KR102543947B1 - 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자 - Google Patents

고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자 Download PDF

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Abstract

본 발명은 특정 청색 안료와 특정 녹색 안료를 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성되는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 고체 촬상 소자를 제공한다. 본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 청록색의 분광적 특성을 가지며, 패턴 특성이 우수하여 작은 사이즈의 패턴 구현이 가능하다.

Description

고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자{Colored Photosensitive Resin Composition for Solid State Imaging Device, Color Filter and Solid State Imaging Device}
본 발명은 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 청록색의 분광적 특성을 가지며, 패턴 특성이 우수하여 작은 사이즈의 패턴 구현이 가능한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성되는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 고체 촬상 소자에 관한 것이다.
고체 촬상 소자는 광 에너지를 통해 촬영된 이미지를 전기적 정보로 변환시키는 소자로서, 렌즈 하부에 컬러필터가 포함될 수 있다. 예를 들면, 씨모스 이미지 센서(CMOS Image Sensor: CIS)의 경우, 일반적인 디스플레이 장치의 화소에 대응하는 컬러필터보다 고해상도로 패터닝된 미세 피치의 컬러필터가 채용된다. CIS의 컬러필터는 통상 적(R), 녹(G), 및 청(B)의 3원색의 착색 패턴을 구비하고 있어 투과광을 3원색으로 분해하는 역할을 담당하고 있다.
그런데, 이러한 착색 패턴은 화소가 작아짐에 따라 빛의 흡수량에 한계를 가진다. 따라서, 빛의 흡수량이 적어도 신호를 크게 증폭시킬 수 있도록 고감도화가 가능한 착색 패턴을 형성할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물에 대한 개발이 요구되고 있다.
아울러, 이러한 착색 패턴을 형성하기 위한 착색 감광성 수지 조성물은 미세 패턴화가 가능하도록 현상성과 함께 잔사 혹은 잔막 특성 및 직진성 등과 같은 패턴 특성이 동시에 충분히 확보될 필요가 있다.
대한민국 공개특허 제10-2009-0072754호는 안료 및 바인더 수지를 포함하는 컬러필터용 조성물을 개시하고 있으나, 상술한 고체 촬상 소자용 컬러필터로 적용되기는 어렵다.
대한민국 공개특허 제10-2009-0072754호
본 발명의 한 목적은 청록색의 분광적 특성을 가지며, 패턴 특성이 우수하여 작은 사이즈의 패턴 구현이 가능한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 컬러필터를 구비한 고체 촬상 소자를 제공하는 것이다.
한편으로, 본 발명은 착색제, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 착색제는 청색 안료와 녹색 안료를 포함하고, 상기 청색 안료는 C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4 및 C.I. 피그먼트 블루 15:6으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하며, 상기 녹색 안료는 C.I. 피그먼트 그린 58 및 C.I. 피그먼트 그린 36으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 청색 안료와 녹색 안료의 혼합비는 중량 기준으로 20:80 내지 80:20일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 착색제의 함량은 착색 감광성 수지 조성물의 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 90 중량%일 수 있다.
다른 한편으로, 본 발명은 상기 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터를 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 컬러필터를 포함하는 고체 촬상 소자를 제공한다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 고체 촬상 소자는 씨모스 이미지 센서를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 특정 청색 안료와 특정 녹색 안료를 포함함으로써 청록색(시안색)의 분광적 특성을 가지며, 패턴 특성이 우수하여 작은 사이즈의 패턴 구현이 가능하다. 이에 따라, 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 미세 패터닝이 가능하여 고체 촬상 소자용 컬러필터에 유리하게 적용될 수 있다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 일 실시형태는 착색제(A), 알칼리 가용성 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D) 및 용제(E)를 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 착색제(A)는 청색 안료와 녹색 안료를 포함하고, 상기 청색 안료는 C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4 및 C.I. 피그먼트 블루 15:6으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하며, 상기 녹색 안료는 C.I. 피그먼트 그린 58 및 C.I. 피그먼트 그린 36으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
이하, 본 발명의 일 실시형태에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 각 성분 별로 상세히 설명한다.
착색제 (A)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 착색제(A)는 청색 안료와 녹색 안료를 포함한다.
상기 착색제(A)는 청색 안료로서 C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4 및 C.I. 피그먼트 블루 15:6으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하며, 녹색 안료로서 C.I. 피그먼트 그린 58 및 C.I. 피그먼트 그린 36으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함한다.
본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 상술한 특정 청색 안료와 녹색 안료를 포함함으로써 스펙트럼이 넓은 청록색의 분광적 특성을 나타내어 고감도화가 가능하고, 패턴 형성시 직진성 및 현상성이 우수하다. 특히, 직진성 및 현상성이 우수한 2㎛ 이하, 예컨대 1 내지 2㎛ 크기의 작은 도트 패턴 구현이 가능하다. 이에 따라, 상기 착색 감광성 수지 조성물은 고체 촬상 소자용 컬러필터에 유리하게 적용될 수 있다.
상기 청색 안료와 녹색 안료의 혼합비는 중량 기준으로 20:80 내지 80:20일 수 있다. 상기 청색 안료와 녹색 안료의 혼합비에서 청색 안료가 상기 범위보다 적게 포함되면 단파장에서의 투과율이 저하되며 녹색 특성에 가까워질 수 있고, 상기 범위보다 많이 포함되면 투과 영역이 단파장으로 시프트(shift) 되면서 청색 특성에 가까워질 수 있다.
본 발명에 따른 착색제(A)는 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위 내에서 당 분야에 통상적으로 사용되는 안료, 염료 또는 이들의 혼합물을 더 포함할 수 있다.
상기 안료는 당해 기술 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료를 사용할 수 있다. 상기 유기 안료의 예로서 구체적으로는 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론(anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론(pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다.
상기 무기 안료는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 포함할 수 있고, 예를 들면 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등과 같은 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다.
안료의 조성물 내 균일한 분산을 위해 안료 분산제를 함께 포함시킬 수 있다. 예를 들면, 안료 분산제를 함유하는 용매 내에 안료를 분산시켜 균일한 입경을 갖는 안료 분산액을 형성하고, 상기 안료 분산액을 착색 감광성 수지 조성물에 혼합할 수 있다.
상기의 안료 분산제의 예로서, 부틸메타크릴레이트(BMA) 또는 N,N-디메틸아미노에틸메타크릴레이트(DMAEMA)와 같은 아크릴레이트계 분산제, 폴리에스테르계 분산제, 폴리아민계 분산제, (메타)아크릴산-스티렌 코폴리머, (메타)아크릴산-(메타)아크릴레이트 에스테르 코폴리머, 스티렌-말레산 코폴리머, 폴리비닐알코올 또는 폴리비닐피롤리돈과 같은 수지 타입 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 염료는 유기용제에 대한 용해성을 가지는 것이라면 제한 없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 유기용제에 대한 용해성을 가지면서 알칼리 현상액에 대한 용해성 및 내용제성, 경시안정성 등의 신뢰성을 확보할 수 있는 염료를 사용하는 것이 바람직하다.
상기 염료로는 설폰산이나 카복실산 등의 산성기를 갖는 산성 염료, 산성 염료와 질소 함유 화합물의 염, 산성 염료의 설폰아미드체 등과 이들의 유도체에서 선택된 것을 사용할 수 있으며, 이외에도 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성 염료 및 이들의 유도체도 선택할 수 있다. 바람직하게 상기 염료는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판) 내에 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다.
상기 염료의 구체적인 예로는, C.I. 솔벤트 염료로서,
C.I. 솔벤트 블루 5, 35, 36, 37, 44, 45, 59, 67, 70 등의 청색 염료;
C.I. 솔벤트 바이올렛 8, 9, 13, 14, 36, 37, 47, 49 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 솔벤트 옐로우 4, 14, 15, 23, 24, 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 162 등의 황색 염료;
C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
또한, C.I. 애시드 염료로서,
C.I. 애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251 등의 황색 염료;
C.I. 애시드 블루 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335, 340 등의 청색 염료;
C.I. 애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 17, 19, 66 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 애시드 그린 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
또한, C.I. 다이렉트 염료로서,
C.I. 다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141 등의 황색 염료;
C.I. 다이렉트 블루 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293 등의 청색 염료;
C.I. 다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
또한, C.I. 모단토 염료로서,
C.I. 모단토 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65 등의 황색 염료;
C.I. 모단토 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84 등의 청색 염료;
C.I. 모단토 바이올렛 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 모단토 그린 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
상기 염료는 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 착색제(A)는 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 90 중량%, 바람직하게는 40 내지 70 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 착색제(A)의 함량이 상기 범위 내이면 적정 투과율에서 패턴 프로파일 및 잔사에 유리한 패턴 구현이 가능하다.
알칼리 가용성 수지(B)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 알칼리 가용성 수지(B)는 통상적으로 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 색재의 분산매로서 작용한다.
상기 알칼리 가용성 수지(B)는 예를 들면 카르복실기 함유 단량체, 및 이 단량체와 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체 등을 들 수 있다.
상기 카르복실기 함유 단량체로서는, 예를 들면 불포화 모노카르복실산이나, 불포화 디카르복실산, 불포화 트리카르복실산 등의 분자 중에 2개 이상의 카르복실기를 갖는 불포화 다가 카르복실산 등의 불포화 카르복실산 등을 들 수 있다. 여기서, 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다. 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-(메타)아크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다. 불포화 다가 카르복실산은 그 양말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤 모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 카르복실기 함유 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 카르복실기 함유 단량체와 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예를 들면 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 인덴 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 3-히드록시부틸아크릴레이트, 3-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타디에닐아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐메타크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르류; 2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류; 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르류; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 벤조산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물; 아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류; 말레이미드, 벤질말레이미드, N-페닐말레이미드. N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; 및 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체류 등을 들 수 있다. 이들 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지(B)는 산가가 20 내지 200(KOH ㎎/g)일 수 있다. 산가가 상기 범위에 있으면, 현상액 중의 용해성이 향상되어, 비-노출부가 쉽게 용해되고 감도가 증가하여, 결과적으로 노출부의 패턴이 현상시에 남아서 잔막율(film remaining ratio)을 개선하게 되어 바람직하다. 여기서 산가란, 중합체 1g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이며, 통상적으로 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지(B)는 겔 투과 크로마토그래피(GPC; 테트라히드로퓨란을 용출용제로 함)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량(이하, 간단히 '중량평균분자량'이라고 한다)이 3,000 내지 200,000, 바람직하게는 5,000 내지 100,000일 수 있다. 분자량이 상기 범위에 있으면, 코팅 필름의 경도가 향상되어, 잔막율이 높고, 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하고 해상도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다.
상기 알칼리 가용성 수지(B)의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0, 바람직하게는 1.8 내지 4.0일 수 있다. 분자량 분포가 상기 범위 내에 있으면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.
상기 알칼리 가용성 수지(B)의 함량은 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 통상 0.05 내지 35 중량%, 바람직하게는 2 내지 12 중량%일 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지(B)의 함량이 상기 범위 내에 있으면 조성물의 코팅성, 막 안정성이 충분히 확보될 수 있다.
광중합성 화합물(C)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합성 화합물(C)은 광중합 개시제(D)의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 노광 공정에 의해 가교 혹은 중합되어 착색 패턴의 기계적 특성을 향상시키거나, 상기 알칼리 가용성 수지의 현상성을 보완하는 역할을 한다.
상기 광중합성 화합물은 에틸렌 옥사이드(EO) 링커 및 에틸렌성 불포화 중합성기를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광중합성 화합물은 에톡시화(ethoxylated) (메타)아크릴레이트계 화합물을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 상기 광중합성 화합물은 3관능 이상의 에톡시화 (메타)아크릴레이트계 화합물을 포함할 수 있다.
상기 광중합성 화합물은 예를 들면, 분자 중심으로부터 상기 EO 링커에 의해 방사되는 (메타)아크릴레이트 기를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 광중합성 화합물은 복수의 (메타)아크릴레이트 기들을 포함하며, 각 (메타)아크릴레이트 기마다 상기 EO 링커가 연결되어 방사될 수 있다.
이에 따라, 상기 광중합성 화합물 중 친수성기가 접촉할 수 있는 표면적이 증가하여, 상기 알칼리 가용성 수지의 현상성을 보충할 수 있다. 또한, 기판과의 밀착성 및 패턴 프로파일(예를 들면, 패턴 측벽 직진성)이 향상되어 고신뢰성의 광경화 패턴이 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상술한 EO 링커를 통한 (메타)아크릴레이트기 방사 효과를 고려하여 상기 광중합성 화합물은 4관능 이상의 에톡시화 (메타)아크릴레이트계 화합물을 포함할 수 있다.
상술한 광중합성 화합물의 비제한적인 예로서, 에톡시화 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트(예를 들면, 하기 화학식 1), 에톡시화 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트(예를 들면, 하기 화학식 2), 에톡시화 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트(예를 들면, 하기 화학식 3) 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112022009314904-pat00001
[화학식 2]
Figure 112022009314904-pat00002
[화학식 3]
Figure 112022009314904-pat00003
상기 화학식 1 내지 3에서, R1는 수소 또는 메틸기일 수 있다. R2는 수소, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 10의 알콕시기일 수 있다. 상기 알킬기는 히드록실기로 치환될 수 있다. n은 1 내지 5의 정수일 수 있다.
화학식 1 내지 3에서, R1 및 n은 공통적으로 기재되어 있으나, 모두 동일한 것을 의미하는 것이 아니며, 각각 독립적으로 조절될 수 있다.
상기 광중합성 화합물은 상기 에톡시화 (메타)아크릴레이트계 화합물에 부가하여 광중합성을 갖는 다른 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 그 밖의 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 충분한 경화특성 구현을 위해 2관능 이상의 단량체를 사용할 수 있다.
상기 단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 상기 2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 밖의 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.
상기 광중합성 화합물은 현상성, 패턴 특성 향상을 위해 상기 에톡시화 (메타)아크릴레이트계 화합물로만 실질적으로 구성될 수 있다.
상기 광중합성 화합물은 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.5 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물이 상기 범위로 포함되었을 경우 착색제의 색 재현성을 저하시키지 않으면서 착색 패턴의 강도 및 기계적 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
광중합 개시제 (D)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합 개시제(D)는 광중합성 화합물(C)을 중합시킬 수 있는 것이면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 특히, 상기 광중합 개시제(D)는 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심계 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다.
상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
상기 비이미다졸계 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 비이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하게 사용된다.
상기 옥심계 화합물의 구체적인 예로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 1,2-옥타디온,-1-(4-페닐티오)페닐,-2-(o-벤조일옥심), 에타논,-1-(9-에틸)-6-(2-메틸벤조일-3-일)-,1-(o-아세틸옥심) 등을 들 수 있으며, 시판품으로 CGI-124(시바가이기사), CGI-224(시바가이기사), Irgacure OXE-01(BASF사), Irgacure OXE-02(BASF사), N-1919(아데카사), NCI-831(아데카사) 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다.
또한, 상기 광중합 개시제(D)는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제(d1)와 병용될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 광중합 개시 보조제(d1)를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있다.
상기 광중합 개시 보조제(d1)는, 예를 들어 아민 화합물, 카르복실산 화합물, 및 티올기를 가지는 유기 황 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 아민 화합물로는 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 사용할 수 있으며, 특히 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.
상기 티올기를 가지는 유기 황 화합물의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제(D)는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.1 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서 노광에 의한 가교 특성을 향상시키면서 고해상도를 효과적으로 구현할 수 있다.
또한, 상기 광중합 개시 보조제(d1)를 더 사용하는 경우, 상기 광중합 개시 보조제(d1)는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.1 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 상기 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상될 수 있다.
용제(E)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 용제는 본 발명의 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면, 통상의 착색 감광성 수지 조성물에서 사용되는 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 특히 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류 또는 아미드류 등이 바람직하다.
상기 용제는 구체적으로 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알콜류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; 및 γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.
상기 용제 중에서도 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제를 사용하는 것이 더욱 바람직하며, 그 예로는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등이 있다.
상기 용제는 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 용제는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 30 내지 95 중량%, 바람직하게는 40 내지 85 중량% 포함될 수 있다. 상기 용제가 상기 30 내지 95 중량%의 범위이면, 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 효과를 제공한다.
첨가제(F)
본 발명의 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 다른 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 병용할 수 있다.
상기 다른 고분자 화합물의 구체적인 예로는 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 열경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.
상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제의 구체적인 예로는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.
상기 경화제에서 에폭시 화합물의 구체적인 예로는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아누레이트 등을 들 수 있다.
상기 경화제에서 옥세탄 화합물의 구체적인 예로는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.
상기에서 예시한 경화제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. 상기 경화 보조 화합물은 예를 들면 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등이 있다. 상기 다가 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제의 구체적인 예로는, 아데카하도나 EH-700(아데카공업㈜ 제조), 리카싯도 HH(신일본이화㈜ 제조), MH-700(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다.
상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물의 피막 형성성을 보다 향상시키기 위해 사용할 수 있으며, 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제 등이 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 실리콘계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400 등이 있고 GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452 등이 있다. 상기 불소계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 등이 있다. 상기 예시된 계면활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 밀착 촉진제의 구체적인 예로서는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아나토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아나토프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 산화 방지제의 구체적인 예로는 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다.
상기 자외선 흡수제의 구체적인 예로는 2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 응집 방지제의 구체적인 예로는 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 예를 들면 하기와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다.
먼저, 상기 착색제(A) 중 안료를 용제(E)와 혼합하여 안료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제, 알칼리 가용성 수지(B)의 일부 또는 전부, 또는 염료를 용제(E)와 함께 혼합시켜 용해 또는 분산시킬 수 있다. 상기 혼합된 분산액에 알칼리 가용성 수지(B)의 나머지, 광중합 개시제(D), 광중합성 화합물(C) 및 첨가제(F)와 필요에 따라 용제(E)를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 착색 패턴을 제조하는데 사용될 수 있으며, 상기 착색 패턴은 후술하는 바와 같이 예를 들면 컬러필터, 특히 고체 촬상 소자의 컬러 필터에 사용될 수 있다.
따라서, 본 발명의 일 실시형태는 상술한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 컬러필터는 기판 상에 상술한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광 및 현상하여 착색 패턴을 형성시킴으로써 제조될 수 있다.
예를 들면, 기판 상에 상술한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 건조시켜 예비 착색막을 형성할 수 있다.
상기 기판은 고체　촬상　소자에 활용되는 광전 변환 소자 기판(예를 들면 CCD용, CMOS용 실리콘 기판)을 포함할 수 있다. 상기 기판은 각 화소를 격리하기 위한 블랙 매트릭스 또는 블랙 스트라이프를 포함할 수도 있다.
상기 도포 공정은 예를 들면, 롤 코팅, 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등과 같은 코팅 혹은 프린팅 공정을 포함할 수 있다.
이후, 상기 예비 착색막을 노광 및 현상하여 각 화소에 대응하는 착색 패턴이 형성될 수 있다.
상기 노광 공정은 상기 화소 영역을 선택적으로 노출시키는 마스크를 사용한 레이저 노광을 포함할 수 있다. 이후, 비노광 영역을 현상액을 사용하여 선택적으로 제거함으로써 상기 착색 패턴을 형성할 수 있다.
상기 현상액은 예를 들면, 무기 또는 유기 알칼리성 화합물을 포함할 수 있다. 상기 무기 알칼리성 화합물의 예로서 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 상기 유기 알칼리성 화합물의 예로서 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 현상 공정 이후, 예를 들면 150 내지 230℃에서 포스트 베이킹 공정을 수행할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태는 상술한 컬러필터가 구비된 고체 촬상 소자에 관한 것이다.
상기 고체 촬상 소자는 예를 들면 씨모스 이미지 센서를 포함할 수 있다.
상기 고체 촬상 소자는 반도체 소자 혹은 광전 변환 소자를 포함하는 지지체 및 마이크로 렌즈를 포함하며, 상기 지지체 및 상기 마이크로 렌즈 사이에 상기 컬러필터가 배치될 수 있다.
이하, 실시예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.
실시예 1 내지 18 및 비교예 1 내지 19: 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물의 제조
하기 표 1 내지 표 4의 조성으로 각 성분을 혼합하여 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다(단위: 중량부).
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 실시예 6 실시예 7 실시예 8 실시예 9
안료비 20/80 50/50 80/20 20/80 50/50 80/20 20/80 50/50 80/20
착색제 (A) (1-1) 13.36 33.41 53.45 - - - - - -
(1-2) - - - 13.36 33.41 53.45 - - -
(1-3) - - - - - - 13.36 33.41 53.45
(1-4) - - - - - - - - -
(1-5) 38.34 23.96 9.58 38.34 23.96 9.58 38.34 23.96 9.58
(1-6) - - - - - - - - -
(1-7) - - - - - - - - -
알칼리 가용성 수지(B) (2-1) 4.62 3.36 2.10 4.62 3.36 2.10 4.62 3.36 2.10
광중합성 화합물(C) (3-1) 3.11 2.91 2.71 3.11 2.91 2.71 3.11 2.91 2.71
광중합 개시제(D) (4-1) 0.12 0.11 0.10 0.12 0.11 0.10 0.12 0.11 0.10
(4-2) 0.23 0.22 0.20 0.23 0.22 0.20 0.23 0.22 0.20
용제(E) (5-1) 40.18 36.00 31.81 40.18 36.00 31.81 40.18 36.00 31.81
첨가제(F) (6-1) 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
실시예 10 실시예 11 실시예 12 실시예 13 실시예 14 실시예 15 실시예 16 실시예 17 실시예 18
안료비 20/80 50/50 80/20 20/80 50/50 80/20 20/80 50/50 80/20
착색제 (A) (1-1) 13.36 33.41 53.45 - - - - - -
(1-2) - - - 13.36 33.41 53.45 - - -
(1-3) - - - - - - 13.36 33.41 53.45
(1-4) - - - - - - - - -
(1-5) - - - - - - - - -
(1-6) 38.34 23.96 9.58 38.34 23.96 9.58 38.34 23.96 9.58
(1-7) - - - - - - - - -
알칼리 가용성 수지(B) (2-1) 4.62 3.36 2.10 4.62 3.36 2.10 4.62 3.36 2.10
광중합성 화합물(C) (3-1) 3.11 2.91 2.71 3.11 2.91 2.71 3.11 2.91 2.71
광중합 개시제(D) (4-1) 0.12 0.11 0.10 0.12 0.11 0.10 0.12 0.11 0.10
(4-2) 0.23 0.22 0.20 0.23 0.22 0.20 0.23 0.22 0.20
용제(E) (5-1) 40.18 36.00 31.81 40.18 36.00 31.81 40.18 36.00 31.81
첨가제(F) (6-1) 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
비교예 1 비교예 2 비교예 3 비교예 4 비교예 5 비교예 6 비교예 7 비교예 8 비교예 9 비교예 10
안료비 100/0 100/0 100/0 100/0 0/100 0/100 0/100 20/80 50/50 80/20
착색제 (A) (1-1) 66.81 - - - - - 13.36 33.41 53.45
(1-2) - 66.81 - - - - - - -
(1-3) - - 66.81 - - - - - -
(1-4) - - - 66.81 - - - - - -
(1-5) - - - 66.81 - - - - -
(1-6) - - - - 66.81 - - - -
(1-7) - - - 66.81 38.34 23.96 9.58
알칼리 가용성 수지(B) (2-1) 1.27 1.27 1.27 1.27 1.27 1.27 1.27 4.62 3.36 2.10
광중합성 화합물(C) (3-1) 2.57 2.57 2.57 2.57 2.57 2.57 2.57 3.11 2.91 2.71
광중합 개시제(D) (4-1) 0.10 0.10 0.10 0.10 0.10 0.10 0.10 0.12 0.11 0.10
(4-2) 0.19 0.19 0.19 0.19 0.19 0.19 0.19 0.23 0.22 0.20
용제(E) (5-1) 29.01 29.01 29.01 29.01 29.01 29.01 29.01 40.18 36.00 31.81
첨가제(F) (6-1) 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
비교예 11 비교예 12 비교예 13 비교예 14 비교예 15 비교예 16 비교예 17 비교예 18 비교예 19
안료비 20/80 50/50 80/20 20/80 50/50 80/20 20/80 50/50 80/20
착색제 (A) (1-1) - - - - - - - - -
(1-2) 13.36 33.41 53.45 - - - - - -
(1-3) - - - 13.36 33.41 53.45 - - -
(1-4) - - - - - - 13.36 33.41 53.45
(1-5) - - - - - - 38.34 23.96 9.58
(1-6) - - - - - - - - -
(1-7) 38.34 23.96 9.58 38.34 23.96 9.58 - - -
알칼리 가용성 수지(B) (2-1) 4.62 3.36 2.10 4.62 3.36 2.10 4.62 3.36 2.10
광중합성 화합물(C) (3-1) 3.11 2.91 2.71 3.11 2.91 2.71 3.11 2.91 2.71
광중합 개시제(D) (4-1) 0.12 0.11 0.10 0.12 0.11 0.10 0.12 0.11 0.10
(4-2) 0.23 0.22 0.20 0.23 0.22 0.20 0.23 0.22 0.20
용제(E) (5-1) 40.18 36.00 31.81 40.18 36.00 31.81 40.18 36.00 31.81
첨가제(F) (6-1) 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04 0.04
(1-1) 청색 착색제 (피그먼트 블루 15:6, 안료 함량: 11 중량%)
(1-2) 청색 착색제 (피그먼트 블루 15:3, 안료 함량: 11 중량%)
(1-3) 청색 착색제 (피그먼트 블루 15:4, 안료 함량: 11 중량%)
(1-4) 청색 착색제 (피그먼트 블루 16, 안료 함량: 11 중량%)
(1-5) 녹색 착색제 (피그먼트 그린 58, 안료 함량: 15 중량%)
(1-6) 녹색 착색제 (피그먼트 그린 36, 안료 함량: 15 중량%)
(1-7) 녹색 착색제 (피그먼트 그린 7, 안료 함량: 15 중량%)
(2-1) S-77A (애경화학㈜)
(3-1) 에톡시화 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 (NK ESTER A-DPH-12E, SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.)
(4-1) Irgacure OXE-01 (바스프사)
(4-2) N-1919 (ADEKA KOREA CORPORATION)
(5-1) 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (KH NEOCHEM CO., LTD.)
(6-1) SH-8400 (다우코닝)
실험예 1:
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 투과율 및 패턴특성을 하기와 같은 방법으로 측정하였다. 측정 결과를 하기 표 5에 나타내었다.
(1) 투과율
23℃의 청정실에서 4인치 크기의 글래스 웨이퍼의 표면 상에, 상기 실시예 및 비교예에서 얻은 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법에 의해서 도포한 후, 100℃에서 90초간 건조시켜 휘발 성분을 휘발시켜서 예비 착색막을 형성하였다. 23℃로 냉각시킨 후, 형성된 예비 착색막에 MA6를 이용하여 노광하였다. 노광된 도막이 형성된 웨이퍼를 0.2중량％ 테트라메틸암모늄 히드록사이드(TMAH) 수용액으로 현상하고, 220℃에서 180초간 후가열하여 도막을 형성하였다. 얻어진 도막의 두께는 모두 0.5μm였다. 제조된 기판에 대하여 380㎚ 내지 780nm에서 투과율을 측정하고, 450nm, 550nm 및 700nm에서의 투과율을 기재하였다.
(2) 패턴 특성
23℃의 청정실에서 6인치 크기의 실리콘 웨이퍼(Si-wafer)의 표면 상에, 상기 실시예 및 비교예에서 얻은 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법에 의해서 도포한 후, 100℃에서 90초간 건조시켜 휘발 성분을 휘발시켜서 예비 착색막을 형성하였다. 23℃로 냉각시킨 후, 형성된 예비 착색막에 i-line stepper를 이용하여 노광하였다. 노광된 도막이 형성된 웨이퍼를 0.2중량％ 테트라메틸암모늄 히드록사이드(TMAH) 수용액으로 현상하고, 220℃에서 180초간 후 가열하여 착색 패턴을 형성하였다. 얻어진 착색 패턴의 두께는 모두 0.5μm였다. 형성된 착색 패턴의 최소 라인폭(해상도)은 1.0μm이었다. 상기에서 얻어진 패턴에 대하여 CD-SEM을 사용하여 패턴 특성(직진성 및 잔사)을 하기 평가 기준에 따라 평가하였다.
<직진성 평가기준>
5: 패턴 4개의 측벽들이 모두 직선형
4: 패턴 4개의 측벽들이 일부 돌출부 포함하나 실질적으로 직선형
3: 패턴 4개의 측벽들 중 일부 측벽이 실질적으로 요철형
2: 패턴 4개의 측벽들 모두 실질적으로 요철형
1: 일정한 패턴 형상 미형성
<잔사 평가기준>
5: 착색 패턴들 사이에 잔사 미관찰
4: 착색 패턴들 사이의 전체 면적 대비 0% 초과 10% 미만 잔사 분포
3: 착색 패턴들 사이의 전체 면적 대비 10% 이상 20% 미만 잔사 분포
2: 착색 패턴들 사이의 전체 면적 대비 20% 이상 30% 미만 잔사 분포
1: 착색 패턴들 사이의 전체 면적 대비 30% 이상 잔사 분포
투과율 패턴특성
450nm 550nm 700nm 직진성 잔사
실시예1 68 70 25 5 4
실시예2 74 53 21 4 4
실시예3 85 42 18 5 5
실시예4 67 78 20 4 5
실시예5 73 62 15 4 4
실시예6 83 52 12 5 5
실시예7 71 77 19 5 5
실시예8 78 61 14 4 4
실시예9 89 50 10 5 5
실시예10 71 68 27 5 4
실시예11 76 62 22 4 4
실시예12 87 41 19 5 5
실시예13 70 76 22 5 4
실시예14 75 61 16 4 4
실시예15 85 51 13 5 5
실시예16 74 75 21 5 5
실시예17 80 60 15 4 4
실시예18 91 49 11 5 5
비교예1 91 20 9 3 3
비교예2 90 40 5 3 4
비교예3 95 38 4 3 4
비교예4 78 39 5 3 3
비교예5 51 93 27 4 3
비교예6 54 91 30 4 3
비교예7 60 87 42 3 3
비교예8 80 60 38 4 3
비교예9 85 55 31 3 3
비교예10 90 36 29 3 4
비교예11 80 68 32 4 3
비교예12 85 55 25 3 3
비교예13 90 43 21 3 4
비교예14 81 67 31 4 3
비교예15 86 53 24 3 3
비교예16 93 42 20 3 4
비교예17 65 66 31 3 3
비교예18 70 52 25 3 3
비교예19 76 41 21 3 3
상기 표 5에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 18의 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 스펙트럼이 넓은 청록색의 분광적 특성을 나타내고, 패턴 특성이 우수한 것을 확인하였다. 반면, 비교예 1 내지 19의 착색 감광성 수지 조성물은 분광적 특성 및/또는 패턴 특성을 만족하지 않는 것을 확인하였다.
이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.

Claims (6)

  1. 착색제, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물로서,
    상기 착색제는 청색 안료와 녹색 안료로 구성되고,
    상기 청색 안료는 C.I. 피그먼트 블루 15:3 및 C.I. 피그먼트 블루 15:4로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상이며,
    상기 녹색 안료는 C.I. 피그먼트 그린 58이고,
    청록색의 분광적 특성을 나타내는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 청색 안료와 녹색 안료의 혼합비는 중량 기준으로 20:80 내지 80:20인 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 착색제의 함량은 착색 감광성 수지 조성물의 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 90 중량%인 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터.
  5. 제4항의 컬러필터를 포함하는 고체 촬상 소자.
  6. 제5항에 있어서, 씨모스 이미지 센서를 포함하는 고체 촬상 소자.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120162575A1 (en) * 2010-12-22 2012-06-28 Chi Mei Corporation Color liquid crystal display device
WO2018086320A1 (en) * 2016-11-14 2018-05-17 Boe Technology Group Co., Ltd. Blue color-resist, color film substrate, and liquid crystal display

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100924009B1 (ko) 2007-12-28 2009-10-28 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120162575A1 (en) * 2010-12-22 2012-06-28 Chi Mei Corporation Color liquid crystal display device
WO2018086320A1 (en) * 2016-11-14 2018-05-17 Boe Technology Group Co., Ltd. Blue color-resist, color film substrate, and liquid crystal display

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