곽부에 위치한 메탈 라인들의 컷팅부를 돌기 형태로 형성함으로써 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 각각의 외곽부 면적(또는 길이)을 증가시켜 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 사이의 터치 경계 영역(또는 센싱 영역)에 형성되는 상호 정전 용량을 증가시킬 수 있고, 이로 인하여 터치의 센싱 감도를 향상시킬 수 있다.
터치 라우팅부(TRP)는 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 마련되어 터치 센서층에 마련된 터치 전극(TE)과 전기적으로 연결된다. 일 예에 따른 터치 라우팅부(TRP)는 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 및 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2)을 포함할 수 있다.
복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 각각은 터치 센서층에 마련된 복수의 제 1 전극(TE1)과 일대일로 연결될 수 있다. 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 각각은 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)의 타측과 제 4 비표시 영역(IA4)(또는 제 3 비표시 영역(IA3))에 걸쳐 배치될 수 있다. 일 예에 따른 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 각각의 일단은 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)(또는 제 3 비표시 영역(IA3))에서 복수의 제 1 전극(TE1)과 일대일로 연결될 수 있다.
복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각은 터치 센서층에 마련된 복수의 제 2 전극(TE2)과 일대일로 연결될 수 있다. 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각은 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)의 일측과 제 2 비표시 영역(IA2) 및 제 3 비표시 영역(IA3)(또는 제 4 비표시 영역(IA4))에 걸쳐 배치될 수 있다. 일 예에 따른 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각의 일단은 기판(100)의 제 2 비표시 영역(IA2)에서 복수의 제 2 전극(TE2)과 일대일로 연결될 수 있다.
더미 패턴부(DPP)는 공통 전원 더미 패턴(CPDP)을 포함한다. 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 터치 센서층과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 더미 패턴부(DPP)에 마련된 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 별도의 추가적으로 공정 없이 터치 센서층과 함께 형성될 수 있다. 터치 센서층의 제조 공정은 전도성 물질을 기판(100)의 전면(全面)에 형성하는 증착 공정 및 증착된 전도성 물질을 복수의 제 1 터치 전극(TE1)과 복수의 제 2 터치 전극(TE2)으로 패터닝하는 패터닝 공정을 포함할 수 있다. 이러한 터치 센서층의 제조 공정 중 패터닝 공정에서는 공통 전원 라인(CPL)과 중첩되는 기판(100)의 비표시 영역(IA) 상에 증착된 전도성 물질을 제거하지 않고 남겨 둠으로써 공통 전원 더미 패턴(CPDP)을 형성한다. 이에 따라, 본 출원은 터치 센서층의 패터닝 공정에 의해 제거되는 전도성 물질을 제거하지 않고 공통 전원 라인(CPL)의 저항을 감소시키기 위한 공통 전원 더미 패턴(CPDP)으로 활용함으로써 별도의 추가적인 증착 공정과 패터닝 공정 없이 공통 전원 라인(CPL)의 저항을 감소시키기 위한 공통 전원 더미 패턴(CPDP)을 형성할 수 있다.
일 예에 따른 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 기판(100)의 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)을 따라 배치된 공통 전원 라인(CPL)과 중첩되도록 형성되어 공통 전원 라인(CPL)과 전기적으로 연결될 수 있다.
일 예에 따른 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 평면적으로 기판(100)의 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)을 따라 배치된 ‘∩'자 형태를 가질 수 있다. 공통 전원 라인(CPL)은 공통 전원 더미 패턴(CPDP)의 전체 영역과 전기적으로 연결될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 공통 전원 더미 패턴(CPDP)의 길이 방향을 따라 일정한 간격으로 설정된 복수의 접촉 영역 각각에서 전기적으로 연결될 수 있다.
다른 예에 따른 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 공통 전원 라인(CPL)과 중첩되도록 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4) 상에 일정한 간격으로 형성되어 공통 전원 라인(CPL)과 전기적으로 연결될 수도 있다. 이 경우, 다른 예에 따른 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 평면적으로 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)을 따라 배치된 점선 형태를 가질 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 패드부(PP), 게이트 구동 회로(200), 구동 집적 회로(300), 플렉서블 회로 케이블(500), 및 터치 구동 회로(600)를 더 포함할 수 있다.
패드부(PP)는 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 마련된 복수의 패드를 포함할 수 있다. 일 예에 따른 패드부(PP)는 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에 마련된 복수의 공통 전원 공급 패드, 복수의 데이터 입력 패드, 복수의 전원 공급 패드, 복수의 제어 신호 입력 패드, 및 복수의 터치 구동 패드 등을 포함할 수 있다.
게이트 구동 회로(200)는 기판(100)의 제 3 비표시 영역(IA3) 및/또는 제 4 비표시 영역(IA4)에 마련되어 표시 영역(AA)에 마련된 스캔 라인들(SL)과 일대일로 연결된다. 게이트 구동 회로(200)는 화소 어레이층의 제조 공정, 즉 박막 트랜지스터의 제조 공정과 함께 기판(100)의 제 3 비표시 영역(IA3) 및/또는 제 4 비표시 영역(IA4)에 집적된다. 이러한 게이트 구동 회로(200)는 구동 집적 회로(300)로부터 공급되는 게이트 제어 신호를 기반으로 스캔 신호를 생성하여 정해진 순서에 따라 출력함으로써 복수의 스캔 라인(SL) 각각을 정해진 순서에 따라 구동한다. 일 예에 따른 게이트 구동 회로(200)는 쉬프트 레지스터를 포함할 수 있다.
한편, 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1)은 제 4 비표시 영역(IA4)에서 게이트 구동 회로(200)와 중첩되도록 터치 전극부(TEP)와 더미 패턴부(DPP) 사이에 배치됨으로써 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)에 따른 베젤 폭이 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1)의 배치 영역으로 인하여 증가하는 것을 최소화할 수 있다. 이와 마찬가지로, 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2)은 기판(100)의 제 3 비표시 영역(IA3)에서 게이트 구동 회로(200)와 중첩되도록 터치 전극부(TEP)와 더미 패턴부(DPP) 사이에 배치됨으로써 기판(100)의 제 3 비표시 영역(IA3)에 따른 베젤 폭이 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2)의 배치 영역으로 인하여 증가하는 것을 최소화할 수 있다.
구동 집적 회로(300)는 칩 실장(또는 본딩) 공정을 통해 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에 정의된 칩 실장 영역에 실장된다. 구동 집적 회로(300)의 입력 단자들은 패드부(PP)에 전기적으로 연결되고, 구동 집적 회로(300)의 입력 단자들은 표시 영역(AA)에 마련된 복수의 데이터 라인(DL)과 복수의 화소 구동 전원 라인(PL)에 전기적으로 연결된다. 구동 집적 회로(300)는 패드부(PP)를 통해 디스플레이 구동 회로부(또는 호스트 회로)로부터 입력되는 각종 전원, 타이밍 동기 신호, 및 디지털 영상 데이터 등을 수신하고, 타이밍 동기 신호에 따라 게이트 제어 신호를 생성하여 게이트 구동 회로(200)의 구동을 제어하고, 이와 동시에 디지털 영상 데이터를 아날로그 형태의 화소 데이터 전압으로 변환하여 해당하는 데이터 라인(DL)에 공급한다.
플렉서블 회로 케이블(500)은 패드부(PP)에 부착된다. 플렉서블 회로 케이블(500)은 디스플레이 구동 회로부와 패드부(PP)를 전기적으로 연결하며, 패드부(PP)와 터치 구동 회로(600)를 전기적으로 연결한다.
터치 구동 회로(600)는 칩 실장(또는 본딩) 공정을 통해 플렉서블 회로 케이블(500)에 실장된다. 터치 구동 회로(600)는 패드부(PP)에 마련된 복수의 터치 구동 패드를 통해 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 각각의 타단과 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각의 타단에 전기적으로 연결된다. 이러한 터치 구동 회로(600)는 호스트 회로로부터 제공되는 터치 동기 신호에 응답하여 패드부(PP)와 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2)을 통해 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각에 터치 구동 펄스를 공급하고, 패드부(PP)와 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1)을 통해 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 사이의 정전 용량 변화를 센싱하여 터치 로우 데이터를 생성하고, 생성된 터치 로우 데이터를 호스트 회로에 제공한다. 호스트 회로는 터치 레포트 기간 동안 터치 구동 회로(600)로부터 제공되는 터치 로우 데이터를 기반으로 터치 객체에 대한 터치 위치 정보를 산출하고, 산출된 터치 위치 정보에 연계된 응용 프로그램을 실행한다.
선택적으로, 터치 구동 회로(600)는 구동 집적 회로(300)에 내장될 수도 있으며, 이 경우, 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1)과 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각의 타단은 패드부(PP)에 연결되지 않고 구동 집적 회로(300)와 전기적으로 연결된다. 구동 집적 회로(300)는 호스트 회로로부터 제공되는 터치 동기 신호에 응답하여 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2)을 통해 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각에 터치 구동 펄스를 공급하고, 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1)을 통해 제 1 터치 전극(TE1)과 제 2 터치 전극(TE2) 사이의 정전 용량 변화를 센싱하여 터치 로우 데이터를 생성하고, 생성된 터치 로우 데이터를 패드부(PP)를 통해서 호스트 회로에 제공할 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 구동 집적 회로(300)의 회로 크기를 감소시키기 위한 데이터 분배 회로(400)를 더 포함할 수 있다.
데이터 분배 회로(400)는 구동 집적 회로(300)로부터 1 수평 구간의 시분할 구간마다 순차적으로 입력되는 데이터 전압을 1 수평 구간 동안 n(n은 2 이상의 자연수)개의 시분할 구간의 개수와 대응되는 n개의 데이터 라인에 순차적으로 분배한다. 일 예에 따른 데이터 분배 회로(400)는 복수의 역다중화 회로를 포함한다.
복수의 역다중화 회로 각각은 구동 집적 회로(300)의 출력 채널에 연결된 하나의 입력 단자, 구동 집적 회로(300)로부터 제 1 내지 제 3 시분할 제어 신호를 개별적으로 수신하는 제 1 내지 제 n 제어 단자, 및 n개의 데이터 라인에 연결된 제 1 내지 제 n 출력 단자를 포함할 수 있다. 여기서, n이 3이라 가정하고, 1 수평 기간이 제 1 내지 제 3 시분할 구간을 포함하는 것으로 가정하면, 복수의 역다중화 회로 각각은 수평 기간의 제 1 시분할 구간마다 제 1 시분할 제어 신호에 응답하여 구동 집적 회로(300)로부터 공급되는 제 1 데이터 전압을 제 3i-2(i는 자연수) 데이터 라인에 공급하고, 수평 기간의 제 2 시분할 구간마다 제 2 시분할 제어 신호에 응답하여 구동 집적 회로(300)로부터 공급되는 제 2 데이터 전압을 제 3i-1 데이터 라인에 공급하며, 수평 기간의 제 3 시분할 구간마다 제 3 시분할 제어 신호에 응답하여 구동 집적 회로(300)로부터 공급되는 제 3 데이터 전압을 제 3i 데이터 라인에 공급할 수 있다.
이와 같은 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 배치된 공통 전원 더미 패턴(CPDP)을 통해 공통 전원 라인(CPL)의 저항을 감소시킴으로써 공통 전원 라인(CPL)의 전압 변화(또는 라이징)에 따른 얼룩과 같은 화질 불량을 방지할 수 있다. 또한, 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 공통 전원 더미 패턴(CPDP)과 공통 전원 라인(CPL)이 서로 중첩됨으로써 공통 전원 라인(CPL)의 폭이 증가되거나 베젤 폭이 증가되지 않으면서도 공통 전원 라인(CPL)의 저항(또는 라인 저항 값)이 감소될 수 있다. 따라서, 본 출원은 공통 전원 라인(CPL)의 저항이 감소되면서도 얇은 베젤 폭을 갖는 터치 스크린 일체형 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 4는 도 1에 도시된 선 I-I'의 단면도이고, 도 5는 도 1에 도시된 선 II-II'의 단면도로서, 이는 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치의 단면 구조를 설명하기 위한 도면이다.
도 4 및 도 5를 도 1과 결부하면, 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 기판(100), 화소 어레이층(120), 봉지층(130), 및 터치 센서층(140)을 포함할 수 있다.
기판(100)은 베이스층으로서, 플라스틱 재질 또는 유리 재질을 포함한다.
일 예에 따른 기판(100)은 불투명 또는 유색 폴리이미드(polyimide) 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 폴리이미드 재질의 기판(100)은 상대적으로 두꺼운 캐리어 기판에 마련되어 있는 릴리즈층의 전면(前面)에 일정 두께로 코팅된 폴리이미드 수지가 경화된 것일 수 있다. 이 경우, 캐리어 유리 기판은 레이저 릴리즈 공정을 이용한 릴리즈층의 릴리즈에 의해 기판(100)으로부터 분리된다. 이러한 일 예에 따른 기판(100)은 두께 방향(Z)을 기준으로, 기판(100)의 후면에 결합된 백 플레이트를 더 포함한다. 백 플레이트는 기판(100)을 평면 상태로 유지시킨다. 일 예에 따른 백 플레이트는 플라스틱 재질, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate) 재질을 포함할 수 있다. 이러한 백 플레이트는 캐리어 유리 기판으로부터 분리된 기판(100)의 후면에 라미네이팅될 수 있다.
일 예에 따른 기판(100)은 플렉서블 유리 기판일 수 있다. 예를 들어, 유리 재질의 기판(100)은 100마이크로미터 이하의 두께를 갖는 박형 유리 기판이거나, 기판 식각 공정에 의해 100마이크로미터 이하의 두께를 가지도록 식각된 캐리어 유리 기판일 수 있다.
기판(100)은 표시 영역(AA)과 표시 영역(AA)을 둘러싸는 비표시 영역(IA) 및 비표시 영역(IA)에 배치된 터치 라우팅부(TRP)와 더미 패턴부(DPP)를 포함할 수 있다.
기판(100)의 일면 상에는 버퍼막이 형성될 수 있다. 버퍼막은 투습에 취약한 기판(100)을 통해서 화소 어레이층(120)으로 침투하는 수분을 차단하기 위하여, 기판(100)의 일면 상에 형성된다. 일 예에 따른 버퍼막은 교번하여 적층된 복수의 무기막들로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 버퍼막은 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx), 및 실리콘산질화막(SiON) 중 하나 이상의 무기막이 교번하여 적층된 다중막으로 형성될 수 있다. 버퍼막은 생략될 수 있다.
화소 어레이층(120)은 박막 트랜지스터층, 평탄화층(125), 뱅크 패턴(127), 및 발광 소자(ED)를 포함할 수 있다.
박막 트랜지스터층은 기판(100)의 표시 영역(AA)에 정의된 복수의 화소 영역(PA) 및 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)에 정의된 게이트 구동 회로 영역에 각각 마련된다.
일 예에 따른 박막 트랜지스터층은 박막 트랜지스터(TFT), 게이트 절연막(121) 및 층간 절연막(123)을 포함한다. 여기서, 도 4에 도시된 박막 트랜지스터(TFT)는 발광 소자(ED)에 전기적으로 연결된 구동 박막 트랜지스터일 수 있다.
박막 트랜지스터(TFT)는 기판(100) 또는 버퍼막 상에 형성된 반도체층(SCL), 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한다. 도 4에서는 박막 트랜지스터(TFT)가 게이트 전극(GE)이 반도체층(SCL)의 상부에 위치하는 상부 게이트(탑 게이트, top gate) 구조를 도시하였으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 전극(GE)이 반도체층(SCL)의 하부에 위치하는 하부 게이트(보텀 게이트, bottom gate) 구조 또는 게이트 전극(GE)이 반도체층(SCL)의 상부와 하부에 모두 위치하는 더블 게이트(double gate) 구조를 가질 수 있다.
반도체층(SCL)은 기판(100) 또는 버퍼막 상에 형성될 수 있다. 반도체층(SCL)은 실리콘계 반도체 물질, 산화물계 반도체 물질, 또는 유기물계 반도체 물질을 포함할 수 있으며, 단층 구조 또는 복층 구조를 가질 수 있다. 버퍼막과 반도체층(SCL) 사이에는 반도체층(SCL)으로 입사되는 외부광을 차단하기 위한 차광층이 추가로 형성될 수 있다.
게이트 절연막(121)은 반도체층(SCL)을 덮도록 기판(100) 전체에 형성될 수 있다. 게이트 절연막(121)은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx), 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.
게이트 전극(GE)은 반도체층(SCL)과 중첩되도록 게이트 절연막(123) 상에 형성될 수 있다. 게이트 전극(GE)은 스캔 라인(SL)과 함께 형성될 수 있다. 일 예에 따른 게이트 전극(GE)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다.
층간 절연막(123)은 게이트 전극(GE)과 게이트 절연막(121)을 덮도록 기판(100) 전체에 형성될 수 있다. 층간 절연막(123)은 게이트 전극(GE)과 게이트 절연막(121) 상에 평탄면을 제공한다.
소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)은 게이트 전극(GE)을 사이에 두고 반도체층(SCL)과 중첩되도록 층간 절연막(123) 상에 형성될 수 있다. 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)은 데이터 라인(DL)과 화소 구동 전원 라인(PL) 및 공통 전원 라인(CPL) 각각과 함께 형성될 수 있다. 즉, 소스 전극(SE), 드레인 전극(DE), 데이터 라인(DL), 화소 구동 전원 라인(PL) 및 공통 전원 라인(CPL) 각각은 소스 드레인 전극 물질에 대한 패터닝 공정에 의해 동시에 형성된다.
소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE) 각각은 층간 절연막(123)과 게이트 절연막(121)을 관통하는 전극 컨택홀을 통해 반도체층(SCL)에 접속될 수 있다. 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층으로 형성될 수 있다. 여기서, 도 4에 도시된 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)은 화소 구동 전원 라인(PL)과 전기적으로 연결될 수 있다.
이와 같이, 기판(100)의 화소 영역(PA)에 마련된 박막 트랜지스터(TFT)는 화소 회로(PC)를 구성하며, 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)에 정의된 게이트 구동 회로 영역에 마련된 박막 트랜지스터(TFT)는 게이트 구동 회로를 구성한다.
평탄화층(125)은 박막 트랜지스터층을 덮도록 기판(100) 전체에 형성된다. 평탄화층(125)은 박막 트랜지스터층 상에 평탄면을 제공한다. 일 예에 따른 평탄화층(125)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 또는 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다.
일 예에 따른 평탄화층(125)은 화소 영역(PA)에 마련된 구동 박막 트랜지스터의 소스 전극(SE)을 노출시키기 위한 제 1 컨택홀(125a), 제 4 비표시 영역(IA4)에 마련된 공통 전원 라인(CPL)의 제 1 부분과 제 2 부분을 각각 노출시키기 위한 제 2 및 제 3 컨택홀(125b, 125c)을 포함할 수 있다. 여기서, 제 2 및 제 3 컨택홀(125b, 125c)은 제 4 비표시 영역(IA4)뿐만 아니라 제 2 및 제 3 비표시 영역(IA2, IA3)에도 동일하게 형성될 수 있다.
뱅크 패턴(127)은 평탄화층(125) 상에 배치되어 표시 영역(AA)의 화소 영역(PA) 내에 개구 영역(OA)(또는 발광 영역)을 정의한다. 이러한 뱅크 패턴(127)은 화소 정의막으로 표현될 수도 있다.
발광 소자(ED)는 화소 구동 전극(AE)(또는 애노드 전극), 발광층(EL), 및 공통 전극(CE)(또는 캐소드 전극)을 포함한다.
화소 구동 전극(AE)은 화소 영역(PA)의 개구 영역(OA)과 중첩되는 평탄화층(125) 상에 형성되고 평탄화층(125)에 마련된 제 1 컨택홀(125a)을 통해 구동 박막 트랜지스터의 소스 전극(SE)에 전기적으로 연결된다. 이 경우, 화소 영역(PA)의 개구 영역(OA)과 중첩되는 화소 구동 전극(AE)의 중간 부분을 제외한 나머지 가장자리 부분은 뱅크 패턴(127)에 의해 덮일 수 있다. 뱅크 패턴(127)은 화소 구동 전극(AE)의 가장자리 부분을 덮음으로써 화소 영역(PA)의 개구 영역(OA)을 정의할 수 있다.
일 예에 따른 화소 구동 전극(AE)은 반사율이 높은 금속 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 화소 구동 전극(AE)은 알루미늄(Al)과 티타늄(Ti)의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄(Al)과 ITO의 적층 구조(ITO/Al/ITO), APC(Ag/Pd/Cu) 합금, 및 APC 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/APC/ITO)와 같은 다층 구조로 형성되거나, 은(Ag), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 금(Au), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 또는 바륨(Ba) 중에서 선택된 어느 하나의 물질 또는 2 이상의 합금 물질로 이루어진 단층 구조를 포함할 수 있다.
일 예에 따른 발광층(EL)은 화소 구동 전극(AE)과 뱅크 패턴(127)을 덮도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 전체에 형성된다. 일 예에 따른 발광층(EL)은 백색 광을 방출하기 위한 2 이상의 발광부를 포함한다. 예를 들어, 일 예에 따른 발광층(EL)은 제 1 광과 제 2 광의 혼합에 의해 백색 광을 방출하기 위한 제 1 발광부와 제 2 발광부를 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 발광부는 제 1 광을 방출하는 것으로 청색 발광부, 녹색 발광부, 적색 발광부, 황색 발광부, 및 황록색 발광부 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 제 2 발광부는 청색 발광부, 녹색 발광부, 적색 발광부, 황색 발광부, 및 황록색 중 제 1 광의 보색 관계를 갖는 제 2 광을 방출하는 발광부를 포함할 수 있다.
다른 예에 따른 발광층(EL)은 화소(P)에 설정된 색상과 대응되는 컬러 광을 방출하기 위한, 청색 발광부, 녹색 발광부, 및 적색 발광부 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 다른 예에 따른 발광층(EL)은 유기 발광층, 무기 발광층, 및 양자점 발광층 중 어느 하나를 포함하거나, 유기 발광층(또는 무기 발광층)과 양자점 발광층의 적층 또는 혼합 구조를 포함할 수 있다.
추가적으로, 일 예에 따른 발광 소자(ED)는 발광층(EL)의 발광 효율 및/또는 수명 등을 향상시키기 위한 기능층을 더 포함하여 이루어질 수 있다.
공통 전극(CE)은 발광층(EL)과 전기적으로 연결되도록 형성된다. 공통 전극(CE)은 각 화소 영역(PA)에 마련된 발광층(EL)과 공통적으로 연결되도록 기판(100)의 표시 영역(AA) 전체에 형성된다.
일 예에 따른 공통 전극(CE)은 광을 투과시킬 수 있는 투명 전도성 물질 또는 반투과 전도성 물질을 포함할 수 있다. 공통 전극(CE)이 반투과 전도성 물질로 형성되는 경우, 마이크로 캐비티(micro cavity)를 통해 발광 소자(ED)에서 발광된 광의 출광 효율이 높아질 수 있다. 일 예에 따른 반투과 전도성 물질은 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금 등을 포함할 수 있다. 추가적으로, 공통 전극(CE) 상에는 발광 소자(ED)에서 발광된 광의 굴절율을 조절하여 광의 출광 효율을 향상시키기 위한 캡핑층(capping layer)이 더 형성될 수 있다.
한편, 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)에는 화소 구동 전극(AE)과 함께 공통 전원 연결 라인(CPCL)이 형성된다. 화소 구동 전극(AE)과 공통 전원 연결 라인(CPCL)은 동일한 물질로 동시에 형성된다. 공통 전원 연결 라인(CPCL)은 게이트 구동 회로(200)와 중첩되는 평탄화층(125) 상에 형성되고 평탄화층(125)에 마련된 제 3 컨택홀(125c)을 통해서 공통 전원 라인(CPL)의 제 2 부분과 전기적으로 연결된다.
그리고, 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)에 형성되는 공통 전극(CE)의 가장자리 부분은 뱅크 패턴(127)에 마련된 공통 전극 컨택홀(127a)을 통해 공통 전원 연결 라인(CPCL)과 전기적으로 연결된다. 또한, 기판(100)의 제 2 및 제 3 비표시 영역(IA2, IA3)에 형성되는 공통 전극(CE)의 가장자리 부분도 뱅크 패턴(127)에 마련된 공통 전극 컨택홀(127a)을 통해 공통 전원 연결 라인(CPCL)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이에 따라, 공통 전극(CE)은 공통 전원 연결 라인(CPCL)을 통해서 공통 전원 라인(CPL)에 전기적으로 연결됨으로써 패드부(PP)와 공통 전원 라인(CPL) 및 공통 전원 연결 라인(CPCL)을 통해서 균일한 공통 전원을 공급받을 수 있다.
봉지층(130)은 화소 어레이층(120)을 둘러싸도록 형성된다. 봉지층(130)은 산소 또는 수분이 발광 소자(ED)로 침투하는 것을 방지하는 역할을 한다.
일 예에 따른 봉지층(130)은 제 1 무기 봉지층(131), 제 1 무기 봉지층(131) 상의 유기 봉지층(133) 및 유기 봉지층(133) 상의 제 2 무기 봉지층(135)을 포함할 수 있다.
제 1 무기 봉지층(131)과 제 2 무기 봉지층(135)은 수분이나 산소의 침투를 차단하는 역할을 한다. 일 예에 따른 제 1 무기 봉지층(131)과 제 2 무기 봉지층(135)은 실리콘 질화물, 알루미늄 질화물, 지르코늄 질화물, 티타늄 질화물, 하프늄 질화물, 탄탈륨 질화물, 실리콘 산화물, 알루미늄 산화물, 또는 티타늄 산화물 등의 무기물로 이루어질 수 있다. 이러한 제 1 무기 봉지층(131)과 제 2 무기 봉지층(135)은 화학 기상 증착 공정 또는 원자층 증착 공정에 의해 형성될 수 있다.
유기 봉지층(133)은 제 1 무기 봉지층(131)과 제 2 무기 봉지층(135)에 의해 둘러싸인다. 유기 봉지층(133)은 제조 공정 중 발생할 수 있는 이물들(particles)을 덮을 수 있도록 제 1 무기 봉지층(131) 및/또는 제 2 무기 봉지층(135) 대비 상대적으로 두꺼운 두께로 형성될 수 있다. 유기 봉지층(133)은 실리콘옥시카본(SiOCz) 아크릴 또는 에폭시 계열의 레진(Resin) 등의 유기물로 이루어질 수 있다. 유기 봉지층(133)은 코팅 공정, 예를 들어 잉크젯 코팅 공정 또는 슬릿 코팅 공정에 의해 형성될 수 있다.
터치 센서층(140)은 터치 버퍼층(TBL), 터치 전극부(TEP), 터치 라우팅부(TRP), 더미 패턴부(DPP), 및 터치 보호층(TPL)을 포함할 수 있다.
터치 버퍼층(TBL)은 기판(100) 상에 형성되어 봉지층(130)을 덮으며 전원 공통 라인(CPL)의 제 1 부분을 노출시킨다. 터치 버퍼층(TBL)은 봉지층(130) 상에 평탄면을 제공한다. 터치 버퍼층(TBL)은 무기물 또는 유기물로 형성될 수 있다. 터치 버퍼층(TBL)은 화학 기상 증착 방식에 의해 형성될 수 있다.
터치 전극부(TEP)는 표시 영역(AA) 상의 터치 버퍼층(TBL) 상에 배치된 터치 전극(TE)을 포함한다. 일 예에 따른 터치 전극부(TEP)는 제 1 터치 전극층, 터치 절연층(TIL), 및 제 2 터치 전극층을 포함할 수 있다.
제 1 터치 전극층은 터치 버퍼층(TBL) 상에 형성된 복수의 브리지 패턴(BP)을 포함할 수 있다. 복수의 브리지 패턴(BP) 각각은 표시 영역(AA) 상에 배치된 뱅크 패턴(127)과 중첩되는 터치 버퍼층(TBL) 상에 배치될 수 있다.
터치 절연층(TIL)은 복수의 브리지 패턴(BP)을 둘러싸도록 터치 버퍼층(TBL) 상에 형성된다. 터치 절연층(TIL)은 복수의 브리지 패턴(BP) 각각의 일측과 타측 각각을 노출시키기 위한 브리지 컨택홀(BCH)을 포함한다. 터치 절연층(TIL)은 무기물, 예를 들어 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)로 형성될 수 있다.
제 2 터치 전극층은 복수의 제 1 전극 패턴(EP1) 및 복수의 제 2 터치 전극(TE2)을 포함할 수 있다.
복수의 제 1 전극 패턴(EP1) 각각은 제 1 방향(X)과 제 2 방향(Y) 각각을 따라 서로 이격되도록 터치 절연층(TIL) 상에 배치된다. 이 경우, 제 1 방향(X)을 따라 서로 인접한 2개의 제 1 전극 패턴(EP1)은 브리지 컨택홀(BCH)을 통해 브리지 패턴(BP)과 전기적으로 연결된다. 이에 따라, 제 1 방향(X)을 따라 배치된 복수의 제 1 전극 패턴(EP1)과 복수의 브리지 패턴(BP)은 서로 전기적으로 연결됨으로써 하나의 제 1 터치 전극(TE1)을 구성한다.
복수의 제 2 터치 전극(TE2)은 제 1 방향(X)을 따라 길게 연장되면서 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격되면서 복수의 제 1 터치 전극(TE1)과 전기적으로 분리되도록 터치 절연층(TIL) 상에 배치된다. 일 예에 따른 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각은 제 2 방향(Y)을 따라 서로 이격되도록 터치 절연층(TIL) 상에 배치된 복수의 제 2 전극 패턴(EP2), 및 제 2 방향(Y)을 따라 서로 인접한 2개의 제 2 전극 패턴(EP2) 사이사이에 배치되어 제 2 방향(Y)을 따라 서로 인접한 2개의 제 2 전극 패턴(EP2)을 전기적으로 연결하는 복수의 연결 라인(CL)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 제 1 방향(X)을 따라 배치된 복수의 제 2 전극 패턴(EP2)과 복수의 연결 라인(CL)은 서로 전기적으로 연결됨으로써 하나의 제 2 터치 전극(TE2)을 구성한다.
터치 라우팅부(TRP)는 기판(100)의 비표시 영역(IA) 상에 배치되어 터치 전극(TE)과 패드부(PP)를 전기적으로 연결하는 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 및 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2)을 포함할 수 있다. 이 경우, 기판(100)의 제 3 및 제 4 비표시 영역(IA3, IA4) 상에 배치된 터치 라우팅부(TRP)는 기판(100) 상에 마련된 게이트 구동 회로(200)와 중첩된다.
복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 각각은 기판(100)의 제 1 및 제 4 비표시 영역(IA1, IA4) 상의 터치 절연층(TIL) 상에 배치된다. 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 각각은 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)에서 복수의 제 1 터치 전극(TE1) 각각과 전기적으로 연결되고, 복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 각각의 타단은 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에서 패드부(PP)와 전기적으로 연결된다.
복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각은 기판(100)의 제 1 내지 제 3 비표시 영역(IA1, IA2, IA3) 상의 터치 절연층(TIL) 상에 배치된다. 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각은 기판(100)의 제 2 비표시 영역(IA2)에서 복수의 제 2 터치 전극(TE2) 각각과 전기적으로 연결되고, 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각의 타단은 기판(100)의 제 1 비표시 영역(IA1)에서 패드부(PP)와 전기적으로 연결된다.
복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1)과 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각은 하부 터치 라우팅 라인(LRL) 및 상부 터치 라우팅 라인(URL)을 포함할 수 있다.
하부 터치 라우팅 라인(LRL)은 터치 버퍼층(TBL) 상에 브릿지 패턴(BP)과 동일한 전도성 물질로 형성된다. 하부 터치 라우팅 라인(LRL)과 브릿지 패턴(BP)은 서로 동일한 전도성 물질로 이루어져 동시에 형성될 수 있다.
상부 터치 라우팅 라인(URL)은 하부 터치 라우팅 라인(LRL)과 중첩되도록 터치 절연층(TIL) 상에 형성되고, 터치 절연층(TIL)에 마련된 라인 컨택부(LCP)를 통해 하부 터치 라우팅 라인(LRL)과 전기적으로 연결된다. 상부 터치 라우팅 라인(URL)은 터치 전극(TE)의 전극 패턴(EP1, EP2)과 동일한 전도성 물질로 형성된다. 상부 터치 라우팅 라인(URL)과 터치 전극(TE)의 전극 패턴(EP1, EP2)은 서로 동일한 전도성 물질로 이루어져 동시에 형성될 수 있다.
라인 컨택부(LCP)는 라인 형태 또는 점선 형태를 갖는 슬릿을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상부 터치 라우팅 라인(URL)은 라인 컨택부(LCP)를 통해 하부 터치 라우팅 라인(LRL)과 전기적으로 접속되고, 이로 인하여 상부 터치 라우팅 라인(URL)의 저항은 하부 터치 라우팅 라인(LRL)에 의해 감소될 수 있다.
복수의 제 1 터치 라우팅 라인(RL1) 각각의 상부 터치 라우팅 라인(URL)은 기판(100)의 제 4 비표시 영역(IA4)에서 터치 전극부(TEP) 쪽으로 연장되어 해당하는 제 1 터치 전극(TE1)과 전기적으로 연결될 수 있다. 복수의 제 2 터치 라우팅 라인(RL2) 각각의 상부 터치 라우팅 라인(URL)은 기판(100)의 제 2 비표시 영역(IA2)에서 터치 전극부(TEP) 쪽으로 연장되어 해당하는 제 2 터치 전극(TE2)과 전기적으로 연결될 수 있다.
더미 패턴부(DPP)는 공통 전원 라인(CPL)과 중첩되도록 기판(100)의 비표시 영역(IA) 상에 배치되고 공통 전원 라인(CPL)의 제 1 부분과 전기적으로 연결된 공통 전원 더미 패턴(CPDP)을 포함할 수 있다.
공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 공통 전원 라인(CPL)과 중첩되도록 터치 라우팅부(TRP)과 기판(100)의 끝단(100a)(또는 외벽) 사이의 터치 버퍼층(TBL) 상에 배치되고 공통 전원 라인(CPL)의 제 1 부분과 전기적으로 연결됨으로써 공통 전원 라인(CPL)의 저항을 감소시킨다. 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 터치 전극(TE) 또는 터치 라우팅 라인(RL1, RL2)과 동일한 전도성 물질로 형성될 수 있다.
일 예에 따른 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 브리지 패턴(BP), 전극 패턴(EP1, EP2), 하부 터치 라우팅 라인(LRL), 및 상부 터치 라우팅 라인(URL) 중 어느 하나와 동일한 물질로 동시에 형성된 단일층 구조로 형성되어 공통 전원 라인(CPL)의 제 1 부분과 전기적으로 연결됨으로써 공통 전원 라인(CPL)의 저항을 감소시킨다.
다른 예에 따른 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 적어도 2층 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 다른 예에 따른 공통 전원 더미 패턴(CPDP)은 하부 더미 패턴(LDP) 및 상부 더미 패턴(UDP)을 포함할 수 있다.
하부 더미 패턴(LDP)은 공통 전원 라인(CPL)과 중첩되도록 터치 버퍼층(TBL) 상에 배치되며, 기판(100)의 비표시 영역(IA)에서 공통 전원 라인(CPL)의 제 1 부분과 전기적으로 연결된다. 하부 더미 패턴(LDP)의 일단은 터치 라우팅부(TRP)에 최대한 인접한 영역에 배치되고, 하부 더미 패턴(LDP)의 타측은 평탄화층(125)에 마련된 제 2 컨택홀(125b)을 통해 공통 전원 라인(CPL)의 제 1 부분과 전기적으로 연결된다. 하부 더미 패턴(LDP)은 터치 전극(TE)의 브리지 패턴(BP) 또는 터치 라우팅 라인(RL1, RL2)의 하부 터치 라우팅 라인(LRL)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 하부 더미 패턴(LDP)은 공통 전원 라인(CPL)과 전기적으로 연결됨으로써 공통 전원 라인(CPL)의 저항을 감소시킨다.
상부 더미 패턴(UDP)은 하부 더미 패턴(LDP) 상에 배치되어 하부 더미 패턴(LDP)과 전기적으로 연결된다. 상부 더미 패턴(UDP)은 하부 더미 패턴(LDP)과 직접적으로 접촉되도록 하부 더미 패턴(LDP)의 상면에 적층될 수 있다. 상부 더미 패턴(UDP)은 터치 전극(TE)의 전극 패턴(EP1, EP2) 또는 터치 라우팅 라인(RL1, RL2)의 상부 터치 라우팅 라인(URL)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 이러한 상부 더미 패턴(UDP)은 하부 더미 패턴(LDP)을 통해 공통 전원 라인(CPL)과 전기적으로 연결됨으로써 공통 전원 라인(CPL)의 저항을 더욱 감소시킨다.
터치 보호층(TPL)은 터치 센서층을 둘러싸도록 기판(100) 상에 형성된다. 터치 보호층(TPL)은 무기물, 예를 들어 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 댐 구조물(129)을 더 포함할 수 있다.
댐 구조물(129)은 유기 봉지층(133)의 흘러 넘침을 방지할 수 있도록 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 배치된다. 일 예에 따른 댐 구조물(129)은 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 제 1 댐(129a), 및 제 1 댐(129a)과 이격되면서 나란하게 배치된 제 2 댐(129b)을 포함할 수 있다.
제 1 댐(129a)은 기판(100)의 표시 영역(AA)을 둘러싸도록 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 배치되어 유기 봉지층(133)의 흘러 넘침을 1차적으로 방지하는 역할을 할 수 있다. 기판(100)의 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)에 배치된 제 1 댐(129a)은 평탄화층(125)의 제 3 컨택홀(125c) 내에서 기판(100)에 수직하게 형성될 수 있다. 일 예에 따른 제 1 댐(129a)은 뱅크 패턴(127)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 다른 예에 따른 제 1 댐(129a)은 뱅크 패턴(127) 상에 수직하게 형성되는 스페이서(또는 격벽)와 동일한 물질로 형성될 수 있다.
제 2 댐(129b)은 제 1 댐(129a)을 둘러싸도록 기판(100)의 비표시 영역(IA)에 배치되어 유기 봉지층(133)의 흘러 넘침을 2차적으로 방지하는 역할을 할 수 있다. 기판(100)의 제 2 내지 제 4 비표시 영역(IA2, IA3, IA4)에 배치된 제 2 댐(129b)은 공통 전원 라인(CPL) 상의 평탄화층(125) 상에 수직하게 형성될 수 있다. 제 2 댐(129b)은 제 1 댐(129a)과 동시에 형성될 수 있다.
공통 전원 연결 라인(CPCL)은 평탄화층(125)의 제 3 컨택홀(125c)을 통해 공통 전원 라인(CPL)의 제 2 부분과 전기적으로 연결되면서 제 1 댐(129a)의 측면과 상면을 덮도록 형성될 수 있다. 그리고, 제 1 무기 봉지층(131)은 댐 구조물(129)을 덮도록 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 봉지층(130)과 터치 센서층(140) 사이에 배치된 블랙 매트릭스 및 파장 변환층을 더 포함할 수 있다.
블랙 매트릭스는 뱅크 패턴(127)과 중첩되도록 봉지층(130) 상에 배치된다.
파장 변환층은 화소 영역(PA)의 개구 영역(OA)과 중첩되도록 봉지층(130) 상에 배치된다.
일 예에 따른 파장 변환층은 화소 영역(PA)에 마련된 발광 소자(ED)로부터 입사되는 백색 광 중 화소에 설정된 색상의 파장만을 투과시키는 컬러필터를 포함한다. 예를 들어, 파장 변환층은 적색, 녹색, 또는 청색의 파장만을 투과시킬 수 있다.
다른 예에 따른 파장 변환층은 화소 영역(PA)에 마련된 발광 소자(ED)로부터 입사되는 백색 광에 따라 재발광하여 화소에 설정된 색상의 광을 방출하는 양자점을 포함할 수 있다. 여기서, 양자점은 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, GaAs, GaP, GaAs-P, Ga-Sb, InAs, InP, InSb, AlAs, AlP, 또는 AlSb 등에서 화소에 설정된 색상에 따라 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 CdSe 또는 InP의 양자점은 적색 광을 방출할 수 있고, CdZnSeS의 양자점은 녹색 광을 방출할 수 있으며, ZnSe의 양자점은 청색 광을 방출할 수 있다. 이와 같이, 파장 변환층이 양자점을 포함하는 경우, 색재현율이 높아질 수 있다.
또 다른 예에 따른 파장 변환층은 양자점을 함유하는 컬러필터로 이루어질 수도 있다.
이와 같은 파장 변환층을 포함하는 본 예는 발광 소자층(130)을 각 화소(P)들에 공통적으로 형성함으로써 제조 공정을 단순화시킬 수 있다.
한편, 발광 소자(ED)의 발광층(EL)이 적색, 녹색, 및 청색 광을 발광하는 발광층을 포함하는 경우, 파장 변환층은 생략될 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치는 접착층(150), 배리어 필름(160), 광학 접착 부재(170) 및 광 경로 제어층(180)을 더 포함할 수 있다.
접착층(150)은 터치 센서층(140)을 덮도록 기판(100) 상에 형성된다. 접착층(150)은 열 경화성, 광 경화성, 또는 자연 경화성 접착제로 이루어질 수 있다.
배리어 필름(160)은 접착층(150) 상에 부착된다. 배리어 필름(160)은 수분 또는 산소 침투를 1차적으로 방지하기 위한 것으로, 수분 투습도가 낮은 재질로 이루어질 수 있다.
광학 접착 부재(170)는 배리어 필름(160) 상에 형성된다. 광학 접착 부재(170)는 투명한 접착 레진층 또는 투명한 접착 레진 필름일 수 있다.
광 경로 제어층(180)은 입사되는 광의 경로를 제어한다.
일 예에 따른 광 경로 제어층(180)은 복수의 굴절층을 포함할 수 있다. 복수의 굴절층은 각기 다른 굴절율을 가질 수 있다. 예를 들어, 일 예에 따른 광 경로 제어층(180)은 고굴절층과 저굴절층이 교변적으로 적층된 구조를 가질 수 있다. 이러한 일 예에 따른 광 경로 제어층(180)은 입사되는 광의 경로를 변경하여 시야각에 따른 컬러시프트 현상을 최소화한다.
다른 예에 따른 광 경로 제어층(180)은 편광층일 수 있다. 편광층은 화소 어레이층(120)에 마련된 박막 트랜지스터 및/또는 라인들 등에 의해 반사된 외부 광을 원편광 상태로 변경하여 시인성과 명암비를 향상시킨다.
이와 같은 본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 전자 수첩, 전자 책, PMP(Portable Multimedia Player), 네비게이션, UMPC(Ultra Mobile PC), 스마트 폰(smart phone), 이동 통신 단말기, 모바일 폰, 태블릿 PC(personal computer), 스마트 와치(smart watch), 와치 폰(watch phone), 또는 웨어러블 기기(wearable device) 등과 같은 휴대용 전자 기기뿐만 아니라 텔레비전, 노트북, 모니터, 냉장고, 전자 레인지, 세탁기, 카메라 등의 다양한 제품에 적용될 수 있다.
본 출원에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 아래와 같이 설명될 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 표시 영역과 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 포함하는 기판, 기판의 표시 영역 상에 배치된 화소 구동 전극과 화소 구동 전극 상의 발광층 및 발광층 상의 공통 전극을 포함하는 화소 어레이층, 기판의 비표시 영역 상에 배치되고 공통 전극에 전기적으로 연결된 공통 전원 라인, 화소 어레이층을 둘러싸며 공통 전원 라인의 일부를 노출시키는 봉지층, 및 공통 전원 라인과 중첩되도록 봉지층 상에 배치되고 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 공통 전원 더미 패턴을 포함할 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 봉지층 상에 배치된 터치 전극을 갖는 터치 센서층을 더 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 터치 전극과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 봉지층 상에 배치된 터치 센서층을 더 포함하며, 터치 센서층은 전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴, 및 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 봉지층 상에 배치된 터치 센서층을 더 포함하며, 터치 센서층은 전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴, 및 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성되고 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 하부 더미 패턴, 및 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 하부 더미 패턴과 전기적으로 연결된 상부 더미 패턴을 포함할 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 봉지층 상에 배치된 터치 전극을 갖는 터치 센서층을 더 포함하며, 터치 센서층은 표시 영역 상의 봉지층 상에 배치된 터치 전극을 포함하는 터치 전극부 및 비표시 영역 상에 배치되고 터치 전극과 전기적으로 연결된 터치 라우팅 라인을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에서, 터치 전극은 전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴, 및 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하고, 터치 라우팅 라인은 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된 하부 터치 라우팅 라인, 및 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 하부 터치 라우팅 라인과 전기적으로 연결된 상부 터치 라우팅 라인을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 하부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에서, 터치 전극은 전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴, 및 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하고, 터치 라우팅 라인은 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된 하부 터치 라우팅 라인, 및 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 하부 터치 라우팅 라인과 전기적으로 연결된 상부 터치 라우팅 라인을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 하부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성되고 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 하부 더미 패턴, 및 상부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성되고 하부 더미 패턴과 전기적으로 연결된 상부 더미 패턴을 포함할 수 있다.
본 출원의 일 예에 따른 터치 스크린 일체형 표시 장치는 표시 영역과 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 갖는 기판, 기판의 표시 영역 상에 배치된 공통 전극을 포함하는 화소 어레이층, 기판의 비표시 영역 상에 배치되고 공통 전극에 전기적으로 연결된 공통 전원 라인, 공통 전원 라인의 제 1 부분을 제외한 나머지 제 2 부분과 화소 어레이층을 덮는 봉지층, 및 봉지층 상에 배치된 터치 센서층을 포함하며, 터치 센서층은 표시 영역 상의 봉지층 상에 배치된 터치 전극을 갖는 터치 전극부, 및 공통 전원 라인과 중첩되도록 봉지층 상에 배치되고 공통 전원 라인의 제 1 부분과 전기적으로 연결된 공통 전원 더미 패턴을 갖는 더미 패턴부를 포함할 수 있다.
본 출원의 일 예에서, 공통 전원 더미 패턴은 터치 전극과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에서, 터치 전극은 전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴, 및 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에서, 터치 전극은 전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴, 및 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성되고 공통 전원 라인의 제 1 부분과 전기적으로 연결된 하부 더미 패턴, 및 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 하부 더미 패턴과 전기적으로 연결된 상부 더미 패턴을 포함할 수 있다.
본 출원의 일 예에서, 터치 센서층은 터치 전극과 전기적으로 연결된 터치 라우팅 라인을 갖는 터치 라우팅부를 더 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에서, 터치 전극은 전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴, 및 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하고, 터치 라우팅 라인은 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된 하부 터치 라우팅 라인, 및 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 하부 터치 라우팅 라인과 전기적으로 연결된 상부 터치 라우팅 라인을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 하부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
본 출원의 일 예에서, 터치 전극은 전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴, 및 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하고, 터치 라우팅 라인은 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된 하부 터치 라우팅 라인, 및 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 하부 터치 라우팅 라인과 전기적으로 연결된 상부 터치 라우팅 라인을 포함하며, 공통 전원 더미 패턴은 하부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성되고 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 하부 더미 패턴, 및 상부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성되고 하부 더미 패턴과 전기적으로 연결된 상부 더미 패턴을 포함할 수 있다.
상술한 본 출원의 예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 출원의 적어도 하나의 예에 포함되며, 반드시 하나의 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 본 출원의 적어도 하나의 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 본 출원이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 출원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 설명한 본 출원은 전술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 출원의 기술적 사항을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 출원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. 그러므로, 본 출원의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 출원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100: 기판 200: 게이트 구동 회로
300: 구동 집적 회로 120: 화소 어레이층
130: 봉지층 140: 터치 센서층
150: 접착층 CE: 공통 전극
CPL: 공통 전원 라인 CPDP: 공통 전원 더미 패턴
300: 구동 집적 회로 120: 화소 어레이층
130: 봉지층 140: 터치 센서층
150: 접착층 CE: 공통 전극
CPL: 공통 전원 라인 CPDP: 공통 전원 더미 패턴
Claims (16)
- 표시 영역과 상기 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 포함하는 기판;
상기 기판의 표시 영역 상에 배치된 화소 구동 전극과 상기 화소 구동 전극 상의 발광층 및 상기 발광층 상의 공통 전극을 포함하는 화소 어레이층;
상기 기판의 비표시 영역 상에 배치되고 상기 공통 전극에 전기적으로 연결된 공통 전원 라인;
상기 화소 어레이층을 둘러싸며 상기 공통 전원 라인의 일부를 노출시키는 봉지층; 및
상기 공통 전원 라인과 중첩되도록 상기 봉지층 상에 배치되고 상기 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 공통 전원 더미 패턴을 포함하는, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 봉지층 상에 배치된 터치 전극을 갖는 터치 센서층을 더 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 터치 전극과 동일한 물질로 형성된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 봉지층 상에 배치된 터치 센서층을 더 포함하며,
상기 터치 센서층은,
전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴; 및
상기 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 봉지층 상에 배치된 터치 센서층을 더 포함하며,
상기 터치 센서층은,
전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴; 및
상기 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은,
상기 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성되고 상기 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 하부 더미 패턴; 및
상기 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 상기 하부 더미 패턴과 전기적으로 연결된 상부 더미 패턴을 포함하는, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 봉지층 상에 배치된 터치 전극을 갖는 터치 센서층을 더 포함하며,
상기 터치 센서층은,
상기 표시 영역 상의 상기 봉지층 상에 배치된 상기 터치 전극을 포함하는 터치 전극부; 및
상기 비표시 영역 상에 배치되고 상기 터치 전극과 전기적으로 연결된 터치 라우팅 라인을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 5 항에 있어서,
상기 터치 전극은,
전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴; 및
상기 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하고,
상기 터치 라우팅 라인은,
상기 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된 하부 터치 라우팅 라인; 및
상기 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 상기 하부 터치 라우팅 라인과 전기적으로 연결된 상부 터치 라우팅 라인을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 하부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 5 항에 있어서,
상기 터치 전극은,
전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴; 및
상기 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하고,
상기 터치 라우팅 라인은,
상기 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된 하부 터치 라우팅 라인; 및
상기 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 상기 하부 터치 라우팅 라인과 전기적으로 연결된 상부 터치 라우팅 라인을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은,
상기 하부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성되고 상기 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 하부 더미 패턴; 및
상기 상부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성되고 상기 하부 더미 패턴과 전기적으로 연결된 상부 더미 패턴을 포함하는, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 표시 영역과 상기 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역을 갖는 기판;
상기 기판의 표시 영역 상에 배치된 공통 전극을 포함하는 화소 어레이층;
상기 기판의 비표시 영역 상에 배치되고 상기 공통 전극에 전기적으로 연결된 공통 전원 라인;
상기 공통 전원 라인의 제 1 부분을 제외한 나머지 제 2 부분과 상기 화소 어레이층을 덮는 봉지층; 및
상기 봉지층 상에 배치된 터치 센서층을 포함하며,
상기 터치 센서층은,
상기 표시 영역 상의 상기 봉지층 상에 배치된 터치 전극을 갖는 터치 전극부; 및
상기 공통 전원 라인과 중첩되도록 상기 봉지층 상에 배치되고 상기 공통 전원 라인의 제 1 부분과 전기적으로 연결된 공통 전원 더미 패턴을 갖는 더미 패턴부를 포함하는, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 8 항에 있어서,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 터치 전극과 동일한 물질로 형성된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 8 항에 있어서,
상기 터치 전극은,
전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴; 및
상기 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 8 항에 있어서,
상기 터치 전극은,
전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴; 및
상기 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은,
상기 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성되고 상기 공통 전원 라인의 제 1 부분과 전기적으로 연결된 하부 더미 패턴; 및
상기 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 상기 하부 더미 패턴과 전기적으로 연결된 상부 더미 패턴을 포함하는, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 8 항에 있어서,
상기 터치 센서층은 상기 터치 전극과 전기적으로 연결된 터치 라우팅 라인을 갖는 터치 라우팅부를 더 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 12 항에 있어서,
상기 터치 전극은,
전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴; 및
상기 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하고,
상기 터치 라우팅 라인은,
상기 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된 하부 터치 라우팅 라인; 및
상기 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 상기 하부 터치 라우팅 라인과 전기적으로 연결된 상부 터치 라우팅 라인을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 하부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 12 항에 있어서,
상기 터치 전극은,
전기적으로 서로 분리된 복수의 전극 패턴; 및
상기 복수의 전극 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴을 포함하고,
상기 터치 라우팅 라인은,
상기 브리지 패턴과 동일한 물질로 형성된 하부 터치 라우팅 라인; 및
상기 전극 패턴과 동일한 물질로 형성되고 상기 하부 터치 라우팅 라인과 전기적으로 연결된 상부 터치 라우팅 라인을 포함하며,
상기 공통 전원 더미 패턴은,
상기 하부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성되고 상기 공통 전원 라인의 일부와 전기적으로 연결된 하부 더미 패턴; 및
상기 상부 터치 라우팅 라인과 동일한 물질로 형성되고 상기 하부 더미 패턴과 전기적으로 연결된 상부 더미 패턴을 포함하는, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 비표시 영역은 상기 기판의 제 1 가장자리에 정의된 제 1 비표시 영역, 상기 제 1 비표시 영역과 나란한 상기 기판의 제 2 가장자리에 정의된 제 2 비표시 영역, 상기 기판의 제 3 가장자리에 정의된 제 3 비표시 영역, 및 상기 제 3 비표시 영역과 나란한 상기 기판의 제 4 가장자리에 정의된 제 4 비표시 영역을 포함하고,
상기 제 1 비표시 영역은 상기 기판의 제 1 가장자리에 마련된 패드부를 포함하며,
상기 공통 전원 라인은 상기 패드부에 전기적으로 연결되고 상기 제 2 내지 제 4 비표시 영역을 따라 배치되며,
상기 공통 전원 더미 패턴은 상기 제 2 내지 제 4 비표시 영역에서 상기 공통 전원 라인과 중첩된, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치. - 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 공통 전원 라인과 상기 공통 전극을 전기적으로 연결하는 연결 라인을 더 포함하는, 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180089968A KR102554557B1 (ko) | 2018-08-01 | 2018-08-01 | 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 |
KR1020230088086A KR20230108249A (ko) | 2018-08-01 | 2023-07-07 | 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180089968A KR102554557B1 (ko) | 2018-08-01 | 2018-08-01 | 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020230088086A Division KR20230108249A (ko) | 2018-08-01 | 2023-07-07 | 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200014599A KR20200014599A (ko) | 2020-02-11 |
KR102554557B1 true KR102554557B1 (ko) | 2023-07-11 |
Family
ID=69569009
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180089968A KR102554557B1 (ko) | 2018-08-01 | 2018-08-01 | 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 |
KR1020230088086A KR20230108249A (ko) | 2018-08-01 | 2023-07-07 | 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020230088086A KR20230108249A (ko) | 2018-08-01 | 2023-07-07 | 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (2) | KR102554557B1 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210121933A (ko) * | 2020-03-31 | 2021-10-08 | 삼성전자주식회사 | 디스플레이를 포함하는 전자 장치 및 그 디스플레이의 시야각을 제어하는 방법 |
KR20220056929A (ko) | 2020-10-28 | 2022-05-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN112667107B (zh) * | 2020-12-31 | 2024-06-28 | 武汉天马微电子有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN113193032A (zh) * | 2021-04-29 | 2021-07-30 | 合肥维信诺科技有限公司 | 显示面板、显示装置及显示面板的制备方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102242108B1 (ko) * | 2015-01-23 | 2021-04-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 터치표시장치 |
KR101979444B1 (ko) * | 2016-07-29 | 2019-05-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시장치 |
KR102688970B1 (ko) * | 2016-09-19 | 2024-07-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
-
2018
- 2018-08-01 KR KR1020180089968A patent/KR102554557B1/ko active IP Right Grant
-
2023
- 2023-07-07 KR KR1020230088086A patent/KR20230108249A/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20230108249A (ko) | 2023-07-18 |
KR20200014599A (ko) | 2020-02-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102703231B1 (ko) | 표시 영역 내에 관통-홀을 구비한 전계 발광 표시장치 | |
US11355728B2 (en) | Electroluminesence display having through-hole in display area | |
US20240057440A1 (en) | Electroluminescence display device having a through-hole in display area | |
US10008555B2 (en) | Display device and method of manufacturing the same | |
CN111381712B (zh) | 具有集成天线的显示设备 | |
KR102554557B1 (ko) | 터치 스크린 일체형 발광 표시 장치 | |
KR102652572B1 (ko) | 플렉서블 전계 발광 표시장치 | |
KR20210093211A (ko) | 표시장치 | |
GB2566789A (en) | Touch screen panel and display apparatus with integrated touch screen | |
KR20200072928A (ko) | 부분 투명 표시장치 | |
KR20200082492A (ko) | 관통홀이 구비된 표시장치 | |
KR20200072745A (ko) | 전계발광 표시장치 및 그를 포함한 개인 몰입형 표시장치 | |
KR102666703B1 (ko) | 전계 발광 표시장치 | |
KR102602171B1 (ko) | 전계 발광 표시장치 | |
KR102589905B1 (ko) | 협 베젤 플렉서블 전계 발광 표시장치 및 그 제조 방법 | |
US11749148B2 (en) | Display apparatus | |
KR102640017B1 (ko) | 협-베젤 전계 발광 표시장치 | |
KR102660306B1 (ko) | 폴더블 전계 발광 표시장치 | |
KR102574813B1 (ko) | 플렉서블 전계 발광 표시장치 | |
KR102633505B1 (ko) | 협-베젤 전계 발광 표시장치 | |
KR20230094647A (ko) | 표시 영역 내에 관통-홀을 구비한 전계 발광 표시장치 | |
KR20200078091A (ko) | 플렉서블 전계 발광 표시장치 | |
CN118426610A (zh) | 触摸显示装置和电子装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |