KR102526364B1 - Supporting and controlling part for shower head of substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부는, 전력이 인가되어 회전 동력을 생성하는 모터(4)와; 상기 모터의 회전 동력을 상하 방향 변위로 전환하는 Z축 구동부(2)와; 상기 Z축 구동부(2)에 연결된 제1 절연체(8)와; 상기 제1 절연체(8)에 연결되고, 백킹 플레이트(6)를 관통하여 샤워 헤드(7)에 결합되는 조절 볼트(9)와; 상하 방향으로 변위 가능하고, 내부의 진공과 외부의 대기압을 분리하는 벨로우즈(10)와; 상기 조절 볼트(9)와 상기 벨로우즈(10) 사이에 배치된 제2 절연체(12)와; 상기 벨로우즈(10)와 상기 백킹 플레이트(6) 사이에 배치된 제3 절연체(14)를 포함한다. 상기 모터(4)의 회전에 의한 상기 Z축 구동부(2)의 상하 방향 변위에 의하여 상기 샤워 헤드(7)가 상방으로 들리거나 하방으로 처지는 정도가 조절된다.The present invention relates to a shower head support and control unit of a substrate processing apparatus. The shower head support and control unit of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a motor 4 to which electric power is applied to generate rotational power; a Z-axis driving unit 2 for converting rotational power of the motor into vertical displacement; a first insulator 8 connected to the Z-axis driving unit 2; an adjusting bolt 9 connected to the first insulator 8 and coupled to the shower head 7 through the backing plate 6; a bellows 10 that is displaceable in the vertical direction and separates the internal vacuum from the external atmospheric pressure; a second insulator (12) disposed between the adjusting bolt (9) and the bellows (10); A third insulator 14 disposed between the bellows 10 and the backing plate 6 is included. The degree to which the shower head 7 is raised upward or drooped downward is controlled by the vertical displacement of the Z-axis drive unit 2 caused by the rotation of the motor 4.

Description

기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부{SUPPORTING AND CONTROLLING PART FOR SHOWER HEAD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}Shower head support and control unit of substrate processing apparatus {SUPPORTING AND CONTROLLING PART FOR SHOWER HEAD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부에 관한 것이다.The present invention relates to a shower head support and control unit of a substrate processing apparatus.

본 명세서에서 사용되는 기판 처리 장치라는 용어는 대표적으로 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 장치를 포함하고, 기판 상에 각종 화학물질을 증착 하는데 사용되는 장치를 지칭한다. 본 발명은 이러한 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부에 관한 것인데, 본 발명자(들)는 본 발명에 이르는 과정에서 대표적으로 두 개의 종래기술을 참조하였다. 첫째는 미국 어플라이드 머티어리얼스 인코포레이티드 사에 의하여 2008년 2월 27일 출원되었고(출원 번호: 10-2009-7018131) 발명의 명칭을 "PECVD 프로세스 챔버 후면 판 보강"으로 하는 기술이다(이하, "제1 종래기술"). 둘째는 대한민국 주식회사 테스 사에 의해 2010년 11월 26일 출원되었고(출원 번호: 10-2010-0118888) 발명의 명칭을 "가변형 샤워 헤드"로 하는 기술이다(이하, "제2 종래기술").The term substrate processing apparatus used in this specification includes a plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) apparatus and refers to an apparatus used to deposit various chemicals on a substrate. The present invention relates to a shower head support and control unit of such a substrate processing apparatus, and the present inventor(s) typically referred to two prior arts in the process leading to the present invention. The first is a technology filed on February 27, 2008 by Applied Materials, Inc. (Application No.: 10-2009-7018131) and entitled "PECVD process chamber rear plate reinforcement" ( hereinafter "first prior art"). The second is a technology filed on November 26, 2010 by Tess Co., Ltd. (Application No.: 10-2010-0118888) and named "variable shower head" (hereinafter, "second prior art").

도 1은 제1 종래기술을 도시하는 도면이다. 도 1에서 주목하여야 할 것은 백킹 플레이트(backing plate, 112)에 의해 샤워 헤드(110)가 현수 되는 구조이다. 샤워 헤드(110)는 본 발명이 속한 기술분야에서 디퓨져(diffuser)로 칭해지기도 한다. 우선 백킹 플레이트(112)의 주변부 네 개 면에 스커트(114)가 결합되고, 이 스커트(114)에 샤워 헤드(110)가 다시 결합되어, 샤워 헤드(110)는 그 주변부에서 스커트(114)를 경유하여 백킹 플레이트(112)에 의해 현수 방식으로 지지, 즉 매달리게 된다. 샤워 헤드(110)가 공정 기체를 분사하여 처리하는 기판(140)의 사이즈는 세대 별로 차이가 있지만, 예컨대 6세대 기판의 경우 1850 mm * 1500 mm이다. 이 정도 크기의 글라스 기판에 대한 가스 분사를 실시하는 샤워 헤드(110)는 그 주변부에서 현수 방식으로 지지하는 것만으로는 그 안쪽, 즉 중심부 쪽의 처짐을 피할 수 없다. 따라서, 도 1의 종래기술에서는 주변부와 정중앙 사이의 위치에 복수개의 샤워 헤드 지지 및 조절부(160)를 배치하고 있다. CSD 볼트로 실시되는 이러한 복수개의 샤워 헤드 지지 및 조절부(160)는 그 일단이 샤워 헤드(110)에 결합되고, 그 타단이 백킹 플레이트(112) 상단에 마련되는 너트에 결합되는 구조이다. 백킹 플레이트(112) 상단에 마련되는 너트를 풀거나 조이는 것에 의하여 샤워 헤드(110)가 상부로 당겨지는 정도가 조절되어 결과적으로 백킹 플레이트(112)에 현수 된 샤워 헤드(110)의 곡률이 조절된다. 기판 처리 장치의 작동 중에 샤워 헤드(110)에는 RF 전류가 인가되고, 이러한 전류는 샤워 헤드(110)에 결합된 CSD 볼트 및 백킹 플레이트(112) 상단부의 너트에도 흐른다. 따라서, 기판 처리 장치의 작동 중에는 CSD 볼트의 조절에 의한 샤워 헤드(110)의 곡률 조절이 이루어질 수 없고 반드시 기판 처리 장치가 작동되지 않을 때만 CSD 볼트의 조절이 이루어져야 한다. 도 1에 도시된 종래기술의 구조에서는 CSD 볼트의 조절이 수동으로 이루어지므로, 이러한 조절에 의하여 현수 된 샤워 헤드(110)의 곡률이 어느 정도로 변경되었는지에 대한 정확한 확인이 불가능하다. 또한, 수동 작업으로 인해 유지 보수 시간이 길어지는 단점이 있다. 실제로 수동으로 CSD 볼트를 조절하는 방식의 장비에서 샤워 헤드(110)의 곡률 조절에 걸리는 시간은 대략 3일 정도이다. 이 기간 동안 고가의 기판 처리 장치는 작동이 불가능하다.1 is a diagram showing a first prior art. What should be noted in FIG. 1 is a structure in which the shower head 110 is suspended by a backing plate 112. The shower head 110 is also referred to as a diffuser in the art to which the present invention belongs. First, the skirt 114 is coupled to the four periphery surfaces of the backing plate 112, and the shower head 110 is coupled to the skirt 114 again, so that the shower head 110 extends the skirt 114 around the periphery. Via the backing plate 112, it is supported in a suspended manner, that is, suspended. The size of the substrate 140 treated by spraying the process gas from the shower head 110 is different for each generation, but, for example, in the case of a 6th generation substrate, it is 1850 mm * 1500 mm. The shower head 110 for spraying gas to a glass substrate of this size cannot avoid deflection in the center, that is, the inside of the shower head 110 by only supporting it in a hanging manner at its periphery. Therefore, in the prior art of FIG. 1, a plurality of shower head support and control units 160 are disposed between the periphery and the center. The plurality of shower head support and control units 160 implemented with CSD bolts have a structure in which one end is coupled to the shower head 110 and the other end is coupled to a nut provided on the top of the backing plate 112. By loosening or tightening the nut provided on the top of the backing plate 112, the degree to which the shower head 110 is pulled upward is adjusted, and as a result, the curvature of the shower head 110 suspended on the backing plate 112 is adjusted. . During operation of the substrate processing apparatus, RF current is applied to the shower head 110 , and this current also flows to the CSD bolt coupled to the shower head 110 and the nut of the upper portion of the backing plate 112 . Therefore, the curvature of the shower head 110 cannot be adjusted by adjusting the CSD bolt while the substrate processing apparatus is operating, and the CSD bolt must be adjusted only when the substrate processing apparatus is not operating. In the prior art structure shown in FIG. 1, since the CSD bolt is manually adjusted, it is impossible to accurately determine how much the curvature of the suspended shower head 110 is changed by such adjustment. In addition, there is a disadvantage that maintenance time is long due to manual work. In fact, the time taken to adjust the curvature of the shower head 110 in equipment that manually adjusts the CSD bolt is about 3 days. During this period, the expensive substrate processing apparatus cannot operate.

제2 종래기술은 샤워 헤드의 조절 방식 측면에서 앞서 설명한 제1 종래기술의 CSD 볼트 수동 조절 방식에 비하여 한 단계 앞선 방식을 개시한다. 도 2 및 도 3은 제2 종래기술을 도시한다. 도면부호 50은 제어부, 도면부호 60은 게이지를 지시한다. 제어부(50)와 게이지(60)는 백킹 플레이트 상단에 설치되고, 제어부(50)에는 승강부(40)가 연결되어 있다. 승강부(40)의 타단은 샤워 헤드(20)에 연결되어 있다. 승강부(40)는 수동 또는 모터를 이용한 전동으로 승강부(40)를 당기는 정도를 조절한다. 도 2는 제어부(50)가 승강부(40)를 느슨하게 조절하여 샤워 헤드(20)가 밑으로 처진 상태를 도시한다. 도 3은 제어부(50)가 승강부(40)가 당겨지도록 조절하여 샤워 헤드(20)가 상승한 상태를 도시한다. 게이지(60)는 이러한 조절 작동 시 승강부(40)의 승강 변위를 측정한다. 도 2 및 도 3에 도시된 제2 종래기술에는 다음의 문제점이 존재한다. 첫번째 문제는 샤워 헤드(20)의 승강 변위를 조절하는 단일 기구가 샤워 헤드(20) 중앙에 연결되는 것에 있다. 이러한 구조에서는 샤워 헤드(20)의 곡률 조절이 그 중앙부에서만 이루어지므로, 중앙을 벗어난 위치에 대한 정밀한 곡률 조절이 불가능하다. 두번째 문제는 기판 처리 장치의 작동 중에 RF 전류가 상시 통전 되는 샤워 헤드(20)에 연결된 승강부(40)를 통해 제어부(50)로 전달되는 전류에 대한 대책이 없다는 것이다. 제어부(50)가 모터를 이용한 전동으로 승강부(40)를 제어하여 샤워 헤드(20)에 대한 곡률 변경을 실시하는 구조를 적용할 경우, 반드시 샤워 헤드(20)에 연결된 승강부(40)를 통해 제어부(50)로 전달되는 전류에 대한 차폐가 이루어져야 한다. 이러한 전류 차폐 구조가 없는 경우, 기판 처리 장치의 작동 중에 RF 전류가 제어부(50)의 모터 및 모터의 작동을 위한 전기 부품들에 전달되어 제어부(50)의 고장을 일으킨다. 이는 게이지(60)에 있어서도 마찬가지이다. 전기로 작동되는 게이지(60)를 사용하는 경우, 샤워 헤드(20)의 RF 전류가 승강부(40)를 통해 전달되어 게이지(60)의 고장을 일으킨다. 세번째 문제는 제2 종래기술에서와 같이 샤워 헤드(20)의 승강 변위를 조절하는 기구가 샤워 헤드(20) 중앙에 연결되는 구조는 공정가스가 샤워 헤드(20)와 백킹 플레이트 정중앙에서 공급이 이루어지는 구조와 양립이 어렵다는 것이다. 제2 종래기술과 같은 구조는 샤워 헤드(20)와 백킹 플레이트 정중앙에 제공되는 공정가스 공급 통로와 충돌을 일으키거나 공정가스 공급 통로에 대한 방해 요인으로 작용할 것이어서 실제 양산에 적용하기 어렵고, 실제로 본 발명자(들)가 파악하는 바에 따르면, 제2 종래기술에서와 같은 샤워 헤드(20)의 곡률 조절 구조는 사용이 불가능하여 실제로 존재하지 않는다.The second prior art discloses a method that is one step ahead of the CSD bolt manual adjustment method of the first prior art described above in terms of the shower head control method. 2 and 3 show a second prior art. Reference numeral 50 indicates a controller and reference numeral 60 indicates a gauge. The control unit 50 and the gauge 60 are installed on top of the backing plate, and the control unit 50 is connected to the lift unit 40 . The other end of the elevation part 40 is connected to the shower head 20 . The lifting part 40 controls the degree of pulling the lifting part 40 manually or by electric power using a motor. FIG. 2 shows a state in which the shower head 20 droops downward as the control unit 50 loosely adjusts the elevation unit 40 . FIG. 3 shows a state in which the shower head 20 is elevated by the control unit 50 adjusting the elevating unit 40 to be pulled. The gauge 60 measures the elevation displacement of the elevation part 40 during this adjustment operation. The second prior art shown in FIGS. 2 and 3 has the following problems. The first problem is that a single mechanism for adjusting the elevation displacement of the shower head 20 is connected to the center of the shower head 20 . In this structure, since the curvature control of the shower head 20 is performed only at the center thereof, it is impossible to precisely control the curvature for a position out of the center. The second problem is that there is no countermeasure for the current transmitted to the control unit 50 through the elevation part 40 connected to the shower head 20 through which the RF current is always energized during operation of the substrate processing apparatus. When a structure in which the control unit 50 controls the elevation unit 40 by electric power using a motor to change the curvature of the shower head 20 is applied, the elevation unit 40 connected to the shower head 20 must be Shielding against the current transmitted to the control unit 50 through the shielding should be made. In the absence of such a current shielding structure, during operation of the substrate processing apparatus, RF current is transferred to the motor of the control unit 50 and electric components for operation of the motor, causing failure of the control unit 50 . This is also true for the gauge 60. In the case of using the gauge 60 operated by electricity, the RF current of the shower head 20 is transferred through the elevating unit 40 and causes the gauge 60 to fail. The third problem is that the structure in which the mechanism for adjusting the elevation displacement of the shower head 20 is connected to the center of the shower head 20, as in the second prior art, is such that process gas is supplied from the center of the shower head 20 and the backing plate. It is difficult to reconcile with the structure. A structure like the second prior art will cause a collision with the process gas supply passage provided at the center of the shower head 20 and the backing plate or act as an obstruction to the process gas supply passage, making it difficult to apply to actual mass production. As understood by (s), the curvature adjusting structure of the shower head 20 as in the second prior art cannot be used and does not actually exist.

본 발명자(들)는 상술한 제1 종래기술과 제2 종래기술의 문제점을 인지하고, 이에 대한 개선 노력을 기울인 끝에, 본 발명에 이르게 되었다.The inventor(s) of the present invention have come to the present invention after recognizing the above-mentioned problems of the first prior art and the second prior art and making efforts to improve them.

본 발명은 상술한 제1 및 제2 종래기술의 문제점을 개선하기 위해 제안된 것이다. The present invention is proposed to improve the above-mentioned problems of the first and second prior art.

보다 구체적으로, 본 발명은 백킹 플레이트에 현수 방식으로 지지되는 샤워 헤드의 전동 곡률 조절을 가능케 하는 샤워 헤드 지지 및 조절부를 제공하는 것을 목적으로 한다.More specifically, an object of the present invention is to provide a shower head support and control unit capable of controlling the rolling curvature of a shower head supported on a backing plate in a suspended manner.

또한, 본 발명은 상기와 같은 전동 곡률 조절을 가능케 하면서도 RF 전류 차폐가 안정적이면서 효과적으로 이루어질 수 있는 샤워 헤드 지지 및 조절부를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a shower head support and control unit capable of stably and effectively shielding an RF current while enabling the control of the curvature of the motor as described above.

본 발명은 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부는, 도 5를 참조하여 명확히 파악할 수 있는 바와 같이, 전력이 인가되어 회전 동력을 생성하는 모터(4)와; 상기 모터의 회전 동력을 상하 방향 변위로 전환하는 Z축 구동부(2)와; 상기 Z축 구동부(2)에 연결된 제1 절연체(8)와; 상기 제1 절연체(8)에 연결되고, 백킹 플레이트(6)를 관통하여 샤워 헤드(7)에 결합되는 조절 볼트(9)와; 상하 방향으로 변위 가능하고, 내부의 진공과 외부의 대기압을 분리하는 벨로우즈(10)와; 상기 조절 볼트(9)와 상기 벨로우즈(10) 사이에 배치된 제2 절연체(12)와; 상기 벨로우즈(10)와 상기 백킹 플레이트(6) 사이에 배치된 제3 절연체(14)를 포함한다. 상기 모터(4)의 회전에 의한 상기 Z축 구동부(2)의 상하 방향 변위에 의하여 상기 샤워 헤드(7)가 상방으로 들리거나 하방으로 처지는 정도가 조절된다.The present invention relates to a shower head support and control unit of a substrate processing apparatus. The shower head support and control unit of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, as can be clearly seen with reference to FIG. 5, includes a motor 4 to which power is applied to generate rotational power; a Z-axis driving unit 2 for converting rotational power of the motor into vertical displacement; a first insulator 8 connected to the Z-axis driving unit 2; an adjusting bolt 9 connected to the first insulator 8 and coupled to the shower head 7 through the backing plate 6; a bellows 10 that is displaceable in the vertical direction and separates the internal vacuum from the external atmospheric pressure; a second insulator (12) disposed between the adjusting bolt (9) and the bellows (10); A third insulator 14 disposed between the bellows 10 and the backing plate 6 is included. The degree to which the shower head 7 is raised upward or drooped downward is controlled by the vertical displacement of the Z-axis drive unit 2 caused by the rotation of the motor 4.

상기 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부는 상기 백킹 플레이트(6)의 주변부와 중앙부 사이의 임의의 위치에 복수개로 배치된다.A plurality of shower head support and control units of the substrate processing apparatus are disposed at an arbitrary position between the periphery and the center of the backing plate 6 .

상기 제1 절연체(8)는 상기 샤워 헤드(7)의 수직 방향 변위 시 가해지는 인장 또는 압축 등의 로드에 의한 변형이 무시할 수 있을 정도로 작거나 최소화될 수 있는 재질로 형성된다.The first insulator 8 is formed of a material capable of minimizing or ignoring deformation caused by a load such as tension or compression applied when the shower head 7 is vertically displaced.

상기 제1 절연체(8)는 상기 샤워 헤드(7)에 흐르는 RF 전류가 상기 조절 볼트(9)를 통해 상기 Z축 구동부(2) 및 이에 연결된 모터(4)로 전달되는 것을 차단하고, 상기 제2 절연체(12)는 상기 샤워 헤드(7)에 흐르는 RF 전류가 상기 조절 볼트(9)를 통해 상기 벨로우즈(10)로 전달되는 것을 차단하고, 상기 제3 절연체(14)는 상기 백킹 플레이트(6)에 흐르는 RF 전류가 상기 벨로우즈(10)로 전달되는 것을 차단한다.The first insulator 8 blocks RF current flowing through the shower head 7 from being transferred to the Z-axis drive unit 2 and the motor 4 connected thereto through the adjusting bolt 9, and 2 The insulator 12 blocks the RF current flowing through the shower head 7 from being transferred to the bellows 10 through the adjusting bolt 9, and the third insulator 14 blocks the transfer of the RF current flowing through the shower head 7 to the bellows 10. ) blocks the transfer of RF current flowing through the bellows 10.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부는 센서(1)를 더 포함할 수 있다. 상기 센서(1)는 상기 Z축 구동부(2)의 변위에 따라 상하 변위 하는 구성요소에 부착된 센서 도그(11)와 상호 작용하여 상기 Z축 구동부(2)의 변위를 측정한다.The shower head support and control unit of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a sensor 1 . The sensor 1 measures the displacement of the Z-axis drive unit 2 by interacting with a sensor dog 11 attached to a component that moves up and down according to the displacement of the Z-axis drive unit 2 .

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부는 상기 벨로우즈(10)에 부착된 스톱퍼(13)를 더 포함할 수 있다. 상기 스톱퍼(13)는 상기 벨로우즈(10)의 상방 변위 또는 하방 변위 또는 상하방 변위를 제한한다.The shower head support and control unit of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a stopper 13 attached to the bellows 10 . The stopper 13 limits the upward or downward displacement or the vertical displacement of the bellows 10 .

이외에도 추가적인 구성이 본 발명에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부에 더 포함될 수 있다.In addition, additional components may be further included in the shower head support and control unit of the substrate processing apparatus according to the present invention.

본 발명에 따르면, 상술한 제1 및 제2 종래기술의 문제점이 개선될 수 있다.According to the present invention, the problems of the first and second prior art described above can be improved.

보다 구체적으로, 본 발명에 따르면, 백킹 플레이트에 현수 방식으로 지지되는 샤워 헤드의 전동 곡률 조절을 가능케 하는 샤워 헤드 지지 및 조절부가 제공될 수 있다.More specifically, according to the present invention, a shower head support and control unit capable of controlling the rolling curvature of a shower head supported on a backing plate in a suspended manner may be provided.

또한, 본 발명에 따르면, 상기와 같은 전동 곡률 조절을 가능케 하면서도 RF 전류 차폐가 안정적이면서 효과적으로 이루어질 수 있는 샤워 헤드 지지 및 조절부가 제공될 수 있다.In addition, according to the present invention, a shower head support and control unit capable of stably and effectively shielding the RF current while enabling the control of the rolling curvature as described above can be provided.

궁극적으로는 샤워 헤드의 정밀한 곡률 조절이 가능하게 되어 샤워 헤드의 곡률에 의하여 결정되는 샤워 헤드와 기판 사이의 최적 간격이 달성될 수 있고, 이로써 공정 최적화가 달성될 수 있다. 백킹 플레이트와 샤워 헤드 사이의 간격 및 샤워 헤드와 기판 사이의 간격은 공정에 유효한 영향을 미치는 인자로서, 종래기술에서 이것들의 조정은 진공 상태로부터 대기 상태로의 벤틸레이션(ventilation)을 실시한 후에 가능하였으나, 본 발명에 이르러 벤틸레이션 없이도 상기 간격들의 자동화 및 전동화 조정이 가능하게 된 큰 이점이 달성될 수 있다. 나아가, 시간이 지남에 따라 발생되는 샤워 헤드의 변형을 수정하여 최적 공정을 유지할 수 있다.Ultimately, it is possible to precisely control the curvature of the shower head, so that an optimal distance between the shower head and the substrate determined by the curvature of the shower head can be achieved, thereby achieving process optimization. The distance between the backing plate and the shower head and the distance between the shower head and the substrate are factors that effectively affect the process, and in the prior art, these adjustments were possible after ventilation from a vacuum state to an atmospheric state, but In the present invention, the great advantage of being able to automate and motorize the adjustment of the intervals without ventilation can be achieved. Furthermore, it is possible to maintain an optimal process by correcting the deformation of the shower head over time.

도 1은 제1 종래기술을 설명하기 위한 도면이다.
도 2와 도 3은 제2 종래기술을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부가 백킹 플레이트 상단에 복수개로 배치되는 모습을 도시하는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부의 구체적인 구조를 도시하는 도면이다.1 is a diagram for explaining a first prior art.
2 and 3 are views for explaining the second prior art.
4 is a view showing a state in which a plurality of shower head support and control units of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention are disposed on the top of the backing plate.
5 is a diagram showing a specific structure of a shower head support and control unit of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이러한 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 본 명세서에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 일 실시예로부터 다른 실시예로 변경되어 구현될 수 있다. 또한, 각각의 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치도 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 행해지는 것이 아니며, 본 발명의 범위는 특허청구범위의 청구항들이 청구하는 범위 및 그와 균등한 모든 범위를 포괄하는 것으로 받아들여져야 한다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 구성요소를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The detailed description of the present invention which follows refers to the accompanying drawings which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable any person skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different from each other but are not necessarily mutually exclusive. For example, specific shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented from one embodiment to another without departing from the spirit and scope of the present invention. It should also be understood that the location or arrangement of individual components within each embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the detailed description described below is not intended to be performed in a limiting sense, and the scope of the present invention should be taken as encompassing the scope claimed by the claims and all equivalents thereto. Like reference numbers in the drawings indicate the same or similar elements throughout the various aspects.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 여러 바람직한 실시예에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, various preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in order to enable those skilled in the art to easily practice the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 샤워 헤드 지지 및 조절부의 배치Disposition of shower head support and control unit according to an embodiment of the present invention

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부가 백킹 플레이트 상단에 복수개로 배치되는 모습을 도시하는 도면이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부는 백킹 플레이트 상단에 복수개로 배치되며, 배치 위치는 백킹 플레이트의 주변부와 중앙부 사이의 임의의 지점이다. 백킹 플레이트의 중앙부에는 실제로 가스 도입 포트가 배치되나, 도 4는 샤워 헤드 지지 및 조절부의 배치 위치만을 알기 쉽게 도시하기 위한 목적에서 백킹 플레이트의 중앙부에 위치하는 가스 도입 포트의 도시가 생략되었다. 이와 같은 배치 형태는 상술한 제1 종래기술과 유사하며, 제2 종래기술과 대비된다. 제2 종래기술에서는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 가스 도입 포트가 위치한 백킹 플레이트의 중앙부에 샤워 헤드 지지 및 조절부가 배치되고 있다. 가스 도입 포트와의 간섭을 피한 위치 설정의 난점을 별론으로 하더라도, 제2 종래기술에서와 같은 샤워 헤드 지지 및 조절부의 배치는 샤워 헤드의 곡률 조절이 그 중앙부에서만 이루어지므로, 중앙을 벗어난 위치에 대한 정밀한 곡률 조절이 불가능하다는 문제를 야기한다. 샤워 헤드는 중력에 의한 처짐에 있어서 반드시 대칭적인 처짐만이 발생한다고 볼 수 없고, 경우에 따라서는 비대칭적인 처짐도 얼마든지 발생 가능하다. 이러한 비대칭적 처짐에 대응하여 원하는 곡률의 달성을 위해서는 백킹 플레이트의 주변부와 중앙부 사이의 임의의 지점에 복수개로 샤워 헤드 지지 및 조절부를 배치하는 쪽이 중앙부에 단일 조절부를 배치하는 쪽에 비하여 훨씬 유리하다.4 is a view showing a state in which a plurality of shower head support and control units of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention are disposed on the top of the backing plate. As shown in FIG. 4, a plurality of shower head support and control units of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention are disposed on the top of the backing plate, and the arrangement position is an arbitrary point between the periphery and the center of the backing plate. . Although a gas introduction port is actually disposed in the central portion of the backing plate, FIG. 4 omits the gas introduction port located in the central portion of the backing plate for the purpose of showing only the arrangement position of the shower head support and control unit. This type of arrangement is similar to the above-described first prior art, and contrasts with the second prior art. In the second prior art, as shown in FIGS. 2 and 3 , the shower head support and control unit is disposed at the center of the backing plate where the gas introduction port is located. Aside from the difficulty of positioning to avoid interference with the gas introduction port, the arrangement of the shower head support and control unit as in the second prior art is such that the curvature of the shower head is adjusted only at its center, so the This causes a problem that precise curvature control is impossible. In the case of deflection due to gravity, the shower head cannot necessarily be regarded as having only symmetrical deflection, and in some cases, asymmetrical deflection may also occur. In order to achieve a desired curvature in response to such asymmetric deflection, it is much more advantageous to dispose a plurality of shower head support and control units at an arbitrary point between the periphery and the center of the backing plate than to dispose a single control unit at the center.

본 발명의 일 실시예에 따른 샤워 헤드 지지 및 조절부의 구체적인 구조Specific structure of shower head support and control unit according to an embodiment of the present invention

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부의 구체적인 구조를 도시하는 도면이다.5 is a diagram showing a specific structure of a shower head support and control unit of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

가장 특징적으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부는 모터(4)를 포함한다. 전력이 인가됨에 의하여 회전 동력을 생성하는 모터(4)는 커플링(3)에 의하여 Z축 구동부(2)에 연결된다. Z축 구동부(2)의 구성요소의 명칭 자체로부터 알 수 있듯이, 모터(4)로부터 동력을 받아 Z축 방향, 즉 상하 방향으로의 변위를 발생시킨다. 예컨대, 모터(4)가 시계방향으로 회전하면 Z축 구동부(2)는 하강 변위를 발생시킬 수 있고, 모터(4)가 반시계 방향으로 회전하면 Z축 구동부(2)는 상승 변위를 발생시킬 수 있다. 그 역의 작동도 얼마든지 가능하다. 베벨기어 타입의 스크류 잭(screw jack), 볼 스크류(ball screw) 등의 공지의 구동 연결 수단들이 Z축 구동부(2)에 사용될 수 있다. 그 어떠한 구동 연결 수단을 막론하고 모터(4)의 회전을 Z축 방향의 변위로 변경 가능한 이상 본 실시예에서 설명하는 Z축 구동부(2)에 해당할 수 있다.Most characteristically, the shower head support and control unit of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a motor 4 . The motor 4 generating rotational power by applying electric power is connected to the Z-axis driving unit 2 through a coupling 3. As can be seen from the name of the components of the Z-axis driving unit 2 itself, it receives power from the motor 4 and generates displacement in the Z-axis direction, that is, in the vertical direction. For example, when the motor 4 rotates clockwise, the Z-axis drive unit 2 can generate a downward displacement, and when the motor 4 rotates counterclockwise, the Z-axis drive unit 2 generates an upward displacement. can The reverse operation is also possible. Known driving connection means such as a bevel gear type screw jack and a ball screw may be used for the Z-axis driving unit 2 . Regardless of any driving connection means, as long as the rotation of the motor 4 can be changed to displacement in the Z-axis direction, it may correspond to the Z-axis drive unit 2 described in this embodiment.

Z축 구동부(2)의 직하부에는 제1 절연체(8)가 설치된다. 제1 절연체(8)는 그 이하에 설치된 구조물들로부터의 전류가 Z축 구동부(2)를 통해 모터(4)로 전달되지 않도록 전기 절연 재질로 형성된다. 제1 절연체(8) 재질로서의 또 다른 요구 조건은 충분한 강성이다. 제1 절연체(8)는 상기 샤워 헤드(7)의 수직 방향 변위 시 가해지는 인장 및/또는 압축력에 의하여 수직 방향으로 변형되지 않음이 바람직하다. 상술한 "충분한 강성"은 샤워 헤드(7)의 수직 방향 변위 시 인가되는 로드의 범위에서의 변형이 무시할 정도로 작거나 최소화될 수 있는 정도의 강성을 의미한다. 이와 같은 두 가지 요구 조건을 모두 만족시키는 재질로는 예컨대 PEEK가 있다. 본 발명자(들)는 다양한 절연 재질로 제1 절연체(8)를 제작하여 테스트를 수행하였으며, 그 결과 PEEK로 제1 절연체(8)를 제작할 경우, 전기 절연성과 샤워 헤드(8)의 하중을 견딜 수 있는 강성의 두 가지 조건이 모두 양호하게 만족됨을 확인하였다.A first insulator 8 is installed directly below the Z-axis drive unit 2 . The first insulator 8 is made of an electrical insulating material so that currents from structures installed below it are not transferred to the motor 4 through the Z-axis drive unit 2. Another requirement for the material of the first insulator 8 is sufficient rigidity. It is preferable that the first insulator 8 is not deformed in the vertical direction by tensile and/or compressive forces applied when the shower head 7 is vertically displaced. The above-mentioned "sufficient rigidity" means a degree of rigidity that can be minimized or negligible deformation in the range of the load applied when the shower head 7 is displaced in the vertical direction. A material that satisfies both of these two requirements is, for example, PEEK. The present inventor(s) fabricated the first insulator 8 with various insulating materials and performed tests. As a result, when the first insulator 8 is made of PEEK, it has electrical insulation properties and can withstand the load of the shower head 8. It was confirmed that both conditions of possible stiffness were satisfactorily satisfied.

제1 절연체(8)의 하부에는 조절 볼트(9)가 결합된다. 이러한 조절 볼트(9)는 일단이 제1 절연체(8)에, 타단이 샤워 헤드(7)에 결합된다. 모터(4)의 회전 동력이 샤워 헤드(7)의 승강으로 이어지는 동력 전달 과정을 설명하자면, 모터(4)의 회전 -> Z축 구동부(2)의 상하 변위 -> 조절 볼트(9)의 상하 변위 -> 조절 볼트(9)에 의해 Z축 구동부(2)에 결합되는 샤워 헤드(7)의 승강이 되는 것이다.An adjusting bolt 9 is coupled to the lower portion of the first insulator 8 . One end of the adjusting bolt 9 is coupled to the first insulator 8 and the other end to the shower head 7 . To explain the power transmission process in which the rotational power of the motor 4 leads to the elevation of the shower head 7, the rotation of the motor 4 -> the vertical displacement of the Z-axis drive unit 2 -> the vertical movement of the adjusting bolt 9 Displacement -> It becomes the elevation of the shower head 7 coupled to the Z-axis drive unit 2 by the adjusting bolt 9.

조절 볼트(9)의 하부에는 제2 절연체(12)가 배치된다. 기판 처리 장치의 작동 중에 샤워 헤드(7)에는 RF 전류가 인가되는데, 샤워 헤드(7)에 인가된 RF 전류는 조절 볼트(9)를 타고 올라온다. 제2 절연체(12)는 조절 볼트(9)를 타고 올라온 전류가 조절 볼트(9) 하부에 배치되고 후술할 벨로우즈(10)에 전달되지 않도록 하는 기능을 수행한다. 제1 절연체(8)와 달리 제2 절연체(12)는 샤워 헤드(7)의 하중을 받는 부분이 아니므로, 강성은 재질에 대한 요구 조건이 아니다. 제2 절연체(12)로는 예컨대, Al2O3가 사용될 수 있다.A second insulator 12 is disposed under the adjusting bolt 9 . During operation of the substrate processing apparatus, RF current is applied to the shower head 7, and the RF current applied to the shower head 7 climbs up through the adjusting bolt 9. The second insulator 12 serves to prevent the current that goes up through the adjusting bolt 9 from being transferred to the bellows 10 which is disposed below the adjusting bolt 9 and will be described later. Unlike the first insulator 8, the second insulator 12 is not a load-bearing part of the shower head 7, and thus rigidity is not a material requirement. For example, Al 2 O 3 may be used as the second insulator 12 .

제2 절연체(12) 아래에는 벨로우즈(10, bellows)가 배치된다. 벨로우즈는 상대적인 축 방향 움직임을 허용하면서 그 사이의 가스 또는 액체를 밀폐시키고자 할 때 쓰이는 범용 기계요소이다. 도 5에 도시된 본 발명의 일 실시예에서도 벨로우즈(10)는 동일한 기능을 수행한다. 즉, 벨로우즈(10)는 Z축 구동부(2)의 변위에 따라서 Z축 방향으로 늘어나거나 줄어들 수 있다. 동시에, 벨로우즈(10)는 진공과 대기압의 분리를 유지한다. 벨로우즈(10) 내부는 진공이다. 이러한 진공은 백킹 플레이트(6)에 형성된 조절 볼트(9)의 상하 방향 변위를 위한 구멍을 통하여 이하의 진공 챔버까지 이어진다. 반면, 벨로우즈(10) 외부는 대기압이다. 벨로우즈(10)는 신뢰성 있는 진공 분리를 위하여 스틸 재질 등으로 형성됨이 바람직하며, 따라서 전기 전도성을 가진다.A bellows 10 is disposed below the second insulator 12 . Bellows is a general-purpose mechanical element used to seal gas or liquid between them while allowing relative axial movement. In one embodiment of the present invention shown in FIG. 5, the bellows 10 performs the same function. That is, the bellows 10 may increase or decrease in the Z-axis direction according to the displacement of the Z-axis driving unit 2 . At the same time, the bellows 10 maintains the separation of vacuum and atmospheric pressure. Inside the bellows 10 is a vacuum. This vacuum is connected to the vacuum chamber below through a hole formed in the backing plate 6 for vertically displacing the adjusting bolt 9 . On the other hand, outside the bellows 10 is atmospheric pressure. The bellows 10 is preferably made of steel or the like for reliable vacuum separation, and thus has electrical conductivity.

벨로우즈(10) 아래에는 제3 절연체(14)가 배치된다. 기판 처리 장치의 작동 중에 백킹 플레이트(6)의 상부면에도 RF 전류가 인가되는데, 제3 절연체(14)는 이와 같은 백킹 플레이트(6) 상부면의 RF 전류가 벨로우즈(10)로 전달되는 것을 막는 기능을 수행한다. 제2 절연체(12)와 마찬가지로, 제3 절연체(14)는 샤워 헤드(7)의 하중을 받는 부분이 아니므로, 강성은 재질에 대한 요구 조건이 아니다. 제2 절연체(12)로는 예컨대, Al2O3가 사용될 수 있다.A third insulator 14 is disposed below the bellows 10 . During operation of the substrate processing apparatus, RF current is also applied to the upper surface of the backing plate 6, and the third insulator 14 prevents the RF current of the upper surface of the backing plate 6 from being transferred to the bellows 10. perform a function Like the second insulator 12, the third insulator 14 is not a load-bearing part of the shower head 7, so rigidity is not a material requirement. For example, Al 2 O 3 may be used as the second insulator 12 .

벨로우즈(10)에는 스톱퍼(13)가 제공될 수 있다. 이러한 스톱퍼(13)는 그 구성요소 명칭 자체로부터 알 수 있듯이, 조절 볼트(9) 및 벨로우즈(10)의 상하 방향 변위를 제한하는 기능을 수행한다. 도 5에 도시된 실시예에는 두 가지 종류의 스톱퍼(13)가 설치된 상태가 개념적으로 도시되어 있다. 좌측에는 벨로우즈(10)의 상단에 결합되어 하방으로 연장하는 스톱퍼가 도시되고, 우측에는 벨로우즈(10)의 하단에 결합되어 상방으로 연장하는 스톱퍼가 도시된다. 이러한 도시에서, 좌측 스톱퍼는 하방 변위, 즉 샤워 헤드(7)가 처지는 변위를 제한하는 기능을, 우측 스톱퍼는 상방 변위, 즉 샤워 헤드(7)가 들어 올려지는 변위를 제한하는 기능을 수행한다.A stopper 13 may be provided in the bellows 10 . As can be seen from the name of the component itself, the stopper 13 serves to limit the displacement of the adjusting bolt 9 and the bellows 10 in the vertical direction. In the embodiment shown in FIG. 5, a state in which two types of stoppers 13 are installed is conceptually shown. On the left side, a stopper coupled to the upper end of the bellows 10 and extending downward is shown, and on the right side, a stopper coupled to the lower end of the bellows 10 and extending upward is shown. In this illustration, the left stopper serves to limit the downward displacement, that is, the displacement of the shower head 7 sagging, and the right stopper serves to limit the upward displacement, that is, the displacement in which the shower head 7 is lifted.

도면부호 11은 센서 도그(sensor dog)를 지시하며, 이러한 센서 도그(11)는 센서(1)와 상호 작용한다. 센서 도그(11)는 Z축 방향 변위에 대한 기준을 설정하는 기능을 수행한다. 도 5의 실시예에서, 센서 도그(11)는 조절 볼트(9)에 결합되는 것으로 도시되지만, Z축 방향의 변위는 Z축 구동부(2)에 구동 연결된 구성요소들에서 모두 공통되므로, 다른 구성요소에 결합될 수도 있다. 센서(1)가 거리 측정 가능한 공지의 빔 센서로 실시되는 경우, 센서(1)로부터 발생된 빔은 센서 도그(11)로부터 반사되어 센서(1)로 향할 수 있고, 이로써 Z축 구동부(2)의 상하 방향 변위가 정밀하게 측정 가능하다.Reference numeral 11 indicates a sensor dog, and this sensor dog 11 interacts with the sensor 1 . The sensor dog 11 performs a function of setting a reference for displacement in the Z-axis direction. In the embodiment of FIG. 5 , the sensor dog 11 is shown as being coupled to the adjusting bolt 9, but since the displacement in the Z-axis direction is common to all components driven and connected to the Z-axis drive unit 2, other configurations It can also be bound to an element. When the sensor 1 is implemented as a known beam sensor capable of measuring a distance, a beam generated from the sensor 1 may be reflected from the sensor dog 11 and directed to the sensor 1, whereby the Z-axis drive unit 2 The up-and-down displacement of can be precisely measured.

도면부호 5는 프레임을 지시한다. 프레임(5)은 백킹 플레이트(6) 상부에 도면부호 15 및 16에 의해 지시되는 구성요소들, 즉 탑 플레이트(top plate, 15)와 절연 블록(insulating block, 16)을 경유하여 설치될 수 있다. 기판 처리 장치의 작동 중에는 백킹 플레이트(6)에 RF 전류가 흐르기 때문에 이러한 RF 전류가 프레임(5)을 타고 전달되는 것을 방지하는 차폐 요소가 필요하고, 절연 재질로 형성되는 절연 블록(16)이 RF 전류 차폐 기능을 수행한다. 도 5에 도시된 바와 같이, 프레임(5) 외부에는 모터(4)와 센서(1) 등이 설치되고, 프레임(5) 상부에 뚫린 구멍을 통하여 Z축 구동부(2)가 프레임(5) 내부로 진입할 수 있다. Z축 구동부(2) 아래에 설치되는 상술한 구성요소들은 모두 프레임(5) 내부에 설치될 수 있다.Reference numeral 5 indicates a frame. The frame 5 may be installed on top of the backing plate 6 via components indicated by reference numerals 15 and 16, namely a top plate 15 and an insulating block 16. . Since RF current flows in the backing plate 6 during the operation of the substrate processing apparatus, a shielding element is required to prevent such RF current from being transmitted along the frame 5, and the insulating block 16 formed of an insulating material is RF. It performs current shielding function. As shown in FIG. 5, the motor 4 and the sensor 1 are installed outside the frame 5, and the Z-axis drive unit 2 is installed inside the frame 5 through a hole drilled in the upper part of the frame 5. can enter. All of the above-described components installed under the Z-axis drive unit 2 may be installed inside the frame 5 .

이상에서 본 발명이 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항과 한정된 실시예 및 도면에 의하여 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위하여 제공된 것일 뿐, 본 발명이 상기 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변경을 꾀할 수 있다.Although the present invention has been described above with specific details such as specific components and limited embodiments and drawings, these are only provided to help a more general understanding of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiments, and the present invention Those with ordinary knowledge in the technical field to which the invention pertains may seek various modifications and changes from these descriptions.

따라서, 본 발명의 사상은 상기 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 또는 이로부터 등가적으로 변경된 모든 범위는 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Therefore, the spirit of the present invention should not be limited to the above-described embodiments and should not be determined, and all scopes equivalent to or equivalently changed from the claims as well as the claims described below are within the scope of the spirit of the present invention. will be said to belong to

1: 센서
2: Z축 구동부
3: 커플링
4: 모터
5: 프레임
6: 백킹 플레이트
7: 샤워 헤드
8: 제1 절연체
9: 조절 볼트
10: 벨로우즈
11: 센서 도그
12: 제2 절연체
13: 스톱퍼
14: 제3 절연체
15: 탑 플레이트
16: 절연 블록1: sensor
2: Z-axis drive unit
3: Coupling
4: motor
5: frame
6: backing plate
7: shower head
8: first insulator
9: adjustment bolt
10: Bellows
11: sensor dog
12: second insulator
13: stopper
14: third insulator
15: top plate
16: Insulation block

Claims (5)

기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부에 있어서,
전력이 인가되어 회전 동력을 생성하는 모터(4)와,
상기 모터의 회전 동력을 상하 방향 변위로 전환하는 Z축 구동부(2)와,
상기 Z축 구동부(2)에 연결된 제1 절연체(8)와,
상기 제1 절연체(8)에 연결되고, 백킹 플레이트(6)를 관통하여 샤워 헤드(7)에 결합되는 조절 볼트(9)와,
상하 방향으로 변위 가능하고, 내부의 진공과 외부의 대기압을 분리하는 벨로우즈(10)와,
상기 조절 볼트(9)와 상기 벨로우즈(10) 사이에 배치된 제2 절연체(12)와,
상기 벨로우즈(10)와 상기 백킹 플레이트(6) 사이에 배치된 제3 절연체(14)를 포함하고,
상기 모터(4)의 회전에 의한 상기 Z축 구동부(2)의 상하 방향 변위에 의하여 상기 샤워 헤드(7)가 상방으로 들리거나 하방으로 처지는 정도가 조절되고,
상기 제1 절연체(8)는 상기 샤워 헤드(7)에 흐르는 RF 전류가 상기 조절 볼트(9)를 통해 상기 Z축 구동부(2) 및 이에 연결된 모터(4)로 전달되는 것을 차단하고,
상기 제2 절연체(12)는 상기 샤워 헤드(7)에 흐르는 RF 전류가 상기 조절 볼트(9)를 통해 상기 벨로우즈(10)로 전달되는 것을 차단하고,
상기 제3 절연체(14)는 상기 백킹 플레이트(6)에 흐르는 RF 전류가 상기 벨로우즈(10)로 전달되는 것을 차단하는,
기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부.In the shower head support and control unit of the substrate processing apparatus,
A motor 4 to which power is applied to generate rotational power;
A Z-axis driving unit 2 for converting the rotational power of the motor into vertical displacement;
A first insulator 8 connected to the Z-axis driving unit 2;
An adjustment bolt 9 connected to the first insulator 8 and coupled to the shower head 7 through the backing plate 6;
A bellows 10 that can be displaced in the vertical direction and separates the internal vacuum from the external atmospheric pressure;
A second insulator 12 disposed between the adjusting bolt 9 and the bellows 10;
A third insulator 14 disposed between the bellows 10 and the backing plate 6,
The degree to which the shower head 7 is lifted upward or drooped downward is controlled by the vertical displacement of the Z-axis drive unit 2 by the rotation of the motor 4,
The first insulator 8 blocks the RF current flowing in the shower head 7 from being transferred to the Z-axis driving unit 2 and the motor 4 connected thereto through the adjusting bolt 9,
The second insulator 12 blocks the RF current flowing in the shower head 7 from being transferred to the bellows 10 through the adjusting bolt 9,
The third insulator 14 blocks the RF current flowing through the backing plate 6 from being transferred to the bellows 10,
A shower head support and control unit of a substrate processing apparatus. 제1항에 있어서,
상기 기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부는 상기 백킹 플레이트(6)의 주변부와 중앙부 사이의 임의의 위치에 복수개로 배치되는,
기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부.According to claim 1,
The shower head support and control unit of the substrate processing apparatus is disposed in a plurality at an arbitrary position between the periphery and the center of the backing plate 6,
A shower head support and control unit of a substrate processing apparatus. 삭제delete 제2항에 있어서,
센서(1)를 더 포함하고,
상기 센서(1)는 상기 Z축 구동부(2)의 변위에 따라 상하 변위 하는 구성요소에 부착된 센서 도그(11)와 상호 작용하여 상기 Z축 구동부(2)의 변위를 측정하는,
기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부.According to claim 2,
Further comprising a sensor (1),
The sensor 1 interacts with a sensor dog 11 attached to a component that vertically displaces according to the displacement of the Z-axis drive unit 2 to measure the displacement of the Z-axis drive unit 2,
A shower head support and control unit of a substrate processing apparatus. 제4항에 있어서, 상기 벨로우즈(10)에 부착된 스톱퍼(13)를 더 포함하고,
상기 스톱퍼(13)는 상기 벨로우즈(10)의 상방 변위 또는 하방 변위 또는 상하방 변위를 제한하는,
기판 처리 장치의 샤워 헤드 지지 및 조절부.The method of claim 4, further comprising a stopper (13) attached to the bellows (10),
The stopper 13 limits the upper displacement or lower displacement or upper and lower displacement of the bellows 10,
A shower head support and control unit of a substrate processing apparatus.
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