KR102542889B1 - 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자 - Google Patents

고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자 Download PDF

Info

Publication number
KR102542889B1
KR102542889B1 KR1020180151294A KR20180151294A KR102542889B1 KR 102542889 B1 KR102542889 B1 KR 102542889B1 KR 1020180151294 A KR1020180151294 A KR 1020180151294A KR 20180151294 A KR20180151294 A KR 20180151294A KR 102542889 B1 KR102542889 B1 KR 102542889B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
state imaging
imaging device
photosensitive resin
resin composition
solid
Prior art date
Application number
KR1020180151294A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200064769A (ko
Inventor
이수지
김완중
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020180151294A priority Critical patent/KR102542889B1/ko
Publication of KR20200064769A publication Critical patent/KR20200064769A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102542889B1 publication Critical patent/KR102542889B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

본 발명은 광중합성 화합물로서 특정 구조의 에틸렌 옥사이드(EO) 링커를 갖는 6관능 (메타)아크릴레이트계 화합물과 특정 구조의 히드록시기를 갖는 2관능 (메타)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성되는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 고체 촬상 소자를 제공한다. 본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 현상성과 패턴 특성이 우수하고, 밀착성이 향상되어 고해상도의 정교한 패턴 형성이 가능하다.

Description

고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자{Colored Photosensitive Resin Composition for Solid State Imaging Device, Color Filter and Solid State Imaging Device}
본 발명은 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 현상성과 패턴 특성이 우수하고, 밀착성이 향상되어 고해상도의 정교한 패턴 형성이 가능한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성되는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 고체 촬상 소자에 관한 것이다.
고체 촬상 소자는 광 에너지를 통해 촬영된 이미지를 전기적 정보로 변환시키는 소자로서, 렌즈 하부에 컬러필터가 포함될 수 있다. 예를 들면, 씨모스 이미지 센서(CMOS Image Sensor: CIS)의 경우, 일반적인 디스플레이 장치의 화소에 대응하는 컬러필터보다 고해상도로 패터닝된 미세 피치의 컬러필터가 채용된다. CIS의 컬러필터는 통상 적(R), 녹(G), 및 청(B)의 3원색의 착색 패턴을 구비하고 있어 투과광을 3원색으로 분해하는 역할을 담당하고 있다.
이러한 착색 패턴을 형성하기 위한 착색 감광성 수지 조성물은 미세 패턴화가 가능하도록 현상성과 함께 잔사 혹은 잔막 특성 및 직진성 등과 같은 패턴 특성이 우수하고, 아울러 밀착성이 충분히 확보될 필요가 있다.
대한민국 공개특허 제10-2009-0072754호는 안료 및 바인더 수지를 포함하는 컬러필터용 조성물을 개시하고 있으나, 상술한 고해상도의 고체 촬상 소자용 컬러필터로 적용되기는 어렵다.
대한민국 공개특허 제10-2009-0072754호
본 발명의 한 목적은 현상성과 패턴 특성이 우수하고, 밀착성이 향상되어 고해상도의 정교한 패턴 형성이 가능한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 상기 컬러필터를 구비한 고체 촬상 소자를 제공하는 것이다.
한편으로, 본 발명은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 착색제 및 용제를 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 광중합성 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112018119724300-pat00001
[화학식 2]
Figure 112018119724300-pat00002
상기 식에서,
R1 내지 R8은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이고,
m, n, o, p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 3의 정수이다.
본 발명의 일 실시형태에서, m, n, o, p, q 및 r은 2일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 혼합비는 중량 기준으로 1:5 내지 5:1일 수 있다.
다른 한편으로, 본 발명은 상기 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터를 제공한다.
또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 컬러필터를 포함하는 고체 촬상 소자를 제공한다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 고체 촬상 소자는 씨모스 이미지 센서를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 광중합성 화합물로서 특정 구조의 에틸렌 옥사이드(EO) 링커를 갖는 6관능 (메타)아크릴레이트계 화합물과 특정 구조의 히드록시기를 갖는 2관능 (메타)아크릴레이트계 화합물을 포함함으로써 현상성과 패턴 특성이 우수하고, 밀착성이 향상되어 고해상도의 정교한 패턴 형성이 가능하다. 이에 따라, 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 미세 패터닝이 가능하여 고체 촬상 소자용 컬러필터에 유리하게 적용될 수 있다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 일 실시형태는 알칼리 가용성 수지(A), 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색제(D) 및 용제(E)를 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 광중합성 화합물(B)은 특정 구조의 에틸렌 옥사이드(EO) 링커를 갖는 6관능 (메타)아크릴레이트계 화합물과 특정 구조의 히드록시기를 갖는 2관능 (메타)아크릴레이트계 화합물을 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
이하, 본 발명의 일 실시형태에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 각 성분 별로 상세히 설명한다.
알칼리 가용성 수지(A)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 알칼리 가용성 수지(A)는 통상적으로 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 착색재료의 분산매로서 작용한다.
상기 알칼리 가용성 수지(A)는 하기 화학식 3 내지 5로 표시되는 반복단위를 포함한다.
[화학식 3]
Figure 112018119724300-pat00003
[화학식 4]
Figure 112018119724300-pat00004
[화학식 5]
Figure 112018119724300-pat00005
상기 식에서,
R9, R10, R12 및 R14는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이고,
R11은 C1-C20의 알킬기이며,
R13은 수소 원자 또는 산무수물에 의해 유도된 카르복실산을 포함하는 잔기이고,
x, y 및 z는 각각 독립적으로 1 내지 500의 정수이다.
본 명세서에서 사용되는 C1-C20의 알킬기는 탄소수 1 내지 20개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실, 2-에틸헥실, 헵틸, 2-에틸헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 스테아릴, 노나데실, 에이코사닐 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서 사용되는 산무수물은 숙신산 무수물(succinic anhydride), 메틸숙신산 무수물(methylsuccinic anhydride), (2-도데켄-1-일)숙신산 무수물((2-dodecen-1-yl)succinic anhydride), 페닐숙신산 무수물(phenylsuccinic anhydride), 프탈산 무수물(phthalic anhydride), 말레산 무수물(maleic anhydride), 시트라콘산 무수물(citraconic anhydride), 글루타르산 무수물(glutaric anhydride), 3,3-디메틸글루타르산 무수물(3,3-dimethylglutaric anhydride), 이타콘산 무수물(itaconic anhydride), 3,4,5,6-테트라히드로프탈산 무수물(3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride), 트리멜리트산 무수물(trimellitic anhydride), 헥사히드로프탈산 무수물(hexahydrophthalic anhydride), 카르브산 무수물(carbic anhydride) 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시형태에서, R9, R10, R12 및 R14는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이고, R11은 C1-C10의 알킬기이며, R13은 수소 원자 또는 숙신산 산무수물에 의해 유도된 카르복실산을 포함하는 잔기일 수 있다.
상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는 단량체로서 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트를 사용하여 도입될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지(A)가 상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함함으로써 착색 감광성 수지 조성물의 감도 및 밀착성을 개선할 수 있고 용매에 대한 용해도를 높일 수 있다.
상기 화학식 4로 표시되는 반복단위는 C1-C20 알킬(메타)아크릴레이트를 사용하여 도입될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지(A)가 상기 화학식 4로 표시되는 반복단위를 포함함으로써 착색 감광성 수지 조성물의 현상속도가 빠르며 잔사가 발생하기 어렵다.
상기 화학식 5로 표시되는 반복단위는 상기 알칼리 가용성 수지(A)에 광경화성 및 산가를 부여하는 역할을 한다. 상기 화학식 5로 표시되는 반복단위는, 단량체로서 글리시딜(메타)아크릴레이트를 사용하여 상기 알칼리 가용성 수지(A)의 주쇄 내에 상기 글리시딜(메타)아크릴레이트 유래 반복단위를 도입한 다음, 상기 글리시딜(메타)아크릴레이트 유래 반복단위의 글리시딜기를 (메타)아크릴산과 반응시킨 후, 이로부터 생성된 히드록시기를 산무수물과 반응시켜 형성시킬 수 있다.
상기 화학식 5로 표시되는 반복단위를 통해 알칼리 가용성 수지의 주쇄에 직접 카르복실산을 도입하지 않고도 산가를 부여할 수 있어 현상성을 확보할 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지(A)는 상기 화학식 3 내지 5로 표시되는 반복단위가 각각 일정하게 반복되는 블록 공중합체이거나, 이들이 랜덤하게 반복되는 랜덤 공중합체일 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지는 상기 알칼리 가용성 수지를 구성하는 반복단위 전체 100 몰%에 대하여 화학식 3로 표시되는 반복단위를 1 내지 98 몰%, 상기 화학식 4로 표시되는 반복단위를 1 내지 98 몰%, 상기 화학식 5로 표시되는 반복단위를 1 내지 98 몰%로 포함할 수 있다.
상기 화학식 3 내지 5로 표시되는 반복단위가 각각 상기 몰% 범위 내로 포함되는 경우, 현상성, 가용성 및 착색제와의 균형이 양호한 알칼리 가용성 수지를 얻을 수 있다.
구체적으로, 상기 알칼리 가용성 수지(A)는 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 2-에틸헵틸(메타)아크릴레이트 및 글리시딜(메타)아크릴레이트의 공중합체에 (메타)아크릴산 및 산무수물을 순차적으로 반응시켜 얻어진 반응물일 수 있다.
또한, 상기 알칼리 가용성 수지는 불포화 이중결합을 포함하는 단량체로부터 유래된 반복단위를 추가로 포함할 수 있다.
상기 불포화 이중결합을 포함하는 단량체는 그 종류가 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌, 4-메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르 및 p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물;
N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드 및 N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물;
3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄 및 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄계 화합물;
시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트 등의 지환족 (메타)아크릴레이트;
페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트 등이 있다.
상기 불포화 이중결합을 포함하는 단량체는 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 불포화 이중결합을 포함하는 단량체의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 알칼리 가용성 수지를 구성하는 반복단위 전체 100 몰%에 대하여 5 내지 50 몰%로 포함되는 것이 바람직하다.
상기 알칼리 가용성 수지(A)는 산가가 20 내지 200(KOH ㎎/g)일 수 있다. 산가가 상기 범위에 있으면, 현상액 중의 용해성이 향상되어, 비-노출부가 쉽게 용해되고 감도가 증가하여, 결과적으로 노출부의 패턴이 현상시에 남아서 잔막율(film remaining ratio)을 개선하게 되어 바람직하다. 여기서 산가란, 중합체 1g을 중화하는 데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값이며, 통상적으로 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지(A)는 겔 투과 크로마토그래피(GPC; 테트라히드로퓨란을 용출용제로 함)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량(이하, 간단히 '중량평균분자량'이라고 한다)이 3,000 내지 200,000, 바람직하게는 5,000 내지 100,000일 수 있다. 분자량이 상기 범위에 있으면, 코팅 필름의 경도가 향상되어, 잔막율이 높고, 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하고 해상도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다.
상기 알칼리 가용성 수지(A)의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0, 바람직하게는 1.8 내지 4.0일 수 있다. 분자량 분포가 상기 범위 내에 있으면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.
상기 알칼리 가용성 수지(A)의 함량은 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 통상 1 내지 10 중량%, 바람직하게는 2 내지 10 중량%일 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지(A)의 함량이 상기 범위 내에 있으면 잔사 억제 및 도막 형성에 유리하다.
광중합성 화합물(B)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합성 화합물(B)은 광중합 개시제(C)의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 노광 공정에 의해 가교 혹은 중합되어 착색 패턴의 기계적 특성을 향상시키거나, 상기 알칼리 가용성 수지의 현상성을 보완하는 역할을 한다.
상기 광중합성 화합물(B)은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함한다.
[화학식 1]
Figure 112018119724300-pat00006
[화학식 2]
Figure 112018119724300-pat00007
상기 식에서,
R1 내지 R8은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이고,
m, n, o, p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 3의 정수이다.
본 발명의 일 실시형태에서, m, n, o, p, q 및 r은 2일 수 있다.
본 발명의 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 함께 포함함으로써 현상성과 패턴 특성이 우수할 뿐만 아니라 밀착성이 향상된다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 혼합비는 중량 기준으로 1:5 내지 5:1, 바람직하게는 1:1 내지 2:1일 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 혼합비에서 화학식 1로 표시되는 화합물이 상기 범위보다 적게 포함되면 잔사가 발생할 수 있고, 상기 범위보다 많이 포함되면 밀착성이 저하될 수 있다.
상기 광중합성 화합물은 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 2로 표시되는 화합물에 부가하여 광중합성을 갖는 다른 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 그 밖의 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 충분한 경화특성 구현을 위해 2관능 이상의 단량체를 사용할 수 있다.
상기 단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 상기 2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 밖의 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.
상기 광중합성 화합물은 현상성, 패턴 특성 및 밀착성 향상을 위해 상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 2로 표시되는 화합물로만 실질적으로 구성될 수 있다.
광중합성 화합물의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 20 중량%, 바람직하게는 5 내지 20 중량%, 보다 바람직하게는 10 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 화합물이 상기의 함량 범위로 포함되는 경우, 우수한 내구성 및 현상성을 가질 수 있다.
광중합 개시제 (C)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합 개시제(C)는 광중합성 화합물(B)을 중합시킬 수 있는 것이면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 특히, 상기 광중합 개시제(C)는 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심계 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다.
상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
상기 비이미다졸계 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 비이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하게 사용된다.
상기 옥심계 화합물의 구체적인 예로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 1,2-옥타디온,-1-(4-페닐티오)페닐,-2-(o-벤조일옥심), 에타논,-1-(9-에틸)-6-(2-메틸벤조일-3-일)-,1-(o-아세틸옥심) 등을 들 수 있으며, 시판품으로 CGI-124(시바가이기사), CGI-224(시바가이기사), Irgacure OXE-01(BASF사), Irgacure OXE-02(BASF사), N-1919(아데카사), NCI-831(아데카사) 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다.
또한, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위 내에서, 상기 이외의 광중합 개시제 등을 추가로 병용할 수도 있다. 예컨대, 벤조인계 화합물 또는 안트라센계 화합물 등을 들 수 있으며, 이들은 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 벤조인계 화합물로는 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 또는 벤조인이소부틸에테르 등이 있다.
상기 안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센 또는 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등이 있다.
그 밖에 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐글리옥실산 메틸 또는 티타노센 화합물 등을 광중합 개시제로서 추가로 병용하여 사용할 수 있다.
또한, 상기 광중합 개시제(C)는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제(c1)와 병용될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 광중합 개시 보조제(c1)를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있다.
상기 광중합 개시 보조제(c1)는, 예를 들어 아민 화합물, 카르복실산 화합물, 및 티올기를 가지는 유기 황 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 아민 화합물로는 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 사용할 수 있으며, 특히 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.
상기 티올기를 가지는 유기 황 화합물의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제(C)는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.1 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내에서 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며, 높은 해상도를 유지할 수 있다. 또한, 상기 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도와 상기 화소부의 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있다.
또한, 상기 광중합 개시 보조제(c1)를 더 사용하는 경우, 상기 광중합 개시제(C)와 동일한 함량 범위를 사용하는 것이 바람직하며, 상기 함량으로 사용할 경우 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더욱 향상되고, 상기 조성물을 사용하여 형성되는 컬러 필터의 생산성이 향상되는 효과를 나타낼 수 있다.
착색제 (D)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 착색제(D)는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료, 무기 안료 또는 염료를 포함할 수 있다.
상기 유기 안료는 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 등에 사용되는 각종의 안료를 사용할수 있으며, 구체적으로는 프탈로시안 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌 안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론 (anthanthrone) 안료, 인단트론 (indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론 (pyranthrone) 안료 또는 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다.
상기 안료는, 필요에 따라 레진 처리, 산성 기 또는 염기성 기가 도입된 안료 유도체 등을 이용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에의 그라프트 처리, 황산미립화법 등에 의한 미립화 처리 또는 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리, 이온 교환법 등에 의한 이온성 불순물의 제거처리 등을 실시할 수도 있다.
상기 무기 안료로서는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 또는 카본블랙 등을 들 수 있다.
특히 상기 안료로는 구체적으로 색지수(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 사용할 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 사용할 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다.
C.I. 피그먼트 옐로우 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180, 185 및 242
C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71
C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264 및 277
C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38
C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 21, 28, 60, 64 및 76
C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47, 58, 59, 62 및 63
C.I 피그먼트 브라운 28
C.I 피그먼트 블랙 1 및 7 등
상기 예시된 C.I. 피그먼트 안료 중에서도 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 185, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36 및 C.I. 피그먼트 그린 58에서 선택되는 안료가 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 안료는 그 입경이 균일하게 분산된 안료 분산액을 사용하는 것이 바람직하다. 안료의 입경을 균일하게 분산시키기 위한 방법의 일 예로 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리하는 방법 등을 들 수 있으며, 이 방법에 따르면 안료가 용액 중에 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다.
상기의 안료 분산제로서는, 예를 들면, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 폴리에스테르계, 폴리아민계 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 계면활성제의 구체적인 예로서는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 솔비탄지방산에스테르류, 지방산변성폴리에스테르류, 3급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며, 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다.
상기 안료 분산제는 안료의 고형분 1 중량부에 대하여 통상 1 중량부 이하로 사용되며, 바람직하게는 0.05 내지 0.5 중량부로 사용되는 것이 좋다. 상기 안료 분산제가 상기와 같은 함량으로 사용되는 경우에는 균일한 입경의 분산된 안료를 얻을 수 있기 때문에 바람직하다.
상기 염료는 유기용제에 대한 용해성을 가지는 것이라면 제한없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 유기용제에 대한 용해성을 가지면서 알칼리 현상액에 대한 용해성 및 내열성, 내용제성 등의 신뢰성을 확보할 수 있는 염료를 사용하는 것이 바람직하다.
상기 염료로는 설폰산이나 카복실산 등의 산성기를 갖는 산성 염료, 산성 염료와 질소 함유 화합물의 염, 산성 염료의 설폰아미드체 등과 이들의 유도체에서 선택된 것을 사용할 수 있으며, 이외에도 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성 염료 및 이들의 유도체도 선택할 수 있다.
바람직하게 상기 염료는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판) 내에 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다.
상기 염료의 구체적인 예로는, C.I. 솔벤트 염료로서,
C.I. 솔벤트 옐로우 4, 14, 15, 21, 23, 24, 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 162 등의 황색 염료;
C.I. 솔벤트 레드 8, 45, 49, 122, 125, 130 등의 적색 염료;
C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 56 등의 오렌지색 염료;
C.I. 솔벤트 블루 35, 37, 59, 67 등의 청색 염료;
C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
또한, C.I. 애시드 염료로서
C.I. 애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251 등의 황색 염료;
C.I. 애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 등의 적색 염료;
C.I. 애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173 등의 오렌지색 염료;
C.I. 애시드 블루 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335, 340 등의 청색 염료;
C.I. 애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 17, 19 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 애시드 그린 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
또한, C.I. 다이렉트 염료로서
C.I. 다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141 등의 황색 염료;
C.I. 다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250 등의 적색 염료;
C.I. 다이렉트 오렌지 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107 등의 오렌지색 염료;
C.I. 다이렉트 블루 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293 등의 청색 염료;
C.I. 다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
또한, C.I. 모단토 염료로서
C.I. 모단토 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65 등의 황색 염료;
C.I. 모단토 레드 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95 등의 적색 염료;
C.I. 모단토 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 등의 오렌지색 염료;
C.I. 모단토 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84 등의 청색 염료;
C.I. 모단토 바이올렛 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58 등의 바이올렛색 염료;
C.I. 모단토 그린 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.
상기 안료 내지 염료들은 각각 1종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 착색제(D)는 착색 감광성 수지 조성물 중 고형분 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 60 중량%, 바람직하게는 10 내지 45 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 착색제(A)의 함량이 상기 범위 내이면 박막 형성시 화소의 색 농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않아 잔사가 발생하지 않는 장점이 있다.
본 발명에서 착색 감광성 수지 조성물 중 고형분이란, 용제를 제거한 성분의 합계를 의미한다.
용제(E)
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 용제는 본 발명의 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면, 통상의 착색 감광성 수지 조성물에서 사용되는 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 특히 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류 또는 아미드류 등이 바람직하다.
상기 용제는 구체적으로 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알콜류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; 및 γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.
상기 용제 중에서도 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제를 사용하는 것이 더욱 바람직하며, 그 예로는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등이 있다.
상기 예시한 용제는 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 총 중량에 대하여 30 내지 95 중량%, 바람직하게는 40 내지 85 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용제가 상기 30 내지 95 중량%의 범위이면, 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 효과를 제공한다.
첨가제(F)
본 발명의 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 다른 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 병용할 수 있다.
상기 다른 고분자 화합물의 구체적인 예로는 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 열경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.
상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제의 구체적인 예로는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.
상기 경화제에서 에폭시 화합물의 구체적인 예로는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아누레이트 등을 들 수 있다.
상기 경화제에서 옥세탄 화합물의 구체적인 예로는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.
상기에서 예시한 경화제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. 상기 경화 보조 화합물은 예를 들면 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등이 있다. 상기 다가 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제의 구체적인 예로는, 아데카하도나 EH-700(아데카공업㈜ 제조), 리카싯도 HH(신일본이화㈜ 제조), MH-700(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다.
상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물의 피막 형성성을 보다 향상시키기 위해 사용할 수 있으며, 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제 등이 바람직하게 사용될 수 있다.
상기 실리콘계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400 등이 있고 GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452 등이 있다. 상기 불소계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 등이 있다. 상기 예시된 계면활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 밀착 촉진제의 구체적인 예로서는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아나토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아나토프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 산화 방지제의 구체적인 예로는 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다.
상기 자외선 흡수제의 구체적인 예로는 2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 응집 방지제의 구체적인 예로는 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 예를 들면 하기와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다.
먼저, 상기 착색제(D) 중 안료를 용제(E)와 혼합하여 안료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제, 알칼리 가용성 수지(A)의 일부 또는 전부, 또는 염료를 용제(E)와 함께 혼합시켜 용해 또는 분산시킬 수 있다. 상기 혼합된 분산액에 알칼리 가용성 수지(A)의 나머지, 광중합 개시제(C), 광중합성 화합물(B) 및 첨가제(F)와 필요에 따라 용제(E)를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 착색 패턴을 제조하는데 사용될 수 있으며, 상기 착색 패턴은 후술하는 바와 같이 예를 들면 컬러필터, 특히 고체 촬상 소자의 컬러 필터에 사용될 수 있다.
따라서, 본 발명의 일 실시형태는 상술한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 컬러필터는 기판 상에 상술한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광 및 현상하여 착색 패턴을 형성시킴으로써 제조될 수 있다.
예를 들면, 기판 상에 상술한 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 건조시켜 예비 착색막을 형성할 수 있다.
상기 기판은 고체　촬상　소자에 활용되는 광전 변환 소자 기판(예를 들면 CCD용, CMOS용 실리콘 기판)을 포함할 수 있다. 상기 기판은 각 화소를 격리하기 위한 블랙 매트릭스 또는 블랙 스트라이프를 포함할 수도 있다.
상기 도포 공정은 예를 들면, 롤 코팅, 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등과 같은 코팅 혹은 프린팅 공정을 포함할 수 있다.
이후, 상기 예비 착색막을 노광 및 현상하여 각 화소에 대응하는 착색 패턴이 형성될 수 있다.
상기 노광 공정은 상기 화소 영역을 선택적으로 노출시키는 마스크를 사용한 레이저 노광을 포함할 수 있다. 이후, 비노광 영역을 현상액을 사용하여 선택적으로 제거함으로써 상기 착색패턴을 형성할 수 있다.
상기 현상액은 예를 들면, 무기 또는 유기 알칼리성 화합물을 포함할 수 있다. 상기 무기 알칼리성 화합물의 예로서 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 상기 유기 알칼리성 화합물의 예로서는 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 현상 공정 이후, 예를 들면 150 내지 230℃에서 포스트 베이킹 공정을 수행할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태는 상술한 컬러필터가 구비된 고체 촬상 소자에 관한 것이다.
상기 고체 촬상 소자는 예를 들면 씨모스 이미지 센서를 포함할 수 있다.
상기 고체 촬상 소자는 반도체 소자 혹은 광전 변환 소자를 포함하는 지지체 및 마이크로 렌즈를 포함하며, 상기 지지체 및 상기 마이크로 렌즈 사이에 상기 컬러필터가 배치될 수 있다.
이하, 실시예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.
실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 6: 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물의 제조
하기 표 1 내지 표 2의 조성으로 각 성분을 혼합하여 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다(단위: 중량부).
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5
조성 함량 조성 함량 조성 함량 조성 함량 조성 함량
알칼리 가용성 수지(A) (1-1) 4.92 (1-1) 4.92 (1-1) 4.92 (1-1) 4.92 (1-1) 4.92
광중합성 화합물(B) (2-1) 9.28 (2-1) 12.38 (2-1) 15.48 (2-1) 6.19 (2-1) 3.10
(2-2) 9.28 (2-2) 6.19 (2-2) 3.10 (2-2) 12.38 (2-2) 15.48
광중합 개시제(C) (3-1) 1.45 (3-1) 1.45 (3-1) 1.45 (3-1) 1.45 (3-1) 1.45
착색제(D) (4-1) 44.4 (4-1) 44.4 (4-1) 44.4 (4-1) 44.4 (4-1) 44.4
용제(E) (5-1) 30.65 (5-1) 30.65 (5-1) 30.65 (5-1) 30.65 (5-1) 30.65
첨가제(F) (6-1) 0.02 (6-1) 0.02 (6-1) 0.02 (6-1) 0.02 (6-1) 0.02
비교예 1 비교예 2 비교예 3 비교예 4 비교예 5 비교예 6
조성 함량 조성 함량 조성 함량 조성 함량 조성 함량 조성 함량
알칼리 가용성 수지(A) (1-1) 4.92 (1-1) 4.92 (1-1) 4.92 (1-1) 4.92 (1-1) 4.92 (1-1) 4.92
광중합성 화합물(B) (2-1) 18.56 (2-4) 12.38 (2-5) 12.38 (2-1) 12.38 (2-1) 12.38 (2-1) 12.38
- - (2-2) 6.19 (2-2) 6.19 (2-3) 6.19 (2-6) 6.19 (2-7) 6.19
광중합 개시제(C) (3-1) 1.45 (3-1) 1.45 (3-1) 1.45 (3-1) 1.45 (3-1) 1.45 (3-1) 1.45
착색제(D) (4-1) 44.4 (4-1) 44.4 (4-1) 44.4 (4-1) 44.4 (4-1) 44.4 (4-1) 44.4
용제(E) (5-1) 30.65 (5-1) 30.65 (5-1) 30.65 (5-1) 30.65 (5-1) 30.65 (5-1) 30.65
첨가제(F) (6-1) 0.02 (6-1) 0.02 (6-1) 0.02 (6-1) 0.02 (6-1) 0.02 (6-1) 0.02
(1-1) CX-65-C (SHOWA DENKO K.K.)
Figure 112018119724300-pat00008
(2-1) 에톡시화 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 (EO 12mol) (A-DPH-12E, SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.)
(2-2) 2-히드록시-3-아크릴옥시 프로필 메타크릴레이트 (701A, SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.)
(2-3) 폴리에틸렌 글리콜 1000 디아크릴레이트 (A-1000, SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.)
(2-4) 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트와 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트의 블렌드(몰비, 1:1) (A-9550, SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.)
(2-5) 에톡시화 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 (EO 4mol) (NK ESTER ATM-4E, SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.)
(2-6) 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 (A-HD-N, SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.)
(2-7) 1,9-노난디올 디아크릴레이트 (A-NOD-N, SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO.,LTD.)
(3-1) TAZ-PP (신일본이화(주))
(4-1) C.I. 피그먼트 그린 58 + 피그먼트 옐로우 150 (60:40, 안료 함량: 45 중량%)
(5-1) 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (KH NEOCHEM CO., LTD.)
(6-1) SH-8400 (다우코닝)
실험예 1:
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 하기와 같이 패턴을 형성하고, 패턴의 직진성, 잔사 발생, 현상성 및 밀착성을 하기와 같은 방법으로 측정하였다. 측정 결과를 하기 표 3에 나타내었다.
23℃의 청정실에서 6인치 크기의 실리콘 웨이퍼의 표면 상에, 상기 실시예 및 비교예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법에 의해서 도포한 후, 100℃에서 90초간 건조시켜 휘발 성분을 휘발시켜서 도막을 형성하였다. 23℃로 냉각시킨 후, 형성된 도막에 i-line stepper를 이용하여 노광하였다. 노광 후 도막이 형성된 웨이퍼를 0.2중량％　테트라메틸암모늄 히드록사이드(TMAH) 수용액으로 현상하고, 220℃에서 180초간 후가열하여 패턴을 형성하였다. 얻어진 패턴의 두께는 모두 0.7 μm였다. 또, 목적으로 하는 형상으로 형성된 패턴의 최소 라인폭(해상도)은 1.2μm이었다.
(1) 패턴의 직진성
전술한 바와 같이 현상 공정 수행 후에 패턴의 직진성 여부를 CD-SEM Image를 통해 확인하고 하기 평가기준에 따라 평가하였다.
<평가 기준>
1: 패턴의 형태를 알아볼 수 없음
2: 패턴의 네면이 요철 모양에 가까움
3: 패턴의 네면이 직선과 요철 모양의 중간 단계
4: 패턴의 네면이 직선 모양에 가까움
5: 패턴의 네면이 직선 모양
(2) 잔사 특성
전술한 바와 같이 현상 공정까지 수행한 후에 기판상 현상 잔사가 있는지를 CD-SEM Image를 통해 확인하고 하기 평가기준에 따라 평가하였다.
<평가 기준>
1: 패턴 주변부에 잔사가 전체 면적 대비 30% 이상 분포함
2: 패턴 주변부에 잔사가 전체 면적 대비 20% 이상 30% 미만 분포함
3: 패턴 주변부에 잔사가 전체 면적 대비 10% 이상 20% 미만 분포함
4: 패턴 주변부에 잔사가 전체 면적 대비 0% 초과 10% 미만 분포함
5: 패턴 주변부에 잔사가 없음
(3) 현상성
현상 후 현상하고자 하는 부위에 씻겨나가지 않고 남아있는 잔존물의 유무와 잔존량을 관찰하고, 하기의 평가 기준에 따라 평가하였다.
<평가 기준>
◎: 비노광부 부분이 모두 현상되었으며, 잔존물이 존재하지 않음
○: 비노광부분이 모두 현상되었으며, 잔존물이 10% 미만으로 존재함
△: 비노광부분이 모두 현상되었으며, 잔존물이 10% 이상으로 존재함
×: 비노광 부분이 전혀 현상되지 않음
(4) 밀착성
현상 밀착성은 형성된 패턴이 결락 없이 100% 남아있는지를 현미경으로 평가하였다.
<평가 기준>
1: 형성된 패턴이 50% 미만 남아있음
2: 형성된 패턴이 50% 이상 70% 미만 남아있음
3: 형성된 패턴이 70% 이상 90% 미만 남아있음
4: 형성된 패턴이 90% 이상 100% 미만 남아있음
5: 형성된 패턴이 결락 없이 100% 남아있음
구분 패턴의 직진성 잔사 특성 현상성 밀착성
실시예 1 4 5 ○ 5
실시예 2 5 5 ◎ 5
실시예 3 4 5 ○ 3
실시예 4 4 4 △ 5
실시예 5 4 4 △ 4
비교예 1 3 5 ○ 1
비교예 2 3 2 × 5
비교예 3 3 3 △ 5
비교예 4 3 2 ○ 2
비교예 5 3 2 ○ 3
비교예 6 2 3 △ 1
상기 표 3에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 5의 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물은 현상성이 우수하고, 패턴의 직진성 및 잔사 특성과 같은 패턴 특성이 뛰어날 뿐만 아니라 밀착성도 우수한 것을 확인하였다. 반면, 비교예 1 내지 6의 착색 감광성 수지 조성물은 현상성, 패턴 특성 및 밀착성 중 어느 하나 이상을 만족하지 않는 것을 확인하였다.
이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.
따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.

Claims (6)

  1. 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 착색제 및 용제를 포함하는 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물로서,
    상기 광중합성 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하고,
    상기 화학식 1로 표시되는 화합물과 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 혼합비는 중량 기준으로 1:5 내지 5:1인 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물:
    [화학식 1]
    Figure 112023011624261-pat00009

    [화학식 2]
    Figure 112023011624261-pat00010

    상기 식에서,
    R1 내지 R8은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸이고,
    m, n, o, p, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 3의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, m, n, o, p, q 및 r은 2인 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물.
  3. 삭제
  4. 제1항 및 제2항 중 어느 한 항에 따른 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터.
  5. 제4항의 컬러필터를 포함하는 고체 촬상 소자.
  6. 제5항에 있어서, 씨모스 이미지 센서를 포함하는 고체 촬상 소자.
KR1020180151294A 2018-11-29 2018-11-29 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자 KR102542889B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180151294A KR102542889B1 (ko) 2018-11-29 2018-11-29 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180151294A KR102542889B1 (ko) 2018-11-29 2018-11-29 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200064769A KR20200064769A (ko) 2020-06-08
KR102542889B1 true KR102542889B1 (ko) 2023-06-12

Family

ID=71089651

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180151294A KR102542889B1 (ko) 2018-11-29 2018-11-29 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102542889B1 (ko)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101308246B1 (ko) * 2006-10-20 2013-09-13 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치와 촬상소자
KR100924009B1 (ko) 2007-12-28 2009-10-28 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
JP5759924B2 (ja) * 2011-06-06 2015-08-05 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ、ｃｃｄセンサ、ｃｍｏｓセンサ、有機ｃｍｏｓセンサ、および固体撮像素子
US9631081B2 (en) * 2012-04-27 2017-04-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Imprint material
KR20160115438A (ko) * 2015-03-27 2016-10-06 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200064769A (ko) 2020-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106019837B (zh) 着色感光性树脂组合物、滤色器和具备其的图像显示装置
CN104423148B (zh) 着色感光性树脂组合物、包含其的滤色器和显示装置
KR101988696B1 (ko) 청색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 청색 컬러필터 및 표시장치
CN105388705B (zh) 着色感光性树脂组合物
KR20150093331A (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 표시장치
JP6625511B2 (ja) 着色感光性樹脂組成物、これを含むカラーフィルタおよび表示装置
CN107272337B (zh) 青色感光性树脂组合物、包含其的青色滤色器和显示元件
KR102558671B1 (ko) 청색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 청색 컬러필터 및 디스플레이 소자
KR101962481B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러 필터 및 표시 장치
KR101986408B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치
KR102542889B1 (ko) 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자
KR20150106665A (ko) 착색 감광성 수지 조성물
KR102543947B1 (ko) 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자
KR102543959B1 (ko) 적외선 투과 감광성 수지 조성물
KR102039670B1 (ko) 청색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 청색 컬러필터 및 표시장치
KR102192236B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 표시장치
KR101689058B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하는 컬러 필터
KR20240050149A (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 화상표시장치
KR20170082312A (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하는 컬러 필터
KR20180092450A (ko) 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치
KR101840595B1 (ko) 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치
KR20240059447A (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 컬러 필터 및 화상표시장치
KR102039673B1 (ko) 적색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 적색 컬러필터 및 표시장치
KR102397093B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 컬러필터 및 표시장치
KR20200098064A (ko) 고체 촬상 소자용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 고체 촬상 소자

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant