KR102494385B1 - Laminated Polypropylene Film - Google Patents

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Abstract

폴리염화비닐리덴을 코팅한 폴리프로필렌계 필름에 필적하는 가스 배리어성을 갖는, 프로필렌계 중합체를 사용한 필름과 무기 화합물을 주된 성분으로 하는 박막층을 구비한 적층 폴리프로필렌 필름을 제공하는 것. 폴리프로필렌계 수지를 사용한 폴리프로필렌 필름 기재와 무기 화합물을 주된 성분으로 하는 박막층을 구비한 적층 폴리프로필렌 필름이며, 적층 폴리프로필렌 필름의 150℃에 있어서의 세로 방향의 열 수축률이 7% 이하이고, 산소 투과도가 150mL/m2/day/MPa 이하인 것을 특징으로 하는 적층 폴리프로필렌 필름.To provide a laminated polypropylene film having gas barrier properties comparable to polypropylene films coated with polyvinylidene chloride and comprising a film using a propylene polymer and a thin film layer containing an inorganic compound as a main component. A laminated polypropylene film comprising a polypropylene film substrate using a polypropylene resin and a thin film layer containing an inorganic compound as a main component, wherein the laminated polypropylene film has a longitudinal thermal shrinkage of 7% or less at 150°C, and oxygen A laminated polypropylene film having a permeability of 150 mL/m 2 /day/MPa or less.

Description

적층 폴리프로필렌 필름Laminated Polypropylene Film

본 발명은, 폴리프로필렌계 수지를 사용한 필름과 무기 화합물을 주된 성분으로 하는 박막층을 구비한 적층 폴리프로필렌 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 가스 배리어성이 우수함과 함께, 고온에서의 치수 안정성이나 높은 강성이 요구되는 여러 분야에서 적합하게 사용할 수 있는, 적층 폴리프로필렌 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a laminated polypropylene film comprising a film using a polypropylene resin and a thin film layer containing an inorganic compound as a main component. More specifically, it relates to a laminated polypropylene film that is excellent in gas barrier properties and can be suitably used in various fields requiring dimensional stability at high temperatures and high rigidity.

종래, 폴리프로필렌의 연신 필름은, 유연성과 방습성이 우수하기 때문에, 식품이나 다양한 상품의 포장용, 전기 절연용, 표면 보호 필름 등 광범위한 용도로 범용적으로 사용되어 있었다.Conventionally, stretched polypropylene films have been used universally for a wide range of applications, such as packaging for food and various products, electrical insulation, and surface protection films, because of their excellent flexibility and moisture resistance.

그러나 식품용에서는, 그의 보존을 위해서 필름에 산소 가스 배리어성을 요구하는 경우가 많고, 종래의 폴리프로필렌 필름에 무기 화합물을 증착한 적층 필름은 산소 가스 배리어성이 충분하지 않아, 폴리염화비닐리덴 등의 산소 가스 배리어성을 갖는 수지를 녹인 액을 도포·건조한 것이 사용되어 왔다.However, for food use, oxygen gas barrier properties are often required in films for their preservation, and laminated films in which inorganic compounds are deposited on conventional polypropylene films do not have sufficient oxygen gas barrier properties, such as polyvinylidene chloride and the like. A solution obtained by dissolving a resin having an oxygen gas barrier property of the above and drying it has been used.

그러나, 산소 가스 배리어성 수지를 녹인 액을 도포·건조하는 공정이 있기 때문에 생산 비용의 저감에는 한계가 있고, 게다가 산소 가스 배리어성 수지층을 5㎛ 정도의 두께로 해야 해서, 적층 공정의 시간이 걸리거나 원료 비용이 높아진다는 어려움이 있었다.However, since there is a process of applying and drying a liquid in which the oxygen gas barrier resin is dissolved, there is a limit to reducing the production cost, and in addition, the thickness of the oxygen gas barrier resin layer must be about 5 μm, so the time of the lamination step is reduced. There was a difficulty in that it was caught or the cost of raw materials increased.

게다가, 적층한 후의 필름의 두께가 크기 때문에, 인쇄나 시일, 제대 가공이 하기 어렵다는 과제도 있었다.In addition, since the thickness of the film after lamination is large, there was also a problem that printing, sealing, and bagging were difficult to perform.

그래서, 폴리프로필렌 필름에 무기 화합물 박막을 증착한 적층 필름에서 산소 가스 배리어성이 우수한 것이 요망되고 있었지만, 폴리프로필렌계 필름에 직접 무기 화합물을 증착한 적층 필름은 가스 배리어성이 얻어지지 않았다(예를 들어, 특허문헌 1, 2 참조.).Therefore, it has been desired that laminated films obtained by depositing a thin film of an inorganic compound on a polypropylene film have excellent oxygen gas barrier properties, but a laminated film obtained by depositing an inorganic compound directly on a polypropylene film has not obtained gas barrier properties (for example, For example, see Patent Documents 1 and 2).

일본 특허 공개 평11-105190호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-105190 일본 특허 공개 제2000-355068호 공보Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-355068

본 발명은, 이러한 종래 기술의 과제를 배경으로 이루어진 것이다. 즉, 본 발명의 목적은, 폴리염화비닐리덴을 코팅한 폴리프로필렌계 필름에 필적하는 가스 배리어성을 갖고, 저비용이고 가공성도 우수한, 폴리프로필렌계 수지를 사용한 폴리프로필렌 필름 기재와 무기 화합물을 주된 성분으로 하는 박막층을 구비한 적층 폴리프로필렌 필름을 제공하는 데 있다.The present invention is made against the background of these prior art problems. That is, an object of the present invention is to provide a polypropylene film substrate using a polypropylene resin, which has gas barrier properties comparable to that of a polypropylene film coated with polyvinylidene chloride, and is low in cost and excellent in processability, and an inorganic compound as the main components. It is to provide a laminated polypropylene film having a thin film layer to be.

본 발명자는, 이러한 목적을 달성하기 위해서 예의 검토한 결과, 본 발명의 완성에 이르렀다. 즉, 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 폴리프로필렌계 수지를 사용한 폴리프로필렌 필름 기재와 무기 화합물을 주된 성분으로 하는 박막층을 구비한 적층 폴리프로필렌 필름이며, 적층 폴리프로필렌 필름의 150℃에 있어서의 세로 방향의 열 수축률이 7% 이하이고, 산소 투과도가 150mL/m2/day/MPa 이하인 것을 특징으로 하는 적층 폴리프로필렌 필름이다.The present inventors, as a result of intensive studies in order to achieve such an object, have reached the completion of the present invention. That is, the laminated polypropylene film of the present invention is a laminated polypropylene film comprising a polypropylene film base material using a polypropylene resin and a thin film layer containing an inorganic compound as a main component, A laminated polypropylene film characterized by having a thermal shrinkage rate of 7% or less in the direction and an oxygen permeability of 150 mL/m 2 /day/MPa or less.

종래의 적층 폴리프로필렌 필름은, 세로 방향의 150℃에서의 수축률이 9% 이상이고, 폴리프로필렌 필름 기재에 무기 화합물을 증착할 때의 증착 입자가 갖는 열에너지 혹은 무기 화합물을 수용하는 감과로부터의 복사열에 의해 폴리프로필렌 필름 기재가 수축을 일으키고, 그의 영향에 의해 무기 화합물층 자체에 가스 배리어성이 저하되는 변화가 발생하였다고 추정하고 있다.A conventional laminated polypropylene film has a shrinkage rate of 9% or more at 150° C. in the longitudinal direction, and the thermal energy of deposited particles when depositing an inorganic compound on a polypropylene film substrate or the radiant heat from the permeation of the inorganic compound It is presumed that the polypropylene film substrate causes shrinkage, and a change in the gas barrier property of the inorganic compound layer itself is reduced due to the influence thereof.

이 경우에 있어서, 상기 적층 폴리프로필렌 필름의 헤이즈가 6% 이하인 것이 적합하다.In this case, it is preferable that the haze of the laminated polypropylene film is 6% or less.

이 경우에 있어서, 상기 적층 폴리프로필렌 필름의 150℃에 있어서의 가로 방향의 열 수축률이 7% 이하인 것이 적합하다.In this case, it is suitable that the heat shrinkage rate of the transverse direction in 150 degreeC of the said laminated polypropylene film is 7 % or less.

이 경우에 있어서, 상기 적층 폴리프로필렌 필름 및 폴리올레핀 필름을 포함하는 적층체가 적합하다.In this case, a laminate comprising the above laminated polypropylene film and polyolefin film is suitable.

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름에 따르면, 폴리염화비닐리덴을 코팅한 폴리프로필렌계 필름에 필적하는 산소 가스 배리어성을 가질 수 있고, 나아가서는 박막화가 가능해진다.According to the laminated polypropylene film of the present invention, it can have oxygen gas barrier properties comparable to polypropylene-based films coated with polyvinylidene chloride, and further thinning is possible.

게다가, 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 상온에서의 산소 가스 배리어성은 물론, 150℃ 정도의 환경 하에 노출되어도 산소 가스 배리어성이나 기타의 여러 물성을 유지할 수 있으므로, 종래의 폴리프로필렌 필름에서는 생각될 수 없었을 것 같은 산소 가스 배리어성이 필요하거나, 고온의 환경 하에서도 사용할 수 있고, 폭넓은 용도에 있어서 바람직하게 적용된다.In addition, since the laminated polypropylene film of the present invention can maintain oxygen gas barrier properties at room temperature as well as oxygen gas barrier properties and other physical properties even when exposed to an environment of about 150° C., it is not considered in conventional polypropylene films. Oxygen gas barrier properties that may not have been possible are required, or they can be used even under high-temperature environments, and are preferably applied in a wide range of applications.

예를 들어, 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름을 기재층으로서 기재층의 표층에 히트 시일층을 적층함으로써, 히트 시일성이 필요한 다양한 포장 형태로 사용할 수 있지만, 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름 또는 이것을 사용한 적층 필름에 히트 시일을 행하는 경우, 히트 시일 온도를 높게 설정할 수 있고, 히트 시일 강도가 향상되므로, 제대 가공 등에 있어서의 라인 속도를 크게 하는 것이 가능해지고, 생산성이 향상된다. 열부하가 큰 압출 라미네이트의 기재로서 사용하는 경우도 있다.For example, by laminating the laminated polypropylene film of the present invention as a substrate layer with a heat seal layer on the surface layer of the substrate layer, it can be used in various packaging forms requiring heat sealability, but the laminated polypropylene film of the present invention or using the same When heat-sealing the laminated film, the heat-sealing temperature can be set high and the heat-sealing strength improves, so it becomes possible to increase the line speed in fabrication processing and the like, and productivity improves. In some cases, it is used as a base material for extruded laminates with high heat load.

더욱이, 제대 후에 레토르트 등 고온 처리를 행할 때도, 주머니의 변형량을 억제할 수 있다.Moreover, even when high-temperature treatment such as retort is performed after unloading, deformation of the bag can be suppressed.

도 1은, 적층 폴리프로필렌 필름의 기재에 사용되는 폴리프로필렌 필름의 광각 X선 회절 패턴에 있어서의 α형 결정의 110면의 회절 강도의 방위각 의존성 및 반값 폭을 설명하기 위한 차트이다.1 is a chart for explaining the azimuth dependence and full width at half maximum of the diffraction intensity of 110 planes of an α-crystal in a wide-angle X-ray diffraction pattern of a polypropylene film used for a base material of a laminated polypropylene film.

본 발명은 가스 배리어성 및 고온에서의 치수 안정성, 기계 특성이 우수한 적층 폴리프로필렌 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a laminated polypropylene film having excellent gas barrier properties, dimensional stability at high temperatures, and mechanical properties.

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 폴리프로필렌계 수지를 사용한 폴리프로필렌 필름 기재와 무기 화합물을 주된 성분으로 하는 박막층을 구비한 적층 폴리프로필렌 필름이며, 적층 폴리프로필렌 필름의 150℃에 있어서의 세로 방향의 열 수축률이 7% 이하이고, 산소 투과도가 150mL/m2/day/MPa 이하인 것을 특징으로 하는 적층 폴리프로필렌 필름이다.The laminated polypropylene film of the present invention is a laminated polypropylene film comprising a polypropylene film substrate using a polypropylene-based resin and a thin film layer containing an inorganic compound as a main component, wherein the laminated polypropylene film has a longitudinal direction at 150°C. A laminated polypropylene film characterized by a heat shrinkage rate of 7% or less and an oxygen permeability of 150 mL/m 2 /day/MPa or less.

[무기 박막층] [Inorganic Thin Film Layer]

본 발명에서 사용되는 무기 박막층은, 무기 화합물을 주된 성분으로 하고 있고, 무기 화합물은 무기 산화물이 바람직하다. 무기 산화물로서는, 산화알루미늄 및 산화규소 중 적어도 한쪽 혹은 이들의 복합 산화물인 것이 바람직하다.The inorganic thin film layer used in the present invention contains an inorganic compound as a main component, and the inorganic compound is preferably an inorganic oxide. As an inorganic oxide, it is preferable that it is at least one of aluminum oxide and a silicon oxide, or these composite oxides.

여기에서의 「주된 성분」이란, 박막층을 구성하는 성분 100질량%에 대하여, 산화알루미늄, 산화규소 및 산화알루미늄과 산화규소의 복합 산화물의 합계량이 50질량% 초과인 것을 의미하고, 바람직하게는 70질량% 이상, 보다 바람직하게는 90질량% 이상, 가장 바람직하게는 100질량%(산화알루미늄, 산화규소 이외의 성분이 박막층을 구성하는 성분으로서 함유되어 있지 않음)이다.The term "main component" here means that the total amount of aluminum oxide, silicon oxide, and composite oxides of aluminum oxide and silicon oxide is more than 50 mass% with respect to 100 mass% of the components constituting the thin film layer, preferably 70 It is mass % or more, more preferably 90 mass % or more, and most preferably 100 mass % (components other than aluminum oxide and silicon oxide are not contained as components constituting the thin film layer).

여기에서 말하는 산화알루미늄란, AlO, Al2O, Al2O3 등의 각종 알루미늄 산화물 중 적어도 1종 이상을 포함하고, 각종 알루미늄 산화물의 함유율은 박막층의 제작 조건에 의해 조정될 수 있다. 산화규소란, SiO, SiO2, Si3O2 등의 각종 규소 산화물 중 적어도 1종 이상을 포함하고, 각종 규소 산화물의 함유율은 박막층의 제작 조건에 의해 조정될 수 있다. 산화알루미늄과 산화규소의 복합 산화물이란 AlxSiy(x=1 내지 2, y=1 내지 3)로 이루어지고, 각종 규소 산화물의 함유율은 박막층의 제작 조건에 의해 조정될 수 있다. 산화알루미늄, 산화규소 및 산화알루미늄과 산화규소의 복합 산화물에는, 성분 중에, 특성이 손상되지 않는 범위에서 미량(전체 성분에 대하여 기껏해야 3%까지)의 타성분을 포함하고 있어도 된다.Aluminum oxide as used herein includes at least one or more of various aluminum oxides such as AlO, Al 2 O, and Al 2 O 3 , and the content of various aluminum oxides can be adjusted depending on the production conditions of the thin film layer. Silicon oxide includes at least one of various silicon oxides such as SiO, SiO 2 , and Si 3 O 2 , and the content of the various silicon oxides can be adjusted depending on the production conditions of the thin film layer. The composite oxide of aluminum oxide and silicon oxide is made of AlxSiy (x = 1 to 2, y = 1 to 3), and the content of various silicon oxides can be adjusted according to the manufacturing conditions of the thin film layer. Aluminum oxide, silicon oxide, and the composite oxide of aluminum oxide and silicon oxide may contain other components in trace amounts (up to 3% at most with respect to all components) within a range in which properties are not impaired.

「주된 성분」 이외의 성분으로서, 산화티타늄, 산화마그네슘, 산화지르코늄, 산화세륨, 산화아연 등의 화합물 및 그들의 혼합물을 들 수 있다.Examples of components other than "main components" include compounds such as titanium oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, cerium oxide, and zinc oxide, and mixtures thereof.

무기 박막층의 두께로서는 특별히 한정되지 않지만, 가스 배리어성 및 가요성 면에서는, 5 내지 500nm가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 내지 200nm이고, 더욱 바람직하게는 15 내지 50nm이다. 박막층의 막 두께가 5nm 미만에서는, 만족스러운 가스 배리어성이 얻어지기 어려워질 우려가 있고, 한편 500nm를 초과해도, 거기에 상당하는 가스 배리어성의 향상 효과는 얻어지지 않고, 내굴곡성이나 제조 비용의 점에서 오히려 불리해진다.The thickness of the inorganic thin film layer is not particularly limited, but is preferably 5 to 500 nm, more preferably 10 to 200 nm, still more preferably 15 to 50 nm, from the viewpoint of gas barrier properties and flexibility. If the film thickness of the thin film layer is less than 5 nm, there is a risk that satisfactory gas barrier properties may not be obtained. On the other hand, even if it exceeds 500 nm, the effect of improving the gas barrier properties corresponding thereto is not obtained, and the bending resistance and manufacturing cost points It becomes rather disadvantageous in

[적층 폴리프로필렌 필름][Laminated polypropylene film]

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 특히 적층 필름 물성에 특징이 있다. 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 이하와 같은 필름 물성을 나타낸다. 또한, 이하의 각 물성은, 실시예에서 후술하는 방법으로 측정, 평가한다.The laminated polypropylene film of the present invention is particularly characterized by physical properties of the laminated film. The laminated polypropylene film of the present invention exhibits the following film properties. In addition, each physical property below is measured and evaluated by the method mentioned later in an Example.

(열 수축률)(thermal shrinkage rate)

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 폴리프로필렌계 수지를 주체로 해서 구성된 연신 필름으로서, 150℃에서의 세로 방향의 열 수축률이 7% 이하인 것이 필요하다. 여기서, 세로 방향이란 필름의 흐름 방향(길이 방향 또는 긴 변 방향이라고 하는 경우도 있다)이고, 가로 방향이란 필름의 흐름 방향에 수직인 방향(가로 방향 또는 폭 방향이라고 하는 경우도 있다)이다. 종래의 적층 폴리프로필렌 필름에서는, 세로 방향의 150℃ 열 수축률은 9% 이상이다.The laminated polypropylene film of the present invention is a stretched film mainly composed of a polypropylene resin, and it is required that the heat shrinkage rate in the machine direction at 150°C is 7% or less. Here, the vertical direction is the flow direction of the film (sometimes referred to as the longitudinal direction or the long side direction), and the transverse direction is the direction perpendicular to the flow direction of the film (sometimes referred to as the transverse direction or width direction). In conventional laminated polypropylene films, the 150°C thermal shrinkage in the machine direction is 9% or more.

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름의 세로 방향의 150℃ 열 수축률의 상한은, 바람직하게는 6%이고, 보다 바람직하게는 5%이고, 더욱 바람직하게는 4%이다. 세로 방향의 150℃ 열 수축률의 상한이 상기 범위면, 가스 배리어성이 보다 좋다.The upper limit of the 150°C thermal shrinkage in the machine direction of the laminated polypropylene film of the present invention is preferably 6%, more preferably 5%, still more preferably 4%. When the upper limit of the 150°C thermal contraction rate in the longitudinal direction is within the above range, the gas barrier properties are better.

폴리프로필렌 필름 기재에 무기 화합물을 증착할 때는, 증착 재료에 사용하는 무기 화합물 분자가 갖는 열에너지 혹은 무기 화합물을 수용하는 감과로부터의 복사열에 의해 프로필렌계 중합체를 사용한 필름이 수축을 일으키지만, 무기 박막층의 형성 시에 이러한 폴리프로필렌 필름 기재의 수축의 정도가 작으면, 가스가 통과하기 어려워진 것이라고 추정하고 있다. 이유로서는, 무기 박막층의 형성 도중에 폴리프로필렌 필름 기재의 수축이 일어나면 기재 표면의 융기 등에 의해 무기 박막층이 파괴되거나, 치밀한 무기 박막층이 형성되기 어려워진다는 것을 생각할 수 있다.When an inorganic compound is deposited on a polypropylene film substrate, the film using the propylene-based polymer causes shrinkage due to the thermal energy of the inorganic compound molecules used in the deposition material or radiant heat from the sensor that receives the inorganic compound, but the inorganic thin film layer When the degree of shrinkage of such a polypropylene film base material at the time of formation is small, it is estimated that it becomes difficult for gas to pass through. As a reason, it can be considered that when shrinkage of the polypropylene film base material occurs during formation of the inorganic thin film layer, the inorganic thin film layer is destroyed due to elevation of the surface of the base material or the like, or it becomes difficult to form a dense inorganic thin film layer.

세로 방향의 150℃ 열 수축률의 하한은, 바람직하게는 0.2%이고, 보다 바람직하게는 0.3%이고, 더욱 바람직하게는 0.5%이고, 특히 바람직하게는 0.7%이고, 가장 바람직하게는 1.0%이다. 세로 방향의 150℃ 열 수축률의 하한이 상기 범위면, 비용면 등에서 현실적인 제조가 용이해지거나, 두께 불균일이 작아지거나 하는 경우가 있다.The lower limit of the 150°C thermal shrinkage in the longitudinal direction is preferably 0.2%, more preferably 0.3%, still more preferably 0.5%, particularly preferably 0.7%, and most preferably 1.0%. The lower limit of the thermal shrinkage rate at 150°C in the machine direction makes realistic production easier in terms of the above range, cost, and the like, or thickness unevenness may be reduced.

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름의 가로 방향의 150℃ 열 수축률의 상한은, 바람직하게는 7%이고, 보다 바람직하게는 6%이고, 더욱 바람직하게는 5%이고, 특히 바람직하게는 4%이다. 가로 방향의 150℃ 열 수축률의 상한이 상기 범위면, 적층 폴리프로필렌 필름 또는 이것을 사용한 적층 필름에 추가로 히트 시일을 행하는 경우, 히트 시일 온도를 높게 설정함으로써, 접착 강도(히트 시일 강도)가 향상되므로, 제대 가공 등에 있어서의 라인 속도를 크게 하는 것이 가능해지고, 생산성이 향상된다. 게다가, 제대 후에 레토르트 등 고온 처리를 행할 때도, 주머니의 변형량을 억제할 수 있다.The upper limit of the 150°C thermal shrinkage in the transverse direction of the laminated polypropylene film of the present invention is preferably 7%, more preferably 6%, still more preferably 5%, and particularly preferably 4%. If the upper limit of the 150°C heat shrinkage rate in the transverse direction is within the above range, when the laminated polypropylene film or the laminated film using the same is further heat-sealed, the adhesive strength (heat-seal strength) is improved by setting the heat-seal temperature high. , it becomes possible to increase the line speed in bagging processing, etc., and productivity improves. In addition, the amount of deformation of the bag can be suppressed even when performing high-temperature treatment such as retort after unloading.

가로 방향의 150℃ 열 수축률의 하한은, 바람직하게는 0.2%이고, 보다 바람직하게는 0.3%이고, 더욱 바람직하게는 0.5%이고, 특히 바람직하게는 0.7%이고, 가장 바람직하게는 1.0%이다. 가로 방향의 150℃ 열 수축률의 하한이 상기 범위면, 비용면 등에서 현실적인 제조가 용이해지거나, 두께 불균일이 작아지거나 하는 경우가 있다.The lower limit of the 150°C heat shrinkage in the transverse direction is preferably 0.2%, more preferably 0.3%, still more preferably 0.5%, particularly preferably 0.7%, and most preferably 1.0%. The lower limit of the 150°C heat shrinkage rate in the transverse direction may make realistic production easier or reduce thickness unevenness in terms of the above range, cost, and the like.

(산소 투과도)(Oxygen permeability)

본 발명에 있어서, 온도 23℃, 상대 습도 65% 하에서의 적층 폴리프로필렌 필름의 산소 투과도의 상한은, 150mL/m2/day/MPa 이하일 필요가 있다. 보다 바람직하게는 130mL/m2/day/MPa 이하이고, 보다 더욱 바람직하게는 120mL/m2/day/MPa 이하이고, 보다 더욱 바람직하게는 100mL/m2/day/MPa 이하이고, 특히 바람직하게는 90mL/m2/day/MPa 이하이다. 산소 투과도의 상한이 150mL/m2/day/MPa를 초과하면, 산소에 의해 열화되는 물질이나 식품의 보존성이 불량해진다. 온도 23℃, 습도 65% 하에서의 적층 폴리프로필렌 필름의 산소 투과도의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.1mL/m2/day/MPa 이상이다. 또한, 제조상의 관점에서, 0.1mL/m2/day/MPa가 하한이라고 생각된다.In the present invention, the upper limit of the oxygen permeability of the laminated polypropylene film at a temperature of 23°C and a relative humidity of 65% needs to be 150 mL/m 2 /day/MPa or less. More preferably, it is 130 mL/m 2 /day/MPa or less, still more preferably 120 mL/m 2 /day/MPa or less, still more preferably 100 mL/m 2 /day/MPa or less, and particularly preferably is 90 mL/m 2 /day/MPa or less. When the upper limit of the oxygen permeability exceeds 150 mL/m 2 /day/MPa, the preservability of substances or foods deteriorated by oxygen becomes poor. The lower limit of the oxygen permeability of the laminated polypropylene film at a temperature of 23°C and a humidity of 65% is not particularly limited, but is preferably 0.1 mL/m 2 /day/MPa or more. In addition, from a manufacturing viewpoint, it is considered that 0.1 mL/m 2 /day/MPa is the lower limit.

(헤이즈)(Haze)

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름의 헤이즈의 상한은, 바람직하게는 6%이고, 보다 바람직하게는 5%이고, 더욱 바람직하게는 4.5%이고, 보다 더욱 바람직하게는 4%이고, 특히 바람직하게는 3.5%이다. 헤이즈의 상한이 상기 범위면, 투명이 요구되는 용도로 쓰기 쉬워질 수 있다. 헤이즈를 6% 이하로 하기 위해서는 무기 박막층이 투명한 것이 바람직하다.The upper limit of the haze of the laminated polypropylene film of the present invention is preferably 6%, more preferably 5%, even more preferably 4.5%, even more preferably 4%, and particularly preferably 3.5%. %am. If the upper limit of the haze is within the above range, it can be easily used for applications requiring transparency. In order to make the haze 6% or less, it is preferable that the inorganic thin film layer is transparent.

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름의 헤이즈의 하한은, 현실적인 값으로서, 바람직하게는 0.1%이고, 보다 바람직하게는 0.2%이고, 더욱 바람직하게는 0.3%이고, 특히 바람직하게는 0.4%이다.The lower limit of the haze of the laminated polypropylene film of the present invention is, as a realistic value, preferably 0.1%, more preferably 0.2%, still more preferably 0.3%, and particularly preferably 0.4%.

[폴리프로필렌 필름 기재][Polypropylene film substrate]

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재는, 특히 필름 물성에 특징이 있다. 본 발명의 연신 폴리프로필렌 필름은, 이하와 같은 필름 물성을 나타낸다. 또한, 이하의 각 물성은, 예를 들어 실시예에서 후술하는 방법으로 측정, 평가한 값으로 한다.The polypropylene film base material used in the laminated polypropylene film of the present invention is particularly characterized by film properties. The stretched polypropylene film of the present invention exhibits the following film properties. In addition, each physical property below is set as the value measured and evaluated by the method mentioned later in an Example, for example.

(열 수축률)(thermal shrinkage rate)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재는, 폴리프로필렌계 수지를 주체로 해서 구성된 연신 필름으로서, 150℃에서의 세로 방향의 열 수축률의 상한은, 바람직하게는 10%이고, 보다 바람직하게는 9%이고, 더욱 바람직하게는 7%이고, 특히 바람직하게는 5%이다. 종래의 폴리프로필렌 필름에서는, 세로 방향의 150℃ 열 수축률은 11% 이상이다. 폴리프로필렌 필름 기재의 열 수축률을 10% 이하로 함으로써, 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름의 150℃에 있어서의 세로 방향의 열 수축률을 7% 이하로 할 수 있다.The polypropylene film substrate used in the present invention is a stretched film mainly composed of a polypropylene resin, and the upper limit of the thermal contraction rate in the machine direction at 150°C is preferably 10%, more preferably 9%. , more preferably 7%, particularly preferably 5%. In conventional polypropylene films, the 150°C thermal shrinkage in the machine direction is 11% or more. By setting the thermal contraction rate of the polypropylene film substrate to 10% or less, the thermal shrinkage rate in the machine direction at 150°C of the laminated polypropylene film of the present invention can be 7% or less.

또한, 본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재는, 폴리프로필렌 수지를 주체로 해서 구성된 연신 필름으로서, 150℃에서의 가로 방향의 열 수축률이 15% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 9%이고, 더욱 바람직하게는 7%이고, 특히 바람직하게는 7%이다. 종래의 폴리프로필렌 필름에서는, 가로 방향의 150℃ 열 수축률은 16% 이상이다. 폴리프로필렌 필름 기재의 열 수축률을 10% 이하로 함으로써, 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름의 150℃에 있어서의 가로 방향의 열 수축률을 7% 이하로 할 수 있다.In addition, the polypropylene film base material used in the present invention is a stretched film mainly composed of a polypropylene resin, and preferably has a heat shrinkage rate in the transverse direction at 150 ° C. of 15% or less, more preferably 9%, More preferably, it is 7%, and particularly preferably, it is 7%. In conventional polypropylene films, the 150°C heat shrinkage in the transverse direction is 16% or more. By setting the thermal contraction rate of the polypropylene film substrate to 10% or less, the thermal shrinkage rate in the transverse direction at 150°C of the laminated polypropylene film of the present invention can be 7% or less.

여기서, 세로 방향이란 필름의 흐름 방향(길이 방향이라고 하는 경우도 있다)이고, 가로 방향이란 필름의 흐름 방향에 수직인 방향(폭 방향이라고 하는 경우도 있다)이다.Here, the vertical direction is the flow direction of the film (sometimes referred to as the longitudinal direction), and the transverse direction is the direction perpendicular to the flow direction of the film (sometimes referred to as the width direction).

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 세로 방향 및 가로 방향의 150℃ 열 수축률의 하한은, 바람직하게는 0.2%이고, 보다 바람직하게는 0.3%이고, 더욱 바람직하게는 0.5%이고, 특히 바람직하게는 0.7%이고, 가장 바람직하게는 1.0%이다. 150℃ 열 수축률이 상기 범위면, 비용면 등에서 현실적인 제조가 용이해지거나, 두께 불균일이 작아지거나 하는 경우가 있다.The lower limit of the 150°C heat shrinkage of the polypropylene film base material used in the machine direction and transverse direction is preferably 0.2%, more preferably 0.3%, still more preferably 0.5%, particularly preferably. is 0.7%, most preferably 1.0%. In terms of the 150°C thermal shrinkage rate, in terms of the above range, cost, etc., realistic production may be facilitated, or thickness unevenness may be reduced.

또한, 150℃ 열 수축률은 1.5% 정도까지라면, 예를 들어 필름 기재 중의 폴리프로필렌의 저분자량 성분을 증가시키는, 필름의 연신 조건이나 열 고정 조건을 조정함으로써 가능하지만, 1.5% 이하로 떨어뜨리기 위해서는, 오프라인에서 어닐 처리를 실시하는 등 하는 것이 바람직하다.In addition, if the 150°C heat shrinkage rate is up to about 1.5%, it is possible by adjusting the stretching conditions and heat setting conditions of the film to increase the low molecular weight component of polypropylene in the film substrate, for example, but in order to drop it to 1.5% or less , it is preferable to perform the annealing treatment offline.

(헤이즈)(Haze)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 헤이즈의 하한은, 현실적인 값으로서, 바람직하게는 0.1%이고, 보다 바람직하게는 0.2%이고, 더욱 바람직하게는 0.3%이고, 특히 바람직하게는 0.4%이다. 헤이즈의 상한은, 바람직하게는 6%이고, 보다 바람직하게는 5%이고, 더욱 바람직하게는 4.5%이고, 특히 바람직하게는 4%이고, 가장 바람직하게는 3.5%이다. 헤이즈가 상기 범위면, 투명이 요구되는 용도로 쓰기 쉬워질 수 있다. 헤이즈는, 예를 들어 연신 온도, 열 고정 온도가 너무 높을 경우, 냉각 롤(CR) 온도가 높고 연신 원단 시트의 냉각 속도가 느린 경우, 저분자량이 지나치게 많은 경우에 나빠지는 경향이 있어서, 이들을 조절함으로써, 상기 범위 내로 제어할 수 있다.The lower limit of the haze of the polypropylene film base material used in the present invention is, as a practical value, preferably 0.1%, more preferably 0.2%, still more preferably 0.3%, and particularly preferably 0.4%. The upper limit of the haze is preferably 6%, more preferably 5%, still more preferably 4.5%, particularly preferably 4%, and most preferably 3.5%. When the haze is within the above range, it can be easily used for applications requiring transparency. Haze tends to deteriorate, for example, when the stretching temperature and heat setting temperature are too high, when the cooling roll (CR) temperature is high and the cooling rate of the stretched raw sheet is slow, and when the low molecular weight is too high, and these are adjusted By doing so, it can be controlled within the above range.

(두께) (thickness)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 두께의 하한은, 3㎛이고, 바람직하게는 4㎛이고, 보다 바람직하게는 8㎛이다.The lower limit of the thickness of the polypropylene film substrate used in the present invention is 3 μm, preferably 4 μm, and more preferably 8 μm.

필름의 두께의 하한이 3㎛ 미만이면 적층 폴리프로필렌 필름이 컬링되기 쉽고, 가스 배리어성이 저하되기 쉽다.When the lower limit of the thickness of the film is less than 3 μm, the laminated polypropylene film tends to curl, and the gas barrier property tends to decrease.

필름 두께의 가공성의 관점에서, 상한은 바람직하게는 300㎛이고, 보다 바람직하게는 250㎛이고, 더욱 바람직하게는 200㎛이고, 더욱 바람직하게는 150㎛이고, 특히 바람직하게는 100㎛이고, 가장 바람직하게는 50㎛이다.From the viewpoint of workability of the film thickness, the upper limit is preferably 300 μm, more preferably 250 μm, even more preferably 200 μm, even more preferably 150 μm, particularly preferably 100 μm, and the most Preferably it is 50 micrometers.

(내충격성)(impact resistance)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 내충격성(23℃)의 하한은, 바람직하게는 0.6J이고, 보다 바람직하게는 0.7J이다. 내충격성이 상기 범위면, 필름으로서 충분한 강인성이 있고, 취급 시에 파단되거나 하는 경우가 없다. 내충격성의 상한은, 현실적인 면에서, 바람직하게는 2J이고, 보다 바람직하게는 1.8J이고, 더욱 바람직하게는 1.6J이고, 특히 바람직하게는 1.5J이다. 예를 들어, 필름 기재 중의 폴리프로필렌의 저분자량 성분이 많은 경우, 전체에서의 분자량이 낮은 경우, 필름 기재 중의 폴리프로필렌의 고분자량 성분이 적은 경우, 고분자량 성분의 분자량이 낮은 경우에는 내충격성이 저하되는 경향이 되기 때문에, 내충격성은 용도에 맞춰서 이들의 요인을 조정함으로써, 상기 범위 내로 제어할 수 있다.The lower limit of the impact resistance (23°C) of the polypropylene film substrate used in the present invention is preferably 0.6 J, more preferably 0.7 J. When the impact resistance is within the above range, the film has sufficient toughness and is not broken during handling. From a practical point of view, the upper limit of the impact resistance is preferably 2J, more preferably 1.8J, even more preferably 1.6J, and particularly preferably 1.5J. For example, when the low molecular weight component of the polypropylene in the film substrate is large, when the overall molecular weight is low, when the high molecular weight component of the polypropylene in the film substrate is small, and when the molecular weight of the high molecular weight component is low, the impact resistance is improved. Since it tends to decrease, impact resistance can be controlled within the above range by adjusting these factors according to the application.

(영률)(Young's modulus)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재가 2축 연신 필름인 경우, 세로 방향의 영률(23℃)의 하한은, 바람직하게는 2GPa이고, 보다 바람직하게는 2.1GPa이고, 더욱 바람직하게는 2.2GPa이고, 특히 바람직하게는 2.3GPa이고, 가장 바람직하게는 2.4GPa다. 세로 방향의 영률의 상한은, 바람직하게는 4GPa이고, 보다 바람직하게는 3.7GPa이고, 더욱 바람직하게는 3.5GPa이고, 특히 바람직하게는 3.4GPa이고, 가장 바람직하게는 3.3GPa다. 세로 방향의 영률이 상기 범위면, 현실적인 제조가 용이하고, 또한 세로-가로 밸런스가 양호해지는 경우가 있다.When the polypropylene film substrate used in the present invention is a biaxially stretched film, the lower limit of the Young's modulus in the machine direction (23°C) is preferably 2 GPa, more preferably 2.1 GPa, still more preferably 2.2 GPa. , particularly preferably 2.3 GPa, most preferably 2.4 GPa. The upper limit of the Young's modulus in the machine direction is preferably 4 GPa, more preferably 3.7 GPa, still more preferably 3.5 GPa, particularly preferably 3.4 GPa, and most preferably 3.3 GPa. When the Young's modulus in the longitudinal direction is within the above range, realistic production is easy and the vertical-horizontal balance is good in some cases.

본 발명의 기재에 사용하는 폴리프로필렌 필름이 2축 연신 필름인 경우, 가로 방향의 영률(23℃)의 하한은, 바람직하게는 3.8GPa이고, 보다 바람직하게는 4GPa이고, 더욱 바람직하게는 4.1GPa이고, 특히 바람직하게는 4.2GPa다. 가로 방향의 영률의 상한은, 바람직하게는 8GPa이고, 보다 바람직하게는 7.5GPa이고, 더욱 바람직하게는 7GPa이고, 특히 바람직하게는 6.5GPa다. 가로 방향의 영률이 상기 범위면, 현실적인 제조가 용이하고, 또한 세로 방향과 가로 방향의 영률 밸런스가 양호해지는 경우가 있다. 또한, 세로 방향, 가로 방향의 영률은, 예를 들어 각각의 방향의 연신 배율을 높게 함으로써 높일 수 있고, 또한 세로 방향으로 연신 후에 가로 연신하는 경우는, 세로 연신 배율을 조금 낮게 설정하고, 가로 연신 배율을 높게 설정하는 것 등으로, 가로 방향의 영률을 크게 할 수 있다.When the polypropylene film used for the substrate of the present invention is a biaxially stretched film, the lower limit of the Young's modulus in the transverse direction (23°C) is preferably 3.8 GPa, more preferably 4 GPa, still more preferably 4.1 GPa. , and is particularly preferably 4.2 GPa. The upper limit of the Young's modulus in the transverse direction is preferably 8 GPa, more preferably 7.5 GPa, still more preferably 7 GPa, and particularly preferably 6.5 GPa. When the Young's modulus in the transverse direction is within the above range, realistic production is easy, and the Young's modulus balance between the longitudinal and lateral directions may be good in some cases. Note that the Young's modulus in the machine direction and the transverse direction can be increased, for example, by increasing the draw ratio in each direction. In addition, when transverse stretching is performed after stretching in the machine direction, the longitudinal stretch ratio is set slightly lower and the transverse stretch is performed. The Young's modulus in the lateral direction can be increased by setting the magnification to a high level or the like.

(두께 균일성)(thickness uniformity)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 두께의 균일성의 하한은, 바람직하게는 0%이고, 보다 바람직하게는 0.1%이고, 더욱 바람직하게는 0.5%이고, 특히 바람직하게는 1%이다. 두께의 균일성의 상한은, 바람직하게는 20%이고, 보다 바람직하게는 17%이고, 더욱 바람직하게는 15%이고, 특히 바람직하게는 12%이고, 가장 바람직하게는 10%이다. 두께의 균일성이 상기 범위면, 코팅이나 인쇄 등의 후속 가공 시에 불량이 발생하기 어려워, 정밀성이 요구되는 용도로 사용하기 쉽다.The lower limit of the thickness uniformity of the polypropylene film substrate used in the present invention is preferably 0%, more preferably 0.1%, still more preferably 0.5%, and particularly preferably 1%. The upper limit of the thickness uniformity is preferably 20%, more preferably 17%, still more preferably 15%, particularly preferably 12%, and most preferably 10%. If the uniformity of the thickness is within the above range, it is difficult to cause defects during subsequent processing such as coating or printing, and it is easy to use for applications requiring precision.

(필름 밀도)(film density)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 밀도의 하한은, 바람직하게는 0.910g/cm3이고, 보다 바람직하게는 0.911g/cm3이고, 더욱 바람직하게는 0.912g/cm3이고, 특히 바람직하게는 0.913g/cm3이다. 필름 밀도가 상기 범위면, 결정성이 높아 열 수축률이 작아지는 경우가 있다. 필름 밀도의 상한은, 바람직하게는 0.930g/cm3이고, 보다 바람직하게는 0.928g/cm3이고, 더욱 바람직하게는 0.926g/cm3이고, 특히 바람직하게는 0.925g/cm3이다. 필름 밀도가 상기 상한을 초과하면, 현실적으로 제조가 곤란해지는 경우가 있다. 필름 밀도는, 연신 배율이나 연신 온도를 높게 하고, 열 고정 온도를 높게 하고, 나아가 오프라인 어닐함으로써 높일 수 있다.The lower limit of the density of the polypropylene film substrate used in the present invention is preferably 0.910 g/cm 3 , more preferably 0.911 g/cm 3 , still more preferably 0.912 g/cm 3 , and particularly preferably is 0.913 g/cm 3 . When the film density is within the above range, the crystallinity is high and the thermal shrinkage rate may be small. The upper limit of the film density is preferably 0.930 g/cm 3 , more preferably 0.928 g/cm 3 , still more preferably 0.926 g/cm 3 , and particularly preferably 0.925 g/cm 3 . When the film density exceeds the above upper limit, production may become difficult in reality. The film density can be increased by increasing the stretching ratio or the stretching temperature, increasing the heat setting temperature, and further annealing off-line.

(굴절률)(refractive index)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 세로 방향의 굴절률(Nx)의 하한은, 바람직하게는 1.502이고, 보다 바람직하게는 1.503이고, 더욱 바람직하게는 1.504이다. Nx의 상한은, 바람직하게는 1.520이고, 보다 바람직하게는 1.517이고, 더욱 바람직하게는 1.515이다.The lower limit of the refractive index (Nx) in the machine direction of the polypropylene film substrate used in the present invention is preferably 1.502, more preferably 1.503, still more preferably 1.504. The upper limit of Nx is preferably 1.520, more preferably 1.517, still more preferably 1.515.

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 가로 방향의 굴절률(Ny)의 하한은, 바람직하게는 1.523이고, 보다 바람직하게는 1.525이다. Ny의 상한은, 바람직하게는 1.535이고, 보다 바람직하게는 1.532이다.The lower limit of the transverse refractive index (Ny) of the polypropylene film substrate used in the present invention is preferably 1.523, more preferably 1.525. The upper limit of Ny is preferably 1.535, more preferably 1.532.

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재의 두께 방향의 굴절률(Nz)의 하한은, 바람직하게는 1.480이고, 보다 바람직하게는 1.489이고, 더욱 바람직하게는 1.500이다. Nz의 상한은, 바람직하게는 1.510이고, 보다 바람직하게는 1.507이고, 더욱 바람직하게는 1.505이다.The lower limit of the refractive index (Nz) in the thickness direction of the polypropylene film substrate used in the present invention is preferably 1.480, more preferably 1.489, still more preferably 1.500. The upper limit of Nz is preferably 1.510, more preferably 1.507, still more preferably 1.505.

(면 배향 계수)(plane orientation factor)

본 발명의 기재에 사용하는 폴리프로필렌 필름의 면 배향 계수의 하한은, 바람직하게는 0.0125이고, 보다 바람직하게는 0.0126이고, 더욱 바람직하게는 0.0127이고, 특히 바람직하게는 0.0128이다. 면 배향 계수의 상한은, 현실적인 값으로서, 바람직하게는 0.0155이고, 보다 바람직하게는 0.0150이고, 더욱 바람직하게는 0.0148이고, 특히 바람직하게는 0.0145이다. 면 배향 계수는, 연신 배율의 조정에 의해 범위 내로 할 수 있다. 면 배향 계수가 이 범위면, 필름의 두께 불균일도 양호해지는 경향이 있다.The lower limit of the plane orientation coefficient of the polypropylene film used for the substrate of the present invention is preferably 0.0125, more preferably 0.0126, still more preferably 0.0127, and particularly preferably 0.0128. The upper limit of the plane orientation coefficient is, as a practical value, preferably 0.0155, more preferably 0.0150, still more preferably 0.0148, and particularly preferably 0.0145. The plane orientation coefficient can be within a range by adjusting the draw ratio. When the plane orientation coefficient is within this range, the thickness nonuniformity of the film also tends to be good.

(필름의 배향)(orientation of film)

폴리프로필렌 필름 기재는, 일반적으로 결정 배향을 갖고, 그의 방향이나 정도가 필름 물성에 큰 영향을 미친다. 결정 배향의 정도는, 사용되는 폴리프로필렌의 분자 구조나, 필름 제조에 있어서의 프로세스나 조건에 따라 변화된다. 또한, 연신 폴리프로필렌 필름의 배향 방향은, 광각 X선 회절법에 의해, X선을 필름면에 대하여 수직으로 입사하고, 결정 유래의 산란 피크의 방위각 의존성을 측정함으로써, 결정할 수 있다. 상세하게는, 연신 폴리프로필렌 필름은, 전형적으로는 단사정의 α형 결정 구조를 갖는다. 그리고 그의 α형 결정은, 광각 X선 회절법에 의해 110면(면 간격: 6.65옹스트롬)의 산란 강도의 방위각 의존성을 측정하면, 주로 1축으로 강한 배향을 갖는다. 즉, α형 결정의 110면 유래의 산란 강도를 방위각에 대하여 플롯한 경우, 가장 강한 피크가, 분자축의 배향의 수직 방향에 관찰된다. 본 발명에 있어서, 이 최대 피크의 반값 폭에 의해, 배향의 정도를 규정한다.A polypropylene film substrate generally has a crystal orientation, and the direction or extent thereof has a great influence on the physical properties of the film. The degree of crystal orientation changes depending on the molecular structure of the polypropylene used and the process and conditions in film production. In addition, the orientation direction of the stretched polypropylene film can be determined by a wide-angle X-ray diffraction method by injecting X-rays perpendicularly to the film surface and measuring the azimuthal dependence of the crystal-derived scattering peak. In detail, the stretched polypropylene film typically has a monoclinic α-type crystal structure. When the azimuthal dependence of the scattering intensity of 110 planes (plane spacing: 6.65 angstroms) is measured by the wide-angle X-ray diffraction method, the α-type crystal has a strong orientation mainly in one axis. That is, when the scattering intensity derived from plane 110 of the α-type crystal is plotted against the azimuth angle, the strongest peak is observed in the direction perpendicular to the orientation of the molecular axes. In the present invention, the degree of orientation is defined by the half-value width of this maximum peak.

또한, 폴리프로필렌의 α형 결정의 110면 유래의 산란의 방위각 의존성에 대해서, 전형적인 패턴을 도 1에 나타낸다. 또한 도 1 중에, 110면의 방위각 의존성의 주된 피크(최대 피크, 방위각 180° 및 360°)의 반값 폭을 나타낸다.Fig. 1 shows a typical pattern of the azimuthal dependence of scattering originating from the 110 plane of the α-type crystal of polypropylene. Further, in Fig. 1, half-value widths of the main peaks (maximum peaks, azimuth angles of 180° and 360°) of the azimuthal angle dependence of 110 planes are shown.

본 발명의 기재에 사용하는 폴리프로필렌 필름에서는, 광각 X선 산란법에 의해 측정되는 110면의 산란 강도를 방위각에 대하여 플롯했을 때의 최대 피크의 반값 폭이 30도 이하인 것이 바람직하다. 이 반값 폭의 상한은, 보다 바람직하게는 29도이고, 더욱 바람직하게는 28도이다. 110면 유래의 산란 강도의 방위각 의존성의 반값 폭이 상기 범위보다도 크면 배향이 충분하지 않고, 내열성이나 강성이 충분하지 않다. 110면 유래의 산란 강도의 방위각 의존성의 반값 폭의 하한은, 바람직하게는 5도이고, 보다 바람직하게는 7도이고, 더욱 바람직하게는 8도이다. 110면의 반값 폭이 상기 범위보다도 작으면, 내충격성의 저하나 배향 깨짐을 발생시키는 경우가 있다.In the polypropylene film used for the substrate of the present invention, it is preferable that the half width of the maximum peak when the scattering intensity of 110 planes measured by the wide-angle X-ray scattering method is plotted against the azimuth angle is 30 degrees or less. The upper limit of this half value width is more preferably 29 degrees, still more preferably 28 degrees. When the half-value width of the azimuthal dependence of the scattering intensity derived from the 110 plane is larger than the above range, the orientation is not sufficient, and the heat resistance and rigidity are not sufficient. The lower limit of the half-value width of the azimuthal angle dependence of the scattering intensity derived from 110 planes is preferably 5 degrees, more preferably 7 degrees, still more preferably 8 degrees. When the half-value width of 110 planes is smaller than the above range, a decrease in impact resistance or orientation cracking may occur.

(광각 X선 회절 장치)(Wide-angle X-ray diffractometer)

상기에서 규정하는 반값 폭은, 평행도가 높은 X선을 사용하여 측정되는 것이 바람직하고, 방사광이 바람직하게 사용된다.The half-value width specified above is preferably measured using X-rays with high parallelism, and synchrotron radiation is preferably used.

광각 X선 회절 측정에 사용하는 X선 발생원으로서는, 실험실에서 사용되는 관구식이나 회전식 등의 일반적인 장치여도 되지만, 평행도가 높고 고휘도의 방사광을 조사할 수 있는 고휘도 광원을 사용하는 것이 바람직하다. 방사광에서는, X선이 퍼지기 어렵고 휘도도 높기 때문에, 측정을 고정밀도로 단시간으로 행할 수 있고, 예를 들어 두께 몇십 마이크로미터의 필름 샘플에서도 필름을 중첩시키지 않고 필름 1장에서의 측정이 가능해지고, 게다가 정밀도가 높은 측정이 가능하므로 상세한 결정 배향 평가가 가능해진다. 그것에 비해, 휘도가 낮은 X선에서는, 두께 몇십 마이크로미터의 필름 샘플을 측정하는 경우, 복수매를 중첩시키지 않으면 측정에 장시간을 요하게 되고, 복수매를 중첩시키면, 미소한 어긋남에 의해, 110면의 산란 강도를 방위각에 대하여 플롯했을 때의 피크가 브로드해져, 얻어지는 반값 폭의 값이 커지는 경향이 된다.The X-ray generation source used in the wide-angle X-ray diffraction measurement may be a general apparatus such as a tube type or rotary type used in a laboratory, but it is preferable to use a high-luminance light source capable of irradiating high-intensity radiation with high parallelism. In synchrotron radiation, since X-rays are difficult to spread and the luminance is high, measurement can be performed with high accuracy and in a short time. Since high-precision measurement is possible, detailed crystal orientation evaluation is possible. On the other hand, with X-rays with low luminance, when measuring a film sample with a thickness of several tens of micrometers, it takes a long time to measure unless multiple sheets are overlapped. The peak when the scattering intensity is plotted with respect to the azimuth angle tends to become broad, and the value of the obtained full width at half maximum tends to increase.

평행도가 높고 고휘도의 방사광을 조사 가능한 설비로서는, 예를 들어 SPring-8과 같은 대형 방사광 시설 등을 들 수 있고, 예를 들어 프런티어 소프트매터 개발 산학 연합체(FSBL)가 소유하는 빔 라인 BL03XU를 사용하여 본 발명의 반값 폭을 측정하는 것이 바람직하다.Examples of facilities capable of irradiating high-intensity synchrotron radiation with high parallelism include large synchrotron radiation facilities such as SPring-8. It is preferred to measure the full width at half maximum of the present invention.

(장주기 구조·소각 X선 산란(SAXS))(Long period structure, small angle X-ray scattering (SAXS))

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재에서는, 장주기 사이즈가 큰 것이 바람직하다. 일반적으로, 결정성 고분자는, 결정과 비결정의 반복을 포함하는 규칙적인 적층 구조(주기 구조)를 갖는다. 여기서, 결정과 비결정을 포함하는 반복 단위의 크기를 장주기 사이즈라고 한다. 이 장주기 사이즈는, 소각 X선 산란법에 의해 측정되는 주된 배향 방향의 장주기 구조에 유래하는 산란 피크 각도로부터 구할 수 있다.In the polypropylene film substrate used in the present invention, it is preferable that the long period size is large. In general, crystalline polymers have a regular layered structure (periodic structure) including repetitions of crystals and amorphous. Here, the size of a repeating unit including crystals and non-crystals is referred to as a long period size. The long period size can be obtained from the scattering peak angle derived from the long period structure in the main orientation direction measured by the small-angle X-ray scattering method.

본 발명의 기재에 사용하는 폴리프로필렌 필름의 소각 X선 산란 측정에 의한 장주기 산란 피크는, 주된 배향 방향에 피크가 명료하게 관찰되는 것이 바람직하다. 여기서, 주된 배향 방향이란, 2차원 X선 산란 패턴에 있어서, 고분자 결정의 장주기에 기인하는 산란이 보다 강하게 보이는 방향을 나타낸다. 1축 연신의 경우는, 그의 연신 방향에 주된 배향 방향이 일치하는 경우가 많고,세로 연신-가로 연신의 순차 2축 연신인 경우는, 각각의 연신 배율에 따라 다르지만, 가로 연신 방향에 주된 배향 방향이 일치하는 경우가 많다. 고분자 결정에 기인하는 장주기 피크가 명료하게 관찰될수록, 질서성이 높은 장주기 구조가 형성되어 있다는 것이 나타난다.As for the long-period scattering peak of the polypropylene film used for the substrate of the present invention by small-angle X-ray scattering measurement, it is preferable that the peak is clearly observed in the main orientation direction. Here, the main orientation direction indicates a direction in which scattering due to a long period of a polymer crystal is seen more strongly in a two-dimensional X-ray scattering pattern. In the case of uniaxial stretching, the main orientation direction coincides with the stretching direction in many cases, and in the case of sequential biaxial stretching of longitudinal stretching and transverse stretching, the main orientation direction is the transverse stretching direction, although it varies depending on the respective stretching ratio. This often coincides with The clearer the long-period peak resulting from the polymer crystal is observed, the more highly ordered the long-period structure is formed.

본 발명의 기재에 사용하는 폴리프로필렌 필름에서는, 장주기 산란 피크로부터 얻어지는 장주기 사이즈가 40nm 이상인 것이 바람직하다. 장주기 사이즈의 하한은, 보다 바람직하게는 41nm이고, 더욱 바람직하게는 43nm이다. 장주기 사이즈가 상기 범위보다도 작으면, 융해 피크 온도가 낮고, 따라서 내열성이 저하되는 경향이 있다. 장주기 사이즈의 상한은, 바람직하게는 100nm이고, 보다 바람직하게는 90nm이고, 더욱 바람직하게는 80nm이다. 장주기 사이즈가 상기 범위보다도 크면, 결정화 혹은 열처리에 장시간을 요하기 때문에 현실적인 제조가 곤란해지는 경향이 있다.In the polypropylene film used for the substrate of the present invention, it is preferable that the long period size obtained from the long period scattering peak is 40 nm or more. The lower limit of the long period size is more preferably 41 nm, and even more preferably 43 nm. When the long period size is smaller than the above range, the melting peak temperature tends to be low, and thus the heat resistance tends to decrease. The upper limit of the long period size is preferably 100 nm, more preferably 90 nm, still more preferably 80 nm. When the long period size is larger than the above range, practical production tends to be difficult because crystallization or heat treatment takes a long time.

(소각 X선 회절 장치)(Small-angle X-ray diffractometer)

소각 X선 산란 측정에 사용하는 X선 발생원으로서는 특별히 제한은 없고, 실험실에서 사용되는 관구식이나 회전식 등의 일반적인 장치를 사용할 수 있는데, 상술한 광각 X선 회절 측정에 사용하는 X선 발생원과 동일하게, 휘도가 높은 방사광을 조사할 수 있는 고휘도 광원을 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재가 큰 장주기를 갖는 경우에는, 장주기 구조에 유래하는 X선 산란이 보다 소각측의 영역에 있다. 그 때문에, X선 빔 직경이 크고, 카메라 길이가 짧은 실험실의 X선 장치로는 측정하는 것이 곤란하므로, X선이 퍼지기 어렵고, 빔 직경을 몇백 마이크로미터 이하로 좁힐 수 있고, 또한 휘도도 높은 방사광을 사용하여, 긴 카메라 길이를 기초로 초소각 영역을 측정하는 것이 바람직하다. 이때, 카메라 길이는 7m 이상이 바람직하다.The X-ray source used in the small-angle X-ray scattering measurement is not particularly limited, and a general device such as a tube type or rotary type used in a laboratory can be used. , it is preferable to use a high-brightness light source capable of irradiating high-brightness radiation. In particular, when the polypropylene film base material used in the present invention has a large long period, X-ray scattering derived from the long period structure is more in the small angle area. Therefore, it is difficult to measure with an X-ray apparatus in a laboratory with a large X-ray beam diameter and a short camera length, so that X-rays are difficult to spread, the beam diameter can be narrowed to a few hundred micrometers or less, and the luminance is high. It is preferable to measure the ultra-small angle area based on a long camera length using . At this time, the length of the camera is preferably 7 m or more.

[폴리프로필렌계 수지][Polypropylene resin]

본 발명의 폴리프로필렌 필름 기재에 사용되는 폴리프로필렌계 수지는 특별히 제약은 없고, 예를 들어 프로필렌 단독 중합체나, 에틸렌 및/또는 탄소수 4 이상의 α-올레핀과의 공중합체, 또한 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.The polypropylene resin used in the polypropylene film substrate of the present invention is not particularly limited, and for example, a homopolymer of propylene, a copolymer of ethylene and/or an α-olefin having 4 or more carbon atoms, or a mixture thereof can be used. there is.

필름을 구성하는 폴리프로필렌계 수지로서는, 실질적으로 공단량체를 포함하지 않는 프로필렌 단독 중합체가 바람직하고, 공단량체를 포함하는 경우라도, 공단량체양은 0.5몰% 이하인 것이 바람직하다. 공단량체양의 상한은, 바람직하게는 0.3몰%이고, 더욱 바람직하게는 0.1몰%이다. 상기 범위라면 결정성이 향상되고, 고온에서의 열 수축률이 작아질 수 있다. 또한, 결정성을 현저하게 저하시키지 않는 범위 내에 있어서, 미량이면 공단량체가 포함되어 있어도 된다.As the polypropylene resin constituting the film, a propylene homopolymer substantially free of a comonomer is preferable, and even when a comonomer is included, the amount of the comonomer is preferably 0.5 mol% or less. The upper limit of the amount of comonomer is preferably 0.3 mol%, more preferably 0.1 mol%. Within the above range, crystallinity may be improved and thermal shrinkage at high temperatures may be reduced. In addition, a comonomer may be contained as long as it is in a trace amount within the range which does not significantly reduce crystallinity.

필름을 구성하는 폴리프로필렌계 수지는, 프로필렌 단량체로부터만 얻어지는 프로필렌 단독 중합체인 것이 보다 바람직하고, 프로필렌 단독 중합체여도, 헤드-헤드 결합과 같은 이종 결합을 포함하지 않는 것이 가장 바람직하다.It is more preferable that the polypropylene resin constituting the film is a propylene homopolymer obtained only from propylene monomers, and even if it is a propylene homopolymer, it is most preferable that it does not contain a heterogeneous bond such as a head-head bond.

(폴리프로필렌계 수지의 입체 규칙성)(Stereoregularity of polypropylene resin)

필름을 구성하는 폴리프로필렌계 수지의 입체 규칙성 지표인 13C-NMR로 측정되는 메소펜타드 분율의 하한은 96%인 것이 바람직하다. 메소펜타드 분율의 하한은, 바람직하게는 96.5%이고, 보다 바람직하게는 97%이다. 상기 범위면 결정성이 향상되고, 고온에서의 열 수축률이 보다 낮아질 수 있다. 메소펜타드 분율의 상한은 바람직하게는 99.8%이고, 보다 바람직하게는 99.6%이고, 더욱 바람직하게는 99.5%이다. 상기 범위면 현실적인 제조가 용이해질 수 있다.The lower limit of the mesopentad fraction measured by 13 C-NMR, which is a stereoregular index of the polypropylene resin constituting the film, is preferably 96%. The lower limit of the mesopentad fraction is preferably 96.5%, more preferably 97%. In the above range, crystallinity may be improved and thermal shrinkage at high temperatures may be lowered. The upper limit of the mesopentad fraction is preferably 99.8%, more preferably 99.6%, still more preferably 99.5%. In the above range, practical manufacturing may be facilitated.

필름을 구성하는 폴리프로필렌계 수지의 메소 평균 연쇄 길이의 하한은, 바람직하게는 100이고, 보다 바람직하게는 120이고, 더욱 바람직하게는 130이다. 상기 범위면, 결정성이 향상되고, 고온에서의 열 수축률이 작아질 수 있다. 메소 평균 연쇄 길이의 상한은, 현실적인 면에서 바람직하게는 5000이다.The lower limit of the meso-average chain length of the polypropylene resin constituting the film is preferably 100, more preferably 120, still more preferably 130. In the above range, crystallinity may be improved and thermal shrinkage at high temperatures may be reduced. The upper limit of the meso average chain length is preferably 5000 from a practical point of view.

필름을 구성하는 폴리프로필렌계 수지의 크실렌 가용분의 하한은, 현실적인 면에서 바람직하게는 0.1질량%이다. 크실렌 가용분의 상한은 바람직하게는 7질량%이고, 보다 바람직하게는 6질량%이고, 더욱 바람직하게는 5질량%이다. 상기 범위면 결정성이 향상되고, 고온에서의 열 수축률이 작아질 수 있다.The lower limit of the xylene-soluble content of the polypropylene resin constituting the film is preferably 0.1% by mass from a realistic point of view. The upper limit of the xylene soluble content is preferably 7% by mass, more preferably 6% by mass, still more preferably 5% by mass. In the above range, crystallinity may be improved and thermal shrinkage at high temperatures may be reduced.

(폴리프로필렌계 수지의 용융 유속)(Melt flow rate of polypropylene resin)

폴리프로필렌계 수지의 용융 유속(MFR)(230℃, 2.16kgf)의 하한은 0.5g/10분이다. MFR의 하한은, 바람직하게는 1.0g/10분이고, 보다 바람직하게는 1.3g/10분이고, 더욱 바람직하게는 1.5g/10분이고, 더욱 바람직하게는 2.0g/10분이고, 특히 바람직하게는 4.0g/10분이고, 바람직하게는 6.0g/10분이다. 상기 범위면 기계적 부하가 작고, 압출이나 연신이 용이해질 수 있다. MFR의 상한은 20g/10분이고, 바람직하게는 17g/10분이고, 보다 바람직하게는 16g/10분이고, 더욱 바람직하게는 15g/10분이다. 상기 범위면 연신이 용이해지거나, 두께 불균일이 작아지거나, 연신 온도나 열 고정 온도가 올려지기 쉬워서 열 수축률이 보다 낮아질 수 있다.The lower limit of the melt flow rate (MFR) (230°C, 2.16 kgf) of the polypropylene resin is 0.5 g/10 min. The lower limit of the MFR is preferably 1.0 g/10 min, more preferably 1.3 g/10 min, still more preferably 1.5 g/10 min, still more preferably 2.0 g/10 min, and particularly preferably 4.0 g. /10 min, preferably 6.0 g/10 min. In the above range, the mechanical load is small, and extrusion or stretching may be facilitated. The upper limit of MFR is 20 g/10 min, preferably 17 g/10 min, more preferably 16 g/10 min, still more preferably 15 g/10 min. In the above range, the thermal contraction rate may be lowered because the stretching becomes easier, the thickness unevenness decreases, or the stretching temperature or the heat setting temperature is easily increased.

(폴리프로필렌계 수지의 분자량)(Molecular weight of polypropylene resin)

필름을 구성하는 폴리프로필렌계 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정되는 수 평균 분자량(Mn)의 하한은, 바람직하게는 20000이고, 보다 바람직하게는 22000이고, 더욱 바람직하게는 24000이고, 특히 바람직하게는 26000이고, 가장 바람직하게는 27000이다. 상기 범위면 연신이 용이해지고, 두께 불균일이 작아지고, 연신 온도나 열 고정 온도가 올려지기 쉬워서 열 수축률이 낮아진다는 이점을 발생시킬 수 있다. Mn의 상한은, 바람직하게는 200000이고, 보다 바람직하게는 170000이고, 더욱 바람직하게는 160000이고, 특히 바람직하게는 150000이다. 상기 범위면 폴리프로필렌계 수지의 저분자량물의 효과인 폴리프로필렌 필름 기재의 고온에서의 낮은 열 수축률 등 본원의 효과가 얻어지기 쉬워지거나, 연신이 용이해질 수 있다.The lower limit of the number average molecular weight (Mn) measured by gel permeation chromatography (GPC) of the polypropylene resin constituting the film is preferably 20000, more preferably 22000, still more preferably 24000, Especially preferably, it is 26000, and it is 27000 most preferably. In the above range, advantages such as easy stretching, small thickness non-uniformity, high stretching temperature or heat setting temperature, and low thermal shrinkage can be produced. The upper limit of Mn is preferably 200000, more preferably 170000, still more preferably 160000, and particularly preferably 150000. In the above range, the effect of the present application, such as low thermal shrinkage at high temperature of the polypropylene film base material, which is the effect of the low molecular weight material of the polypropylene resin, may be easily obtained, or stretching may be facilitated.

필름을 구성하는 폴리프로필렌계 수지의 GPC에 의해 측정되는 질량 평균 분자량(Mw)의 하한은, 바람직하게는 180000이고, 보다 바람직하게는 200000이고, 더욱 바람직하게는 230000이고, 더욱 바람직하게는 240000이고, 특히 바람직하게는 250000이고, 가장 바람직하게는 270000이다. 상기 범위면 연신이 용이해지고, 두께 불균일이 작아지고, 연신 온도나 열 고정 온도가 올려지기 쉬워서 열 수축률이 낮아진다는 이점을 발생시킬 수 있다. Mw의 상한은, 바람직하게는 500000이고, 보다 바람직하게는 450000이고, 더욱 바람직하게는 420000이고, 특히 바람직하게는 410000이고, 가장 바람직하게는 400000이다. 상기 범위면 기계적 부하가 작아 압출이나 연신이 용이해질 수 있다.The lower limit of the mass average molecular weight (Mw) measured by GPC of the polypropylene resin constituting the film is preferably 180000, more preferably 200000, still more preferably 230000, still more preferably 240000 , particularly preferably 250000, most preferably 270000. In the above range, advantages such as easy stretching, small thickness non-uniformity, high stretching temperature or heat setting temperature, and low thermal shrinkage can be produced. The upper limit of Mw is preferably 500000, more preferably 450000, still more preferably 420000, particularly preferably 410000, and most preferably 400000. In the above range, the mechanical load is small, and extrusion or stretching may be facilitated.

(폴리프로필렌계 수지의 분자량 분포)(Molecular weight distribution of polypropylene resin)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌계 수지는, 이하에 나타내는 바와 같은 특징을 갖는 것이 바람직하다. 즉, 필름을 구성하는 폴리프로필렌계 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC) 적산 커브를 측정한 경우, 분자량 10만 이하의 성분의 양의 하한은 바람직하게는 35질량%이고, 보다 바람직하게는 38질량%이고, 더욱 바람직하게는 40질량%이고, 특히 바람직하게는 41질량%이고, 가장 바람직하게는 42질량%이다. 상기 범위면 저분자량물의 효과인 고온에서의 낮은 열 수축률 등 본원의 효과가 얻어지기 쉬워지거나, 연신이 용이해질 수 있다. GPC 적산 커브에서의 분자량 10만 이하의 성분의 양의 상한은 바람직하게는 65질량%이고, 보다 바람직하게는 60질량%이고, 더욱 바람직하게는 58질량%이고, 특히 바람직하게는 56질량%이고, 가장 바람직하게는 55질량%이다. 상기 범위면 연신이 용이해지거나, 두께 불균일이 작아지거나, 연신 온도나 열 고정 온도가 올려지기 쉬워서 열 수축률이 낮아질 수 있다.The polypropylene resin used in the present invention preferably has the following characteristics. That is, when the gel permeation chromatography (GPC) integration curve of the polypropylene resin constituting the film is measured, the lower limit of the amount of the component having a molecular weight of 100,000 or less is preferably 35% by mass, more preferably 38% by mass. %, more preferably 40% by mass, particularly preferably 41% by mass, and most preferably 42% by mass. In the above range, the effect of the present application, such as a low thermal shrinkage at high temperature, which is an effect of a low molecular weight material, may be easily obtained, or stretching may be facilitated. The upper limit of the amount of the component having a molecular weight of 100,000 or less in the GPC integration curve is preferably 65% by mass, more preferably 60% by mass, still more preferably 58% by mass, and particularly preferably 56% by mass. , most preferably 55% by mass. In the above range, stretching may be facilitated, thickness non-uniformity may be reduced, or stretching temperature or heat setting temperature may be easily increased, and thus thermal shrinkage may be reduced.

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌계 수지는, 분자량 분포의 넓이의 지표인 질량 평균 분자량(Mw)/수 평균 분자량(Mn)의 하한이, 바람직하게는 4이고, 보다 바람직하게는 4.5이고, 더욱 바람직하게는 5이고, 특히 바람직하게는 5.5이고, 가장 바람직하게는 6이다. Mw/Mn의 상한은, 바람직하게는 30이고, 보다 바람직하게는 25이고, 더욱 바람직하게는 22이고, 특히 바람직하게는 21이고, 가장 바람직하게는 20이다. Mw/Mn이 상기 범위면, 현실적인 제조가 용이하다.The lower limit of the mass average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn) of the polypropylene resin used in the present invention, which is an index of the breadth of the molecular weight distribution, is preferably 4, more preferably 4.5, and still more preferably It is preferably 5, particularly preferably 5.5, and most preferably 6. The upper limit of Mw/Mn is preferably 30, more preferably 25, still more preferably 22, particularly preferably 21, and most preferably 20. When Mw/Mn is within the above range, realistic production is easy.

또한, 폴리프로필렌의 분자량 분포는, 상이한 분자량의 성분을 다단계로 일련의 플랜트에서 중합하거나, 상이한 분자량의 성분을 오프라인에서 혼련기로 블렌드하거나, 상이한 성능을 가지는 촉매를 블렌드해서 중합하거나, 원하는 분자량 분포를 실현할 수 있는 촉매를 사용하거나 함으로써 조정하는 것이 가능하다.In addition, the molecular weight distribution of polypropylene can be determined by polymerizing components of different molecular weights in multiple stages in a series of plants, by blending components of different molecular weights offline with a kneader, or by blending and polymerizing catalysts having different performances, or by obtaining a desired molecular weight distribution. It is possible to adjust by using or using a catalyst that can be realized.

(폴리프로필렌계 수지의 제조 방법)(Method for producing polypropylene resin)

폴리프로필렌계 수지는, 지글러·나타 촉매나 메탈로센 촉매 등의 공지의 촉매를 사용하여, 원료가 되는 프로필렌을 중합시킴으로써 얻어진다. 그 중에서도, 이종 결합을 없애기 위해서는 지글러·나타 촉매 중에서도 입체 규칙성이 높은 중합이 가능한 촉매를 사용하는 것이 바람직하다.The polypropylene resin is obtained by polymerizing propylene as a raw material using a known catalyst such as a Ziegler-Natta catalyst or a metallocene catalyst. In particular, in order to eliminate heterogeneous bonds, it is preferable to use a catalyst capable of polymerization with high stereoregularity among Ziegler-Natta catalysts.

프로필렌의 중합 방법으로서는, 공지의 방법을 채용하면 되고, 예를 들어 헥산, 헵탄, 톨루엔, 크실렌 등의 불활성 용제 중에서 중합하는 방법, 액상의 단량체 중에서 중합하는 방법, 기체의 단량체 중에 촉매를 첨가하고, 기상 상태에서 중합하는 방법, 또는 이들을 조합하여 중합하는 방법 등을 들 수 있다.As the polymerization method of propylene, a known method may be employed, for example, polymerization in an inert solvent such as hexane, heptane, toluene, xylene, or the like, polymerization in a liquid monomer, addition of a catalyst to a gaseous monomer, A method of polymerization in a gaseous state or a method of polymerization in combination thereof, and the like are exemplified.

(첨가제)(additive)

본 발명에 사용하는 폴리프로필렌 필름 기재에는, 필요에 따라, 첨가제나 기타의 수지를 첨가해도 된다. 첨가제로서는, 예를 들어 산화 방지제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 활제, 조핵제, 점착제, 흐림 방지제, 난연제, 안티 블로킹제, 무기 또는 유기의 충전제 등을 들 수 있다. 기타의 수지로서는, 본 발명에서 사용되는 폴리프로필렌계 수지 이외의 폴리프로필렌계 수지, 프로필렌과 에틸렌 및/또는 탄소수 4 이상의 α-올레핀과의 공중합체인 랜덤 공중합체나, 각종 엘라스토머 등을 들 수 있다. 이들은, 다단의 반응기를 사용하여 순차 중합하거나, 폴리프로필렌계 수지와 헨쉘 믹서로 블렌드하거나, 사전에 용융 혼련기를 사용하여 제작한 마스터 펠릿을 소정의 농도가 되도록 폴리프로필렌으로 희석하거나, 미리 전량을 용융 혼련해서 사용하는 등 하면 된다.An additive or other resin may be added to the polypropylene film base material used in the present invention, if necessary. Examples of additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, lubricants, nucleating agents, adhesives, antifogging agents, flame retardants, antiblocking agents, inorganic or organic fillers, and the like. Examples of other resins include polypropylene resins other than the polypropylene resins used in the present invention, random copolymers that are copolymers of propylene and ethylene and/or C4 or more α-olefin, and various elastomers. These are sequentially polymerized using a multi-stage reactor, blended with a polypropylene resin with a Henschel mixer, diluted with polypropylene to a predetermined concentration of master pellets prepared in advance using a melt kneader, or melted in advance You can use it by kneading it.

(연신 폴리프로필렌 필름의 제조 방법)(Method for producing stretched polypropylene film)

본 발명의 기재에 사용하는 폴리프로필렌 필름으로서는 세로 방향(길이 방향) 혹은 가로 방향(폭 방향)의 1축 연신 필름이어도 되지만, 2축 연신 필름인 것이 바람직하다. 2축 연신의 경우는 순차 2축 연신이어도 동시 2축 연신이어도 된다.The polypropylene film used for the base material of the present invention may be a uniaxially stretched film in the longitudinal direction (longitudinal direction) or in the transverse direction (widthwise direction), but is preferably a biaxially stretched film. In the case of biaxial stretching, sequential biaxial stretching or simultaneous biaxial stretching may be employed.

이하에 가장 바람직한 예인 세로 연신-가로 연신의 순차 2축 연신 필름의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method for producing a sequential biaxially stretched film of longitudinal stretching and transverse stretching, which is the most preferable example, will be described.

먼저, 폴리프로필렌계 수지를 단축 또는 2축의 압출기로 가열 용융시켜, 냉각 롤 상에 압출해서 미연신 시트를 얻는다. 용융 압출 조건으로서는, 수지 온도가 200 내지 280℃가 되도록 하고, T 다이로 시트상으로 압출하고, 10 내지 100℃의 온도의 냉각 롤로 냉각 고화한다. 계속해서, 120 내지 165℃의 연신 롤로 필름을 길이(세로) 방향으로 3 내지 8배, 바람직하게는 3 내지 7배로 연신하고, 계속해서 가로 방향으로 155℃ 내지 175℃, 바람직하게는 158℃ 내지 170℃의 온도로 4 내지 20배, 바람직하게는 6 내지 12배 연신을 행한다. 추가로, 165 내지 175℃, 바람직하게는 166 내지 173℃의 분위기 온도에서 1 내지 15%의 릴랙스를 허용하면서 열처리를 실시한다. 이렇게 해서 얻어진 폴리프로필렌 필름에, 필요에 따라 적어도 편면에 코로나 방전 처리를 실시한 후, 와인더로 권취함으로써 롤 샘플을 얻을 수 있다.First, a polypropylene-based resin is heated and melted with a single-screw or twin-screw extruder and extruded onto a cooling roll to obtain an unstretched sheet. As the melt extrusion conditions, the resin temperature is set to 200 to 280°C, the resin is extruded into a sheet shape by a T die, and solidified by cooling with a cooling roll at a temperature of 10 to 100°C. Subsequently, the film is stretched 3 to 8 times, preferably 3 to 7 times in the longitudinal (longitudinal) direction with a stretching roll at 120 to 165°C, and then stretched at 155°C to 175°C, preferably 158°C to 175°C in the transverse direction. Stretching is performed at a temperature of 170 DEG C by 4 to 20 times, preferably 6 to 12 times. Additionally, heat treatment is performed at an ambient temperature of 165 to 175°C, preferably 166 to 173°C, allowing a relaxation of 1 to 15%. A roll sample can be obtained by winding up with a winder, after giving corona discharge treatment to the polypropylene film obtained in this way on at least one side|surface as needed.

세로 방향의 연신 배율의 하한은, 바람직하게는 3배이고, 보다 바람직하게는 3.5배이다. 세로 방향의 연신 배율이 상기 미만이면 막 두께 불균일이 될 수 있다. 세로 방향의 연신 배율의 상한은, 바람직하게는 8배이고, 보다 바람직하게는 7배이다. 세로 방향의 연신 배율이 상기를 초과하면, 계속해서 행하는 가로 연신이 곤란해질 수 있다.The lower limit of the stretching ratio in the machine direction is preferably 3 times, more preferably 3.5 times. If the stretching ratio in the machine direction is less than the above, the film thickness may be uneven. The upper limit of the stretching ratio in the machine direction is preferably 8 times, more preferably 7 times. When the stretching ratio in the machine direction exceeds the above, subsequent transverse stretching may become difficult.

세로 방향의 연신 온도의 하한은, 바람직하게는 120℃이고, 보다 바람직하게는 125℃이고, 더욱 바람직하게는 130℃이다. 세로 방향의 연신 온도가 상기 미만이면 기계적 부하가 커지거나, 두께 불균일이 커지거나, 필름의 표면 거?s이 일어날 수 있다. 세로 방향의 연신 온도의 상한은, 바람직하게는 165℃이고, 보다 바람직하게는 160℃이고, 더욱 바람직하게는 155℃이고, 특히 바람직하게는 150℃이다. 연신의 온도가 높은 쪽이 열 수축률의 저하에는 바람직하지만, 롤에 부착되어 연신할 수 없게 되거나, 표면 거?s이 일어날 수 있다.The lower limit of the stretching temperature in the machine direction is preferably 120°C, more preferably 125°C, still more preferably 130°C. If the stretching temperature in the machine direction is lower than the above, mechanical load may increase, thickness unevenness may increase, or surface roughness of the film may occur. The upper limit of the stretching temperature in the machine direction is preferably 165°C, more preferably 160°C, even more preferably 155°C, and particularly preferably 150°C. A higher stretching temperature is preferable for lowering the thermal shrinkage, but it may adhere to the roll, making it impossible to stretch, or surface roughness may occur.

가로의 연신 배율의 하한은, 바람직하게는 4배이고, 보다 바람직하게는 5배이고, 더욱 바람직하게는 6배이다. 가로의 연신 배율이 상기 미만이면 두께 불균일이 될 수 있다. 가로 연신 배율의 상한은, 바람직하게는 20배이고, 보다 바람직하게는 17배이고, 더욱 바람직하게는 15배, 특히 바람직하게는 12배이다. 가로의 연신 배율이 상기를 초과하면, 열 수축률이 높아지거나, 연신 시에 파단될 수 있다.The lower limit of the horizontal stretch ratio is preferably 4 times, more preferably 5 times, still more preferably 6 times. If the transverse draw ratio is less than the above, thickness nonuniformity may occur. The upper limit of the transverse stretch ratio is preferably 20 times, more preferably 17 times, still more preferably 15 times, and particularly preferably 12 times. If the horizontal stretch ratio exceeds the above, the heat shrinkage rate may increase or breakage may occur during stretching.

가로 연신에서의 예열 온도는, 빠르게 연신 온도 부근으로 필름 온도를 올리기 위해서, 바람직하게는 연신 온도보다 5 내지 15℃ 높게 설정한다.The preheating temperature in transverse stretching is preferably set 5 to 15° C. higher than the stretching temperature in order to quickly raise the film temperature to around the stretching temperature.

가로의 연신은, 종래의 연신 폴리프로필렌 필름보다 3 내지 5℃ 높은 온도에서 행하는 것이 바람직하다. TD의 연신 온도의 하한은, 바람직하게는 155℃이고, 보다 바람직하게는 157℃이고, 더욱 바람직하게는 158℃이다. 가로의 연신 온도가 상기 미만이면 충분히 연화되지 않고 파단되거나, 열 수축률이 높아질 수 있다. 가로 연신 온도의 상한은, 바람직하게는 175℃이고, 보다 바람직하게는 170℃이고, 더욱 바람직하게는 168℃이다. 열 수축률을 낮게 하기 위해서는, 가로 연신 온도는 높은 편이 바람직하지만, 상기를 초과하면, 저분자량 성분이 융해, 재결정화되어 배향이 저하될 뿐만 아니라, 표면 거?s이나 필름이 백화될 수 있다.Horizontal stretching is preferably performed at a temperature 3 to 5°C higher than that of conventional stretched polypropylene films. The lower limit of the TD stretching temperature is preferably 155°C, more preferably 157°C, still more preferably 158°C. If the transverse stretching temperature is lower than the above, it may not be sufficiently softened and broken, or the thermal shrinkage rate may be increased. The upper limit of the transverse stretching temperature is preferably 175°C, more preferably 170°C, still more preferably 168°C. In order to lower the thermal shrinkage rate, the transverse stretching temperature is preferably higher, but if it exceeds the above, the low molecular weight component melts and recrystallizes, not only the orientation decreases, but also the surface roughness and whitening of the film may occur.

연신 후의 필름은 통상, 열 고정된다. 본 발명에서는, 종래의 연신 폴리프로필렌 필름보다 3 내지 10℃ 높은 온도에서 열 고정을 행하는 것이 가능하다. 열 고정 온도의 하한은, 바람직하게는 165℃이고, 보다 바람직하게는 166℃이다. 열 고정 온도가 상기 미만이면, 열 수축률이 높아질 수 있다. 또한, 열 수축률을 낮게 하기 위해서 장시간의 처리가 필요해져, 생산성이 떨어질 수 있다. 열 고정 온도의 상한은, 바람직하게는 175℃이고, 보다 바람직하게는 173℃이다. 열 고정 온도가 상기를 초과하면, 저분자량 성분이 융해, 재결정화되어 표면 거?s이나 필름이 백화될 수 있다.The film after extending|stretching is usually heat-set. In the present invention, it is possible to perform heat setting at a temperature 3 to 10° C. higher than that of conventional oriented polypropylene films. The lower limit of the heat setting temperature is preferably 165°C, more preferably 166°C. If the heat setting temperature is less than the above, the heat shrinkage rate may be increased. In addition, long-term processing is required to lower the thermal shrinkage rate, which may lower productivity. The upper limit of the heat setting temperature is preferably 175°C, more preferably 173°C. If the heat setting temperature exceeds the above, the low molecular weight component may melt and recrystallize, resulting in whitening of the surface roughness or film.

열 고정 시에는 릴랙스(완화)시키는 것이 바람직하다. 릴랙스의 하한은, 바람직하게는 1%이고, 보다 바람직하게는 2%이고, 더욱 바람직하게는 3%이다. 상기 미만의 릴랙스에서는, 열 수축률이 높아질 수 있다. 릴랙스의 상한은, 바람직하게는 10%이고, 보다 바람직하게는 8%이다. 상기를 초과하는 릴랙스에서는, 두께 불균일이 커질 수 있다.It is preferable to relax (relieve) at the time of heat setting. The lower limit of relaxation is preferably 1%, more preferably 2%, still more preferably 3%. In a relaxation less than the above, the thermal contraction rate may increase. The upper limit of relaxation is preferably 10%, more preferably 8%. In relaxation exceeding the above, thickness nonuniformity may increase.

게다가, 열 수축률을 저하시키기 위해서는, 상기의 공정에서 제조된 필름을 일단 롤상으로 권취한 후, 오프라인에서 어닐시킬 수도 있다. 오프라인 어닐 온도의 하한은, 바람직하게는 160℃이고, 보다 바람직하게는 162℃이고, 더욱 바람직하게는 163℃이다. 오프라인 어닐 온도가 상기 미만이면 어닐의 효과를 얻지 못할 수 있다. 오프라인 어닐 온도의 상한은, 바람직하게는 175℃이고, 보다 바람직하게는 174℃이고, 더욱 바람직하게는 173℃이다. 오프라인 어닐 온도가 상기를 초과하면, 투명성이 저하되거나, 두께 불균일이 커지거나 할 수 있다.In addition, in order to reduce the thermal shrinkage rate, the film manufactured in the above process may be once wound up in a roll shape and then annealed off-line. The lower limit of the off-line annealing temperature is preferably 160°C, more preferably 162°C, still more preferably 163°C. If the off-line annealing temperature is less than the above, the effect of annealing may not be obtained. The upper limit of the off-line annealing temperature is preferably 175°C, more preferably 174°C, still more preferably 173°C. When the off-line annealing temperature exceeds the above, transparency may decrease or thickness unevenness may increase.

오프라인 어닐 시간의 하한은, 바람직하게는 0.1분이고, 보다 바람직하게는 0.5분이고, 더욱 바람직하게는 1분이다. 오프라인 어닐 시간이 상기 미만이면 어닐의 효과를 얻지 못할 수 있다. 오프라인 어닐 시간의 상한은, 바람직하게는 30분이고, 보다 바람직하게는 25분이고, 더욱 바람직하게는 20분이다. 오프라인 어닐 시간이 상기를 초과하면, 생산성이 저하될 수 있다.The lower limit of the off-line annealing time is preferably 0.1 minute, more preferably 0.5 minute, still more preferably 1 minute. If the offline annealing time is less than the above, the effect of annealing may not be obtained. The upper limit of the offline annealing time is preferably 30 minutes, more preferably 25 minutes, still more preferably 20 minutes. If the off-line annealing time exceeds the above, productivity may decrease.

또한, 150℃ 열 수축률은 1.5% 정도까지라면, 예를 들어 저분자량 성분을 증가시키는 연신 조건이나 열 고정 조건을 조정함으로써 가능하지만, 1.5% 이하로 낮추기 위해서는, 오프라인에서 어닐 처리를 실시하는 등 하는 것이 바람직하다.In addition, if the 150 ° C. thermal shrinkage rate is up to about 1.5%, it is possible, for example, by adjusting the stretching conditions or heat setting conditions to increase the low molecular weight component, but in order to lower it to 1.5% or less, annealing treatment off-line is required. it is desirable

헤이즈는, 예를 들어 연신 온도, 열 고정 온도가 지나치게 높은 경우, 냉각 롤(CR) 온도가 높고 연신 원단 시트의 냉각 속도가 느린 경우, 저분자량이 지나치게 많은 경우에 나빠지는 경향이 있어서, 이들을 조절함으로써, 상기 범위 내로 제어할 수 있다.Haze tends to deteriorate, for example, when the stretching temperature and the heat setting temperature are too high, when the cooling roll (CR) temperature is high and the cooling rate of the stretched raw sheet is slow, and when the low molecular weight is too high, adjusting these By doing so, it can be controlled within the above range.

이와 같이 하여 얻어진 연신 폴리프로필렌 필름은 통상, 폭 2000 내지 12000mm, 길이 1000 내지 50000m 정도로 제막되고, 롤상으로 권취된다. 또한, 각 용도에 맞춰서 슬릿되어 폭 300 내지 2000mm, 길이 500 내지 5000m 정도의 슬릿 롤로서 제공된다.The stretched polypropylene film obtained in this way is usually formed into a film with a width of about 2000 to 12000 mm and a length of about 1000 to 50000 m, and is wound into a roll shape. In addition, it is slit according to each application and provided as a slit roll with a width of 300 to 2000 mm and a length of about 500 to 5000 m.

(무기 박막층의 제작 방법)(Method of manufacturing inorganic thin film layer)

무기 박막층의 제작에는, 진공 증착법, 스퍼터법, 이온 플레이팅법 등의 PVD법(물리 증착법), 혹은 CVD법(화학 증착법) 등의 공지된 제법이 적절히 사용되지만, 물리 증착법인 것이 바람직하고, 진공 증착법인 것이 보다 바람직하다. 예를 들어, 진공 증착법에 있어서는, 증착원 재료로서 Al2O3와 SiO2의 혼합물이나 Al과 SiO2의 혼합물 등이 사용되고, 가열 방식으로서는, 저항 가열, 고주파 유도 가열, 전자 빔 가열 등을 사용할 수 있다. 또한, 반응성 가스로서 산소, 질소, 수증기 등을 도입하거나, 오존 첨가, 이온 어시스트 등의 수단을 사용한 반응성 증착을 사용해도 된다. 또한, 필름 기재에 바이어스 등을 첨가하거나, 필름 기재의 온도를 올리거나, 혹은 내리거나 하는 등, 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 한에서, 제작 조건을 변경해도 된다. 스패터법이나 CVD법 등의 다른 제작법에서도 마찬가지이다.For production of the inorganic thin film layer, well-known manufacturing methods such as PVD methods (physical vapor deposition) such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, or CVD (chemical vapor deposition) are appropriately used, but physical vapor deposition is preferred. Vacuum deposition method is more preferable. For example, in the vacuum deposition method, a mixture of Al 2 O 3 and SiO 2 or a mixture of Al and SiO 2 is used as a deposition source material, and resistance heating, high frequency induction heating, electron beam heating, etc. can be used as a heating method. there is. In addition, oxygen, nitrogen, water vapor, etc. may be introduced as a reactive gas, or reactive deposition using means such as ozone addition or ion assist may be used. In addition, the production conditions may be changed as long as the object of the present invention is not impaired, such as adding a bias or the like to the film substrate or raising or lowering the temperature of the film substrate. The same applies to other manufacturing methods such as the spatter method and the CVD method.

이때, 폴리프로필렌 필름 기재와 무기 박막층의 사이에 피복층을 마련하거나, 무기 박막층의 위에 피복층을 마련해도 된다.At this time, a coating layer may be provided between the polypropylene film substrate and the inorganic thin film layer, or a coating layer may be provided on the inorganic thin film layer.

[용도][Usage]

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은 상기와 같은 종래에는 없는 우수한 특성을 갖는다. 포장 필름으로서 사용한 경우에는, 가스 배리어성이 우수하기 때문에 폴리염화비닐리덴을 코팅한 폴리프로필렌 필름의 대체로서 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 그것보다 고강성이기 때문에 박육화가 가능하고, 보다 비용 절감, 경량화가 가능하다.The laminated polypropylene film of the present invention has the above excellent properties not found in the prior art. When used as a packaging film, not only can it be used as an alternative to polypropylene film coated with polyvinylidene chloride because of its excellent gas barrier properties, but also it can be reduced in thickness because it has higher rigidity than that, and further cost reduction and weight reduction are possible. do.

또한 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 내열성이 높기 때문에, 코팅이나 인쇄 시에 고온에서의 처리가 가능해지고, 생산의 효율화나 종래 사용되기 어려웠던 코팅제나 잉크, 라미네이트 접착제 등을 사용할 수 있다.In addition, since the laminated polypropylene film of the present invention has high heat resistance, processing at high temperatures during coating or printing is possible, and production efficiency can be improved or coating agents, inks, laminate adhesives, etc. that have been difficult to use in the past can be used.

나아가, 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 포장용으로 한정되지 않고, 콘덴서나 모터 등의 절연 필름, 태양 전지의 백시트의 베이스 필름으로서 사용하는 것도 가능하다.Further, the laminated polypropylene film of the present invention is not limited to packaging, and can also be used as an insulating film for capacitors and motors, and a base film for solar cell back sheets.

(라미네이트 적층체의 제작 방법)(Manufacturing method of laminated body)

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름에 히트 시일성을 갖는 폴리올레핀계 수지층을 마련한 적층체를 사용하여 음식품, 의약품, 세제, 샴푸, 오일, 치약, 접착제, 점착제 등의 화학품 내지 화장품, 기타 다양한 물품의 충전 포장 적성, 보존 적성 등이 우수한 포장 용기를 제조할 수 있다.Food and beverages, pharmaceuticals, detergents, shampoos, oils, toothpaste, adhesives, adhesives, cosmetics, and other various articles A packaging container having excellent filling and packaging aptitude, storage aptitude, and the like can be manufactured.

히트 시일성을 갖는 폴리올레핀계 수지층으로서는 열에 의해 용융되고 서로 융착될 수 있는 수지의 필름 내지 시트를 사용할 수 있고, 구체적으로는, 예를 들어 저밀도 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 직쇄상(선상) 저밀도 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 아이오노머-수지, 에틸렌-아크릴산 공중합체, 에틸렌-아크릴산에틸 공중합체, 에틸렌-메타크릴산 공중합체, 에틸렌-메타크릴산메틸 공중합체, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 메틸펜텐 중합체, 폴리부텐 중합체, 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지를 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등의 불포화 카르복실산에서 변성한 산 변성 폴리올레핀 수지, 폴리아세트산비닐계 수지, 폴리(메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 기타 각종의 수지 필름 내지 시트를 사용할 수 있다. 대표적인 것은 직쇄상(선상) 저밀도 폴리에틸렌 혹은 폴리프로필렌으로 이루어지는 필름 내지는 시트이다.As the polyolefin-based resin layer having heat-sealing properties, a film or sheet of a resin that can be melted by heat and fused to each other can be used. Specifically, for example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, linear (linear) ) Low-density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer-resin, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, ethylene -Acids modified by unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, etc. from polyolefinic resins such as propylene copolymer, methylpentene polymer, polybutene polymer, polyethylene or polypropylene Modified polyolefin resins, polyvinyl acetate-based resins, poly(meth)acrylic-based resins, polyvinyl chloride-based resins, and various other resin films or sheets can be used. A typical example is a film or sheet made of linear (linear) low-density polyethylene or polypropylene.

라미네이트 적층체의 온도 23℃, 상대 습도 65% 하에서의 산소 투과도의 상한은, 50mL/m2/day/MPa인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30mL/m2/day/MPa이고, 더욱 바람직하게는 20mL/m2/day/MPa이고, 특히 바람직하게는 15mL/m2/day/MPa이다. 산소 투과도의 상한이 50mL/m2/day/MPa면, 산소에 의해 열화되는 물질이나 식품의 보존성이 우수하다. 온도 23℃, 습도 65%에 있어서의 적층 폴리프로필렌 필름의 산소 투과도의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.1mL/m2/day/MPa이다. 또한, 제조상의 관점에서, 0.1mL/m2/day/MPa가 하한이라고 생각된다.The upper limit of the oxygen permeability of the laminated body at a temperature of 23°C and a relative humidity of 65% is preferably 50 mL/m 2 /day/MPa, more preferably 30 mL/m 2 /day/MPa, still more preferably It is 20 mL/m 2 /day/MPa, and particularly preferably 15 mL/m 2 /day/MPa. When the upper limit of the oxygen permeability is 50 mL/m 2 /day/MPa, the preservability of substances and foods deteriorated by oxygen is excellent. The lower limit of the oxygen permeability of the laminated polypropylene film at a temperature of 23°C and a humidity of 65% is not particularly limited, but is preferably 0.1 mL/m 2 /day/MPa. In addition, from a manufacturing viewpoint, it is considered that 0.1 mL/m 2 /day/MPa is the lower limit.

라미네이트 적층체의 세로 방향의 라미네이트 강도의 하한은, 1.1N/15mm인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.2N/15mm이고, 더욱 바람직하게는 1.2N/15mm이다. 세로 방향의 라미네이트 강도의 하한이 1.1N/15mm면, 포장 용기의 강도가 우수하다. 세로 방향의 라미네이트 강도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 3.0N/15mm이다. 또한, 제조상의 관점에서, 3.0N/15mm가 상한이라고 생각된다.The lower limit of the laminate strength in the longitudinal direction of the laminated body is preferably 1.1 N/15 mm, more preferably 1.2 N/15 mm, still more preferably 1.2 N/15 mm. When the lower limit of the laminate strength in the longitudinal direction is 1.1 N/15 mm, the strength of the packaging container is excellent. The upper limit of the laminate strength in the longitudinal direction is not particularly limited, but is preferably 3.0 N/15 mm. Moreover, it is considered that 3.0 N/15 mm is an upper limit from a manufacturing viewpoint.

[실시예][Example]

이하에 본 발명을 실시예에 기초하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이러한 실시예로 한정되는 것은 아니다. 실시예에 있어서의 물성의 측정 방법은 다음과 같다.The present invention will be described in detail below based on examples, but the present invention is not limited to these examples. The method for measuring physical properties in Examples is as follows.

1) 입체 규칙성1) Stereoregularity

메소펜타드 분율([mmmm]%) 및 메소 평균 연쇄 길이의 측정은, 13C-NMR을 사용하여 하기와 같이 행하였다.The mesopentad fraction ([mmmm]%) and meso average chain length were measured using 13 C-NMR as follows.

메소펜타드 분율은, 「Zambelli 등, Macromolecules, 제6권, 925 페이지(1973)」에 기재된 방법에 따라 산출하였다.The mesopentad fraction was calculated according to the method described in "Zambelli et al., Macromolecules, Vol. 6, p. 925 (1973)".

메소 평균 연쇄 길이는, 「J.C. Randall에 의한, “Polymer Sequence Distribution” 제2장(1977년)(Academic Press, New York)」에 기재된 방법에 따라 산출하였다.The meso average chain length is found in “J.C. It was calculated according to the method described in “Polymer Sequence Distribution” by Randall, Chapter 2 (1977) (Academic Press, New York).

13C-NMR 측정은, BRUKER사제 「AVANCE500」을 사용하여, 시료 200mg을 o-디클로로벤젠과 중벤젠의 8:2(체적비)의 혼합액에 135℃에서 용해하고, 110℃에서 행하였다.13 C-NMR measurement was performed at 110°C after dissolving 200 mg of the sample in an 8:2 (volume ratio) mixture of o-dichlorobenzene and heavy benzene at 135°C using "AVANCE500" manufactured by BRUKER.

2) 크실렌 가용분(단위: 질량%)2) Xylene soluble content (unit: mass %)

폴리프로필렌 시료 1g을 비등 크실렌 200mL에 용해해서 방냉한 후, 20℃의 항온 수조에서 1시간 재결정화시켜, 여과액에 용해하고 있는 질량의, 원래의 시료량에 대한 비율을 크실렌 가용분(질량%)이라 하였다.After dissolving 1 g of polypropylene sample in 200 mL of boiling xylene, allowing it to cool, recrystallizing it in a constant temperature water bath at 20 ° C. for 1 hour. It was called.

3) 용융 유속(MFR, 단위: g/10분)3) Melt flow rate (MFR, unit: g/10 min)

MFR은, JIS K7210-1:2014에 준거하여, 온도 230℃, 하중 2.16kgf에서 측정하였다.MFR was measured at a temperature of 230°C and a load of 2.16 kgf in accordance with JIS K7210-1:2014.

4) 분자량 및 분자량 분포4) molecular weight and molecular weight distribution

분자량 및 분자량 분포는, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)를 사용하여 단분산 폴리스티렌 기준에 의해 구하였다. GPC 측정에서의 사용 칼럼, 용매 등의 측정 조건은 이하와 같다.Molecular weight and molecular weight distribution were determined by monodisperse polystyrene standards using gel permeation chromatography (GPC). The measurement conditions, such as the column used in a GPC measurement and a solvent, are as follows.

용매: 1,2,4-트리클로로벤젠Solvent: 1,2,4-trichlorobenzene

칼럼: TSKgel GMHHR-H(20)HT×3Column: TSKgel GMHHR-H(20)HT×3

유량: 1.0ml/minFlow: 1.0ml/min

검출기: RIDetector: RI

측정 온도: 140℃Measurement temperature: 140℃

수 평균 분자량(Mn), 질량 평균 분자량(Mw), Z+1 평균 분자량(Mz+1)은 각각, 분자량 교정 곡선을 통해 얻어진 GPC 곡선의 각 용출 위치의 분자량(Mi)의 분자수(Ni)에 의해 다음 식으로 정의된다.The number average molecular weight (Mn), mass average molecular weight (Mw), and Z+1 average molecular weight (Mz+1) are the number of molecules (Ni) of the molecular weight (Mi) at each elution position in the GPC curve obtained through the molecular weight calibration curve, respectively. is defined by the following formula:

수 평균 분자량: Mn=Σ(Ni·Mi)/ΣNiNumber average molecular weight: Mn = Σ (Ni Mi) / ΣNi

질량 평균 분자량: Mw=Σ(Ni·Mi2)/Σ(Ni·Mi)Mass average molecular weight: Mw=∑(Ni·Mi 2 )/∑(Ni·Mi)

Z+1 평균 분자량: Mz+1=Σ(Ni·Mi4)/Σ(Ni·Mi3)Z+1 average molecular weight: Mz+1=Σ(Ni·Mi 4 )/Σ(Ni·Mi 3 )

분자량 분포: Mw/MnMolecular Weight Distribution: Mw/Mn

또한, GPC 곡선의 피크 위치의 분자량을 Mp라 하였다.In addition, the molecular weight of the peak position of the GPC curve was set to Mp.

베이스 라인이 명확하지 않을 때는, 표준 물질의 용출 피크에 가장 가까운 고분자량측의 용출 피크의 고분자량측의 영역의 가장 낮은 위치까지의 범위에서 베이스 라인을 설정하기로 하였다.When the base line was not clear, it was decided to set the base line in the range from the lowest position of the region on the high molecular weight side of the elution peak on the high molecular weight side closest to the elution peak of the standard substance.

5) 광각 X선 회절5) Wide-angle X-ray diffraction

본 발명의 실시예에서는, 대형 방사광 시설 SPring-8 중에 프런티어 소프트매터 개발 산학 연합체(FSBL)가 소유하는 빔 라인 BL03XU의 제2 해치에 있어서, X선원 방향과 필름면이 이루는 각이 수직을 이루게 측정 필름을 세트하고, 광각 X선(WAXS) 측정을 행하였다. 측정 조건을 하기에 나타낸다.In the embodiment of the present invention, in the second hatch of the beam line BL03XU owned by the Frontier Soft Matter Development Industry-University Alliance (FSBL) in the large-scale radiation facility SPring-8, the angle formed by the X-ray source direction and the film plane is perpendicular to the measurement The film was set and wide-angle X-ray (WAXS) measurement was performed. Measurement conditions are shown below.

X선 파장은 0.1nm로 하고, 검출기로서 이메징 플레이트(RIGAKU RAXIS VII) 또는 이미지 인텐시파이어 구비 CCD 카메라(Hamamatsu Photonics V7739P+ORCA R2)를 사용하고, 시료 전후에 세트한 이온 챔버의 값으로부터 투과율을 산출하였다. 얻어진 2차원 상에 대하여 암전류(다크 노이즈) 및 투과율을 감안한 공기 산란 보정을 행하였다. 카메라 길이의 측정에는 산화세륨(CeO2)을 사용하고, Fit2D(European Synchrotron Radiation Facility제의 소프트웨어 [http://www.esrf.eu/computing/scientific/FIT2D/])를 사용하여 (110)면의 방위각 프로파일을 산출하였다.The X-ray wavelength was 0.1 nm, an imaging plate (RIGAKU RAXIS VII) or a CCD camera (Hamamatsu Photonics V7739P+ORCA R2) equipped with an image intensifier was used as a detector, and the transmittance was determined from the value of the ion chamber set before and after the sample. was calculated. The obtained two-dimensional image was subjected to air scattering correction in consideration of dark current (dark noise) and transmittance. For the measurement of the camera length, cerium oxide (CeO 2 ) was used, and Fit2D (Software from European Synchrotron Radiation Facility [http://www.esrf.eu/computing/scientific/FIT2D/]) was used to (110) plane. The azimuth profile of was calculated.

6) 소각 X선 산란법에 의한 장주기 사이즈6) Long period size by small-angle X-ray scattering method

대형 방사광 시설 SPring-8 중에 프런티어 소프트매터 개발 산학 연합체(FSBL)가 소유하는 빔 라인 BL03XU의 제2 해치에 있어서, 필름의 세로 방향을 상하, 가로 방향을 좌우라고 하고, X선원 방향과 필름면이 이루는 각이 수직을 이루게 측정 필름을 세트하고, 소각 X선(SAXS) 측정을 행하였다. 측정 조건을 하기에 나타낸다.In the second hatch of the beam line BL03XU owned by the Frontier Soft Matter Development Industry-University Alliance (FSBL) in the large synchrotron radiation facility SPring-8, the vertical direction of the film is called up and down, and the horizontal direction is left and right, and the direction of the X-ray source and the film plane are The measurement film was set so that the angle formed was perpendicular, and small-angle X-ray (SAXS) measurement was performed. Measurement conditions are shown below.

X선 파장은 0.2nm으로 하고, 카메라 길이는 약 7.7m, 검출기로서는 이메징 플레이트(RIGAKU R-AXIS VII)를 사용해서 산란 벡터 q의 0.01 내지0.5(nm-1)의 범위의 산란 상을 얻었다. 여기서 산란 벡터 q는 θ를 산란각 2θ의 절반, π를 원주율, λ를 X선의 파장이라 했을 때, 식 q=4πsinθ/λ에 의해 산출된다. 얻어진 산란 상에 대하여 WAXS 측정과 마찬가지로 암전류(다크 노이즈) 및 투과율을 감안한 공기 산란 보정을 행하고, 정확한 카메라 길이의 측정에는 베헨산은으로 별도 교정한 콜라겐을 사용하였다. 전술한 Fit2d 소프트웨어를 사용하여 시료의 폭 방향의 프로파일을 산출하고, 횡축에 산란 벡터 q(nm-1), 종축에 강도 I(q)의 상용 대수를 취하여 플롯하였다. 여기서 프로파일의 산출 범위는 폭 방향으로부터 ±5도로 하였다.The X-ray wavelength was 0.2 nm, the camera length was about 7.7 m, and an imaging plate (RIGAKU R-AXIS VII) was used as a detector to obtain a scattering image of scattering vector q in the range of 0.01 to 0.5 (nm-1). . Here, the scattering vector q is calculated by the equation q=4πsinθ/λ, where θ is half the scattering angle 2θ, π is the circumferential rate, and λ is the wavelength of the X-ray. The obtained scattering image was subjected to air scattering correction in consideration of dark current (dark noise) and transmittance in the same manner as in the WAXS measurement, and collagen separately calibrated with silver behenate was used for accurate measurement of the camera length. A profile in the width direction of the sample was calculated using the Fit2d software described above, and the scattering vector q (nm-1) was plotted on the abscissa axis and the common logarithm of intensity I (q) on the ordinate axis. Here, the calculated range of the profile was ±5 degrees from the width direction.

7) 시차 주사 열량 분석(DSC)7) Differential Scanning Calorimetry (DSC)

시차 주사 열량계(시마즈 세이사쿠쇼사제 「DSC-60」)를 사용하여 열측정을 행하였다. 시료 필름으로부터 약 5mg을 잘라내서 측정용의 알루미늄 팬에 봉입하였다. 20℃/분의 속도에서 실온으로부터 230℃까지 승온되고, 시료의 융해 흡열 피크 온도, 융해 흡열 피크 면적(전체 융해열)을 측정하였다. 여기서 베이스 라인은, 흡열 피크의 개시부터 피크 종료까지, 융해 전후의 온도에서 커브가 원활하게 연결되도록 설정하였다. 또한 융해 흡열 피크 면적 중, 150℃ 이하의 부분의 면적을 150℃ 융해열로 하였다.Thermal measurement was performed using a differential scanning calorimeter ("DSC-60" manufactured by Shimadzu Corporation). About 5 mg was cut out from the sample film and sealed in an aluminum pan for measurement. The temperature was raised from room temperature to 230°C at a rate of 20°C/min, and the melting endothermic peak temperature and melting endothermic peak area (total heat of fusion) of the sample were measured. Here, the baseline was set so that the curves were smoothly connected at temperatures before and after melting, from the start of the endothermic peak to the end of the peak. In addition, the area of the part of 150 degreeC or less of the melting endothermic peak area was made into 150 degreeC heat of fusion.

8) 열 수축률(단위: %)8) Thermal shrinkage rate (unit: %)

JIS Z 1712:2009에 준거해서 이하의 방법으로 측정하였다. 필름 기재 및 적층 필름을 폭 20mm, 길이 200mm의 크기로, 세로 방향, 가로 방향에 제각기 각 5개 커트하고, 150℃의 열풍 오븐 내에 매달아 15분간 가열하였다. 가열 후 약 50mm 간격의 표선에서의 길이를 측정하고, 원래의 길이에 대한 수축한 길이의 비율(백분율)을 열 수축률로 하였다.Based on JIS Z 1712:2009, it was measured by the following method. The film substrate and the laminated film were each cut to a size of 20 mm in width and 200 mm in length in the longitudinal direction and in the transverse direction, respectively, and hung in a hot air oven at 150 ° C. and heated for 15 minutes. After heating, the length was measured on the marked line at intervals of about 50 mm, and the ratio (percentage) of the contracted length to the original length was taken as the heat shrinkage rate.

9) 영률(단위: GPa)9) Young's modulus (Unit: GPa)

JIS K 7127:1999에 준거해서 필름 기재 및 적층 필름의 세로 방향 및 가로 방향의 영률을 23℃에서 측정하였다. 필름 기재 및 적층 필름을 폭 15mm, 길이 200mm의 크기로, 세로 방향, 가로 방향에 제각기 각 5개 커트하고, 200mm/min. 인장 속도로, 인장 시험했을 때의 인장 강도를 측정하였다.Based on JIS K 7127:1999, the Young's modulus of the film substrate and the laminated film in the machine direction and the transverse direction was measured at 23°C. The film base material and the laminated film were cut to a size of 15 mm in width and 200 mm in length, respectively, in the longitudinal direction and in the transverse direction, respectively, 5 pieces each, 200 mm/min. At the tensile rate, the tensile strength at the time of the tensile test was measured.

10) 내충격성(단위: J)10) Impact resistance (Unit: J)

도요 세끼사제 「필름 임팩트 테스터(충격 헤드: 12.7mm)」를 사용하여, 23℃에서 측정하였다. 필름 기재를 폭(가로 방향): 105mm, 길이(세로 방향): 297mm의 크기로, 각 5개 커트하고, 충격 강도를 측정하였다.It measured at 23 degreeC using the "film impact tester (impact head: 12.7 mm)" by Toyo Seki Co., Ltd. The film substrate was cut into 5 pieces each having a size of width (horizontal direction): 105 mm and length (vertical direction): 297 mm, and impact strength was measured.

11) 두께 균일성(두께 불균일)(단위: %)11) Thickness uniformity (thickness unevenness) (Unit: %)

권취된 필름 롤로부터 길이가 1m인 정사각형의 샘플을 잘라내고, 세로 방향 및 가로 방향으로 각각 10등분해서 측정용 샘플을 100장 준비하였다. 측정용 샘플의 대략 중앙부를 접촉식의 필름 두께계로 두께를 측정하였다. 얻어진 100점의 데이터의 평균값 A를 구하고, 또한 최솟값과 최댓값의 차(절댓값) B를 구하고, (B/A)×100의 식을 사용하여 계산한 값을 필름의 두께 불균일로 하였다.A square sample having a length of 1 m was cut out from the wound film roll, and 100 samples for measurement were prepared by dividing each into 10 equal parts in the longitudinal direction and the transverse direction. The thickness of the approximately central portion of the sample for measurement was measured with a contact-type film thickness meter. The average value A of the obtained 100 points of data was calculated|required, and the difference (absolute value) B of the minimum value and maximum value was calculated|required, and the value calculated using the formula of (B/A)x100 was made into the thickness unevenness of a film.

12) 헤이즈(단위: %)12) Haze (unit: %)

JIS K7136:1999에 따라 필름 기재를 측정하였다.Film substrates were measured according to JIS K7136:1999.

13) 필름 밀도(단위: g/cm3)13) Film density (unit: g/cm 3 )

필름 기재의 밀도는, JIS K7112:1999에 따라, 밀도 구배관법에 의해 측정하였다.The density of the film substrate was measured by the density gradient tube method according to JIS K7112:1999.

14) 굴절률(Nx, Ny, Nz)14) Refractive index (Nx, Ny, Nz)

아베 굴절계(아타고사제)를 사용하여, 23℃, 습도 65%, 측정용 액은 벤질 알코올, 측정 파장은 589nm(나트륨 D선)에서 필름 기재를 측정하였다. 세로 방향, 가로 방향에 따른 굴절률을 각각 Nx, Ny라 하고, 두께 방향의 굴절률을 Nz라 하였다.Using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.), the film substrate was measured at 23°C, 65% humidity, benzyl alcohol as the measurement solution, and 589 nm (sodium D line) as the measurement wavelength. The refractive indices along the vertical and horizontal directions were respectively Nx and Ny, and the refractive index in the thickness direction was Nz.

15) 면 배향 계수 P15) Plane orientation factor P

상기 14)에서 측정한 Nx, Ny, Nz를 사용하여, 식: P=[(Nx+Ny)/2]-Nz로부터 산출하였다.Using Nx, Ny, and Nz measured in 14) above, it was calculated from the formula: P=[(Nx+Ny)/2]-Nz.

(무기 박막층의 조성·막 두께)(Composition/film thickness of inorganic thin film layer)

무기 화합물의 조성 막 두께는 형광 X선 분석 장치(리가쿠사제 ZSX100e)를 사용하여, 미리 제작한 검량선에 의해 막 두께 조성을 측정하였다. 또한, 여기 X선관의 조건으로서 50kV, 70mA로 하였다.The compositional film thickness of the inorganic compound was measured using a fluorescence X-ray analyzer (ZSX100e manufactured by Rigaku Co., Ltd.) using a calibration curve prepared in advance. In addition, the conditions of the excitation X-ray tube were 50 kV and 70 mA.

검량선은 이하의 순서로 구한 것이다.The calibration curve was obtained in the following procedure.

산화알루미늄과 산화규소를 포함하는 무기 화합물 박막을 갖는 필름을 몇 종류 제작하고, 유도 결합 플라스마 발광법(ICP법)으로 산화알루미늄과 산화규소 각각의 부착량을 구하였다. 다음으로, 부착량을 구한 각 필름을 형광 X선 분석 장치(리가쿠사제 ZSX100e, 여기 X선관의 조건: 50kv, 70mA)로 분석함으로써 각 샘플의 산화알루미늄과 산화규소의 형광 X선 강도를 구하였다. 그리고, 형광 X선 강도와 ICP로 구한 부착량의 관계를 구해서 검량선을 제작하였다.Several types of films having inorganic compound thin films containing aluminum oxide and silicon oxide were produced, and the respective adhesion amounts of aluminum oxide and silicon oxide were determined by an inductively coupled plasma emission method (ICP method). Next, each film whose adhesion amount was determined was analyzed with a fluorescence X-ray analyzer (Rigaku Co., Ltd. ZSX100e, excitation X-ray tube conditions: 50 kv, 70 mA) to determine the fluorescence X-ray intensity of aluminum oxide and silicon oxide of each sample. Then, a calibration curve was prepared by determining the relationship between the fluorescence X-ray intensity and the amount of adhesion determined by ICP.

ICP로 구한 부착량은 기본적으로 질량이므로 이것을 막 두께 조성으로 하기 위해서 이하와 같이 변환하였다.Since the adhesion amount calculated|required by ICP is basically a mass, it was converted as follows in order to make this into a film thickness composition.

막 두께는, 무기 산화 박막의 밀도가 벌크 밀도의 8할이라고 하고, 또한 산화알루미늄과 산화규소가 혼합된 상태여도 각각 체적을 유지한다고 해서 산출하였다.The film thickness was calculated on the assumption that the density of the inorganic oxide thin film was 80% of the bulk density, and that aluminum oxide and silicon oxide each maintained their volume even in a mixed state.

산화알루미늄의 막 중의 함유율 wa(질량%), 산화규소의 막 중의 함유량 ws(질량%)는, 산화알루미늄의 단위 면적당의 부착량을 Ma(g/cm2), 산화규소의 단위 면적당의 부착량을 Ms(g/cm2)라 하면, 각각 하기 식 (1), (2)로 구해진다.The aluminum oxide content wa (mass %) in the film and the silicon oxide content ws (mass %) in the film indicate the amount of aluminum oxide deposited per unit area as Ma (g/cm 2 ) and the amount of silicon oxide deposited per unit area as Ms If it is (g/cm 2 ), it is obtained by the following formulas (1) and (2), respectively.

wa=100×[Ma/(Ma+Ms)] (1)wa=100×[Ma/(Ma+Ms)] (1)

ws=100-wa (2)ws=100-wa (2)

즉, 산화알루미늄의 단위 면적당의 부착량을 Ma(g/cm2), 그의 벌크의 밀도를 ρa(3.97g/cm3)라 하고, 산화규소의 단위 면적당의 부착량을 Ms(g/cm2), 그의 벌크의 밀도를 ρs(2.65g/cm3)라 하면, 막 두께 t(nm)는 하기 식 (3)으로 구해진다.That is, the adhesion amount per unit area of aluminum oxide is Ma (g/cm 2 ), the bulk density thereof is ρa (3.97g/cm 3 ), the adhesion amount per unit area of silicon oxide is Ms (g/cm 2 ), If the bulk density thereof is ρs (2.65 g/cm 3 ), the film thickness t (nm) is obtained by the following formula (3).

t=((Ma/(ρa×0.8)+Ms/(ρs×0.8))×107…식 (3)t=((Ma/(ρa×0.8)+Ms/(ρs×0.8))×10 7 …Equation (3)

형광 X선으로 측정한 막 두께의 값은, 투과형 전자 현미경(TEM)을 사용하여, 실제로 계측한 막 두께와 가까운 것이었다.The value of the film thickness measured by fluorescent X-rays was close to the film thickness actually measured using a transmission electron microscope (TEM).

16) 산소 투과율(mL/m2/day/MPa)16) Oxygen transmission rate (mL/m 2 /day/MPa)

산소 투과도 측정 장치(MOCON사제 OX-TRAN2/21)를 사용하여, 온도 23℃, 상대 습도 65%의 조건에서 폴리프로필렌 필름 기재, 적층 폴리프로필렌 필름 및 상기 라미네이트 적층체의 측정을 행하였다. 무기 박막층과 반대측의 면을 조습측이 되도록 하였다.Using an oxygen permeability measuring device (OX-TRAN2/21 manufactured by MOCON), the polypropylene film substrate, the laminated polypropylene film, and the laminated laminate were measured under conditions of a temperature of 23°C and a relative humidity of 65%. The surface on the opposite side to the inorganic thin film layer was made to be the moisture control side.

17) 수증기 투과율(g/m2·day)17) Moisture vapor transmission rate (g/m 2 ·day)

수증기 투과량은, 수증기 투과도 측정 장치(MOCON사제 PERMATRAN-W3/33)를 사용하여, 온도 37.8℃, 상대 습도 90%의 조건에서 폴리프로필렌 필름 기재, 적층 폴리프로필렌 필름 및 하기 순서로 제작한 라미네이트 적층체의 측정을 행하였다. 무기 박막층과 반대측의 면을 고습도측이 되도록 하였다.The water vapor permeability was measured using a water vapor permeability measuring device (PERMATRAN-W3/33 manufactured by MOCON) at a temperature of 37.8 ° C. and a relative humidity of 90%. of was measured. The surface on the opposite side to the inorganic thin film layer was made to be the high humidity side.

18) 라미네이트 강도18) Laminate Strength

라미네이트 강도는 이하와 같은 순서에 의해 측정하였다.Laminate strength was measured in the following procedure.

1) 실란트 필름과의 라미네이트 적층체의 제작1) Production of laminated body with sealant film

연속식의 드라이 라미네이트기를 사용하여 이하와 같이 행하였다.It carried out as follows using the continuous type dry lamination machine.

실시예, 비교예에서 얻어진 적층 폴리프로필렌 필름의 코로나면에 접착제를 건조 시 도포량이 3.0g/m2가 되게 그라비아 코팅한 후, 건조 존으로 유도하여 80℃, 5초에서 건조하였다. 계속해서 하류측에 마련된 롤 사이에서 실란트 필름과 접합시켰다(롤 압력 0.2MP, 롤 온도: 60℃). 얻어진 라미네이트 적층체는 권취된 상태로 40℃, 3일간의 에이징 처리를 행하였다.After gravure coating the adhesive on the corona surface of the laminated polypropylene films obtained in Examples and Comparative Examples so that the coating amount was 3.0 g / m 2 when drying, it was led to a drying zone and dried at 80 ° C. for 5 seconds. Subsequently, it bonded with the sealant film between the rolls provided on the downstream side (roll pressure: 0.2 MP, roll temperature: 60°C). The obtained laminated body was subjected to aging treatment at 40°C for 3 days in a wound state.

또한, 접착제는 주제(도요 모톤사제, TM329) 17.9질량%, 경화제(도요 모톤사제, CAT8B) 17.9질량% 및 아세트산에틸 64.2질량%를 혼합해서 얻어진 에테르계 접착제를 사용하고, 실란트 필름은 도요보사제 비연신 폴리프로필렌 필름(파일렌(등록 상표) CT P1128, 두께 30㎛)을 사용하였다.In addition, the adhesive used the ether type adhesive obtained by mixing 17.9 mass % of main material (made by Toyo Morton, TM329), 17.9 mass % of curing agents (made by Toyo Morton, CAT8B), and 64.2 mass % of ethyl acetate, and the sealant film made by Toyobo Co., Ltd. A stretched polypropylene film (Pylen (registered trademark) CT P1128, thickness 30 μm) was used.

2) 라미네이트 강도의 측정2) Measurement of laminate strength

상기에서 얻어진 라미네이트 적층체를 2축 배향 폴리프로필렌 필름의 세로 방향으로 긴 변을 갖는 직사각형(길이 200mm, 폭 15mm)으로 잘라내고, 인장 시험기(텐실론, 오리엔테크사제)를 사용하여, 23℃의 환경 하 200mm/분의 인장 속도에서 T자 박리했을 때의 박리 강도(N/15mm)를 측정하였다. 측정은 3회 행하고, 그의 평균값을 라미네이트 강도로 하였다.The laminated laminate obtained above was cut into a rectangle (length 200 mm, width 15 mm) having long sides in the longitudinal direction of the biaxially oriented polypropylene film, and using a tensile tester (Tensilon, manufactured by Orientec Co., Ltd.), 23 ° C. The peel strength (N/15 mm) when T-shaped peeling was performed at a tensile speed of 200 mm/min under the environment was measured. The measurement was performed three times, and the average value was used as the laminate strength.

(실시예 1)(Example 1)

폴리프로필렌계 수지로서, Mw/Mn=7.7, Mz+1/Mn=140, MFR=5.0g/10분, 메소펜타드 분율 [mmmm]=97.3%인 프로필렌 단독 중합체(일본 폴리프로(주)제 「노바테크(등록 상표) PP SA4L」: 공중합 단량체양은 0몰%; 이하 「PP-1」이라고 약칭한다)를 사용하였다.As the polypropylene resin, a propylene homopolymer having Mw/Mn = 7.7, Mz + 1/Mn = 140, MFR = 5.0 g/10 min, and mesopentad fraction [mmmm] = 97.3% (manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd.) "Novatech (registered trademark) PP SA4L": the amount of copolymerization monomer was 0 mol%; hereinafter abbreviated as "PP-1") was used.

이 폴리프로필렌계 수지를, 60mm 1축 압출기를 사용하여, 250℃에서 T 다이로 시트상으로 압출하고, 30℃의 냉각 롤에서 냉각 고화한 후, 135℃에서 길이 방향(세로 방향)으로 4.5배로 세로 연신하고, 다음으로 양단을 클립으로 끼우고, 열풍 오븐 내로 유도하고, 170℃에서 예열 후, 160℃에서 가로 방향(가로 방향)으로 8.2배로 가로 연신하고, 다음으로 6.7%의 릴랙스를 주면서 168℃에서 열처리하였다. 그 후, 필름의 편면에 코로나 처리를 행하고, 와인더로 권취하고, 본 발명의 기재로서 사용하는 연신 폴리프로필렌 필름으로 하였다.This polypropylene-based resin is extruded into a sheet form with a T die at 250°C using a 60 mm single screw extruder, cooled and solidified with a cooling roll at 30°C, and then multiplied by 4.5 times in the longitudinal direction (longitudinal direction) at 135°C. Longitudinal stretching, then clamped at both ends, guided into a hot air oven, preheated at 170°C, and then transversely stretched 8.2 times in the transverse direction (transverse direction) at 160°C, followed by 6.7% relaxation while giving 168 It was heat treated at °C. Thereafter, corona treatment was performed on one side of the film, and it was wound up with a winder to obtain a stretched polypropylene film used as a base material of the present invention.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 특성을, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은 표 3에 나타내는 바와 같고, 열 수축률은 낮고, 영률은 높았다. 또한, 이 필름의 시차 주사 열량 측정(DSC)으로 얻어진 차트를 도 2에 나타낸다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the characteristics of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. The physical properties of the obtained film are as shown in Table 3, and the thermal shrinkage rate was low and the Young's modulus was high. Moreover, the chart obtained by the differential scanning calorimetry (DSC) of this film is shown in FIG.

증착원으로서, 3 내지 5mm 정도의 크기의 입자상 Al2O3(순도 99.5%)와 SiO2(순도 99.9%)를 사용하고, 전자 빔 증착법으로, 상기 연신 폴리프로필렌 필름 상에 Al2O3와 SiO2를 동시에 증착시켜 Al2O3-SiO2계 박막층의 형성을 행하였다. 증착 재료는, 직경 40mm인 원형의 감과를 카본판에서 2개로 구획하고, 각각에 입상의 Al2O3, 입상의 SiO2를 혼합하지 않고 투입하였다. 가열원으로서 1대의 전자총을 사용하고, Al2O3와 SiO2 각각을 시분할로 전자 빔을 조사해서 가열하고, 폴리프로필렌 필름 표면에 가열 기화시켜 Al2O3와 SiO2를 혼합해서 증착시켰다. 그때의 전자총의 에미션 전류는 205mA, 가속 전압은 6kV, 감과에 투입된 산화알루미늄에는 160mA×6kV 상당의, 산화규소에는 45mA×6kV 상당의 전력이 투입 되었다. 증착 시의 진공압은 1.1×10-4Pa로 하고, 필름을 지지하는 롤의 온도를 23℃로 하였다. 박막층의 두께는 제막 속도를 변경함으로써 수정 진동자식 막 두께 측정기를 사용하여 20nm가 되도록 증착시키고, 적층 폴리프로필렌 필름을 얻었다. 얻어진 필름 물성을 표 3에 나타낸다.As a deposition source, particulate Al 2 O 3 (purity 99.5%) and SiO 2 (purity 99.9%) having a size of about 3 to 5 mm were used, and Al 2 O 3 and SiO 2 were deposited on the stretched polypropylene film by an electron beam evaporation method. SiO 2 was deposited simultaneously to form an Al2O3-SiO2 based thin film layer. As the evaporation material, a circular persimmon with a diameter of 40 mm was divided into two pieces with a carbon plate, and granular Al 2 O 3 and granular SiO 2 were added to each without mixing. Using one electron gun as a heating source, each of Al2O3 and SiO2 was heated by irradiation with an electron beam in a time-division manner, heated and vaporized on the surface of the polypropylene film, and Al 2 O 3 and SiO 2 were mixed and deposited. At that time, the emission current of the electron gun was 205 mA, the acceleration voltage was 6 kV, and power equivalent to 160 mA × 6 kV was supplied to the aluminum oxide and 45 mA × 6 kV to the silicon oxide. The vacuum pressure at the time of vapor deposition was 1.1×10 -4 Pa, and the temperature of the roll supporting the film was 23°C. The thickness of the thin film layer was deposited to be 20 nm using a crystal oscillator type film thickness meter by changing the film forming speed, and a laminated polypropylene film was obtained. The obtained film properties are shown in Table 3.

(실시예 2)(Example 2)

폴리프로필렌계 수지로서, Mw/Mn=8.9, Mz+1/Mn=110, MFR=3.0g/10분, [mmmm]=97.1%인 프로필렌 단독 중합체(삼성 토탈(주)제 「HU300」: 공중합 단량체양은 0몰%; 이하 「PP-2」라고 약칭한다)를 사용하고, 가로 연신의 예열 온도를 171℃, 가로 연신 온도를 161℃, 가로 연신 후의 열 처리 온도를 170℃로 한 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 본 발명의 기재인 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.As the polypropylene resin, Mw/Mn = 8.9, Mz + 1/Mn = 110, MFR = 3.0 g/10 min, [mmmm] = 97.1% propylene homopolymer ("HU300" manufactured by Samsung Total Co., Ltd.: copolymerization) Monomer amount is 0 mol%; hereinafter abbreviated as "PP-2"), except that the preheating temperature for transverse stretching is 171°C, the transverse stretching temperature is 161°C, and the heat treatment temperature after transverse stretching is 170°C. In the same manner as in Example 1, a stretched polypropylene film serving as the substrate of the present invention was obtained.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 구조를, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 3에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the structure of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 3.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 3에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 3.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1에서 사용한 프로필렌 단독 중합체(PP-1) 90질량부에 대하여, 분자량 10000의 저분자량 프로필렌(미쓰이 가가쿠(주)제 하이 왁스 「NP105」: 공중합 단량체양은 0몰%)을 10질량부 가해서 합계 100질량부로 하고, 30mm 2축 압출기로 용융 혼련 하고, Mw/Mn=11, Mz+1/Mn=146, MFR=7.0g/10분, [mmmm]=96.5%인 프로필렌 중합체의 혼합물(이하 「PP-3」라고 약칭한다)의 펠릿을 얻었다. 이 펠릿을 폴리프로필렌계 수지로서 사용한 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 본 발명의 기재에 사용하는 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.With respect to 90 parts by mass of the propylene homopolymer (PP-1) used in Example 1, 10 parts by mass of low molecular weight propylene having a molecular weight of 10000 (high wax “NP105” manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd.: copolymerization monomer amount is 0 mol%) Added to make a total of 100 parts by mass, melt-kneaded with a 30 mm twin screw extruder, Mw / Mn = 11, Mz + 1 / Mn = 146, MFR = 7.0 g / 10 minutes, [mmmm] = 96.5% A mixture of propylene polymers ( Hereafter abbreviated as "PP-3") was obtained. A stretched polypropylene film used for the substrate of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pellets were used as the polypropylene resin.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 구조를, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 3에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the structure of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 3.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 3에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 3.

(실시예 4) (Example 4)

길이 방향으로 5.5배, 가로 방향으로 12배로 연신한 것 외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여, 본 발명의 기재에 사용하는 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.A stretched polypropylene film used for the substrate of the present invention was obtained in the same manner as in Example 3 except that the film was stretched 5.5 times in the longitudinal direction and 12 times in the transverse direction.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 특성을, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은 표 3에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the characteristics of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 3.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 3에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 3.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1에서 제작한 연신 폴리프로필렌 필름에, 텐터 내에서, 필름 폭 방향 양단을 클립으로 끼우고, 170℃에서 5분간의 열처리를 실시하고, 본 발명의 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.The stretched polypropylene film produced in Example 1 was clipped at both ends in the film width direction in a tenter, and heat treatment was performed at 170°C for 5 minutes to obtain a stretched polypropylene film of the present invention.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 특성을, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 3에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the characteristics of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 3.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 3에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 3.

(실시예 6)(Example 6)

폴리프로필렌계 수지로서, Mw/Mn=4.0, Mz+1/Mn=23, MFR=6.0g/10분, [mmmm]=98.7%인 프로필렌 단독 중합체(공중합 단량체양은 0몰%; 이하 「PP-4」라고 약칭한다)를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 본 발명의 기재에 사용하는 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.As the polypropylene resin, a propylene homopolymer having Mw/Mn = 4.0, Mz + 1/Mn = 23, MFR = 6.0 g/10 min, and [mmmm] = 98.7% (amount of copolymerization monomer is 0 mol%; hereinafter "PP- Abbreviated as "4"), the stretched polypropylene film used for the base material of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except for using.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 구조를, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 3에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the structure of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 3.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 3에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 3.

(실시예 7) (Example 7)

A층의 양측에 B층을 적층한 적층 필름(B층/A층/B층)이며, A층에는 표 1에 나타내는 폴리프로필렌 단독 중합체 PP-4를 사용하고, B층에는 표 1에 나타내는 폴리프로필렌 단독 중합체 PP-8에, 안티 블로킹제로서 실리카를 0.15질량% 배합한 것을 사용하였다. B층을 적층함으로써, 라미네이트 강도를 향상시킬 수 있다. A층은 60mm 압출기, B층은 65mm 압출기를 사용하여, 250℃에서 T다이로부터 시트상으로 압출하고, 30℃의 냉각 롤로 냉각 고화한 후, 135℃에서 세로 방향으로 4.5배로 연신하였다. 다음으로 텐터 내에서, 필름 폭 방향 양단을 클립으로 끼우고, 170℃에서 예열 후, 160℃에서 폭 방향으로 8.2배로 연신하고, 릴랙스를 6.7% 시키면서 168℃에서 열 고정하였다. A층과 B층이 1층씩 적층된 2축 연신 적층 폴리프로필렌 필름을 얻었다. 적층 폴리프로필렌 필름의 B층측에 코로나 처리를 실시하고, 와인더로 권취하였다. 얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 폴리프로필렌계 수지 원료의 구조를, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 3에 나타내는 바와 같다.It is a laminated film (layer B / layer A / layer B) in which layer B is laminated on both sides of layer A. Polypropylene homopolymer PP-4 shown in Table 1 is used for layer A, and the polypropylene shown in Table 1 is used for layer B. What blended 0.15 mass % of silica as an anti-blocking agent with propylene homopolymer PP-8 was used. By laminating the B layer, the lamination strength can be improved. Layer A was extruded into a sheet form from a T die at 250°C using a 60 mm extruder and layer B was a 65 mm extruder, cooled and solidified with a cooling roll at 30°C, and then stretched 4.5 times in the machine direction at 135°C. Next, in the tenter, both ends of the film in the width direction were clipped, preheated at 170°C, stretched 8.2 times in the width direction at 160°C, and heat-set at 168°C with a relaxation of 6.7%. A biaxially stretched laminated polypropylene film in which A layer and B layer were laminated one by one was obtained. Corona treatment was performed on the layer B side of the laminated polypropylene film, and it was wound up with a winder. The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the structure of the polypropylene resin raw material, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 3.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 3에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 3.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

폴리프로필렌계 수지로서, Mw/Mn=4, Mz+1/Mn=21, MFR=2.5g/10분, [mmmm]=97.0%인 프로필렌-에틸렌 공중합체(스미토모 가가꾸(주)제 「스미토모 노블렌(등록 상표) FS2011DG3」: 공중합 단량체양은 0.6몰%; 이하 「PP-5」라고 약칭한다)를 사용하고, 세로 연신 온도를 125℃, 가로 연신에 있어서의 예열 온도를 168℃, 가로 연신 온도를 155℃, 가로 연신 후의 열 처리 온도를 163℃로 한 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.As the polypropylene resin, a propylene-ethylene copolymer (Sumitomo Chemical Co., Ltd. "Sumitomo Noblen (registered trademark) FS2011DG3": 0.6 mol% of copolymerization monomer; hereinafter abbreviated as "PP-5") was used, the longitudinal stretching temperature was 125°C, the preheating temperature in transverse stretching was 168°C, and transverse stretching A stretched polypropylene film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the temperature was 155°C and the heat treatment temperature after transverse stretching was 163°C.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 특성을, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 4에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the characteristics of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 4.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 4에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 4.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

가로 연신에 있어서의 예열 온도를 171℃, 가로 연신 온도를 160℃, 가로 연신 후의 열 처리 온도를 165℃로 한 것 외에는, 비교예 1과 마찬가지로 하여, 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.A stretched polypropylene film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the preheating temperature in transverse stretching was 171°C, the transverse stretching temperature was 160°C, and the heat treatment temperature after transverse stretching was 165°C.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 특성을, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 4에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the characteristics of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 4.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 4에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 4.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

폴리프로필렌계 수지로서, Mw/Mn=4.3, Mz+1/Mn=28, MFR=0.5g/10분, [mmmm]=97.0%인 프로필렌 단독 중합체(공중합 단량체양은 0몰%; 이하 「PP-6」라고 약칭한다)를 사용한 것 외에는, 비교예 2와 마찬가지로 하여, 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.As the polypropylene resin, a propylene homopolymer having Mw/Mn = 4.3, Mz + 1/Mn = 28, MFR = 0.5 g/10 min, and [mmmm] = 97.0% (copolymerization monomer amount is 0 mol%; hereinafter "PP- 6”) was used, and a stretched polypropylene film was obtained in the same manner as in Comparative Example 2.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 4에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 4.

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 구조를, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 4에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the structure of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 4.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

폴리프로필렌계 수지로서, Mw/Mn=2.8, Mz+1/Mn=9.2, MFR=30g/10분, [mmmm]=97.9%인 폴리프로필렌계 중합체(일본 폴리프로(주)제 「노바테크(등록 상표) PP SA03」: 공중합 단량체양은 0몰%; 이하 「PP-7」이라고 약칭한다)를 사용한 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 연신 폴리프로필렌 필름을 얻으려고 시도하였지만, 가로 연신에서 필름이 파단되어버려, 2축 연신을 할 수 없었다. 파단의 이유는 흐름 방향의 연신 시에 세로 방향의 배향이 진행되어, 수직 방향으로의 연신 시에 갈라지기 때문이다.As the polypropylene resin, Mw/Mn = 2.8, Mz + 1 / Mn = 9.2, MFR = 30 g / 10 min, [mmmm] = 97.9% of the polypropylene polymer (manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd. "Novatech ( Registered trademark) PP SA03": copolymerization monomer amount is 0 mol%; hereinafter abbreviated as "PP-7"), but an attempt was made to obtain a stretched polypropylene film in the same manner as in Example 1, but the film was This fractured, and biaxial stretching could not be performed. The reason for the fracture is that orientation in the longitudinal direction progresses during stretching in the flow direction, and cracks occur during stretching in the vertical direction.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

세로 연신 온도를 125℃, 가로 연신에 있어서의 예열 온도를 168℃, 가로 연신 온도를 155℃, 가로 연신 후의 열 처리 온도를 163℃로 한 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 연신 폴리프로필렌 필름을 얻었다.Stretched polypropylene film in the same manner as in Example 1 except that the longitudinal stretching temperature was 125 ° C, the preheating temperature in transverse stretching was 168 ° C, the transverse stretching temperature was 155 ° C, and the heat treatment temperature after transverse stretching was 163 ° C. got

얻어진 필름의 두께는 20㎛였다. 표 1에 필름을 구성하는 폴리프로필렌의 특성을, 표 2에 제막 조건을 각각 나타낸다. 얻어진 필름의 물성은, 표 4에 나타내는 바와 같다.The thickness of the obtained film was 20 micrometers. Table 1 shows the characteristics of the polypropylene constituting the film, and Table 2 shows the film forming conditions. Physical properties of the obtained film are as shown in Table 4.

실시예 1과 마찬가지로 하여, 상기 연신 폴리프로필렌 필름에 무기 박막층을 증착하였다. 얻어진 필름 물성을 표 4에 나타낸다.In the same manner as in Example 1, an inorganic thin film layer was deposited on the stretched polypropylene film. The obtained film properties are shown in Table 4.

Figure 112019006236214-pct00001
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Figure 112019006236214-pct00002
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Figure 112019006236214-pct00003
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Figure 112019006236214-pct00004
Figure 112019006236214-pct00004

본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 포장 용도, 공업 용도 등에 널리 사용할 수 있는데, 특히 가스 배리어성이 우수하기 때문에 박육화가 가능하고, 비용 절감, 경량화를 도모할 수 있다. 또한, 본 발명의 적층 폴리프로필렌 필름은, 내열성이 높기 때문에, 코팅이나 인쇄 시에 고온에서의 처리가 가능해지고, 생산의 효율화나 종래 사용되기 어려웠던 코팅제나 잉크, 라미네이트 접착제 등을 사용할 수 있다. 나아가, 본 발명의 폴리프로필렌 필름은, 콘덴서나 모터 등의 절연 필름, 태양 전지의 백시트, ITO 등의 투명 도전 필름의 베이스 필름에도 적합하다.The laminated polypropylene film of the present invention can be widely used for packaging applications, industrial applications, etc., and in particular, because of its excellent gas barrier properties, it is possible to reduce the thickness and achieve cost reduction and weight reduction. In addition, since the laminated polypropylene film of the present invention has high heat resistance, processing at high temperatures during coating or printing is possible, and production efficiency can be improved or coating agents, inks, laminate adhesives, etc. that have been difficult to use in the past can be used. Furthermore, the polypropylene film of the present invention is also suitable for insulating films for capacitors and motors, back sheets for solar cells, and base films for transparent conductive films such as ITO.

Claims (4)

폴리프로필렌계 수지를 사용한 폴리프로필렌 필름 기재와, 산화알루미늄 및 산화규소 중 적어도 한쪽 혹은 이들의 복합 산화물을 주된 성분으로 하는 무기 박막층을 구비한 적층 폴리프로필렌 필름이며, 상기 폴리프로필렌계 수지의 분자량 10만 이하의 성분의 양은 35질량% 이상이고, 적층 폴리프로필렌 필름의 150℃에 있어서의 세로 방향의 열 수축률이 7% 이하이고, 산소 투과도가 150mL/m2/day/MPa 이하인 적층 폴리프로필렌 필름; 및
폴리올레핀 필름;을 포함하는 적층체로서,
온도 23℃, 상대 습도 65% 하에서의 산소 투과도가 50mL/m2/day/MPa 이하인 적층체.
A laminated polypropylene film comprising a polypropylene film substrate using a polypropylene resin and an inorganic thin layer containing at least one of aluminum oxide and silicon oxide or a composite oxide thereof as a main component, wherein the polypropylene resin has a molecular weight of 100,000. The amount of the following components is 35% by mass or more, the thermal shrinkage rate in the machine direction at 150°C of the laminated polypropylene film is 7% or less, and the oxygen permeability is 150 mL/m 2 /day/MPa or less. Laminated polypropylene film; and
As a laminate comprising a; polyolefin film,
A laminate having an oxygen permeability of 50 mL/m 2 /day/MPa or less at a temperature of 23°C and a relative humidity of 65%.
제1항에 있어서, 적층 폴리프로필렌 필름의 헤이즈가 6% 이하인 적층체.The laminate according to claim 1, wherein the haze of the laminated polypropylene film is 6% or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 적층 폴리프로필렌 필름의 150℃에 있어서의 가로 방향의 열 수축률이 7% 이하인 적층체.The laminate according to claim 1 or 2, wherein the thermal shrinkage of the laminated polypropylene film in the transverse direction at 150°C is 7% or less. 삭제delete
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