KR102536960B1 - n-옥탄 흡착제 및 그를 이용한 고순도 1-옥텐 정제방법 - Google Patents

n-옥탄 흡착제 및 그를 이용한 고순도 1-옥텐 정제방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고부가 선형알파올레핀인 1-옥텐(1-octene)을 정제하기 위해 불순물인 n-옥탄(n-octane)을 흡착 제거하는 n-옥탄 흡착제 및 그를 이용한 고순도 1-옥텐 정제방법에 관한 것으로, 본 발명의 n-옥탄 흡착제 및 그를 이용한 1-옥텐 정제방법은 합성가스를 이용한 1-옥텐의 생산 과정 중 피셔-트롭쉬(Fischer-Tropsch) 촉매반응 생성물에서 1-옥텐의 농도를 높이기 위한 증류공정과 제올라이트를 이용한 1-옥텐 흡착 및 탈착만으로는 얻기 힘든 고순도 1-옥텐 정제를 위해, 일정 농도 이상의 1-옥텐에 소량의 n-옥탄이 소량의 불순물로 정제된 상태에서 불순물을 제거할 수 있는 ZIF(zeolitic imidazolate framework) 흡착제를 사용하여 잔여 n-옥탄을 제거하고 고순도 1-옥텐을 수득할 수 있다.

Description

n-옥탄 흡착제 및 그를 이용한 고순도 1-옥텐 정제방법{n-Octane Adsorbent and High Purity 1-Octene Purification Method Using The Same}
본 발명은 선형 알파올레핀의 정제방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고부가 선형알파올레핀인 1-옥텐(1-octene)을 정제하기 위해 불순물인 n-옥탄(n-octane)을 흡착 제거하는 n-옥탄 흡착제 및 그를 이용한 고순도 1-옥텐 정제방법에 관한 것이다.
일반적으로, 선형알파올레핀(LAO: Linear Alpha-Olefins)은 알파 위치(맨 가장자리)에 1개의 이중결합을 갖는 선형의 탄화수소를 통칭하는 것으로, 폴리에틸렌용 공중합체, 고급 윤활유용 원료, 세제 및 가소제용 알코올의 원료 등으로 활용된다. LAO중에서 고부가 선형알파올레핀인 1-옥텐(1-octene)은 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE)의 제조시 폴리에틸렌의 밀도를 조절하기 위한 공단량체로서 많이 사용된다. 합성가스(CO+H2)로부터 Fischer-Tropsch 촉매반응으로 생산이 가능하지만, 얻어지는 생성물 중 1-옥텐과 끓는점이 비슷한 n-옥탄 등의 불순불이 다수 존재한다. 고순도 1-옥텐을 제조하기 위해서는 상기 n-옥탄 등의 불순물을 제거해야 하는데, 기존의 끓는점의 차이를 이용한 분별증류 공정으로는 제거가 어려운 문제점이 있다.
최근에는 이처럼 불순물의 분리제거가 어려운 올레핀 증류분리공정을 흡착분리공정으로 대체하여 올레핀 분리비용을 줄이려는 기술이 연구되고 있다. 생성 스트림으로부터 오염물질을 제거하기 위해 고체 흡착제가 주로 사용되며, 그 중 제올라이트 화합물을 이용하여 1-옥텐을 정제하는 기술이 알려져 있다. 제올라이트 화합물을 흡착제로 사용하는 기술은 n-옥탄보다 상대적으로 강한 극성을 나타내는 1-옥텐을 제올라이트에 선택적으로 흡착시켜 분리시키는 기술이다. 하지만 제올라이트 흡착소재의 경우 극성을 나타내는 1-옥텐이 화학적으로 흡착되어 첫번째 흡착층을 만들게 되면, 두번째 흡착층부터는 1-옥텐과 n-옥탄의 흡착 선택도가 큰 차이가 없게 된다. 또한 1-옥텐만 선택적으로 흡착시킨 제올라이트는 다시 탈착시켜 고순도의 1-옥텐을 제조해야 하므로, 흡착된 1-옥텐의 탈착공정이 추가적으로 필요하다.
대한민국 등록특허 10-1804637호는 증류 장치에 관한 것으로, 폴리올레핀 엘라스토머의 중합 과정에서 사용되는 올레핀 단량체와 용매, 예를 들어, 1-옥텐, iso-옥텐 및 n-헥산을 포함하는 원료의 정제를 위한 증류 장치를 개시하지만, 증류공정만으로는 1-옥텐으로부터 이와 유사한 끓는 점을 가지는 n-옥탄을 분리해 내기 어렵다.
중국 공개특허 111001382호는 Fischer-Tropsch 합성 오일 중 알칸 올레핀을 분리하는 흡착제 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 제올라이트를 사용하여 제올라이트에 1-옥텐을 선택적으로 흡착시킨 뒤 다시 탈착시켜 정제하는 방법을 개시하나 흡착된 1-옥텐과 함께 n-옥탄이 탈부착되는 관계로 고순도 정제가 어려운 문제점이 있다.
따라서 간소화된 방법으로 고순도 1-옥텐을 생산할 수 있는 정제 기술이 요구된다.
대한민국 등록특허 10-1804637호 중국 공개특허 111001382호
본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 불순물인 n-옥탄을 흡착하는 흡착제를 이용하여 1-옥텐을 고순도로 정제하는 방법을 제공하고자 한다.
본 발명은 n-옥탄을 흡착시키는 흡착제 및 이를 이용하여 1-옥텐을 고순도로 정제하는 방법에 관한 것으로, 상기 흡착제는, ZIF(Zeolitic imidazolate framework)를 포함하고, 상기 흡착제가 1-옥텐 및 n-옥탄이 존재하고 그 중 1-옥텐의 비율이 90% 이상인 혼합물에서 n-옥탄의 효율적인 선택적 흡착능을 나타내는 것에 근거한 것이다.
본 발명은 1-옥텐 및 n-옥탄이 존재하는 혼합물에서 n-옥탄을 선택적으로 흡착하는 n-옥탄 흡착제로, 상기 흡착제는 ZIF-8, ZIF-67 및 Zn/Co-ZIF를 포함하는 군에서 선택되는 한 종 이상을 포함하는, n-옥탄 흡착제를 제공한다.
본 발명은 또한, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법으로, 상기 방법은:
합성가스를 이용하여 1-옥텐에 n-옥탄이 포함된 생성물을 수득하는 단계; 상기 생성물에서 1-옥텐의 순도를 90% 이상으로 정제하는 단계; 상기 90% 이상 순도의 1-옥텐에 n-옥탄 흡착제를 투입하여 n-옥탄을 흡착하는 단계; 및 상기 n-옥탄을 흡착한 흡착제를 회수하는 단계를 포함하고, 상기 흡착제는 ZIF-8, ZIF-67 및 Zn/Co-ZIF를 포함하는 군에서 선택되는 한 종 이상을 포함하는, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 생성물을 수득하는 단계는, 피셔-트롭쉬 (Fischer-Tropsch) 촉매반응인, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 정제하는 단계는, 증류방법으로 정제하는, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 정제하는 단계는, 증류방법 및 제올라이트 이용 1-옥텐 흡탈착법을 연속 적용하여 정제하는, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 n-옥탄 흡착제는 상기 90% 이상 순도인 1-옥텐의 100 중량 대비 1 내지 100중량% 로 투입되는, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 방법은 n-옥탄 흡착제를 재생하여 재사용하는 단계를 더 포함하고, 상기 재사용하는 단계는 감압법 또는 가열법으로 수행하며, 상기 감압법은 5 내지 15 torr 압력범위로 감암하는 것이며, 상기 가열법은 150℃ 내지 200℃ 온도범위로 가열하는 것인, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 n-옥탄을 흡착하는 단계는 30분 내지 240분 동안 수행되는, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 n-옥탄을 흡착하는 단계는 20 내지 70 oC 의 온도범위 및 대기압의 압력조건에서 수행되는, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명은 또한, 상기 1-옥텐의 순도는 기체 크로마토그래피로 모니터링하는, n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법을 제공한다.
본 발명의 n-옥탄 흡착제 및 그를 이용한 1-옥텐 정제방법은 합성가스를 이용한 1-옥텐의 생산 과정 중 피셔-트롭쉬(Fischer-Tropsch) 촉매반응 생성물에서 1-옥텐의 농도를 높이기 위한 증류공정과 제올라이트를 이용한 1-옥텐 흡착 및 탈착만으로는 얻기 힘든 고순도 1-옥텐 정제를 위해, 일정 농도 이상의 1-옥텐에 소량의 n-옥탄이 소량의 불순물로 정제된 상태에서 불순물을 제거할 수 있는 ZIF(zeolitic imidazolate framework) 흡착제를 사용하여 잔여 n-옥탄을 제거하고 고순도 1-옥텐을 수득할 수 있다.
도 1은 본 발명의 한 구현예에 따른 X-선 회절분석데이터를 이용한 리트벨트 정련 결과이다. (a) ZIF-8, (b) ZIF-67, (c) Zn/Co-ZIF
본 발명의 상세한 설명에 앞서, 이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 된다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 여기서, 본 발명의 실시 형태를 설명하기 위한 전체 도면에 있어서, 동일한 기능을 갖는 것은 동일한 부호를 붙이고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
한 양태에서 본 발명은 1-옥텐 및 n-옥탄이 존재하는 혼합물에서 n-옥탄을 선택적으로 흡착하는 n-옥탄 흡착제에 관한 것이다. 본 발명의 상기 흡착제는, ZIF(Zeolitic imidazolate framework)를 포함하고, 상기 흡착제가 1-옥텐 및 n-옥탄이 존재하고 그 중 1-옥텐의 비율이 90% 이상인 혼합물에서 n-옥탄의 효율적인 선택적 흡착능을 나타내는 것에 근거한 것이다.
본 발명의 상기 n-옥탄 흡착제는 제올라이트 이미다졸레이트 골격체(Zeolitic imidazolate frameworks; ZIFs)이고, 이는 금속-유기 골격체(metal organic frameworks; MOFs)의 하위개념으로서 다공성 구조를 갖는 물질이다. 상기 ZIF는 제올라이트와 유사한 구조를 갖는 다공성 물질이며, 예를 들어, M(2-methylimidazole)2 (M = Co 또는 Zn)의 화학식을 갖는 소달라이트 (SOD, sodalite) 구조일 수 있다. 본 발명의 n-옥탄 흡착제는 ZIF-8, ZIF-67 및 Zn/Co-ZIF를 포함하는 군에서 선택되는 한 종 이상을 포함할 수 있다. 상기 ZIF-8, ZIF-67 및 Zn/Co-ZIF은 내부 나노세공 안이 강한 소수성 특성을 갖고, 내부에 포집된 분자들의 경우 외부에 다른 활성 분자들과의 접촉을 제한하는 특성이 있어 안정적으로 특정 분자의 포집이 가능한 나노세공체이다. 본 발명의 ZIF-8, ZIF-67 및 Zn/Co-ZIF는 1-옥텐 및 n-옥탄이 존재하는 혼합물에서 n-옥탄을 선택적으로 흡착하고, 탈착 공정 등에 의해서 n-옥탄을 탈착시킬 수 있다.
본 발명의 흡착제는 선형 알파올레핀을 정제할 수 있으며, 특히 1-옥텐(1-octene)의 함량이 90% 이상일 때 1-옥텐과 끓는 점이 유사해 증류공정으로는 제거가 어려운 n-옥탄을 흡착하여 1-옥텐을 고순도로 정제하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 고순도 n-옥탄 흡착제는 예를 들면, 합성가스를 이용한 Fischer-Tropsch 반응으로 1-옥텐을 포함하는 생성물을 증류법 및/또는 제올라이트 사용 1-옥텐 흡탈착법을 거쳐 1-옥텐의 비중이 90%이상 확보되었을 때, 불순물인 n-옥탄을 흡착하여 고순도 1-옥텐을 생산할 수 있다. 본 발명의 흡착제는 1-옥텐 및 n-옥탄이 존재하는 혼합물에서 높은 선택도로 n-옥탄을 흡착할 수 있으며, 특히 90% 순도의 1-옥텐에 존재하는 n-옥탄을 선택적으로 흡착함에 따라 더욱 높은 순도로 1-옥텐을 정제할 수 있다. 본 발명의 n-옥탄 흡착제로 사용될 수 있는 ZIF-8, ZIF-67 및 Zn/Co-ZIF를 포함하는 군에서 선택되는 한 종 이상의 흡착제는 n-옥탄의 1-옥텐 대비 높은 흡착선택도(adsorption separation factor, αn)를 나타내는 것을 확인 하였으며, 보다 구체적인 내용은 하기 실시예에 기재되어 있다.
또 다른 측면에서 본 발명은 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법이다. 상기 방법은 합성가스를 이용하여 1-옥텐에 n-옥탄이 포함된 생성물을 수득하는 단계; 상기 생성물에서 1-옥텐의 순도를 90% 이상으로 정제하는 단계; 상기 90% 이상 순도의 1-옥텐에 n-옥탄 흡착제를 투입하여 n-옥탄을 흡착하는 단계; 및 상기 n-옥탄을 흡착한 흡착제를 회수하는 단계를 포함한다.
본 발명에서 1-옥텐은 예를 들면 피셔-트롭쉬에 의한 방법인 촉매 존재하에 합성가스로부터 올레핀 함량이 높은 합성 원유(Synthetic Crude)를 제조한 후 추출 등의 분리 정제 공정을 통해 선형 알파올레핀을 생산하는 방법으로 생성될 수 있다. 상기 피셔-트롭쉬 공정에서는 1-옥텐 외에 n-옥탄을 포함하는 불순물 또한 생성되며 통상적으로 50% 순도의 1-옥텐을 수득할 수 있다. 본 발명의 정제방법은 고순도 1-옥텐을 생산하기 위한 것으로, 피셔-트롭쉬 공정의 생성물을 종래 사용되는 정제 방법을 사용하여 미리 정한 순도의 1-옥텐을 우선적으로 정제하고 본 발명의 n-옥탄 흡착제를 사용하여 더욱 고순도로 1-옥텐을 정제할 수 있다. 한 구현예에서 상기 1-옥텐의 순도를 90% 이상으로 정제하는 단계는 증류방법을 사용하여 정제할 수 있고, 90% 순도의 1-옥텐을 수득할 수 있으며, 수차례 증류과정 중 90% 순도에 도달할 때 까지 가스크로마트그래피 법 등으로 순도를 결정할 수 있다. 상기 90% 순도의 1-옥텐에는 끓는점이 유사하여 증류법 정제가 어렵기 때문에 1-옥텐 및 n-옥탄이 혼재되어 있다. 따라서 더욱 고순도의 1-옥텐을 생성하기 위해 본 발명의 n-옥탄 흡착제를 투입하여 n-옥탄을 흡착하여 고순도 1-옥텐을 생산할 수 있다. 또 다른 방법으로 상기 1-옥텐의 순도를 90% 이상으로 정제하는 단계는 증류법 및 제올라이트 흡탈착법을 연속적으로 사용할 수 있다. 예를 들면, 증류법으로 70% 순도의 1-옥텐을 수득하고, 여기에 제올라이트를 투입하여 1-옥텐을 흡착시키고 이를 회수 및 탈착공정을 수행하여 90% 순도의 1-옥텐을 수득할 수 있다. 상기 제올라이트는 통상적으로 1-옥텐을 흡착하면서 동시에 n-옥탄을 소량 흡착하게 된다. 따라서 상기 제올라이트에서 탈착한 1-옥텐 포함 생성물은 n-옥탄을 포함하고 있으며, 본원에서는 여기에 n-옥탄 흡착제를 투입하여 n-옥탄을 선택적으로 흡착시키고 고순도 1-옥텐으로 정제할 수 있다. 한 구현예에서 상기 n-옥탄을 흡착하는 단계는 20 내지 70 ℃ 의 온도범위 및 대기압의 압력조건에서 수행될 수 있다. 증류법 등의 방법에 비해 온화한 조건에서 사용할 수 있어 에너지 요구량이 낮아 높은 순도의 1-옥텐을 생성하면서도 에너지를 절감할 수 있다. 본 발명의 n-옥탄 흡착제는 상기 90% 순도의 1-옥텐의 100 중량 대비 1 내지 100중량% 로 투입하여 n-옥탄을 흡착할 수 있으며, 1-옥텐 순도의 필요에 따라 흡착제 용량을 조절하여 사용할 수 있다. 상기 n-옥탄을 흡착하는 단계는 30분 내지 240분 동안 수행될 수 있다. 30분 미만은 n-옥탄이 충분히 흡착될 수 없고, 240분 초과는 흡착제에 흡착물이 포화되어 더 이상 흡착이 수행될 수 없다.
본 발명의 n-옥탄을 흡착한 흡착제는 회수하여 고순도 1-옥텐을 생성한 후, 흡착된 n-옥탄을 흡착제에서 탈착하여 흡착제를 재사용할 수 있다. 상기 탈착은 흡착제를 회수하고, 흡착제가 포함된 반응기의 압력을 감압하거나, 또는 온도를 상승시켜 흡착물을 탈착시킬 수 있다. 한 구현예에서 상기 탈착은 상온 조건에서 5 내지 15 torr 압력범위에서 수행될 수 있다. 또한 상압 조건에서 150℃ 내지 200℃ 온도범위에서 수행될 수 있다.
본 발명의 n-옥탄 흡착제 및 그를 이용한 1-옥텐 정제방법은 합성가스를 이용한 1-옥텐 의 생산 과정 중 Fischer-Tropsch 촉매반응에서 얻어지는 생성물 내 1-옥텐과 끓는점이 비슷한 n-옥탄을 제거할 수 있는 ZIF(zeolitic imidazolate framework) 흡착제를 사용함으로써 간단한 방법으로 고순도 1-옥텐을 생산할 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위해서 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐 본 발명이 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
실 시 예
실시예 1 ZIF 3종 합성
ZIF(zeolitic imidazolate framework) 3종 ZIF-8 (C8H10N4Zn), ZIF-67 (C8H10N4Co) 및 Zn/Co-ZIF (C8H10N4Co0.5Zn0.5)을 공침법을 사용하여 합성하였다. 에 사용된 금속 전구체는 Zn(NO3)2·6H2O, Co(NO3)2·6H2O이고, 리간드는 2-methyimidazolate (2-MIM)를 사용하였다. 상세 합성 조건은 표 1에 기재하였다. 상기 금속 전구체와 리간드를 isopropanol에 완전히 녹인 후 혼합하여 24시간동안 상온에서 교반하였다. 교반 후 ZIF고체는 원심분리를 이용하여 수득하였으며 60℃에서 12시간 동안 건조하였다.
시료명 Zn(NO3)2·6H2O Co(NO3)2·6H2O 2-MIM isopropanol
ZIF-8 5 mmol 40 mmol 150 ml
ZIF-67 5 mmol 40 mmol 150 ml
Zn/Co-ZIF 2.5 mmol 2.5 mmol 40 mmol 150 ml
합성한 ZIF는 X-선 회절 분석을 통하여 결정구조를 분석하였으며, 그 결과는 도 1에 기재되어 있다. 3가지 화합물 모두 공간군은 입방구조인 공간군 I4/3m 을 갖으며 격자상수는 표 2와 같이 확인하였다.
약어 격자상수 (Å)
ZIF-8 17.015 (1)
ZIF-67 17.047 (1)
Zn/Co-ZIF 17.006 (1)
도 1의 결과와 같이 모든 ZIF 시료가 불순물 없이 합성된 것을 확인하였다.
실시예 2 ZIF 흡착제의 n-옥탄 흡착 성능 평가
합성된 ZIF 분말 약 0.5g 을 1-옥텐 및 n-옥탄 혼합액 10 ml에 투입하여 4시간동안 교반시켜 ZIF에 1-옥텐과 n-옥탄을 흡착시켰다. 원심분리 과정을 통하여 ZIF 분말을 혼합액과 분리하고 주사기 필터로 혼합액 내 미세 분말을 제거한 뒤 ZIF시료의 1-옥텐 및 n-옥탄 흡착용량을 기체크로마토그래피로 분석하였다. n-옥탄의 1-옥텐 대비 흡착선택도(adsorption separation factor, αn)는 다음 수식을 이용하여 계산하였다. 그 결과는 표 3 내지 표 5에 기재되어 있다.
Figure 112021085874357-pat00001
여기서 y1, y2는 ZIF에 흡착된 1-옥텐과 n-옥탄 분율(fraction)이고, w1, w2는 흡착실험 후 용액에 남아있는 분율(fraction)이다. 종래 보고된 제올라이트 흡착소재의 선택도(α)는 1-옥텐의 n-옥탄 대비 흡착 선택도이기 때문에 αn의 역수이며, 제올라이트 흡착소재의 αn값은 0.5를 넘지 않는 것으로 보고되어 있다(R. Yang, et al. Separation and Purification Technology 230 (2020) 115884). 그러나 본 발명의 ZIF 흡착제는 n-옥탄 분율 30% 이하에서도 높은 선택도로 n-옥탄을 흡착할 수 있는 것을 확인하였으며, 이는 생성물에 포함된 n-옥탄을 흡착시켜 제거하는데 사용될 수 있다. 이는 기존 제올라이트 등의 흡착소재에 흡착시켜 다시 탈착하는 것 보다는 불순물인 n-옥탄을 흡착시켜 제거하는 것이 탈착공정을 생략하여 분리공정을 단순화할 수 있다. 또한 1-옥텐의 순도가 90%이상이 되면 기존 제올라이트 등 흡착소재에 흡착시키는 경우 n-옥탄도 같이 흡착되어 흡-탈착 공정을 수행해도 n-옥탄이 포함되기 때문에 1-옥텐을 고순도화 하는데 한계가 있다. 따라서 본 발명의 흡착재를 사용하면 n-옥탄을 높은 선택도로 제거함에 따라 1-옥텐을 고순도화할 수 있다.
초기
n-octane 분율		 초기
1-octene분율		 n-octane
흡착용량
(mg/g)		 1-octene
흡착용량
(mg/g)		 αn
0.9 0.1 1979 267 0.81
0.7 0.3 1664 798 0.90
0.5 0.5 1333 1356 1.00
0.3 0.7 824 1762 1.14
0.1 0.9 412 2309 1.90
초기
n-octane 분율		 초기
1-octene분율		 n-octane
흡착용량
(mg/g)		 1-octene
흡착용량
(mg/g)		 αn
0.9 0.1 1290 178 0.80
0.7 0.3 2340 923 0.91
0.5 0.5 2032 1953 0.91
0.3 0.7 1342 2558 1.15
0.1 0.9 587 2863 2.37
초기
n-octane 분율		 초기
1-octene분율		 n-octane
흡착용량
(mg/g)		 1-octene
흡착용량
(mg/g)		 αn
0.9 0.1 2457 317 0.85
0.7 0.3 1892 841 0.98
0.5 0.5 1243 1241 1.01
0.3 0.7 899 1929 1.14
0.1 0.9 395 2305 1.79
제시된 실시예들에 대한 설명은 임의의 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 이용하거나 또는 실시할 수 있도록 제공된다. 이러한 실시예들에 대한 다양한 변형들은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이며, 여기에 정의된 일반적인 원리들은 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 다른 실시예들에 적용될 수 있다. 그리하여, 본 발명은 여기에 제시된 실시예들로 한정되는 것이 아니라, 여기에 제시된 원리들 및 신규한 특징들과 일관되는 최광의의 범위에서 해석되어야 할 것이다.

Claims (10)

  1. 삭제
  2. 1-옥텐 및 n-옥탄이 존재하는 혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법으로, 상기 방법은:
    합성가스를 이용하여 1-옥텐에 n-옥탄이 포함된 생성물을 수득하는 단계;
    상기 생성물에서 1-옥텐의 순도를 90% 이상으로 정제하는 단계;
    상기 90% 이상 순도의 1-옥텐에 n-옥탄 흡착제를 투입하여 n-옥탄을 흡착하는 단계; 및
    상기 n-옥탄을 흡착한 흡착제를 회수하는 단계를 포함하고,
    상기 흡착제는 ZIF-67 및 Zn/Co-ZIF를 포함하는 군에서 선택되는 한 종 이상을 포함하고,
    상기 n-옥탄을 흡착하는 단계는 20 내지 70 oC 의 온도범위 및 대기압의 압력조건에서 수행되는,
    혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 생성물을 수득하는 단계는, 피셔-트롭쉬 (Fischer-Tropsch) 촉매반응인,
    혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 정제하는 단계는, 증류방법으로 정제하는,
    혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 정제하는 단계는, 증류방법 및 제올라이트 이용 1-옥텐 흡탈착법을 연속 적용하여 정제하는,
    혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 n-옥탄 흡착제는 상기 90% 이상 순도인 1-옥텐의 100 중량 대비 1 내지 100중량% 로 투입되는,
    혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법.
  7. 제 2 항에 있어서,
    상기 방법은 n-옥탄 흡착제를 재생하여 재사용하는 단계를 더 포함하고,
    상기 재사용하는 단계는 감압법 또는 가열법으로 수행하며,
    상기 감압법은 5 내지 15 torr 압력범위로 감압하는 것이며,
    상기 가열법은 150℃ 내지 200℃ 온도범위로 가열하는 것인,
    혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 n-옥탄을 흡착하는 단계는 30분 내지 240분 동안 수행되는,
    혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법.
  9. 삭제
  10. 제 2 항에 있어서,
    상기 1-옥텐의 순도는 기체 크로마토그래피로 모니터링하는,
    혼합액에서 n-옥탄 흡착제를 이용한 1-옥텐 정제방법.
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