KR102479807B1

KR102479807B1 - 프로세스 개발 가시화 툴

Info

Publication number: KR102479807B1
Application number: KR1020217022335A
Authority: KR
Inventors: 비나약 비어 바츠; 싯다르트 바티아; 개렛 호-이 신; 프라모드 남비아; 항 유; 산제이 카마트; 디네쉬 파디; 헝-청 파이
Original assignee: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
Priority date: 2018-12-19
Filing date: 2019-12-19
Publication date: 2022-12-20
Also published as: WO2020132320A1; TWI813831B; US20200202044A1; CN113196190B; CN113196190A; JP7235866B2; JP2022515370A; KR20210094112A; TW202032362A; US11157661B2

Abstract

프로세스 개발 가시화 툴은 제조 프로세스와 연관된 파라미터의 제1 가시영상을 생성하고, 제조 프로세스의 프로세스 변수와 연관된 GUI 제어 엘리먼트를 제공하며, 여기서, GUI 제어 엘리먼트는 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 갖는다. 프로세스 개발 툴은 제1 세팅으로부터 제2 세팅으로 GUI 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신하고, 제2 세팅에 기반하여 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정하며, 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 파라미터에 대한 제2세트의 값들을 결정한다. 그런 다음, 프로세스 개발 툴은 파라미터의 제2 가시영상을 생성하고, 여기서, 제2 가시영상은 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현한다.

Description

프로세스 개발 가시화 툴

[0001] 본 개시내용의 실시예들은 일반적으로, 프로세스 개발(process development), 이를테면, 반도체 웨이퍼 제조 프로세스들을 위한 개발에 관한 것이고, 더욱 구체적으로는, 프로세스 개발을 용이하게 하는 가시화 툴에 관한 것이다.

[0002] 전자 디바이스들에 대한 지속적인 요구는 반도체 웨이퍼들에 대한 점점 더 큰 요구를 촉구한다. 새로운 반도체 디바이스들이 설계됨에 따라 그리고 반도체 제조 장비가 발전함에 따라, 반도체 웨이퍼들 상에 이러한 반도체 디바이스들을 제조하기 위한 새로운 프로세스들이 개발된다. 단일 프로세스 레시피(recipe)의 개발은 일반적으로, 많은 상이한 프로세싱 변수들, 그리고 반도체 웨이퍼들의 특성들 및 궁극적으로는 제조된 반도체 디바이스들에 대한 이러한 프로세싱 변수들의 영향들을 시험하기 위한 DOE(design of experiment)들을 수반한다. 그러한 DOE들은 프로세스 변수들 및 웨이퍼 결과들에 관한 방대한 양(amount)들의 데이터의 수집을 초래한다. 그러한 많은 수량(quantity)들의 데이터를 분석하는 것은 시간 소모적이고 어렵다.

[0003] 본 개시내용의 일부 양상들의 기본적인 이해를 제공하기 위하여 다음은 본 개시내용의 간략화된 요약이다. 이 요약은 본 개시내용에 대한 광범위한 개요가 아니다. 이 요약은, 본 개시내용의 특정 구현들의 임의의 범위 또는 청구항들의 임의의 범위를 기술하는 것으로 의도되지 않는다. 이 요약의 유일한 목적은, 나중에 제시되는 더욱 상세한 설명에 대한 서론으로서 간략화된 형태로 본 개시내용의 일부 개념들을 제시하는 것이다.

[0004] 일 실시예에서, 방법은, 웨이퍼에 대해 수행되는 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제1 가시영상(visualization)을 생성하는 단계를 포함하고, 제1 파라미터에 대한 값들은 제조 프로세스의 복수의 프로세스 변수들에 의존적이고, 제1 가시영상은 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되는, 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현한다. 방법은, 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수와 연관된 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 제공하는 단계를 더 포함하고, 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 갖는다. 방법은, 제1 세팅으로부터 제2 세팅으로 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신하는 단계를 더 포함한다. 방법은, 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제2 세팅에 기반하여 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정하는 단계를 더 포함한다. 방법은, 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 단계를 더 포함한다. 방법은, 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제2 가시영상을 생성하는 단계를 더 포함하고, 제2 가시영상은 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현한다. 일 실시예에서, 컴퓨터 판독가능 매체는, 프로세싱 디바이스에 의해 실행될 때 프로세싱 디바이스로 하여금 방법을 수행하게 하는 명령들을 포함한다.

[0005] 일 실시예에서, 시스템은 웨이퍼에 대해 수행되는 제조 프로세스를 위한 프로세스 개발 데이터를 저장하기 위한 데이터 스토어를 포함하고, 컴퓨팅 디바이스를 더 포함한다. 컴퓨팅 디바이스는 프로세스 개발 가시화 툴에 대한 명령들을 포함하는 메모리 뿐만 아니라, 메모리에 동작가능하게 연결된 프로세싱 디바이스를 포함한다. 프로세스 개발 가시화 툴에 대한 명령들의 실행은, 프로세싱 디바이스로 하여금, 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제1 가시영상을 생성하게 하고, 제1 파라미터에 대한 값들은 제조 프로세스의 복수의 프로세스 변수들에 의존적이고, 제1 가시영상은 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되는, 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현한다. 프로세싱 디바이스는, 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수와 연관된 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 제공하고, 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 갖는다. 프로세싱 디바이스는, 제1 세팅으로부터 제2 세팅으로 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신한다. 프로세싱 디바이스는, 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제2 세팅에 기반하여 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정한다. 프로세싱 디바이스는, 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 포함하는 질의(query)를 생성하고, 이 질의를 데이터 스토어에 전송한다. 프로세싱 디바이스는, 질의에 대한 응답을 수신하고, 응답은 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 포함한다. 프로세싱 디바이스는, 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제2 가시영상을 생성하고, 제2 가시영상은 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현한다.

[0006] 본 개시내용의 다양한 실시예들은 아래에 주어진 상세한 설명으로부터 그리고 본 개시내용의 다양한 실시예들의 첨부한 도면들로부터 더욱 완전히 이해될 것이다.
[0007] 도 1은 본 개시내용의 실시예들에 따른, 프로세스 개발 가시화기(visualizer)를 포함하는 시스템의 예시적인 아키텍처를 예시한다.
[0008] 도 2a는 본 개시내용의 실시예에 따른, 프로세스 개발 가시화기의 제1 뷰 ―제1 뷰는 웨이퍼에 대한 제조 프로세스와 연관된 파라미터의 제1 예시적인 가시영상 및 한 세트의 그래픽 사용자 인터페이스(GUI; graphical user interface) 제어 엘리먼트들을 포함함― 를 예시한다.
[0009] 도 2b는 본 개시내용의 실시예에 따른, 프로세스 개발 가시화기의 제2 뷰 ―제2 뷰는 GUI 제어 엘리먼트들 중 하나의 조정 후 도 2a의 파라미터의 제2 예시적인 가시영상을 포함함― 를 예시한다.
[0010] 도 3은 본 개시내용의 실시예에 따른, 웨이퍼에 대한 제조 프로세스에 대한 DOE(design of experiments) 결과들을 가시화하기 위한 방법을 예시하는 흐름도이다.
[0011] 도 4는 본 개시내용의 실시예에 따른, 웨이퍼에 대한 제조 프로세스에 대한 DOE(design of experiments) 결과들을 가시화하기 위한 다른 방법을 예시하는 흐름도이다.
[0012] 도 5는 본 개시내용의 실시예에 따른, 웨이퍼에 대한 제조 프로세스에 대한 DOE(design of experiments) 결과들을 가시화하기 위한 다른 방법을 예시하는 흐름도이다.
[0013] 도 6은 본원에서 설명되는 동작들 중 하나 이상을 수행할 수 있는 예시적인 컴퓨터 시스템의 블록 다이어그램이다.

[0014] 본 개시내용의 실시예들은, 웨이퍼들에 대한 제조 프로세스들, 이를테면, 반도체 디바이스들을 위한 제조 프로세스들을 위한 프로세스 개발을 용이하게 하여 가속하는 방식으로, DOE 결과 데이터를 배열하여 제시하는 가시화 툴에 관한 것이다. 가시화 툴은 다수의 변수들의 변화들에 의해 수정될 수 있는 온-웨이퍼(on-wafer) 결과들의 상호작용식(interactive) 가시영상을 제공한다. 가시화 툴은 예컨대 프로세스 개발의 가상 조종실(cockpit) 경험을 제공할 수 있다. 실시예들에서, 가시화 툴은 웨이퍼 맵들, 및 온-웨이퍼 데이터의 다른 가시영상들을 보기 위해 사용되는 공간을 감소시키고, 개선된 가시영상들 및 상호작용식 사용자 제어를 제공하고, 사용자 주위에 다수의 웨이퍼 맵들 및 다른 가시영상들을 배열함으로써 사용자에게 몰입형 경험을 제공하고, 온-웨이퍼 결과들(예컨대, 웨이퍼 맵들)을 상호작용식으로 계산하여 묘사하는 능력을 제공하고, 데이터를 분석하기 위해 사용되는 자원들 및 시간의 양을 감소시키고, 프로세스 개발 데이터를 보는 차원들을 증가시키며, 그리고 데이터 분석의 속도를 증가시킨다.

[0015] 프로세스 개발은 관심 특성들(본원에서 파라미터들로 지칭됨)의 온-웨이퍼 결과들을 전달하기 위해 관심 프로세스 변수들의 상호작용 및 최적화에 대한 철저한 연구를 포함한다. 웨이퍼용 제조 프로세스를 개발하기 위해, 다수의 DOE들이 매우 많은(즉, 방대한) 양들의 데이터를 생성하도록 수행된다. 데이터는, 각각의 프로세스 실행(process run)에 대해, 측정된 특성들의 온-웨이퍼 결과들, 물리 센서 측정들 및/또는 가상 센서 측정들을 포함하여, 많은 상이한 파라미터들을 포함한다. 온-웨이퍼 결과들은 웨이퍼 상의 많은 상이한 지점들에서의 계측 측정들을 포함할 수 있다. 부가적으로, 많은 상이한 센서들이 개발 중인 프로세스의 프로세스 실행에 대한 데이터를 생성할 수 있다. 성공적인 DOE를 실행(run)하기 위해, 많은 상이한 프로세스 실행들이 수행되는데, 각각의 프로세스 실행은 다수의 웨이퍼들을 포함하고 각각의 웨이퍼는 측정들이 행해지는 다수의 지점들을 갖는다. 게다가, 제조 프로세스에 대해 고려할 수십 또는 수백 개의 상이한 변수들이 있을 수 있으며, 이들 변수들은 프로세스 변수들의 상이한 조합들을 사용하는 많은 프로세스 실행들을 초래하도록 조정될 수 있다. 조정될 수 있는 많은 가능한 변수들, 그리고 변수 값들의 각각의 조합에 대해 기록될 수 있는 많은 상이한 파라미터들은 조합 폭발(combinatorial explosion)을 초래한다. 조합 폭발은 조합 고려들의 결과로서 빠르게(예컨대, 지수적으로) 성장하는 함수(function)들의 효과를 설명한다. 조합 폭발은 컴퓨팅에서 문제를 일으킬 수 있는데, 그 이유는 변수 값들의 모든 각각의 가능한 고유 조합을 시험하고 시험에 기반하여 변수 값들의 최적의 조합을 결정하기에는 불충분한 자원들(예컨대, 불충분한 메모리, 프로세싱 파워, 시간 등)이 있을 수 있기 때문이다. 실시예들은, 조합 폭발과 연관된 복잡성들을 회피하면서, 사용자들이 프로세스에 대한 DOE 결과들을 사용하여 그러한 데이터를 쉽게 분석하고 변수를 조정하며 최적의 프로세스를 설계하는 것을 가능하게 하는 방식으로, 웨이퍼 데이터를 배열하여 그래픽으로 제시하는 가시화 툴을 제공한다.

[0016] 실시예들에서의 가시화 툴은 데이터의 하나 이상의 가시영상들 또는 오버레이(overlay)들을 생성하고, 여기서, 각각의 가시영상은 특정 파라미터(예컨대, 측정된 특정 온-웨이퍼 파라미터 및/또는 특정 센서 판독)에 대한 DOE 결과들을 보여준다. 가시화 툴은 추가로, 한 세트의 GUI(graphical user interface) 제어 엘리먼트들을 제공하고, 여기서, 각각의 GUI 제어 엘리먼트는 특정 프로세스 변수 또는 프로세스 변수들의 조합과 연관된다. 각각의 GUI 제어 엘리먼트는 GUI 제어 엘리먼트와의 사용자 상호작용에 기반하여(예컨대, 이를테면, 사용자가 슬라이더를 클릭하고 드래그하는 것, 프로세스 제어 엘리먼트의 화살표를 클릭하는 것, 프로세스 제어 엘리먼트를 회전시키는 것 등에 의해) 조정될 수 있다. 프로세스 제어 엘리먼트의 각각의 세팅은 특정 프로세스 변수에 대한 상이한 값(또는 다수의 프로세스 변수들에 대한 값들의 조합)과 연관될 수 있다. 이에 따라서, 프로세스 제어 엘리먼트를 조정함으로써, 사용자는 프로세스 제어 엘리먼트와 연관된 프로세스 변수의 상이한 값을 선택하기 위해 그 프로세스 제어 엘리먼트의 세팅을 업데이트한다.

[0017] 그런 다음, 프로세스 파라미터들의 가시영상들의 일부 또는 전부는, GUI 제어 엘리먼트의 업데이트된 세팅과 연관되는, 그 프로세스 파라미터의 온-웨이퍼 결과들을 보여주도록 자동으로 조정될 수 있다. 이에 따라서, GUI 제어 엘리먼트와의 간단한 사용자 상호작용을 통해, 온-웨이퍼 결과들의 다수의 가시영상들이 변화될 수 있다. 이들 가시영상들은, 프로세스 개발의 경험 및 속도를 향상시키기 위해 가상 조종실 방식으로 사용자 주위의 다수의 스크린들에 걸쳐 또는 단일 스크린 상에 사용자 선호도에 따라 배열될 수 있다.

[0018] 예에서, 프로세스 변수들의 변화들은, 슬라이더 또는 다른 GUI 제어 엘리먼트와의 사용자 상호작용을 통해 관심 변수를 조절함으로써 제어되는 일련의 프로세스 파라미터들(예컨대, 온-웨이퍼 결과들)의 이미지들로서 가시화될 수 있다. 하나가 다른 하나 위에 있는 식으로 적층된 다수의 웨이퍼 맵들의 오버레이가 생성될 수 있는데, 예컨대, GUI 제어 엘리먼트의 현재 세팅에 따라 한 번에 웨이퍼 맵들 중 단일 웨이퍼 맵이 보여진다. 영화의 각각의 프레임이 상이한 타임 스탬프와 연관되기보다는 각각의 웨이퍼 맵이 관심 변수에 대한 상이한 프로세스 변수 값과 연관된다는 점을 제외하고, 온-데이터(on-data) 결과들은 영화와 유사한 방식으로 제시될 수 있다. 하나가 다른 하나 위에 있는 식으로 오버레이된 웨이퍼 맵들은 동일한 레시피의 경우 동일한 특성에 대해 측정되었을 것이다. 그러나, 각각의 웨이퍼 맵은 관심 변수의 값의 변화의 결과로서 상이할 것이다. 어느 임의의 많은 수의 관심 변수들이 GUI 제어 엘리먼트들과 연관될 수 있고, 어느 임의의 많은 수의 관심 파라미터들이 가시영상들과 연관될 수 있다.

[0019] 도 1은 본 개시내용의 실시예들에 따른, 프로세스 개발 가시화기(104)를 포함하는 시스템(100)의 예시적인 아키텍처를 예시한다. 일 실시예에서, 시스템(100)은 컴퓨팅 디바이스(102), 데이터 스토어(108), 제조 장비(112) 및 계측 장비(116)를 포함할 수 있다.

[0020] 제조 장비(112)는 하나 이상의 프로세싱 챔버들을 포함하는 반도체 웨이퍼 제조 장비일 수 있다. 예컨대, 제조 장비(112)는 이온 주입기, 에칭 반응기(예컨대, 프로세싱 챔버), 포토리소그래피 디바이스, (예컨대, CVD(chemical vapor deposition), PVD(physical vapor deposition), IAD(ion-assisted deposition) 등을 수행하기 위한) 증착 디바이스, 또는 웨이퍼들을 프로세싱하는 임의의 다른 제조 디바이스 중 어느 하나일 수 있다.

[0021] 일 실시예에서, 제조 장비(112)는 네트워크(106)를 통해 데이터 스토어(108)에 연결된다. 네트워크(106)는 LAN(local area network)일 수 있으며, 그리고 라우터들, 게이트웨이들, 서버들, 데이터 스토어들 등을 부가적으로 포함할 수 있는 장비 자동화 층의 일부일 수 있다. 제조 장비(112)는 SECS/GEM(SEMI Equipment Communications Standard/Generic Equipment Model) 인터페이스를 통해, 이더넷 인터페이스를 통해, 그리고/또는 다른 인터페이스들을 통해 장비 자동화 층(예컨대, 네트워크(106))에 연결될 수 있다. 일 실시예에서, 장비 자동화 층은 프로세스 데이터(예컨대, 프로세스 실행 동안 제조 장비(112)에 의해 수집되는 데이터)가 데이터 스토어(108)에 저장되는 것을 가능하게 한다. 다른 실시예들에서, 제조 장비(112)는 데이터 스토어(108)에 직접적으로 연결될 수 있다.

[0022] 제조 장비(112)는, 프로세스 실행 동안 상이한 특성들 또는 파라미터들(예컨대, 프로세스 조건들)을 모니터링할 수 있는 많은 센서들(114)을 포함할 수 있다. 센서들(114)의 예들은 온도 센서들, 압력 센서들, 전류 센서들, 전압 센서들, 습도 센서들 등을 포함한다. 이들 측정된 파라미터 값들 전부는, 특정 프로세스 실행에 관한 정보, 이를테면, 프로세스 실행이 수행되었을 때, (예컨대, 프로세스 실행의 상이한 스테이지들에서의 상이한 프로세스 변수 값들을 포함하여) 프로세스 실행의 레시피 등과 함께, 데이터 스토어(108)에 전송될 수 있다.

[0023] 개발 중인 프로세스는 에칭 프로세스, 증착 프로세스, 주입 프로세스, 습식 세정 프로세스, 건식 세정 프로세스, 리소그래피 프로세스, 전기 충전(electro fill) 프로세스, 플라즈마 처리 프로세스, 어닐링 프로세스, CMP(chemical mechanical planarization) 프로세스 또는 다른 프로세스일 수 있다. 대개, 프로세스 후에는 웨이퍼 상에 코팅이 제공될 것이다. 코팅은 단층 코팅 또는 다층 코팅일 수 있다. 웨이퍼는 다양한 동작들을 수행하는 다수의 툴들에 의해 또는 단일 툴에 의해 프로세싱되었을 수 있다.

[0024] 일단 프로세스 실행이 완료되면, 프로세싱된 웨이퍼들은 제조 장비(112)로부터 제거될 수 있고 계측 장비(116)에 의해 측정될 수 있다. 계측 장비(116)는 예컨대 임계 치수들(예컨대, 선 폭)을 측정할 수 있는 SEM(scanning electron microscope), 코팅 두께를 측정할 수 있는 엘립소미터, 온-프로덕트(on-product) 오버레이 에러를 측정할 수 있는 오버레이 계측 시스템, 주입 도즈 계측 툴(implant dose metrology tool), 시트 저항 측정 시스템 등을 포함할 수 있다. 측정될 수 있는 온-웨이퍼 파라미터들의 예들은 몇 가지만 들자면 코팅 두께, 굴절률, 시트 저항, 비저항, 전도도, 그레인 사이즈, 거칠기, 웨이퍼에 걸친 응력, 코팅 조성(composition), 반사도, 흡광도, 관찰각, 입사각, 반사각, 회절각, 밀도, 에칭 레이트 및 스텝 커버리지를 포함한다. 상이한 온-웨이퍼 파라미터 측정들을 생성하기 위해 웨이퍼들은 다수의 상이한 계측 장비(116)에 의해 프로세싱될 수 있다. 계측 장비(116)는 네트워크(106)를 통해 데이터 스토어(108)에 연결될 수 있다. 계측 장비(116)는 SECS/GEM 인터페이스를 통해, 이더넷 인터페이스를 통해, 그리고/또는 다른 인터페이스들을 통해 장비 자동화 층(예컨대, 네트워크(106))에 연결될 수 있다.

[0025] 데이터 스토어(108)는, 하나 이상의 저장 디바이스들, 이를테면, 디스크 드라이브들 및/또는 솔리드 스테이트 저장 디바이스(SSD; solid state storage device)들을 포함하는 컴퓨팅 디바이스일 수 있다. 데이터 스토어(108)는 프로세스 개발 데이터의 저장을 위해 최적화된 데이터베이스(110)를 포함할 수 있다. 데이터베이스(110)는 프로세스 실행들에 대한 데이터를 저장할 수 있고, 여기서, 데이터는 프로세스 실행에 대한 레시피 정보 뿐만 아니라, 계측 장비(116)에 의해 생성된 측정들, 센서들(114)에 의해 수집된 모든 센서 데이터, 타임 스탬프, 제조 장비에서의 웨이퍼의 위치에 관한 정보, 프로세싱된 웨이퍼의 웨이퍼 식별, 프로세스 실행을 수행한 제조 장비(112)의 챔버, 프로세스 실행을 수행한 제조 장비(112)를 식별하는 데이터, 및/또는 다른 데이터를 포함할 수 있다. 예컨대, 각각의 웨이퍼 위치, 각각의 파라미터, 웨이퍼 위치와 파라미터의 각각의 조합, 각각의 프로세스 변수 등에 대해, 별개의 컬럼(column)들이 데이터베이스에 있을 수 있다.

[0026] 컴퓨팅 디바이스(102)는 네트워크(106)를 통해 또는 직접적으로 데이터 스토어(108)에 연결될 수 있다. 일 실시예에서, 데이터 스토어(108)는 컴퓨팅 디바이스(102)의 컴포넌트이다. 컴퓨팅 디바이스(102)는 프로세싱 디바이스, 메모리, 저장 디바이스 등을 포함할 수 있다. 실시예들에서, 컴퓨팅 디바이스(102)는 도 6의 컴퓨터 시스템(600)에 대응할 수 있다. 컴퓨팅 디바이스(102)는 프로세스 개발 가시화기(104)를 포함한다.

[0027] 프로세스 개발 가시화기(104)는, 사용자가 보고 조작하기 쉬운 방식으로 그리고 프로세스 개발을 가속하는 방식으로, 제조 프로세스들의 DOE들과 연관된 데이터를 배열하여 제시한다. 프로세스 개발 가시화기(104)는 프로세스 변수들 및 프로세스 파라미터들(예컨대, 온-웨이퍼 결과들)에 관한 데이터를 리트리빙(retrieve)하고, 하나 이상의 프로세스 파라미터들의 가시영상들(예컨대, 오버레이들)을 통해 그러한 데이터를 제시할 수 있다. 프로세스 개발 가시화기(104)는 다수의 GUI 제어 엘리먼트들을 제공할 수 있고, 이러한 다수의 GUI 제어 엘리먼트들은 각각, 개발 중인 제조 프로세스의 하나 이상의 프로세스 변수와 연관된다. 사용자들은 GUI 제어 엘리먼트들과 상호작용하여, 그 GUI 제어 엘리먼트들의 세팅들을 조정할 수 있다. GUI 제어 엘리먼트의 세팅에 대한 변화에 기반하여, 프로세스 개발 가시화기(104)는, GUI 제어 엘리먼트의 새로운 세팅과 연관된 프로세스 변수 값 뿐만 아니라 다른 GUI 제어 엘리먼트들과 연관된 프로세스 변수 값들을 포함하는 데이터베이스 질의를 생성할 수 있다. 그런 다음, 프로세스 개발 가시화기(104)는 데이터베이스 질의를 데이터베이스(110)에 전송할 수 있으며, 데이터베이스(110)는, 질의를 프로세싱하고, 결과를 생성하며, 그리고 프로세스 개발 가시화기(104)가 프로세싱하도록 이 결과를 다시 컴퓨팅 디바이스(102)에 전송할 수 있다. 프로세스 개발 가시화기(104)는 데이터베이스 질의에 대한 응답 내의 데이터(예컨대, 파라미터 값들)에 기반하여 프로세스 파라미터들의 새로운 가시영상들을 생성할 수 있다.

[0028] 대안적으로, 프로세스 개발 가시화기는 임의의 가시영상들을 디스플레이하기 전에 데이터베이스(110)로부터 개발 중인 프로세스에 대한 일부 또는 모든 적용가능 데이터를 리트리빙할 수 있고, 그러한 데이터에 기반하여 핵심 프로세스 변수들에 대한 증명 변수 값(proves variable value)들의 각각의 조합과 연관된 가시영상들을 컴퓨팅할 수 있다. 핵심 프로세스 변수들은, 사용자에 의해 핵심 변수들인 것으로서 선택되는 변수들일 수 있다. 예컨대, 사용자는 5 개, 10 개 또는 더 많은 프로세스 변수들을 선택하여 최적화할 수 있다. 따라서, 프로세스 변수 값들의 다양한 조합들에 대한 가시영상들은, 사용자가 GUI 제어 엘리먼트들의 세팅들을 조정하기 시작하기 전에 컴퓨팅될 수 있거나 또는 GUI 제어 엘리먼트들과의 사용자 상호작용에 대한 응답으로 즉석에서(on-the-fly) 생성될 수 있다.

[0029] 실시예들에서, 프로세스 개발 가시화기(104)는 도 2a-도 2b에 도시된 바와 같은 가시영상들 및 GUI 제어 엘리먼트들을 포함하는 뷰를 생성하여 디스플레이한다. 실시예들에서, 프로세스 개발 가시화기(104)는 도 3-도 4의 방법들을 수행한다.

[0030] 도 2a는 본 개시내용의 실시예에 따른, 프로세스 개발 가시화기의 제1 뷰(200A) ―제1 뷰(200A)는 웨이퍼에 대한 제조 프로세스와 연관된 파라미터의 제1 예시적인 가시영상(202A) 및 한 세트의 GUI(graphical user interface) 제어 엘리먼트들(214, 218, 220, 224, 228)을 포함함― 를 예시한다. 제1 예시적인 가시영상(202A)은 상이한 셰이드(shade)들, 채우기들 및/또는 색들을 갖는 웨이퍼 맵이고, 이러한 상이한 셰이드들, 채우기들 및/또는 색들은 각각, 특정 파라미터의 상이한 값들과 연관된다. 특정 파라미터는 예컨대 물리 센서의 센서 판독, 가상 센서의 센서 판독, 또는 계측 측정일 수 있다.

[0031] 가상 센서들은 실제(real) 센서들 및/또는 실제 계측 측정들에 기반할 수 있다. 가상 센서들에 대한 함수들이 생성될 수 있으며, 여기서, 가상 센서의 값은 하나 이상의 실제 센서들 및/또는 실제 계측 측정들의 값들에 기반한다. 예컨대, 온도 및 압력에 기반하는 가상 센서가 생성될 수 있다. 가상 센서에 대한 함수, 이를테면, 온도 및 압력에 대한 변수들을 포함하는 파라미터 함수(parametric function)가 생성될 수 있다.

[0032] 제1 예시적인 가시영상(202A)에서 묘사될 수 있는 계측 측정들의 예들은 코팅 두께, 굴절률, 시트 저항, 비저항, 전도도, 그레인 사이즈, 거칠기, 웨이퍼에 걸친 응력, 코팅 조성(composition), 반사도, 흡광도, 관찰각, 입사각, 반사각, 회절각, 밀도, 에칭 레이트 및 스텝 커버리지이다. 웨이퍼 맵에서 보여지는 바와 같이, 특정 파라미터의 값들은 웨이퍼 상의 다수의 상이한 지점들(예컨대, 일부 실시예들에서, 49 개의 지점들 내지 600 개의 지점들)에서 결정된다. 키(204A)는 상이한 색들, 셰이드들, 채우기들 등에 의해 표현되는 파라미터 측정 값들을 보여줄 수 있다.

[0033] 제1 예시적인 가시영상(202A)은, 특정 프로세스 변수 값들을 갖는 프로세스를 사용하여 프로세싱된 웨이퍼로부터 측정된, 특정 파라미터의 값들에 기반한다. 이들 프로세스 변수 값들은 GUI 제어 엘리먼트들(214, 218, 220, 224, 228)에서 표현된다. 이들 GUI 제어 엘리먼트들(214-228) 각각은 특정 프로세스 변수 또는 프로세스 변수들의 조합과 연관된다. GUI 제어 엘리먼트와 연관될 수 있는 프로세스 변수들의 예들은, 웨이퍼를 프로세싱하기 위해 사용되는 프로세스 챔버들 내의 다양한 위치들에서의 장비 부품들, 타이밍들, 재료 조성들, 유량들, 치수들, 압력들, 온도들 등을 포함한다. 프로세스 변수들의 다른 예들은 오퍼레이터들, 프로세스 레시피들, 알고리즘들, 툴들이 다른 시퀀스들(예컨대, 이전 프로세스에서 웨이퍼가 어떤 툴 상에서 프로세싱되었는지), 벤더들, 웨이퍼 기판들, 위치, 툴들, 챔버들, 변수들이 다른 시퀀스들, 레시피들이 다른 시퀀스들(예컨대, 어떤 다른 레시피들이 웨이퍼를 제조하기 위해 실행되었는지 그리고/또는 웨이퍼에 대해 개발 중인 프로세스를 수행하기 위해 사용되는 장비 상에서 어떤 다른 레시피들이 실행되었는지) 등을 포함한다. 어느 임의의 많은 수의 관심 변수들이 GUI 제어 엘리먼트들과 연관될 수 있다.

[0034] GUI 제어 엘리먼트들(214-228) 각각은, 제1 예시적인 가시영상(202A)에 반영되는 온-웨이퍼 데이터를 생성하기 위해 개발 중인 제조 프로세스 동안 사용되는 프로세스 변수 값에 대응하는 세팅을 갖는다. GUI 제어 엘리먼트들(214-228) 중 임의의 GUI 제어 엘리먼트가, GUI 제어 엘리먼트와 연관된 프로세스 변수의 값의 변화에 대응하는, GUI 제어 엘리먼트의 세팅을 변화시키도록 조정될 수 있다.

[0035] GUI 제어 엘리먼트들(214-228)은 휠들, 슬라이더들, 다이얼들, 바들 등을 포함하는 임의의 타입의 GUI 제어 엘리먼트들일 수 있다. 예컨대, GUI 제어 엘리먼트들(214-228)은 슬라이더들이다. 사용자는 터치 스크린 인터페이스 또는 마우스 인터페이스를 사용하여, 슬라이더들 중 임의의 슬라이더를 탭하고 타겟 포지션으로 드래그할 수 있다. 이는 상이한 가시영상이 결정되어 디스플레이되게 할 수 있다. 관심 변수가 적절한 GUI 제어 엘리먼트(214-228)와의 상호작용을 통해 변화될 때, 상이한 웨이퍼 맵들 ―상이한 웨이퍼 맵들 각각은 자신만의 관심 특성을 보여줌― 을 보여주는 상이한 윈도우들 또는 스크린들이 변화될 수 있다. 이는, 관심 변수의 변화에 의한 다수의 온-웨이퍼 특성들 또는 파라미터들의 변화를 보는 시각적 효과를 생성할 것이다.

[0036] 예시적인 뷰(200A)에서, 단 하나의 가시영상(202A)이 도시된다. 그러나, 다수의 상이한 가시영상들이 디스플레이될 수 있는데, 각각의 가시영상은 웨이퍼의 상이한 파라미터 또는 특성을 디스플레이한다. 예컨대, 제1 웨이퍼 맵은 온도를 보여줄 수 있고, 제2 웨이퍼 맵은 코팅 두께를 보여줄 수 있고, 제3 웨이퍼 맵은 코팅 조성을 보여줄 수 있으며, 제4 웨이퍼 맵은 코팅 경도(hardness)를 보여줄 수 있다. 프로세스 변수와 연관된 GUI 제어 엘리먼트의 조정이 가시영상들 전부가 변화되게 할 수 있다.

[0037] 일부 실시예들에서, 뷰(200A)는 관심 파라미터에 관한 하나 이상의 컴퓨팅된 통계(statistics)를 더 포함한다. 예컨대, 평균들(avg), 표준 편차(예컨대, 1-시그마(sigma) 또는 하나의 표준 편차 값), 범위(rng), 최소치, 최대치 등이 가시영상(202A)에서 보여지는 관심 파라미터의 측정된 값들에 대해 컴퓨팅될 수 있다.

[0038] 도 2b는 본 개시내용의 실시예에 따른, 프로세스 개발 가시화기의 제2 뷰(200B) ―제2 뷰(200B)는 GUI 제어 엘리먼트들(214) 중 하나의 조정 후 도 2a의 파라미터의 제2 예시적인 가시영상(202B)을 포함함― 를 예시한다. 가시영상(202B)에서 보여지는 바와 같이, GUI 제어 엘리먼트(214)에 대한 세팅의 조정은 관심 파라미터에 대한 상이한 값들을 야기했다. 다른 GUI 제어 엘리먼트들(218-228)은 또한, 가시영상(202B)에서 보여지는 파라미터의 값들에 대한 추가적인 변화들을 유발하도록 조정될 수 있다.

[0039] 제1 예시적인 가시영상(202A) 및 제2 예시적인 가시영상(202B)은 특정 세트의 프로세스 변수 값들에 기반하여 웨이퍼 상의 다양한 위치들에서의 파라미터 값들을 보여주는 상이한 웨이퍼 맵들이다. 그러나, 본원에서 설명되는 실시예들이 웨이퍼 맵 가시영상들로 제한되지 않는다는 것이 이해되어야 한다. 웨이퍼 맵들에 부가하여 또는 웨이퍼 맵들 대신에, 다른 1 차원, 2 차원 및/또는 3 차원 가시영상들이 또한 생성되어 보여질 수 있다. 예컨대, 가시영상들은 (예컨대, 웨이퍼에 걸친 웨이퍼 곡률을 보여주는) 선 그래프들을 포함할 수 있다.

[0040] 일부 실시예들에서, 프로세스 개발 가시화기는, 파라미터의 가시영상을, 그 파라미터에 대한 2 개의 별개의 가시영상들로 분할하기 위해 선택될 수 있는 GUI 제어 엘리먼트를 제공할 수 있다. 파라미터에 대한 가시영상들 각각은 상이한 파라미터 값들을 디스플레이하고, 상이한 프로세스 변수 값들에 기반할 수 있다. 이는 사용자가 상이한 프로세스 변수 값 조합들에 기반하는, 파라미터에 대한 파라미터 결과들을 나란히 비교하는 것을 가능하게 할 수 있다.

[0041] 도 3은 본 개시내용의 실시예에 따른, 웨이퍼에 대한 제조 프로세스에 대한 DOE(design of experiments) 결과들을 가시화하기 위한 방법(300)을 예시하는 흐름도이다. 방법(300)은 하드웨어(예컨대, 회로소자, 전용 로직, 프로그램가능 로직, 마이크로코드 등), 소프트웨어(예컨대, 하드웨어 시뮬레이션을 수행하기 위해 프로세싱 디바이스 상에서 실행되는 명령들), 또는 이들의 조합을 포함하는 프로세싱 로직에 의해 수행될 수 있다. 일 실시예에서, 프로세싱 로직은 도 1의 프로세스 개발 가시화기(104)를 포함한다.

[0042] 방법(300)은 사용자가 프로세스 개발 가시화기(104)를 로딩하는 것에 응답하여 프로세싱 로직에 의해 수행될 수 있다. 프로세스 개발 가시화기는, 프로세스 개발과 관련된 하나 이상의 동작들을 수행하기 위해 사용자가 상호작용할 수 있는 GUI를 포함할 수 있다. 사용자는 프로세스 및/또는 프로세스 버전을 식별할 수 있는 프로세스 ID에 기반하여 로딩할 개발 중인 프로세스를 선택할 수 있다. 사용자는 부가적으로, GUI 제어 엘리먼트들과 연관시키기 위한 하나 이상의 프로세스 변수들 뿐만 아니라 디스플레이될 하나 이상의 프로세스 파라미터들을 선택할 수 있다. 프로세스에 가장 큰 영향을 미치는 프로세스 변수들은 프로세스 단위로 변화할 수 있으며, 디바이스 성능에 가장 큰 영향을 미치는 프로세스 파라미터들(예컨대, 온-웨이퍼 결과들)은 프로세스 단위로 변화할 수 있다. 프로세스 개발 가시화기(104)는, 개발 중인 특정 프로세스에 대해, GUI 제어 엘리먼트들과 연관시키기 위한 프로세스 변수들 및/또는 가시영상들에 디스플레이하기 위한 프로세스 파라미터들에 대한 디폴트 권고들을 포함할 수 있다. 디폴트 권고들은 개발 중인 프로세스의 카테고리 또는 클래스, 다른 개발된 프로세스들의 이전 사용자 선택들 및/또는 다른 정보에 기반할 수 있다.

[0043] 일단 프로세스 변수들이 선택되고 온-웨이퍼 파라미터가 선택되면, 개발 중인 프로세스에 대한 데이터가 데이터베이스로부터 리트리빙될 수 있다. 데이터는, 데이터베이스 질의를 생성하고 이 데이터베이스 질의를 데이터베이스(예컨대, 데이터베이스를 포함하는 데이터 스토어 또는 컴퓨팅 디바이스)에 전송함으로써 리트리빙될 수 있다. 실시예에서, 데이터베이스 질의는 특정 세트의 프로세스 변수 값들을 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 데이터베이스 질의는 하나 이상의 프로세스 변수들에 대한 프로세스 변수 값들의 범위들을 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 데이터베이스 질의는 하나 이상의 프로세스 변수들에 대한 모든 프로세스 변수 값들을 표시할 수 있다. 데이터베이스 질의는 부가적으로, 하나 이상의 파라미터들의 식별들을 포함할 수 있고, 이러한 하나 이상의 파라미터들에 대한 값들이 요청된다. 그런 다음, 데이터베이스는, 데이터베이스 질의에서 식별된 파라미터들 각각에 대해 (예컨대, 온-웨이퍼 파라미터들에 대한) 파라미터 값들을 포함하는 응답을 생성할 수 있다. 응답은 하나 이상의 파라미터들 각각에 대해 웨이퍼 상의 다수의 상이한 지점들 또는 위치들에 대한 파라미터 값들을 포함할 수 있다. 예컨대, 응답은 특정 파라미터의 49 개의 상이한 파라미터 값들을 포함할 수 있고, 여기서, 각각의 파라미터 값은 웨이퍼 상의 특정 위치와 연관된다.

[0044] 블록(305)에서, 프로세싱 로직은 제1 파라미터(예컨대, 질의에서 식별된 제1 파라미터)의 제1 가시영상을 생성할 수 있다. 제1 가시영상은 스크린 및/또는 윈도우 상에 디스플레이될 수 있다. 대안적으로 또는 부가적으로, 제1 가시영상은 가상 현실 또는 증강 현실 헤드 업(heads up) 디스플레이에 디스플레이될 수 있다. 사용자는 원하는 대로 윈도우들을 포지셔닝할 수 있고, 여기서, 각각의 윈도우는 상이한 파라미터와 연관될 수 있다. 제1 가시영상은 특정 세트의 프로세스 변수 값들에 기반하는, 제1 파라미터에 대한 파라미터 값들을 포함할 수 있다. 이에 따라서, 제1 가시영상은 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값(뿐만 아니라 하나 이상의 다른 프로세스 변수들에 대한 제1 값들)과 연관되는, 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현한다.

[0045] GUI 제어 엘리먼트들은 프로세스 변수들의 일부 또는 전부와 연관될 수 있다. GUI 제어 엘리먼트들 각각은, 제1 가시영상에서 보여지는 파라미터 값들을 생성하기 위해 프로세스에서 사용된 특정 프로세스 변수 값과 연관된 세팅을 포함할 수 있다.

[0046] 일부 실시예들에서, 다수의 상이한 파라미터들에 대한 가시영상들은 상이한 윈도우들에서 그리고/또는 상이한 스크린들 상에서 동시에 보여진다. 이에 따라서, 블록(310)에서, 프로세싱 로직은 블록(310)에서 제2 파라미터(예컨대, 질의에서 식별된 제2 파라미터)의 제2 가시영상을 생성할 수 있다. 제2 가시영상은 스크린 및/또는 윈도우 상에 디스플레이될 수 있다. 제2 가시영상은, 제1 가시영상에 디스플레이된 파라미터 값들과 연관되는, 동일한 특정 세트의 프로세스 변수 값들에 기반하는, 제2 파라미터에 대한 파라미터 값들을 포함할 수 있다. 이에 따라서, 제2 가시영상은 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값(뿐만 아니라 하나 이상의 다른 프로세스 변수들에 대한 제1 값들)과 연관되는, 제2 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현한다.

[0047] 언급된 바와 같이, 데이터베이스 질의는 단일 세트의 프로세스 변수 값들과 연관된 파라미터 값들에 대한 질의였을 수 있다. 대안적으로, 질의는 다수의 상이한 세트들의 프로세스 변수 값들과 연관된 파라미터 값들에 대한 질의였을 수 있다. 질의가 다수의 상이한 세트들의 프로세스 변수 값들과 연관된 파라미터 값들에 대한 요청을 포함했다면, 프로세싱 로직은 가시영상들과 연관된 파라미터들 각각에 대한 부가적인 가시영상들을 생성할 수 있다. 파라미터에 대해 생성된 각각의 가시영상은 상이한 세트의 프로세스 변수 값들과 연관될 수 있으며, 상이한 세트들의 파라미터 값들을 포함할 수 있다. 그러나, 일부 실시예들에서, 한 번에 파라미터에 대한 단일 가시영상만이 뷰 또는 윈도우에서 보여질 수 있다. 다른 가시영상들은 미리 생성될 수 있지만, 사용자가 그러한 다른 가시영상들과 연관된 특정 세트의 프로세스 변수 값들을 선택할 때까지 보여지지 않을 수 있다. 그러한 사용자 선택은 적절한 프로세스 변수들과 연관된 GUI 제어 엘리먼트들을 통해 행해질 수 있다.

[0048] 블록(315)에서, 프로세싱 로직은 제조 프로세스의 프로세스 변수와 연관된 제1 GUI 제어 엘리먼트를 제공한다. 제1 GUI 제어 엘리먼트는 제1 프로세스 변수의 제1 값과 연관된 제1 세팅을 갖는다. 제1 세팅을 갖는 제1 GUI 제어 엘리먼트는 뷰 또는 윈도우에 디스플레이된다. 프로세싱 로직은 부가적으로, 하나 이상의 부가적인 GUI 제어 엘리먼트들을 제공하여 디스플레이할 수 있고, 여기서, 각각의 GUI 제어 엘리먼트는 상이한 프로세스 변수와 연관될 수 있다. 각각의 GUI 제어 엘리먼트는, 제1 가시영상에서 보여지는 파라미터 값들을 유발하기 위해 사용된 특정 프로세스 변수 값과 연관된 세팅을 가질 수 있다.

[0049] 블록(320)에서, 프로세싱 로직은 제1 세팅으로부터 제2 세팅으로 제1 GUI 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신한다. 예컨대, 사용자는 터치 스크린 또는 마우스를 사용하여, 제1 GUI 제어 엘리먼트를 클릭하고 그리고/또는 다른 방식으로 선택하며 제1 GUI 제어 엘리먼트를 수정할 수 있다. 예컨대, 사용자는 슬라이더를 클릭하고 드래그하여, 슬라이더의 포지션을 조정할 수 있다. 다른 예에서, 사용자는 다이얼 또는 휠을 클릭하고 회전시켜, 다이얼 또는 휠의 회전각을 조정할 수 있다. 다른 예에서, 사용자는 GUI 제어 엘리먼트에 대한 텍스트 인터페이스 박스를 클릭하고 그런 다음 프로세스 변수 값을 타이핑할 수 있다.

[0050] 블록(325)에서, 프로세싱 로직은 제2 세팅에 기반하여 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정한다. 제1 GUI 제어 엘리먼트의 각각의 세팅은 상이한 프로세스 변수 값과 연관될 수 있다. 프로세스 변수 값들과 GUI 제어 엘리먼트의 세팅들 사이의 관계는 프로세스 변수에 대한 다수의 상이한 프로세스 변수 값들, 프로세스 변수 값들의 스케일 또는 범위, GUI 제어 엘리먼트의 사이즈 및/또는 GUI 제어 엘리먼트의 다수의 상이한 세팅들에 기반하여 자동으로 결정될 수 있다.

[0051] 블록(330)에서, 프로세싱 로직은 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는(그리고 하나 이상의 부가적인 프로세스 변수들에 대한 제1 값들과 연관되는), 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정한다. 블록(335)에서, 프로세싱 로직은 또한, 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는(그리고 하나 이상의 부가적인 프로세스 변수들에 대한 제1 값들과 연관되는), 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정할 수 있다. 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들 및/또는 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들은, 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값(그리고 하나 이상의 부가적인 프로세스 변수들에 대한 제1 값들)을 포함하는 데이터베이스 질의를 생성하고 이 데이터베이스 질의를 데이터베이스에 전송함으로써 결정될 수 있다. 부가적으로, 데이터베이스 질의는 제1 파라미터, 그리고 선택적으로 제2 파라미터를 식별할 수 있다. 그런 다음, 질의에 대한 응답이 수신될 수 있으며, 응답은 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들, 그리고 선택적으로 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 포함할 수 있다. 대안적으로, 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들 및/또는 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들은 (예컨대, 블록(305)의 동작들 전에 또는 블록(305)의 동작들 동안) 프로세싱 로직에 의해 이미 수신되었을 수 있다.

[0052] 일부 사례들에서, 프로세스 변수 값들의 특정 조합에 대한 시험 데이터가 없을 수 있다. 예컨대, DOE는 3 분의 프로세스 시간, 5 분의 프로세스 시간, 그리고 8 분의 프로세스 시간으로 코팅 두께에 대한 데이터를 생성했을 수 있다. 그러나, 사용자는 GUI 제어 엘리먼트를 예컨대 4 분 또는 10 분과 연관된 세팅으로 조정할 수 있다. 그러한 사례들에서, 프로세싱 로직은 데이터가 생성되지 않은 새로운 프로세스 변수 값에 대한 파라미터 값들을 보간(interpolate)하거나 또는 보외(extrapolate)할 수 있다. 보간 또는 보외는, 예컨대, 당면한(at hand) 데이터에 대해 선형 회귀를 수행함으로써 수행될 수 있다.

[0053] 블록(340)에서, 프로세싱 로직은 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제2 가시영상을 생성할 수 있다. 제1 파라미터의 제2 가시영상은 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는(그리고 하나 이상의 부가적인 프로세스 변수들에 대한 제1 값들과 연관되는), 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현한다. 제1 파라미터의 제2 가시영상이 디스플레이될 수 있고, 제1 파라미터의 제1 가시영상의 디스플레이를 대체할 수 있다.

[0054] 블록(345)에서, 프로세싱 로직은 제조 프로세스와 연관된 제2 파라미터의 제2 가시영상을 생성할 수 있다. 제2 파라미터의 제2 가시영상은 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는(그리고 하나 이상의 부가적인 프로세스 변수들에 대한 제1 값들과 연관되는), 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현한다. 제2 파라미터의 제2 가시영상이 디스플레이될 수 있고, 제2 파라미터의 제1 가시영상의 디스플레이를 대체할 수 있다.

[0055] 일 실시예에서, 프로세싱 로직은 제1 파라미터의 제2 가시영상 및/또는 제2 파라미터의 제2 가시영상이 보간된 또는 보외된 데이터에 기반했는지 여부를 결정한다. 가시영상이 보간된 또는 보외된 데이터에 기반한다는 결정이 행해지면, 보여지는 온-웨이퍼 데이터가 측정된 데이터가 아니라 대신에 보간된 또는 보외된 데이터임을 사용자에게 표시하기 위한 그래픽 표시자가 출력될 수 있다.

[0056] 일부 실시예들에서, 제1 및/또는 제2 파라미터의 제2 가시영상들은 블록(305)의 동작들 전에 또는 블록(305)의 동작들 동안 미리 생성되었을 수 있다. 그러한 실시예들에서, 제2 가시영상들을 재생성할 필요 없이, 제2 가시영상들은 블록들(340 및 345)에서 디스플레이될 수 있다.

[0057] 일부 실시예들에서, 프로세싱 로직은, 사용자가 현재 가시영상 또는 현재 가시영상들의 세트와 연관된 데이터를 내보내는(export) 것을 가능하게 하는 GUI 제어 엘리먼트를 제시할 수 있다. 그러한 GUI 제어 엘리먼트와의 사용자 상호작용에 응답하여, 프로세싱 로직은 하나 이상의 파일들을 생성할 수 있다. 예컨대, 프로세싱 로직은 각각의 가시영상에 대해 별개의 파일을 생성할 수 있다. 생성된 파일들은 CSV(comma separated value) 파일들, 엑셀(xml) 파일들, 텍스트 파일들 또는 다른 타입들의 파일들일 수 있다. 일부 실시예들에서, 이들 파일들은 가시영상들의 오버레이와 비교할 때 감소된 차원(dimensionality)을 가질 수 있다. 그런 다음, 사용자들은, 자신들만의 가시영상 목적들을 위해, 내보내진 파일들을 Excel과 같은 다른 애플리케이션들 또는 소프트웨어에서 열 수 있다.

[0058] 도 4는 본 개시내용의 실시예에 따른, 웨이퍼에 대한 제조 프로세스에 대한 DOE(design of experiments) 결과들을 가시화하기 위한 다른 방법(400)을 예시하는 흐름도이다. 방법(400)은 하드웨어(예컨대, 회로소자, 전용 로직, 프로그램가능 로직, 마이크로코드 등), 소프트웨어(예컨대, 하드웨어 시뮬레이션을 수행하기 위해 프로세싱 디바이스 상에서 실행되는 명령들), 또는 이들의 조합을 포함하는 프로세싱 로직에 의해 수행될 수 있다. 일 실시예에서, 프로세싱 로직은 도 1의 프로세스 개발 가시화기(104)를 포함한다.

[0059] 블록(405)에서, 프로세싱 로직은 웨이퍼에 대해 수행되는 제조 프로세스와 연관된 복수의 파라미터들의 가시영상들을 생성한다. 가시영상들 각각은 그 가시영상과 연관된 특정 파라미터에 대한 한 세트의 파라미터 값들을 보여준다. 제조 프로세스는 예컨대 에칭 프로세스, 증착 프로세스, 포토리소그래피 프로세스, 세정 프로세스, 주입 프로세스 등일 수 있다.

[0060] 블록(415)에서, 프로세싱 로직은 복수의 GUI 제어 엘리먼트들을 생성하여 제공한다. GUI 제어 엘리먼트들 각각은 제조 프로세스의 상이한 프로세싱 변수와 연관된다. GUI 제어 엘리먼트들 및 가시영상들은 프로세싱 로직에 의해 윈도우들 및/또는 스크린들에 출력될 수 있고, 블록(418)에서, 이들 윈도우들 및/또는 스크린들 상에 디스플레이되거나 또는 보여질 수 있다.

[0061] 블록(420)에서, 프로세싱 로직은 GUI 제어 엘리먼트들 중 하나 이상을 조정하기 위한 사용자 입력을 수신한다. 블록(425)에서, 프로세싱 로직은, 각각의 GUI 제어 엘리먼트에 대해, 그 GUI 제어 엘리먼트와 연관된 프로세스 변수의 값을 결정한다.

[0062] 블록(440)에서, 프로세싱 로직은 블록(425)에서 결정된, 제조 프로세스의 프로세스 변수들 각각의 값들을 포함하는 질의를 생성한다. 블록(445)에서, 프로세싱 로직은 데이터베이스를 포함하는 컴퓨팅 디바이스에 질의를 전송한다. 블록(450)에서, 프로세싱 로직은 질의에 대한 응답을 수신한다. 응답은 가시영상들과 연관된 복수의 파라미터들 각각에 대한 값들을 포함한다. 그런 다음, 블록(455)에서, 프로세싱 로직은, 블록(450)에서 수신된 파라미터 값들을 사용하여 복수의 파라미터들의 새로운 가시영상들을 생성한다. 블록(460)에서, 프로세싱 로직은 새로운 가시영상들을 디스플레이하여서, 파라미터들의 오리지널 가시영상들을 대체한다. 새로운 가시영상들은 오리지널 가시영상들 위에 오버레이로서 출력될 수 있다. 사용자가 GUI 제어 엘리먼트들을 다시 이전 세팅들로 조정하면, 오리지널 가시영상들이 디스플레이되어서, 새로운 가시영상들을 대체할 수 있다. 이에 따라서, 사용자가 하나의 가시영상에 대해 하나의 변수를 변화시키고, 이는 다른 가시영상들의 일부 또는 전부에 대해서도 또한 그 변수를 변화시켜서, 그들로 하여금 변화된 변수와 연관된 상이한 파라미터 값들을 보여주도록 조정하게 할 수 있다.

[0063] 도 5는 본 개시내용의 실시예에 따른, 웨이퍼에 대한 제조 프로세스에 대한 DOE(design of experiments) 결과들을 가시화하기 위한 다른 방법(500)을 예시하는 흐름도이다. 방법(500)은 하드웨어(예컨대, 회로소자, 전용 로직, 프로그램가능 로직, 마이크로코드 등), 소프트웨어(예컨대, 하드웨어 시뮬레이션을 수행하기 위해 프로세싱 디바이스 상에서 실행되는 명령들), 또는 이들의 조합을 포함하는 프로세싱 로직에 의해 수행될 수 있다. 일 실시예에서, 프로세싱 로직은 도 1의 프로세스 개발 가시화기(104)를 포함한다.

[0064] 블록(505)에서, 프로세싱 로직은 웨이퍼에 대해 수행되는 제조 프로세스와 연관된 복수의 파라미터들의 가시영상들을 생성한다. 가시영상들 각각은 프로세스 변수 값들의 특정 조합에 기반하여 그 가시영상과 연관된 특정 파라미터에 대한 한 세트의 파라미터 값들을 보여준다. 프로세스 변수 값들의 각각의 조합에 대해, 파라미터의 상이한 가시영상이 생성될 수 있다. 이에 따라서, 많은 상이한 가시영상들이 생성될 수 있다. 제조 프로세스는 예컨대 에칭 프로세스, 증착 프로세스, 포토리소그래피 프로세스, 세정 프로세스, 주입 프로세스 등일 수 있다.

[0065] 블록(515)에서, 프로세싱 로직은 복수의 GUI 제어 엘리먼트들을 생성하여 제공한다. GUI 제어 엘리먼트들 각각은 제조 프로세스의 상이한 프로세싱 변수와 연관된다.

[0066] 블록(518)에서, GUI 제어 엘리먼트들의 현재 세팅들이 결정되고, 그러한 현재 세팅들과 연관된 값들이 결정된다. 그런 다음, 프로세싱 로직은 결정된 프로세스 변수 값들과 연관되는, 파라미터들의 가시영상들을 결정한다. 그런 다음, 결정된 세팅들을 갖는 GUI 제어 엘리먼트들 및 결정된 가시영상들은 프로세싱 로직에 의해 윈도우들 및/또는 스크린들에 출력될 수 있고, 이들 윈도우들 및/또는 스크린들 상에 디스플레이되거나 또는 보여질 수 있다.

[0067] 블록(520)에서, 프로세싱 로직은 GUI 제어 엘리먼트들 중 하나 이상을 조정하기 위한 사용자 입력을 수신한다. 블록(525)에서, 프로세싱 로직은, 각각의 GUI 제어 엘리먼트에 대해, 그 GUI 제어 엘리먼트와 연관된 프로세스 변수의 값을 결정한다.

[0068] 블록(530)에서, 프로세싱 로직은 파라미터들 각각에 대한 제2 가시영상들을 결정하고, 여기서, 제2 가시영상들은 프로세스 변수들의 새로운 값들과 연관된다. 제2 가시영상들은, 블록(525)에서 결정된 새로운 프로세스 변수 값들에 기반하는 새로운 파라미터 값들을 갖는다. 블록(535)에서, 프로세싱 로직은 제2 가시영상들을 디스플레이하여서, 제1 가시영상들 위에 제2 가시영상들을 오버레이한다.

[0069] 도 6은 컴퓨터 시스템(600)의 예시적인 형태의 머신의 다이어그램을 예시하며, 이러한 컴퓨터 시스템(600)의 예시적인 형태의 머신 내에서, 본원에서 논의된 방법론들 중 임의의 하나 이상의 방법론들을 수행하게 하기 위한 한 세트의 명령들이 실행될 수 있다. 대안적인 실시예들에서, 머신은 LAN, 인트라넷, 엑스트라넷 또는 인터넷에 있는 다른 머신들에 연결(예컨대, 네트워킹)될 수 있다. 머신은 클라이언트-서버 네트워크 환경에서 서버 또는 클라이언트 머신의 자격으로, 또는 피어-투-피어(또는 분산) 네트워크 환경에서 피어 머신으로서 동작할 수 있다. 머신은 PC(personal computer), 태블릿 PC, STB(set-top box), PDA(Personal Digital Assistant), 셀룰러 전화, 웹 어플라이언스, 서버, 네트워크 라우터, 스위치 또는 브리지, 또는 자신이 행할 액션들을 특정하는 한 세트의 명령들을 (순차적으로 또는 다른 방식으로) 실행할 수 있는 임의의 머신일 수 있다. 추가로, 단일 머신이 예시되지만, "머신"이란 용어는 또한, 본원에서 논의된 방법론들 중 임의의 하나 이상의 방법론들을 수행하기 위한 한 세트(또는 다수의 세트들)의 명령들을 개별적으로 또는 공동으로 실행하는 머신들의 임의의 집합(collection)을 포함하는 것으로 간주될 것이다.

[0070] 예시적인 컴퓨터 시스템(600)은 프로세싱 디바이스(프로세서)(602), 메인 메모리(604)(예컨대, ROM(read-only memory), 플래시 메모리, DRAM(dynamic random access memory), 이를테면, SDRAM(synchronous DRAM), DDR(double data rate) SDRAM 또는 DRAM(RDRAM) 등), 정적 메모리(606)(예컨대, 플래시 메모리, SRAM(static random access memory) 등) 및 데이터 저장 디바이스(618)를 포함하고, 이들은 버스(630)를 통해 서로 통신한다.

[0071] 프로세서(602)는 마이크로프로세서, 중앙 프로세싱 유닛 등과 같은 하나 이상의 범용 프로세싱 디바이스들을 표현한다. 더욱 상세하게는, 프로세서(602)는 CISC(complex instruction set computing) 마이크로프로세서, RISC(reduced instruction set computing) 마이크로프로세서, VLIW(very long instruction word) 마이크로프로세서, 다른 명령 세트들을 구현하는 프로세서, 또는 명령 세트들의 조합을 구현하는 프로세서들일 수 있다. 프로세서(602)는 또한, ASIC(application specific integrated circuit), FPGA(field programmable gate array), DSP(digital signal processor), 네트워크 프로세서 등과 같은 하나 이상의 특수-목적 프로세싱 디바이스들일 수 있다. 프로세서(602)는 본원에서 논의된 동작들 및 방법들을 수행하기 위한 명령들(622)을 실행하도록 구성된다.

[0072] 컴퓨터 시스템(600)은 네트워크 인터페이스 디바이스(608)를 더 포함할 수 있다. 컴퓨터 시스템(600)은 또한, 비디오 디스플레이 유닛(610)(예컨대, LCD(liquid crystal display) 또는 CRT(cathode ray tube)), 영숫자 입력 디바이스(612)(예컨대, 키보드), 커서 제어 디바이스(614)(예컨대, 마우스) 및 신호 생성 디바이스(616)(예컨대, 스피커)를 포함할 수 있다.

[0073] 데이터 저장 디바이스(618)는, 프로세스 개발 가시화기(104)를 포함하여, 본원에서 설명된 방법론들 또는 기능들 중 임의의 하나 이상의 방법론들 또는 기능들을 구현하는 하나 이상의 세트들의 명령들(622)(예컨대, 소프트웨어)이 저장되어 있는 컴퓨터-판독가능 저장 매체(628)를 포함할 수 있다. 명령들(622)은 또한, 컴퓨터 시스템(600), 메인 메모리(604), 및 컴퓨터-판독가능 저장 매체를 또한 구성하는 프로세서(602)에 의한 이 명령들(622)의 실행 동안 메인 메모리(604) 내에 그리고/또는 프로세서(602) 내에 완전히 또는 적어도 부분적으로 상주할 수 있다.

[0074] 컴퓨터-판독가능 저장 매체(628)(머신-판독가능 저장 매체)가 예시적인 실시예에서 단일 매체인 것으로 도시되지만, "컴퓨터-판독가능 저장 매체"란 용어는 하나 이상의 세트들의 명령들을 저장하는, 단일 매체 또는 다중 매체(예컨대, 중앙집중 또는 분산 데이터베이스, 및/또는 연관된 캐시들 및 서버들)를 포함하는 것으로 간주되어야 한다. "컴퓨터-판독가능 저장 매체"란 용어는 또한, 머신에 의한 실행을 위한 한 세트의 명령들을 저장하거나, 인코딩하거나 또는 운반할 수 있고 머신으로 하여금 본 개시내용의 방법론들 중 임의의 하나 이상의 방법론들을 수행하게 하는 임의의 매체를 포함하는 것으로 간주될 것이다. 이에 따라서, "컴퓨터-판독가능 저장 매체"란 용어는 솔리드-스테이트 메모리들, 광학 매체 및 자기 매체를 포함(그러나, 이에 제한되지 않음)하는 것으로 간주될 것이다.

[0075] 전술된 설명에서는, 많은 세부사항들이 제시된다. 그러나, 본 개시내용이 이들 특정 세부사항들 없이 실시될 수 있다는 것이, 본 개시내용의 이득을 갖는 당업자에게 자명할 것이다. 일부 사례들에서, 잘 알려진 구조들 및 디바이스들은, 본 개시내용을 불명료하게 하는 것을 회피하기 위하여 상세하게 도시되기보다는 블록 다이어그램 형태로 도시된다.

[0076] 상세한 설명의 일부 부분들은 컴퓨터 메모리 내의 데이터 비트들에 대한 연산들의 알고리즘들 및 기호 표현들 측면에서 제시되었다. 이들 알고리즘 설명들 및 표현들은, 데이터 프로세싱 분야들의 당업자들에 의해 자신들의 작업의 본질을 다른 당업자들에게 가장 효과적으로 전달하기 위해 사용되는 수단이다. 알고리즘은, 여기서 그리고 일반적으로, 원하는 결과로 이어지는 단계들의 일관성 있는(self-consistent) 시퀀스인 것으로 이해된다. 단계들은 물리 수량들의 물리 조작들을 필요로 하는 것들이다. 반드시 필요한 것은 아니지만 보통, 이들 수량들은 저장, 전송, 결합, 비교 그리고 다른 방식으로 조작될 수 있는 전기 또는 자기 신호들의 형태를 취한다. 일반적인 사용의 이유들로, 비트들, 값들, 엘리먼트들, 심볼들, 문자들, 용어(term)들, 숫자들 등으로서 이들 신호들을 지칭하는 것이 때로는 편리한 것으로 증명되었다.

[0077] 그러나, 이들 그리고 유사한 용어들 전부가 적절한 물리적인 수량들과 연관되어야 하며, 단지 이들 수량들에 적용되는 편리한 라벨들일 뿐이라는 것을 명심해야 한다. 다음의 논의로부터 자명한 바와 같이, 달리 구체적으로 진술되지 않는 한, 상세한 설명 전체에 걸쳐, "수신", "결정", "계산", "제공", "전송", "저장", "생성", "수정" 등과 같은 용어들을 활용하는 논의들은, 컴퓨터 시스템의 레지스터들 및 메모리들 내의 물리(예컨대, 전자) 수량들로서 표현된 데이터를, 컴퓨터 시스템 메모리들 또는 레지스터들 또는 다른 그러한 정보 저장, 송신 또는 디스플레이 디바이스들 내의 물리 수량들로서 유사하게 표현된 다른 데이터로 조작 및 변환하는, 컴퓨터 시스템 또는 유사한 전자 컴퓨팅 디바이스의 액션 및 프로세스들을 지칭한다는 것이 인식된다.

[0078] 본 개시내용은 또한, 본원의 동작들을 수행하기 위한 장치에 관한 것이다. 이 장치는 의도된 목적들을 위해 구성될 수 있거나, 또는 이 장치는, 컴퓨터에 저장된 컴퓨터 프로그램에 의해 선택적으로 활성화되거나 또는 재구성되는 범용 컴퓨터를 포함할 수 있다. 그러한 컴퓨터 프로그램은 플로피 디스크들, 광학 디스크들, CD-ROM들, 그리고 자기 광학 디스크들, ROM(read-only memory)들, RAM(random access memory)들, EPROM들, EEPROM들, 자기 또는 광학 카드들, 또는 전자 명령들을 저장하기에 적절한 임의의 타입의 매체를 포함하는 임의의 타입의 디스크(그러나, 이에 제한되지 않음)와 같은 컴퓨터 판독가능 저장 매체에 저장될 수 있다.

[0079] 상기 설명은 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 의도된다는 것이 이해되어야 한다. 상기 설명을 읽고 이해할 때, 많은 다른 실시예들이 당업자들에게 자명할 것이다. 본 개시내용의 범위는, 첨부된 청구항들 및 이 청구항들이 권리를 갖는 등가물들의 전체 범위를 참조하여 결정되어야 한다.

Claims

웨이퍼에 대해 수행되는 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제1 가시영상(visualization)을 생성하는 단계 ―상기 제1 파라미터에 대한 값들은 상기 제조 프로세스의 복수의 프로세스 변수들에 의존적이고, 상기 제1 가시영상은 상기 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현함―;
상기 제조 프로세스와 연관된 제2 파라미터의 제1 가시영상을 생성하는 단계 ―상기 제2 파라미터에 대한 값들은 상기 제조 프로세스의 상기 복수의 프로세스 변수들에 의존적이고, 상기 제2 파라미터의 제1 가시영상은 상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현함―;
제1 윈도우에서 상기 제1 파라미터의 제1 가시영상을 출력하는 단계;
제2 윈도우에서 상기 제2 파라미터의 제1 가시영상을 동시에 출력하는 단계;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수와 연관된 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 제공하는 단계 ―상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 가짐―;
상기 제1 세팅으로부터 제2 세팅으로 상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신하는 단계;
상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 상기 제2 세팅에 기반하여 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정하는 단계;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 단계;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 단계;
상기 제조 프로세스와 연관되는 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상을 생성하는 단계 ―상기 제2 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 상기 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현함―;
상기 제조 프로세스와 연관된 상기 제2 파라미터의 제2 가시영상을 생성하는 단계 ―상기 제2 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현함―;
상기 제1 윈도우에서 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상을 출력하는 단계; 및
상기 제2 윈도우에서 상기 제2 파라미터의 제2 가시영상을 동시에 출력하는 단계
를 포함하는,
방법.
제1 항에 있어서,
제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트와의 사용자 상호작용을 통해 내보내기 커맨드(export command)를 수신하는 단계;
a) 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들 및 b) 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들과 연관된, 상기 복수의 프로세스 변수들의 프로세스 변수 값들을 포함하는 제1 파일을 생성하는 단계 ―상기 프로세스 변수 값들은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 포함함―; 및
a) 상기 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들 및 b) 상기 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들과 연관된, 상기 복수의 프로세스 변수들의 상기 프로세스 변수 값들을 포함하는 제2 파일을 생성하는 단계
를 더 포함하는,
방법.
제1 항에 있어서,
상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 슬라이더를 포함하고, 상기 슬라이더의 각각의 포지션은 상기 제1 프로세스 변수의 상이한 값과 연관되는,
방법.
제1 항에 있어서,
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 단계는,
상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 포함하는 질의(query)를 생성하는 단계;
상기 질의를 원격 컴퓨팅 디바이스에 전송하는 단계; 및
상기 질의에 대한 응답을 수신하는 단계
를 포함하고,
상기 응답은 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 포함하는,
방법.
제1 항에 있어서,
상기 제1 파라미터의 제1 가시영상에서 표현되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들은 추가로, 상기 제조 프로세스의 제2 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되며,
상기 방법은,
상기 제조 프로세스의 제2 프로세스 변수와 연관된 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 제공하는 단계 ―상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 가짐―;
상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 상기 제1 세팅으로부터 상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제2 세팅으로 상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신하는 단계;
상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 상기 제2 세팅에 기반하여 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정하는 단계;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값 및 상기 제조 프로세스의 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제3 세트의 값들을 결정하는 단계; 및
상기 제조 프로세스와 연관된 상기 제1 파라미터의 제3 가시영상을 생성하는 단계
를 더 포함하고,
상기 제1 파라미터의 제3 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값 및 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 상기 제3 세트의 값들을 표현하는,
방법.
제1 항에 있어서,
상기 제1 파라미터는 코팅 두께, 굴절률, 시트 저항, 비저항, 전도도, 그레인 사이즈, 거칠기, 상기 웨이퍼에 걸친 응력, 코팅 조성(composition), 반사도, 흡광도, 관찰각, 입사각, 반사각, 회절각, 밀도, 에칭 레이트 및 스텝 커버리지로 구성된 그룹으로부터 선택되는 계측 측정을 포함하는,
방법.
제1 항에 있어서,
상기 제1 프로세스 변수는 챔버 내의 위치, 프로세스 타이밍, 하나 이상의 디바이스 치수들, 하나 이상의 가스들에 대한 가스 유량, 챔버 압력 및 온도로 구성된 그룹으로부터 선택되는,
방법.
제1 항에 있어서,
상기 제1 파라미터의 제1 가시영상은 상기 웨이퍼의 제1 웨이퍼 맵을 포함하고, 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상은 상기 웨이퍼의 제2 웨이퍼 맵을 포함하는,
방법.
제1 항에 있어서,
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 단계는,
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값에 대해 실제(real) 데이터가 생성되지 않았다고 결정하는 단계; 및
상기 제1 프로세스 변수에 대한 부가적인 값들과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 부가적인 값들에 기반하여 상기 제2 세트의 값들을 보간하는 단계
를 포함하고,
상기 제1 파라미터의 제2 가시영상은 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상이 실제 데이터를 사용하여 생성되지 않았다는 표시자를 포함하는,
방법.
제1 항에 있어서,
상기 제1 파라미터는 가상 센서의 센서 판독을 포함하는,
방법.
제1 항에 있어서,
증강 현실(AR) 디스플레이에서 상기 제1 윈도우 및 상기 제2 윈도우를 디스플레이하는 단계를 더 포함하는,
방법.
제1 항에 있어서,
가상 센서에 대한 함수를 생성하는 단계를 더 포함하고,
상기 가상 센서의 값들은 하나 이상의 물리적 센서들의 값들에 기반하고, 상기 제1 프로세스 변수는 상기 가상 센서의 값들과 연관되는,
방법.
시스템으로서,
웨이퍼에 대해 수행되는 제조 프로세스를 위한 프로세스 개발 데이터를 저장하기 위한 데이터 스토어; 및
컴퓨팅 디바이스
를 포함하고,
상기 컴퓨팅 디바이스는,
프로세스 개발 가시화 툴에 대한 명령들을 포함하는 메모리; 및
상기 메모리에 동작가능하게 연결된 프로세싱 디바이스
를 포함하고,
상기 프로세스 개발 가시화 툴에 대한 명령들의 실행은 상기 프로세싱 디바이스로 하여금,
상기 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제1 가시영상을 생성하게 하고 ―상기 제1 파라미터에 대한 값들은 상기 제조 프로세스의 복수의 프로세스 변수들에 의존적이고, 상기 제1 파라미터의 제1 가시영상은 상기 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현함―;
상기 제조 프로세스와 연관된 제2 파라미터의 제1 가시영상을 생성하게 하고 ―상기 제2 파라미터에 대한 값들은 상기 제조 프로세스의 복수의 프로세스 변수들에 의존적이고, 상기 제2 파라미터의 제1 가시영상은 상기 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현함―;
제1 윈도우에서 상기 제1 파라미터의 제1 가시영상을 출력하게 하고;
제2 윈도우에서 상기 제2 파라미터의 제1 가시영상을 동시에 출력하게 하고;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수와 연관된 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 제공하게 하고 ―상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 가짐―;
상기 제1 세팅으로부터 제2 세팅으로 상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신하게 하고;
상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 상기 제2 세팅에 기반하여 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정하게 하고;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하게 하고;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하게 하고;
상기 제조 프로세스와 연관된 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상을 생성하게 하고 ―상기 제1 파라미터의 제2 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현함―;
상기 제조 프로세스와 연관된 상기 제2 파라미터의 제2 가시영상을 생성하게 하고 ―상기 제2 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현함―;
상기 제1 윈도우에서 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상을 출력하게 하고; 그리고
상기 제2 윈도우에서 상기 제2 파라미터의 제2 가시영상을 동시에 출력하게 하는,
시스템.
제13 항에 있어서,
상기 제1 파라미터의 제1 가시영상에서 표현되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들은, 상기 제조 프로세스의 제2 프로세스 변수에 대한 제1 값과 추가로 연관되고,
상기 프로세싱 디바이스는 추가로,
상기 제조 프로세스의 제2 프로세스 변수와 연관된 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 제공하고 ―상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 가짐―;
상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제1 세팅으로부터 상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제2 세팅으로 상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신하고;
상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제2 세팅에 기반하여 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정하고;
상기 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값 및 상기 제조 프로세스의 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 제1 파라미터의 제3 세트의 값들을 결정하고;
상기 제조 프로세스와 연관된 상기 제1 파라미터의 제3 가시영상을 생성하고, 그리고
상기 제1 파라미터의 제3 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값 및 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제3 세트의 값들을 표현하는,
시스템.
제13 항에 있어서,
상기 제1 파라미터의 제1 가시영상은 상기 웨이퍼의 제1 웨이퍼 맵을 포함하고, 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상은 상기 웨이퍼의 제2 웨이퍼 맵을 포함하고, 상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 슬라이더를 포함하고, 상기 슬라이더의 각각의 포지션은 상기 제1 프로세스 변수의 상이한 값과 연관되는,
시스템.
제13 항에 있어서,
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 단계는,
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값에 대해 실제 데이터가 생성되지 않았다고 결정하는 단계; 및
상기 제1 프로세스 변수에 대한 부가적인 값들과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 부가적인 값들에 기반하여 상기 제2 세트의 값들을 보간하는 단계
를 포함하고,
상기 제1 파라미터의 제2 가시영상은 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상이 실제 데이터를 사용하여 생성되지 않았다는 표시자를 포함하는,
시스템.
제13 항에 있어서,
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하기 위해, 상기 컴퓨팅 디바이스는 추가로,
상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 포함하는 질의를 생성하고;
상기 질의를 상기 데이터 스토어에 전송하고; 그리고
상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 포함하는, 상기 질의에 대한 응답을 수신하는,
시스템.
명령들을 포함하는 비-일시적인 머신-판독가능 저장 매체로서,
상기 명령들은 프로세싱 디바이스에 의해 실행될 때, 상기 프로세싱 디바이스로 하여금,
웨이퍼에 대해 수행되는 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제1 가시영상을 생성하는 동작 ―상기 제1 파라미터에 대한 값들은 상기 제조 프로세스의 복수의 프로세스 변수들에 의존적이고, 상기 제1 가시영상은 상기 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현함―;
웨이퍼에 대해 수행되는 상기 제조 프로세스와 연관된 제2 파라미터의 제1 가시영상을 생성하는 동작 ―상기 제2 파라미터에 대한 값들은 상기 제조 프로세스의 상기 복수의 프로세스 변수들에 의존적이고, 상기 제2 파라미터의 상기 제1 가시영상은 상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제1 세트의 값들을 표현함―;
제1 윈도우에서 상기 제1 파라미터의 제1 가시영상을 출력하는 동작;
제2 윈도우에서 상기 제2 파라미터의 제1 가시영상을 동시에 출력하는 동작;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수와 연관된 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 제공하는 동작 ―상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 가짐―;
상기 제1 세팅으로부터 제2 세팅으로 상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신하는 동작;
상기 제1 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 상기 제2 세팅에 기반하여 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정하는 동작;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 동작;
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 동작;
상기 제조 프로세스와 연관되는 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상을 생성하는 동작 ―상기 제2 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 상기 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현함―;
상기 제조 프로세스와 연관된 상기 제2 파라미터의 제2 가시영상을 생성하는 동작 ―상기 제2 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제2 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 표현함―;
상기 제1 윈도우에서 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상을 출력하는 동작; 및
상기 제2 윈도우에서 상기 제2 파라미터의 제2 가시영상을 동시에 출력하는 동작
을 포함하는 동작들을 수행하게 하는,
명령들을 포함하는 비-일시적인 머신-판독가능 저장 매체.
제18 항에 있어서,
상기 제1 파라미터의 제1 가시영상에서 표현되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제1 세트의 값들은, 상기 제조 프로세스의 제2 프로세스 변수에 대한 제1 값과 추가로 연관되고,
상기 동작들은 추가로,
상기 제조 프로세스의 제2 프로세스 변수와 연관된 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 제공하는 동작 ―상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트는 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제1 값과 연관된 제1 세팅을 가짐―;
상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제1 세팅으로부터 상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제2 세팅으로 상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트를 조정하기 위한 사용자 입력을 수신하는 동작;
상기 제2 그래픽 사용자 인터페이스 제어 엘리먼트의 제2 세팅에 기반하여 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값을 결정하는 동작;
상기 제조 프로세스의 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값 및 상기 제조 프로세스의 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 제1 파라미터의 제3 세트의 값들을 결정하는 동작;
상기 제조 프로세스와 연관된 제1 파라미터의 제3 가시영상을 생성하는 동작을 포함하고,
상기 제1 파라미터의 제3 가시영상은 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값 및 상기 제2 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제3 세트의 값들을 표현하는,
명령들을 포함하는 비-일시적인 머신-판독가능 저장 매체.
제18 항에 있어서,
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 제2 세트의 값들을 결정하는 동작은,
상기 제조 프로세스의 상기 제1 프로세스 변수에 대한 제2 값에 대해 실제 데이터가 생성되지 않았다고 결정하는 동작; 및
상기 제1 프로세스 변수에 대한 부가적인 값들과 연관되는, 상기 제1 파라미터에 대한 부가적인 값들에 기반하여 상기 제2 세트의 값들을 보간하는 동작을 포함하고,
상기 제1 파라미터의 제2 가시영상은 상기 제1 파라미터의 제2 가시영상이 실제 데이터를 사용하여 생성되지 않았다는 표시자를 포함하는,
명령들을 포함하는 비-일시적인 머신-판독가능 저장 매체.