KR102525164B1 - 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지 - Google Patents

인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지 Download PDF

Info

Publication number
KR102525164B1
KR102525164B1 KR1020180094626A KR20180094626A KR102525164B1 KR 102525164 B1 KR102525164 B1 KR 102525164B1 KR 1020180094626 A KR1020180094626 A KR 1020180094626A KR 20180094626 A KR20180094626 A KR 20180094626A KR 102525164 B1 KR102525164 B1 KR 102525164B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
semiconductor chip
hole
package substrate
substrate
package
Prior art date
Application number
KR1020180094626A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200019041A (ko
Inventor
장근호
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020180094626A priority Critical patent/KR102525164B1/ko
Priority to US16/238,088 priority patent/US10714401B2/en
Priority to CN201910178133.0A priority patent/CN110828390B/zh
Publication of KR20200019041A publication Critical patent/KR20200019041A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102525164B1 publication Critical patent/KR102525164B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/315Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed the encapsulation having a cavity
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49838Geometry or layout
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/13Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5384Conductive vias through the substrate with or without pins, e.g. buried coaxial conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5386Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/11Printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K1/115Via connections; Lands around holes or via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/181Printed circuits structurally associated with non-printed electric components associated with surface mounted components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16227Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/16237Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the bump connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • H01L2224/818Bonding techniques
    • H01L2224/81801Soldering or alloying
    • H01L2224/81815Reflow soldering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • H01L23/49816Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1515Shape
    • H01L2924/15151Shape the die mounting substrate comprising an aperture, e.g. for underfilling, outgassing, window type wire connections
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1532Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/1533Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/15331Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

위하여 본 발명의 기술적 사상은 실장 영역을 포함하고, 상기 실장 영역 내에 마련된 관통홀을 포함하는 패키지 기판, 및 상기 실장 영역 상에 실장된 반도체 칩을 포함하고, 상기 패키지 기판의 상기 관통홀은 상기 반도체 칩의 제1 끝단보다 상기 제1 끝단에 반대된 상기 반도체 칩의 제2 끝단에 더 인접한 반도체 패키지를 제공한다.

Description

인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지 {Printed circuit board, and semiconductor package including the same}
본 발명의 기술적 사상은 인쇄회로기판 및 이를 가지는 반도체 패키지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 칩을 실장하기 위한 인쇄회로기판, 그리고 몰드 물질에 의해 몰딩된 반도체 칩이 인쇄회로기판 상에 실장된 반도체 패키지에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 패키지는 반도체 칩을 기판에 탑재하고, 기판에 형성된 소정의 회로 패턴과 반도체 칩을 전기적으로 연결시킨 후 몰드 수지로 몰딩하는 방식으로 제작되고 있다. 반도체 칩과 기판을 이들 사이에 개재된 범프를 이용하여 연결하는 플립칩 구조의 반도체 패키지의 경우, 반도체 칩과 기판 사이를 몰드 물질로 채우는 언더필 공정을 수행하고 있다.
본 발명의 기술적 사상이 해결하고자 하는 과제는 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지를 제공하는데 있다.
상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기술적 사상은 실장 영역을 포함하고, 상기 실장 영역 내에 마련된 관통홀을 포함하는 패키지 기판, 및 상기 실장 영역 상에 실장된 반도체 칩을 포함하고, 상기 패키지 기판의 상기 관통홀은 상기 반도체 칩의 제1 끝단보다 상기 제1 끝단에 반대된 상기 반도체 칩의 제2 끝단에 더 인접한 반도체 패키지를 제공한다.
상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기술적 사상은 패키지 기판, 상기 패키지 기판에 실장되고, 제1 끝단 및 상기 제1 가장지리에 반대된 제2 끝단을 가지는 반도체 칩, 및 상기 반도체 칩과 패키지 기판의 제1 면 사이에 개재된 언더필부 및 상기 패키지 기판을 관통하는 연장부를 포함하는 몰딩층을 포함하고, 상기 연장부는 상기 반도체 칩의 상기 제1 끝단과 상기 반도체 칩의 상기 제2 끝단 사이에서 상기 반도체 칩의 상기 제2 끝단으로 치우쳐 배치된 반도체 패키지를 제공한다.
상술한 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 기술적 사상은 몰드 물질이 일 방향으로 주입되는 MUF(molded underfill) 공정 용 인쇄회로기판으로서, 상기 몰드 물질이 주입되는 쪽의 제1 끝단 및 상기 제1 끝단에 반대된 제2 끝단을 가지는 기판 베이스와, 상기 기판 베이스를 관통하고, 상기 몰드 물질이 통과시키도록 구성된 관통홀을 포함하고, 상기 관통홀은 상기 기판 베이스의 상기 제1 끝단보다 상기 기판 베이스의 상기 제2 끝단에 보다 더 인접한 인쇄회로기판을 제공한다.
본 발명의 기술적 사상에 따른 반도체 패키지에 의하면, 몰딩 공정 시 반도체 칩과 패키지 기판 사이에서 에어 트랩이 형성되는 부분에 패키지 기판을 관통하는 관통홀이 형성되므로, 반도체 칩과 패키지 기판 사이에 충진된 몰드 내에 보이드 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
도 1a 내지 도 1d는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 설명하기 위한 도면들이다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지를 설명하기 위한 도면들이다.
도 3 내지 도 8은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 나타내는 도면들이다.
도 9a 내지 도 16b는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 패키지 기판의 관통홀들을 설명하기 위한 도면들이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술적 사상의 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 도면 상의 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 사용하고, 이들에 대한 중복된 설명은 생략한다.
도 1a 내지 도 1d는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10)를 설명하기 위한 도면들이다. 도 1a는 반도체 패키지(10)의 분리 사시도이고, 도 1b는 반도체 패키지(10)의 평면도, 도 1c는 도 1b의 ⅠC-ⅠC‘선에 따른 반도체 패키지(10)의 단면도이고, 도 1d는 도 1b의 ⅠD-ⅠD’선에 따른 반도체 패키지(10)의 단면도이다.
도 1a 내지 도 1d를 참조하면, 반도체 패키지(10)는 패키지 기판(100) 및 반도체 칩(200)을 포함할 수 있다.
패키지 기판(100)은, 예를 들어 인쇄회로기판(Printed circuit board, PCB)일 수 있다. 패키지 기판(100)은 기판 베이스(110), 기판 베이스(110)의 제1 면(118) 상의 상부 연결 패드(121) 및 기판 베이스(110)의 제2 면(119) 상의 하부 연결 패드(123)를 포함할 수 있다.
기판 베이스(110)는 패키지 기판(100)의 전체적인 외형을 형성할 수 있으며, 예를 들어 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리이미드 중에서 선택되는 적어도 하나의 물질로 이루어질 수 있다. 기판 베이스(110)의 내부에는 상기 상부 연결 패드(121) 및 하부 연결 패드(123)를 전기적으로 연결하기 위한 내부 인터커넥션 구조가 마련될 수 있다. 상부 연결 패드(121)는 반도체 칩(200)의 하면 상의 도전성 연결 구조체(220)에 연결되고, 하부 연결 패드(123)는 외부 연결 단자(500)에 연결될 수 있다.
기판 베이스(110)는 반도체 칩(200)이 실장되는 실장 영역(111)을 포함할 수 있다. 실장 영역(111)은 반도체 칩(200)이 실장되는 영역으로서, 실장 영역(111)과 반도체 칩(200)은 수직 방향(예를 들어, 제3 방향(D3))에 대해 실질적으로 중첩(overlap)될 수 있다. 실장 영역(111)이 반도체 칩(200)과 수직 방향으로 중첩되므로, 실장 영역(111)은 반도체 칩(200)과 동일한 형상 및 사이즈를 가질 수 있다. 또한, 제1 방향(D1)을 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1)에 수직한 방향으로 정의하고 제2 방향(D2)을 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1)에 평행한 방향으로 정의할 때, 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)에 평행한 평면 상에서 실장 영역(111)의 중심(C1)과 반도체 칩(200)의 중심(C2)은 서로 일치할 수 있다. 또한, 제1 방향(D1)에 따른 반도체 칩(200)의 제1 폭(W1)은 실장 영역(111)의 제1 방향(D1)에 따른 폭과 실질적으로 동일할 수 있고, 제2 방향(D2)에 따른 반도체 칩(200)의 제2 폭(W2)은 실장 영역(111)의 제2 방향(D2)에 따른 폭과 실질적으로 동일할 수 있다.
반도체 칩(200)은 패키지 기판(100)의 실장 영역(111) 상에 실장될 수 있다. 반도체 칩(200)은 플립 칩(flip chip) 방식으로 패키지 기판(100) 상에 실장될 수 있다. 예를 들어, 반도체 칩(200)은 복수의 도전성 연결 구조체(220), 예를 들면 범프(bump)를 통해 패키지 기판(100)의 상부 연결 패드(121)에 연결될 수 있다.
반도체 칩(200)은 예를 들면, 메모리 칩일 수 있다. 메모리 칩은 예를 들면, DRAM(Dynamic Random Access Memory) 또는 SRAM(Static Random Access Memory)과 같은 휘발성 메모리 반도체 칩이거나, PRAM(Phase-change Random Access Memory), MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory), FeRAM(Ferroelectric Random Access Memory) 또는 RRAM(Resistive Random Access Memory)과 같은 비휘발성 메모리 칩일 수 있다. 반도체 칩(200)은 예를 들면, 중앙처리장치(CPU, MPU), 애플리케이션 프로세서(AP) 등과 같은 로직 칩일 수 있다.
도면에서는 반도체 패키지(10)는 하나의 반도체 칩을 포함하는 것으로 도시되었으나, 반도체 패키지(10)는 복수의 반도체 칩을 포함할 수도 있다. 예를 들어, 반도체 칩(200)은 복수의 반도체 칩이 수직으로 적층된 칩 스택(chip stack)일 수 있다.
패키지 기판(100)은 기판 베이스(110)를 수직으로 관통하는 관통홀(130)을 포함할 수 있다. 관통홀(130)은 패키지 기판(100)의 실장 영역(111) 내에 배치되고, 실장 영역(111)의 중심(C1) 또는 반도체 칩(200)의 중심(C2)으로부터 일정 거리 이격될 수 있다.
예를 들어, 실장 영역(111)의 중심(C1)을 제2 방향(D2)으로 가로지르는 중심선에 대하여, 관통홀(130)은 상기 중심선으로부터 제1 방향(D1)으로 일정 거리 이격될 수 있다. 즉, 관통홀(130)은 실장 영역(111)의 제1 가장자리(111E1)와 제1 가장자리(111E1)에 반대된 제2 가장자리(111E2) 사이에 배치되되, 제1 가장자리(111E1)보다 제2 가장자리(111E2)에 더 인접할 수 있다. 바꿔 말해서, 관통홀(130)은 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1)과 제1 끝단(210E1)에 반대된 제2 끝단(210E2) 사이에 배치되되, 제1 끝단(210E1)보다 제2 끝단(210E2)에 더 인접할 수 있다.
예시적인 실시예들에서, 제1 방향(D1)에 따른 관통홀(130)과 실장 영역(111)의 제1 가장자리(111E1) 사이의 제1 거리(M1)는 제1 방향(D1)에 따른 관통홀(130)과 실장 영역(111)의 제2 가장자리(111E2) 사이의 제2 거리(M2)보다 크며, 상기 제1 거리(M1)는 상기 제2 거리(M2)의 약 1.2배 내지 약 4배 사이일 수 있고, 또는 약 1.5배 내지 약 3배 사이일 수 있다. 또는, 상기 제1 거리(M1)는 상기 제2 거리(M2)의 약 2배일 수 있다. 이 때, 상기 제1 거리(M1)는 제1 방향(D1)에 따른 관통홀(130)과 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1) 사이의 거리와 실질적으로 동일할 수 있고, 상기 제2 거리(M2)는 제1 방향(D1)에 따른 관통홀(130)과 반도체 칩(200)의 제2 끝단(210E2) 사이의 거리와 실질적으로 동일할 수 있다.
또한, 패키지 기판(100)의 중심은, 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)에 평행한 평면 상에서, 실장 영역(111)의 중심(C1) 및/또는 반도체 칩(200)의 중심(C2)과 대체로 일치할 수 있다. 이 경우, 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1)에 인접한 패키지 기판(100)의 끝단을 패키지 기판(100)의 제1 끝단(110E1)로 정의하고 패키지 기판(100)의 제1 끝단(110E1)에 반대된 끝단을 패키지 기판(100)의 제2 끝단(110E2)로 정의할 때, 관통홀(130)은 패키지 기판(100)의 제1 끝단(110E1)보다 패키지 기판(100)의 제2 끝단(110E2)에 더 인접할 수 있다.
한편, 도면에는 도시되지 않았으나, 패키지 기판(100)과 반도체 칩(200) 사이에는 언더필 물질층이 개재될 수 있다. 상기 언더필 물질층은 패키지 기판(100)과 반도체 칩(200) 사이에 충진될 수 있고, 패키지 기판(100)과 반도체 칩(200) 사이에 개재된 복수의 도전성 연결 구조체(220)를 감쌀 수 있다.
예를 들어, 패키지 기판(100)과 반도체 칩(200) 사이를 채우는 상기 언더필 물질층은 언더필 공정을 통해 형성될 수 있다. 이 때, 패키지 기판(100)의 관통홀(130)은 상기 언더필 공정 동안 패키지 기판(100)과 반도체 칩(200) 사이에 보이드(void) 결함이 발생하지 않도록 공기를 방출하는 벤트 홀(vent hole)로 기능할 수 있다. 몰딩 공정 시 관통홀(130)을 통해 공기가 방출되는 과정은 도 3 내지 도 8을 참조하여 후술하도록 한다.
도 2a 내지 도 2e는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지(10a)를 설명하기 위한 도면들이다. 도 2a는 반도체 패키지(10a)의 사시도이고, 도 2b는 반도체 패키지(10a)의 평면도이고, 도 2c는 도 2b의 ⅡC-ⅡC’ 선에 따른 반도체 패키지(10a)의 단면도이고, 도 2d는 도 2b의 ⅡD-ⅡD’ 선에 따른 반도체 패키지(10a)의 단면도이고, 도 2e는 도 2b의 ⅡE-ⅡE' 선에 따른 반도체 패키지(10a)의 단면도이다. 도 2a 내지 도 2e에 도시된 반도체 패키지(10a)는 몰딩층(300)을 더 포함한다는 점을 제외하고는 도 1a 내지 도 1d에 도시된 반도체 패키지(10)와 대체로 동일할 수 있다.
도 2a 내지 도 2e를 참조하면, 반도체 패키지(10a)는 패키지 기판(100), 패키지 기판(100) 상에 실장된 반도체 칩(200), 및 몰딩층(300)을 포함할 수 있다.
몰딩층(300)은 반도체 칩(200)의 외곽 부분을 덮는 상부 몰딩부(310) 및 반도체 칩(200)과 패키지 기판(100) 사이에 충진된 언더필부(320)를 포함할 수 있다. 예시적인 실시예들에서, 몰딩층(300)은 패키지 기판(100)과 반도체 칩(200) 사이의 공간 부분, 그리고 반도체 칩(200)의 외곽 부분을 한 번의 몰딩 공정을 통해 몰딩하는 몰드 언더필(molded underfill, MUF) 공정을 통해 형성될 수 있다. 이 경우, 상부 몰딩부(310) 및 언더필부(320)는 동일한 몰드 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 몰딩층(300)은 에폭시 몰딩 컴파운드(epoxy molding compound)로 형성될 수 있다.
몰딩층(300)은 관통홀(130)의 적어도 일부를 채우는 연장부(330)를 포함할 수 있다. 연장부(330)는 언더필부(320)에 연결되고, 패키지 기판(100)을 관통할 수 있다. 연장부(330)는 관통홀(130)의 전부를 채울 수 있으나, 이와 다르게 관통홀(130)의 일부만을 채울 수도 있다. 이러한 연장부(330)는 MUF 공정 동안에 패키지 기판(100)과 반도체 칩(200) 사이로 유동하는 몰드 물질이 관통홀(130)로 유입되고, 관통홀(130)에 유입된 상기 몰드 물질이 경화되어 형성될 수 있다.
전술한 바와 같이 패키지 기판(100)의 관통홀(130)은 실장 영역(도 1a의 111)의 중심(도 1a의 C1) 및/또는 반도체 칩(200)의 중심으로부터 일정 거리 이격되므로, 관통홀(130)을 채우는 연장부(330)는 실장 영역(111)의 중심(C1) 및/또는 반도체 칩(200)의 중심으로부터 일정 거리 이격될 수 있다.
예시적인 실시예들에서, 연장부(330)는 실장 영역(111)의 제1 가장자리(도 1a의 111E1)와 실장 영역(111)의 제2 가장자리(도 1a의 111E2) 사이에 배치되되, 실장 영역(111)의 제1 가장자리(111E1)보다 실장 영역(111)의 제2 가장자리(111E2)에 더 인접할 수 있다. 바꿔 말해서, 연장부(330)는 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1)과 반도체 칩(200)의 제2 끝단(210E2) 사이에 배치되되, 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1)보다 반도체 칩(200)의 제2 끝단(210E2)에 더 인접할 수 있다.
예시적인 실시예들에서, 제1 방향(D1)으로 연장부(330)가 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1)로부터 이격된 제3 거리(M3)는 제1 방향(D1)으로 연장부(330)가 반도체 칩(200)의 제2 끝단(210E2)로부터 이격된 제4 거리(M4)보다 클 수 있고, 상기 제3 거리(M3)는 상기 제4 거리(M4)의 약 1.2배 내지 약 4배 사이일 수 있고, 또는 약 1.5배 내지 약 3배 사이일 수 있다. 또는, 상기 제3 거리(M3)는 상기 제4 거리(M4) 약 2배일 수 있다.
또한, 패키지 기판(100)의 중심은, 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)에 평행한 평면 상에서, 실장 영역(111)의 중심(도 1a의 C1) 또는 반도체 칩(200)의 중심(도 1a의 C2)과 대체로 일치할 수 있다. 이 경우, 연장부(330)는 패키지 기판(100)의 제1 끝단(110E1)보다 패키지 기판(100)의 제2 끝단(110E2)에 더 인접할 수 있다.
몰딩층(300)은 패키지 기판(100)의 제2 면(119) 상에 마련된 하부 몰딩부(340)를 포함할 수 있다. 하부 몰딩부(340)는 관통홀(130)을 채우는 연장부(330)에 연결될 수 있다. 하부 몰딩부(340)는 패키지 기판(100)의 제2 면(119) 상에서 일 방향으로 연장된 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 하부 몰딩부(340)는 패키지 기판(100)의 제2 면(119) 상에서 제1 방향(D1)으로 연장될 수 있다. 이러한 하부 몰딩부(340)는 MUF 공정 동안에 관통홀(130)을 통해 흐른 몰드 물질이 패키지 기판(100)의 제2 면(119)과 하부 금형(예를 들어, 도 7의 620 참조) 사이의 공간을 따라 흐르고, 패키지 기판(100)의 제2 면(119)과 상기 하부 금형 사이의 상기 몰드 물질이 경화되어 형성될 수 있다.
도 2d에 도시된 것과 같이, 하부 몰딩부(340)는 제1 방향(D1)으로 패키지 기판(100)의 제1 끝단(110E1)으로부터 제2 끝단(110E2)까지 연장할 수 있다. 또는, 도 2d에 도시된 것과 다르게, 하부 몰딩부(340)의 일단은 패키지 기판(100)의 제1 끝단(110E1)으로부터 이격될 수도 있고, 또는 하부 몰딩부(340)의 타단은 패키지 기판(100)의 제2 끝단(110E2)으로부터 이격될 수도 있다.
도 3 내지 도 8은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 나타내는 도면들이다. 도 3은 기판(101) 및 기판(101) 상에 실장된 반도체 칩(200)을 나타내는 단면도이다. 도 4 내지 도 7은 몰드 장치(600)를 이용한 몰드 공정을 나타내는 단면도들이다. 도 8은 도 6의 "Ⅷ"로 표시된 부분에서 기판과 반도체 칩(200) 사이에서 몰드 물질의 흐름을 보여주는 도면이다.
도 3을 참조하면, 기판(101) 상에 반도체 칩(200)을 실장한다. 반도체 칩(200)은 기판(101)의 실장 영역(도 1a의 111 참조) 상에 실장되며, 범프와 같은 복수의 도전성 연결 구조체(220)를 통해 기판(101)에 연결될 수 있다. 예를 들어, 반도체 칩(200)의 하면 상의 도전성 연결 구조체들(220) 각각이 기판(101)의 상부 연결 패드들(121) 상에 놓이도록 반도체 칩(200)을 기판(101) 상에 위치시키고, 도전성 연결 구조체(220)가 상부 연결 패드(121)에 부착되도록 리플로우 공정을 수행할 수 있다.
도 3에서는 하나의 반도체 칩(200)이 기판(101) 상에 실장된 것으로 도시되었으나, 이와 다르게 복수의 반도체 칩(200)이 기판(101) 상에 실장될 수도 있다. 즉, 기판(101)은 복수의 반도체 칩(200)을 실장하기 위한 복수의 실장 영역을 포함하며, 복수의 반도체 칩(200) 각각은 복수의 실장 영역 각각 상에 실장될 수 있다. 이 경우, 기판(101)은 반도체 패키지의 제조 시 공정 상의 스루풋(throughput)을 향상시키기 위해 다수의 PCB가 연결된 PCB 스트립(strip) 구조를 가질 수 있다.
도 4 내지 도 7을 참조하면, 몰드 장치(600)는 MUF 공정을 수행하여 몰딩층(도 2a의 300)을 형성할 수 있다.
먼저, 도 4에 도시된 바와 같이, 몰드 장치(600)의 하부 금형(620)과 상부 금형(610) 사이의 캐비티(630) 내에 도 3에 도시된 기판(101) 및 반도체 칩(200)을 배치한다. 기판(101)은 진공 흡착 또는 기계적 클램핑 방식에 의해 고정될 수 있다. 이 때, 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1) 및 기판(101)의 제1 끝단(101E1)은 몰드 물질(70)이 주입되는 몰드 장치(600)의 게이트 부분(641)을 향하고, 반도체 칩(200)의 제2 끝단(210E2) 및 기판(101)의 제2 끝단(101E2)은 공기가 배출되는 몰드 장치(600)의 벤트 부분(643)을 향할 수 있다.
도 5 내지 도 7을 참조하면, 하부 금형(620)과 상부 금형(610) 사이에 기판(101) 및 반도체 칩(200)을 배치한 이후, 상부 금형(610)과 하부 금형(620)을 서로 클램핑시키고, 상부 금형(610)과 하부 금형(620) 사이로 몰드 물질(70)을 주입할 수 있다. 예를 들어, 상기 몰드 물질(70)은 에폭시 몰드 컴파운드를 포함할 수 있다.
몰드 물질(70)은 몰드 장치(600)의 게이트 부분(641)을 통해 주입되며, 몰딩 공정 동안 상기 게이트 부분(641)으로부터 벤트 부분(643)을 향해 유동할 수 있다.
좀 더 구체적으로, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 몰드 물질(71, 73, 75)은 반도체 칩(200)을 덮고 반도체 칩(200)과 기판(101) 사이를 채울 수 있고, 도 7에 도시된 바와 같이 관통홀(130)을 통해 기판(101)의 하면과 하부 금형(620) 사이로 유동하는 몰드 물질(77)은 기판(101)의 하면의 일부를 덮을 수 있다.
한편, 반도체 칩(200)과 기판(101) 사이의 작은 틈으로 흐르는 몰드 물질의 제1 흐름(71)에는 상대적으로 큰 유동 저항이 발생하므로, 반도체 칩(200)과 기판(101) 사이로 흐르는 몰드 물질의 제1 흐름(71)은 반도체 칩(200)의 제1 면(118)과 상부 금형(610) 사이로 흐르는 몰드 물질의 제2 흐름(73)보다 작은 유속으로 유동하게 된다.
이 때, 도 6에 도시된 바와 같이, 몰드 물질의 제2 흐름(73)은 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1)로부터 제2 끝단(210E2)까지 유동한 이후, 몰드 물질의 제2 흐름(73)의 일부는 반도체 칩(200)과 기판(101) 사이로 침투하고, 반도체 칩(200)과 기판(101) 사이에서 몰드 물질의 주입 방향(645)과 반대 방향으로 유동하는 백 플로우(75)가 된다. 이러한 몰드 물질의 백 플로우(75)는 몰드 물질의 주입 방향(645)으로 흐르는 몰드 물질의 제1 흐름(71)과 함께 기판(101)과 반도체 칩(200) 사이를 채우게 된다.
일반적으로, 몰드 물질의 제1 흐름(71)과 몰드 물질의 제2 흐름(73) 간의 비균등한 유동(unbalance flow)은 기판(101)과 반도체 칩(200) 사이에 보이드 결함을 일으키는 원인이 되었다. 왜냐하면, 몰드 물질의 제1 흐름(71)이 기판(101)과 반도체 칩(200) 사이의 공간을 모두 채우기 전에, 몰드 물질의 백 플로우(75)가 주입 방향(645)의 반대 방향으로 유동하기 시작하므로, 제1 흐름(71)과 백 플로우(75) 사이에는 제1 흐름(71)과 백 플로우(75)에 포위된 공기로 이루어진 에어 트랩(80)이 발생하게 된다. 이러한 에어 트랩(80)이 몰딩 공정 동안 방출되지 않는 경우, 기판(101)과 반도체 칩(200) 사이의 몰드에 남아 보이드 결함을 일으키게 된다. 그러나, 본 발명의 예시적인 실시예들에 의하면, 패키지 기판(100)은 몰딩 공정 동안 기판(101)과 반도체 칩(200) 사이의 공기를 방출할 수 있는 관통홀(130)을 가지므로, 반도체 칩(200)과 기판(101) 사이에서 보이드 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 도 6 및 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 흐름(71)과 백 플로우(75)에 포위된 에어 트랩(80)은 반도체 칩(200)의 중심과 반도체 칩(200)의 제2 끝단(210E2) 사이에 형성될 수 있다. 특히, 반도체 칩(200)의 사이즈가 클수록, 예를 들어 몰딩 물질의 주입 방향(645)에 따른 반도체 칩(200)의 폭이 클수록, 에어 트랩(80)은 반도체 칩(200)의 중심으로부터 더 멀어진 부분에 형성될 수 있다. 만약, 도시된 것과 다르게 관통홀(130)이 반도체 칩(200)의 중심에 형성되거나 또는 반도체 칩(200)의 중심과 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1) 사이에 형성된 경우, 공기가 방출되지 못하고 기판(101)과 반도체 칩(200) 사이를 채우는 몰드 내에 남아 보이드 결함을 유발하게 된다. 에어 트랩(80)이 발생하는 부분에 관통홀(130)이 형성되므로, 몰드 물질의 제1 흐름(71)과 백 플로우(75) 사이에 포위된 공기는 관통홀(130)을 통해 배출될 수 있고, 반도체 칩(200)과 기판(101) 사이에서 보이드 결함의 발생이 방지될 수 있다.
나아가, 반도체 칩(200)의 중심 또는 반도체 칩(200)의 중심과 반도체 칩(200)의 제1 끝단(210E1) 사이에 기판(101)을 관통하는 홀이 형성되는 경우, 상기 홀을 통해 몰드 물질의 일부가 흐르면서 상기 홀 근방에서 몰드 물질의 유속이 느려지므로, 상기 홀 근방에서 몰드 물질의 흐름이 비균등해질 수 있다. 그러나, 본 발명의 예시적인 실시예들에 의하면, 관통홀(130)은 반도체 칩(200)의 중심과 반도체 칩(200)의 제2 끝단(210E2) 사이에만 형성되므로, 기판(101)과 반도체 칩(200) 사이의 몰드 물질의 제1 흐름(71)이 불필요하게 불균등해지는 것을 방지할 수 있다.
도 9a 내지 도 16b는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 패키지 기판의 관통홀들(130a, 130b, 130c, 130d, 130e, 130f, 130g, 130h)을 설명하기 위한 도면들이다. 도 9a 내지 도 16b에 있어서, 관통홀의 개수 및/또는 구조를 제외하고는 도 1a 내지 도 1d에 도시된 반도체 패키지(10) 또는 도 2a 내지 도 2e에 도시된 반도체 패키지(10a)와 대체로 동일할 수 있다.
도 9a 및 도 9b를 도 1a와 함께 참조하면, 패키지 기판(100)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 반도체 칩(200)의 제2 끝단(210E2) 사이에 배치된 복수개의 관통홀(130a)을 포함할 수 있다.
복수개의 관통홀(130a)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 실장 영역(111)의 제2 단부(111E2) 사이에 배치되며, 제1 방향(D1)으로 서로 이격되어 배열될 수 있다. 도 9에서는, 3 개의 관통홀(130a)이 패키지 기판(100)에 형성된 것으로 도시되었으나, 2개 또는 4개 이상의 관통홀(130a)이 패키지 기판(100)에 형성될 수도 있다.
예를 들어, 제1 방향(D1)에 따른 반도체 칩(200)의 제1 폭(W1)이 제2 방향(D2)에 따른 반도체 칩(200)의 제2 폭(W2)보다 큰 경우, 반도체 칩(200)과 패키지 기판(100) 사이의 에어 트랩(80)은 제1 방향(D1)으로 긴 형상을 가지도록 형성될 수 있다. 이 때, 복수개의 관통홀(130a)을 에어 트랩(80)의 형상에 대응하도록 제1 방향(D1)으로 배열함으로써, 몰딩 공정 동안 복수개의 관통홀(130a)을 통한 공기의 방출이 보다 효과적으로 이루어질 수 있다.
이 경우, 몰딩층(도 2d의 300 참조)은 복수개의 관통홀(130a)을 채우고 제1 방향(D1)으로 이격된 복수개의 연장부(330)를 포함할 수 있다.
도 10a 및 도 10b를 도 1a와 함께 참조하면, 패키지 기판(100)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 실장 영역(111)의 제2 단부(111E2) 사이에 배치되되, 제2 방향(D2)으로 배열된 복수개의 관통홀(130b)을 포함할 수 있다.
예를 들어, 반도체 칩(200)의 제2 폭(W2)이 반도체 칩(200)의 제1 폭(W1)보다 큰 경우, 반도체 칩(200)과 패키지 기판(100) 사이의 에어 트랩(80)은 제2 방향(D2)으로 긴 형상을 가지도록 형성될 수 있다. 이 때, 복수개의 관통홀(130b)을 에어 트랩(80)의 형상에 대응하도록 제2 방향(D2)으로 배열함으로써, 복수개의 관통홀(130b)을 통한 공기의 방출이 보다 효과적으로 이루어질 수 있다.
이 경우, 몰딩층(도 2d의 300 참조)의 연장부(330)는 복수개의 관통홀(130b)을 채우고 제2 방향(D2)으로 이격된 복수개의 연장부(330)를 포함할 수 있다.
도 11을 도 1a와 함께 참조하면, 패키지 기판(100)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 실장 영역(111)의 제2 단부(111E2) 사이에 배치되되, 2차원 어레이로 배열된 복수개의 관통홀(130c)을 포함할 수 있다. 즉, 복수개의 관통홀(130c)은 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)을 따라 배열될 수 있다.
이 경우, 몰딩층(도 2d의 300 참조)의 연장부(도 2d의 330 참조)는 복수개의 관통홀(130c)을 채우도록 형성되므로, 몰딩층(300)은 2차원 어레이로 배열된 복수개의 연장부(330)를 포함할 수 있다.
도 12를 도 1a와 함께 참조하면, 관통홀(130d)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 실장 영역(111)의 제2 단부(111E2) 사이에 배치되되, 제1 방향(D1)으로 연장될 수 있다. 예를 들어, 관통홀(130d)의 수평 단면은 제1 방향(D1)으로 연장된 라인 형상을 가지거나, 또는 제1 방향(D1)으로 장축을 갖는 타원 형상을 가질 수 있다.
이 경우, 몰딩층(도 2d의 300 참조)의 연장부(도 2d의 330 참조)는 관통홀(130d)의 형상에 대응되는 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 연장부(330)의 수평 단면은 제1 방향(D1)으로 연장된 라인 형상 또는 제1 방향(D1)으로 장축을 갖는 타원 형상을 가질 수 있다.
도 13을 도 1a와 함께 참조하면, 관통홀(130e)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 실장 영역(111)의 제2 단부(111E2) 사이에 배치되되, 제2 방향(D2)으로 연장될 수 있다. 예를 들어, 관통홀(130e)의 수평 단면은 제2 방향(D2)으로 연장된 라인 형상을 가지거나, 또는 제2 방향(D2)으로 장축을 갖는 타원 형상을 가질 수 있다.
이 경우, 몰딩층(도 2d의 300 참조)의 연장부(도 2d의 330 참조)는 관통홀(130e)의 형상에 대응되는 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 연장부(330)의 수평 단면은 제2 방향(D2)으로 연장된 라인 형상 또는 제2 방향(D2)으로 장축을 갖는 타원 형상을 가질 수 있다.
도 14를 도 1a와 함께 참조하면, 관통홀(130f)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 실장 영역(111)의 제2 단부(111E2) 사이에 배치되되, 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2) 각각으로 연장될 수 있다. 예를 들어, 관통홀(130f)은 제1 방향(D1)으로 연장된 라인 형상의 제1 부분 및 제2 방향(D2)으로 연장된 라인 형상의 제2 부분을 가질 수 있다. 이 때, 관통홀(130f)의 상기 제1 부분 및 관통홀(130f)의 상기 제2 부분은 서로 교차할 수 있다.
이 경우, 몰딩층(도 2d의 300 참조)의 연장부(도 2d의 330 참조)는 관통홀(130f)의 형상에 대응되는 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 연장부(330)의 수평 단면은 제1 방향(D1)을 따라 연장된 라인 형상 및 제2 방향(D2) 각각을 따라 연장된 라인 형상을 가질 수 있다.
도 15a 및 도 15b를 도 1a와 함께 참조하면, 패키지 기판(100)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 실장 영역(111)의 제2 단부(111E2) 사이에 배치된 관통홀(130g)을 포함하되, 관통홀(130g)은 제1 관통홀(131) 및 제2 관통홀(133)을 포함할 수 있다. 제2 관통홀(133)은 몰딩 공정 시 공기를 방출하는 역할을 보조적으로 수행하는 부분으로서, 제1 관통홀(131)보다 작은 사이즈를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 관통홀(131)의 수평 단면적은 제2 관통홀(133)의 수평 단면적보다 클 수 있다.
예시적인 실시예들에서, 제1 관통홀(131) 및 제2 관통홀(133)은 제1 방향(D1)으로 배열될 수 있다. 또한, 제1 관통홀(131)은 제1 방향(D1)에 대하여 2개의 제2 관통홀(133) 사이에 배치될 수 있다.
이 경우, 몰딩층(도 2d의 300 참조)은 제1 관통홀(131)을 채우는 제1 연장부(331) 및 제2 관통홀(133)을 채우는 제2 연장부(333)를 포함할 수 있다. 이때, 제1 연장부(331)의 수평 단면적은 제2 연장부(333)의 수평 단면적보다 클 수 있다. 또한, 제1 연장부(331) 및 제2 연장부(333)는 제1 방향(D1)으로 이격될 수 있고, 제1 연장부(331)는 2개의 제2 연장부(333) 사이에 배치될 수 있다.
도 16a 및 도 16b를 도 1a와 함께 참조하면, 패키지 기판(100)은 실장 영역(111)의 중심(C1)과 실장 영역(111)의 제2 단부(111E2) 사이에 배치된 관통홀(130h)을 포함하되, 관통홀(130h)은 제1 관통홀(131a) 및 제1 관통홀(131a) 보다 작은 사이즈를 갖는 제2 관통홀(133a)을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에서, 제1 관통홀(131a) 및 제2 관통홀(133a)은 제2 방향(D2)으로 배열될 수 있다. 또한, 제1 관통홀(131a)은 제2 방향(D2)에 대하여 2개의 제2 관통홀(133a) 사이에 배치될 수 있다.
이 경우, 몰딩층(도 2d의 300 참조)은 제1 관통홀(131a)을 채우는 제1 연장부(331a) 및 제2 관통홀(133a)을 채우는 제2 연장부(333a)를 포함할 수 있다. 이때, 제1 연장부(331a)의 수평 단면적은 제2 연장부(333a)의 수평 단면적보다 클 수 있다. 또한, 제1 연장부(331a) 및 제2 연장부(333a)는 제2 방향(D2)으로 이격될 수 있고, 제1 연장부(331a)는 2개의 제2 연장부(333a) 사이에 배치될 수 있다.
이상에서와 같이 도면과 명세서에서 예시적인 실시예들이 개시되었다. 본 명세서에서 특정한 용어를 사용하여 실시예들을 설명되었으나, 이는 단지 본 개시의 기술적 사상을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 청구범위에 기재된 본 개시의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 개시의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
10: 반도체 패키지 100: 패키지 기판
111: 실장 영역 130: 관통홀
200: 반도체 칩 220: 도전성 연결 구조체
300: 몰딩층 310: 상부 몰딩부
320: 언더필부 330: 연장부
340: 하부 몰딩부

Claims (10)

  1. 실장 영역을 포함하고, 상기 실장 영역 내에 마련된 관통홀을 포함하는 패키지 기판;
    상기 실장 영역에 수직 방향으로 중첩되도록 상기 패키지 기판 상에 실장된 반도체 칩; 및
    상기 반도체 칩과 상기 패키지 기판 사이에 배치된 제1 부분 및 상기 패키지 기판의 상기 관통홀을 적어도 부분적으로 채우는 제2 부분을 포함하는 몰딩층;
    을 포함하고,
    상기 패키지 기판의 상기 관통홀은 상기 반도체 칩의 제1 끝단보다 상기 제1 끝단에 수평 방향으로 반대된 상기 반도체 칩의 제2 끝단에 더 인접한 반도체 패키지.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 관통홀과 상기 반도체 칩의 상기 제1 끝단 사이의 제1 거리는 상기 관통홀과 상기 반도체 칩의 상기 제2 끝단 사이의 제2 거리의 1.5배 내지 3배 사이인 반도체 패키지.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 관통홀은 복수개의 관통홀을 포함하는 반도체 패키지.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 복수개의 관통홀은 상기 반도체 칩의 상기 제1 끝단에 수직한 제1 방향 또는 상기 반도체 칩의 상기 제1 끝단에 평행한 제2 방향으로 배열된 반도체 패키지.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 복수개의 관통홀은 제1 관통홀 및 상기 제1 관통홀보다 작은 사이즈를 갖는 제2 관통홀을 포함하는 반도체 패키지.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 복수개의 관통홀은 제1 관통홀 및 상기 제1 관통홀보다 작은 사이즈를 갖는 2개의 제2 관통홀을 포함하고,
    상기 제1 관통홀은 상기 제1 끝단에 수직한 제1 방향 또는 상기 반도체 칩의 상기 제1 끝단에 평행한 제2 방향으로 상기 2개의 제2 관통홀 사이에 배치된 반도체 패키지.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 관통홀은 상기 반도체 칩의 상기 제1 끝단에 수직한 제1 방향 또는 상기 반도체 칩의 상기 제1 끝단에 평행한 제2 방향으로 연장된 라인 형상을 가지는 반도체 패키지.
  9. 관통홀을 포함하는 패키지 기판;
    상기 패키지 기판의 실장 영역에 수직 방향으로 중첩되도록 상기 패키지 기판 상에 실장되고, 제1 끝단 및 상기 제1 끝단에 수평 방향으로 반대된 제2 끝단을 가지는 반도체 칩; 및
    상기 반도체 칩과 상기 패키지 기판의 제1 면 사이에 개재된 언더필부 및 상기 패키지 기판의 상기 관통홀을 적어도 부분적으로 채우는 연장부를 포함하는 몰딩층;
    을 포함하고,
    상기 연장부는 상기 반도체 칩의 상기 제1 끝단과 상기 반도체 칩의 상기 제2 끝단 사이에서 상기 반도체 칩의 상기 제2 끝단으로 치우쳐 배치된 반도체 패키지.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 몰딩층은 상기 패키지 기판의 상기 제1 면과 반대된 상기 패키지 기판의 제2 면 상에 마련되고 상기 연장부에 연결된 하부 몰딩부를 더 포함하는 반도체 패키지.
KR1020180094626A 2018-08-13 2018-08-13 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지 KR102525164B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180094626A KR102525164B1 (ko) 2018-08-13 2018-08-13 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지
US16/238,088 US10714401B2 (en) 2018-08-13 2019-01-02 Printed circuit board and semiconductor package including the same
CN201910178133.0A CN110828390B (zh) 2018-08-13 2019-03-08 印刷电路板和包括该印刷电路板的半导体封装件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180094626A KR102525164B1 (ko) 2018-08-13 2018-08-13 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200019041A KR20200019041A (ko) 2020-02-21
KR102525164B1 true KR102525164B1 (ko) 2023-04-24

Family

ID=69406419

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180094626A KR102525164B1 (ko) 2018-08-13 2018-08-13 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10714401B2 (ko)
KR (1) KR102525164B1 (ko)
CN (1) CN110828390B (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111370322B (zh) * 2020-03-24 2022-04-01 江苏海莱新创医疗科技有限公司 将片或板状电子元器件密封的固定于基体上的方法
CN113490327B (zh) * 2021-06-24 2024-07-02 浙江清华柔性电子技术研究院 柔性电路结构

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020095192A1 (en) 2001-01-13 2002-07-18 Siliconware Precision Industries Co., Ltd. Method of fabricating a flip-chip ball-grid-array package with molded underfill
US20160351482A1 (en) 2013-08-06 2016-12-01 Jiangsu Changjiang Electronics Technology Co., Ltd Etching-before-packaging three-dimensional system-level metal circuit board structure inversely provided with chip, and technological method

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5838063A (en) * 1996-11-08 1998-11-17 W. L. Gore & Associates Method of increasing package reliability using package lids with plane CTE gradients
KR100225655B1 (ko) 1997-10-23 1999-10-15 윤종용 반도체 패키지의 인쇄회로기판 실장 구조
KR19990033204U (ko) 1999-03-18 1999-08-05 이을돌 좌대가 설치된 동양식 변기
US7566960B1 (en) * 2003-10-31 2009-07-28 Xilinx, Inc. Interposing structure
US8409918B2 (en) * 2010-09-03 2013-04-02 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming pre-molded substrate to reduce warpage during die mounting
KR20120062457A (ko) 2010-12-06 2012-06-14 삼성전자주식회사 솔더 접합 신뢰도를 높이는 반도체 패키지용 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지
KR20130071792A (ko) 2011-12-21 2013-07-01 삼성전자주식회사 Muf용 pcb 및 그 pcb 몰딩 구조
US9950467B2 (en) 2014-05-08 2018-04-24 United Technologies Corporation Method for producing void-free additively manufactured components
KR20160008051A (ko) 2014-07-11 2016-01-21 삼성전자주식회사 패키지 기판 및 반도체 패키지의 제조방법
KR102437774B1 (ko) * 2015-11-17 2022-08-30 삼성전자주식회사 인쇄 회로 기판
KR102499518B1 (ko) 2016-09-12 2023-02-14 삼성전자주식회사 반도체 패키지용 실장 기판, 이를 포함하는 반도체 패키지 및 반도체 패키지의 제조 방법
US10037900B1 (en) * 2017-05-09 2018-07-31 Nxp B.V. Underfill stop using via bars in semiconductor packages

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020095192A1 (en) 2001-01-13 2002-07-18 Siliconware Precision Industries Co., Ltd. Method of fabricating a flip-chip ball-grid-array package with molded underfill
US20160351482A1 (en) 2013-08-06 2016-12-01 Jiangsu Changjiang Electronics Technology Co., Ltd Etching-before-packaging three-dimensional system-level metal circuit board structure inversely provided with chip, and technological method

Also Published As

Publication number Publication date
CN110828390A (zh) 2020-02-21
US20200051879A1 (en) 2020-02-13
CN110828390B (zh) 2023-10-17
US10714401B2 (en) 2020-07-14
KR20200019041A (ko) 2020-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US12057359B2 (en) Semiconductor package and method of fabricating the same
US20160329308A1 (en) Wire bond support structure and microelectronic package including wire bonds therefrom
US11791282B2 (en) Semiconductor package including part of underfill on portion of a molding material surrounding sides of logic chip and memory stack on interposer and method for manufacturing the same
KR101820207B1 (ko) 인터포저를 통한 pop 접합
US11670556B2 (en) Semiconductor package
TWI556379B (zh) 半導體封裝件及其製法
KR102525164B1 (ko) 인쇄회로기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지
US10332854B2 (en) Anchoring structure of fine pitch bva
US11658107B2 (en) Semiconductor package including an interposer and method of fabricating the same
US11854948B2 (en) Semiconductor package
US20170040293A1 (en) Printed circuit board (pcb), method of manufacturing the pcb, and method of manufacturing semiconductor package using the pcb
CN110581107A (zh) 半导体封装及其制造方法
KR102499518B1 (ko) 반도체 패키지용 실장 기판, 이를 포함하는 반도체 패키지 및 반도체 패키지의 제조 방법
US9490225B2 (en) Package structure and fabrication method thereof
KR20220031414A (ko) 반도체 패키지
US20220302002A1 (en) Semiconductor package
KR20200098783A (ko) 인쇄 회로 기판 및 이를 포함하는 반도체 패키지
KR102578888B1 (ko) 반도체 패키지
US20240234286A9 (en) Semiconductor packages
US11894333B2 (en) Semiconductor package
US12033948B2 (en) Semiconductor package
US20240136331A1 (en) Semiconductor package
KR20230031412A (ko) 반도체 패키지 및 그 제조 방법
KR20240140613A (ko) 반도체 패키지의 제조방법 및 이를 위한 패키지 기판
TW202310080A (zh) 封裝結構與其形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant