KR102469350B1 - 집진장치 및 집진방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 집진장치는 처리물을 흡입시키도록 내부에 흡입력을 발생시킬 수 있는 후드 및 후드의 하측공간에 와류를 발생시킬 수 있는 흡입기; 를 포함하고, 흡입기는 후드의 하측공간에 가스를 분사하도록, 후드의 하측에 설치된 복수의 가스 분사부 및 이웃하여 배치된 두 개의 가스 분사부 사이의 적어도 일부에 위치하도록 설치되며, 일측면이 복수의 가스 분사부에 의해 둘러싸인 공간인 와류 생성부를 향하도록 설치된 복수의 가이드 부재를 포함한다.
따라서, 본 발명의 실시예에 의하면, 후드의 하측에 와류를 생성시킬 수 있다. 즉, 후드에서 발생되는 흡입력 외에, 와류에 의한 흡입력을 추가로 생성한다. 따라서 흡입력이 영향을 미치는 영역이 증가 또는 확대된다. 이에, 후드의 직하부 영역뿐만 아니라, 후드의 폭 방향 및 길이방향 외측의 처리물도 함께 집진시킬 수 있어, 집진효율이 향상되는 효과가 있다.

Description

집진장치 및 집진방법{Dust collecting equipment and dust collecting method}
본원발명은 집진장치 및 집진방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 처리물의 집진효율을 향상시킬 수 있는 집진장치 및 집진방법에 관한 것이다.
일반적으로 제철소, 주물 공장, 석탄 화력발전소, 미곡 종합처리장, 시멘트 공장 등의 산업현장에서는 다량의 분진 또는 흄(fume) 등의 오염물질이 발생된다. 이러한 오염물질은 산업현장 및 그 주위의 환경을 오염시키고, 작업자의 건강을 악화시키는 원인이 된다.
따라서, 오염물질이 발생되는 구역 또는 장치 주변에 집진장치를 설치한다. 집진장치는 후드, 후드에 연결되며 흡입력이 발생되는 덕트 및 흡입된 공기 중에서 오염물질을 걸러내도록 덕트에 설치된 집진부를 포함한다. 이러한 집진장치는 후드 및 덕트를 통해 오염물질이 혼합된 공기(air)를 흡입하고, 집진부를 통해 공기 중 오염물질을 걸러내어 집진한다. 그리고 오염물질이 걸러진 또는 제거된 공기를 덕트 외부로 배출시킨다.
그런데 이러한 집진장치에 의하면, 후드 직하부의 오염물질을 흡입시켜 집진시킬 수 있지만, 후드의 폭 방향 외측의 오염물질은 흡입이 어려운 문제가 있다. 따라서, 집진장치의 집진효율이 떨어지고, 이에 따라 산업현장에 오염물질 잔류하게 되는 문제가 발생된다.
한국등록특허 10-1712827
본원발명은 처리물의 집진효율을 향상시킬 수 있는 집진장치 및 집진방법을 제공한다.
본원발명은 흡입력이 영향을 미치는 영역을 증가시킬 수 있는 집진장치 및 집진방법을 제공한다.
본 발명의 실시예에 따른 집진장치는 처리물을 흡입시키도록 내부에 흡입력을 발생시킬 수 있는 후드; 및 상기 후드의 하측공간에 와류를 발생시킬 수 있는 흡입기; 를 포함하고, 상기 흡입기는, 상기 후드의 하측공간에 가스를 분사하도록, 상기 후드의 하측에 설치된 복수의 가스 분사부; 및 이웃하여 배치된 두 개의 가스 분사부 사이의 적어도 일부에 위치하도록 설치되며, 일측면이 상기 복수의 가스 분사부에 의해 둘러싸인 공간인 와류 생성부를 향하도록 설치된 복수의 가이드 부재;를 포함한다.
상기 복수의 가스 분사부 및 상기 복수의 가이드 부재 각각은 상하방향으로 연장된 형상이고, 상기 복수의 가스 분사부 각각에는 가스를 분사하는 노즐이 마련되며, 상기 가이드 부재는 상기 노즐을 커버하도록 상기 가스 분사부에 연결된다.
상기 가이드 부재는 상기 일측면이 오목한 곡면을 포함한다.
상기 와류 생성부의 상측에 위치하도록 상기 후드 내부에 설치되며, 회전 가능한 팬을 포함하고, 상기 가이드 부재는, 상기 일측면을 따라 형성되는 제2원이 상기 팬의 회전으로 형성되는 제1원과 외접할 수 있는 형상으로 마련된다.
상기 복수의 가스 분사부가 나열된 배치 형태는, 이웃하여 배치된 가스 분사부 사이의 이격거리가 일부 다른 다각형이고,
이격거리가 상대적으로 짧은 두 개의 가스 분사부 사이에 위치된 가이드 부재의 연장길이가 이격거리가 상대적으로 긴 두 개의 가스 분사부 사이에 위치된 가이드 부재에 비해 길게 마련된다.
상대적으로 연장길이가 긴 가이드 부재와 상대적으로 연장길이가 짧은 가이드 부재는 일부영역의 위치가 겹치고,
상대적으로 연장길이가 짧은 가이드 부재의 단부는 겹치는 영역 밖으로 돌출되게 위치된다.
상기 가이드 부재의 상하방향 연장 길이는 상기 가스 분사부의 상하방향 연장 길이에 비해 짧고, 상기 가이드 부재가 상기 가스 분사부의 하단쪽으로 치우치도록 설치된다.
상기 노즐은 상기 가스 분사부로부터 연장되게 설치되고,
상기 노즐은 상기 가스 분사부로부터 그 연장방향으로 연장한 연장선이 상기 가이드 부재의 내면을 향하도록 마련된다.
상기 노즐은 상기 가스 분사부와 연결된 일단과 상기 일단의 반대 끝단이며 가스가 토출되는 타단의 높이가 동일하거나, 상기 일단에 비해 타단이 높다.
상기 흡입기는, 상기 후드와 연통되도록 상기 후드의 하부에 연결되며, 상기 복수의 가스 분사부 및 복수의 가이드 부재가 수용되는 내부공간을 가지는 바디를 포함하고, 상기 바디는 일측에 마련된 제1개방부 및 타측에 마련된 제2개방부를 포함하고, 상기 바디는, 상기 후드와 연통되는 개구를 구비하며, 상기 후드의 하부에 연결된 상부부재; 상기 상부부재의 하측으로 이격 배치된 하부부재; 및 상기 제1개방부와 제2개방부가 나열된 방향과 교차하는 방향으로 나열 배치되어, 상기 상부부재와 하부부재를 연결하는 측부부재;를 포함하며, 상기 복수의 가스 분사부는 상기 상부부재와 하부부재 사이에 위치하도록 설치된다.
상기 하부부재에는 복수의 홀이 마련되고, 상기 하부부재에 마련된 복수의 홀 중, 상기 와류 생성부와 마주보는 영역에 마련된 홀의 내경이 상기 와류 생성부의 외측과 마주보는 영역에 마련된 홀의 내경에 비해 작다.
상기 하부부재는, 상기 상부부재와 마주보도록 하측으로 이격 배치되며, 상기 복수의 홀이 마련된 제1하부판; 상기 제1개방부와 제2개방부의 나열 방향으로, 상기 제1하부판의 양측에 연결된 제2 및 제3하부판;을 포함한다.
상기 흡입기는, 상기 바디의 내부에서 가스 분사부 외측에 설치되어, 가스를 분사하는 보조 분사부를 포함한다.
본 발명의 실시예에 따른 집진방법은 서로 다른 위치에서 후드의 하측공간으로 가스를 토출시켜 분사하는 단계; 상기 후드 내부에 위치된 팬을 회전시키는 단계; 상기 분사된 가스를 가이드하여 회전기류를 형성하는 단계; 상기 회전기류를 흡입하여, 상기 후드의 하측공간에 와류를 생성하는 단계; 상기 팬의 회전에 의한 흡입력 및 상기 와류의 원심력에 의한 흡입력으로 처리물을 상기 후드로 흡입시키는 단계; 및 상기 와류가 생성되는 와류 생성 영역의 외측에 배치된 가이드 부재로, 상기 와류 생성 영역으로 외기가 유입되는 것을 차단하는 단계를 포함한다.
상기 와류 생성 영역쪽으로 가스를 분사하는 단계; 및 상기 와류 생성 영역쪽으로 흐르는 기류를 이용하여, 외측의 처리물을 상기 와류 생성 영역으로 유입시키거나, 에어커튼을 형성하는 단계;를 포함한다.
본 발명의 실시예에 의하면, 후드의 하측에 와류를 생성시킬 수 있다. 즉, 후드에서 발생되는 흡입력 외에, 와류에 의한 흡입력을 추가로 생성한다. 따라서 흡입력이 영향을 미치는 영역이 증가 또는 확대된다. 이에, 후드의 직하부 영역뿐만 아니라, 후드의 폭 방향 및 길이방향 외측의 처리물도 함께 집진시킬 수 있어, 집진효율이 향상되는 효과가 있다.
또한, 복수의 가스 분사부 각각에 설치된 가이드 부재에 의해 회전기류 및 와류의 형성이 용이하고, 강한 원심력을 가지는 와류를 형성시킬 수 있으며, 와류의 유지가 용이하다. 이에, 와류에 의한 흡입력으로 처리물을 후드로 용이하게 흡입시킬 수 있다.
또한, 보조 분사부에 의한 기류에 의해 와류가 생성되는 영역으로 흡입되는 처리물의 양을 증가시킬 수 있으며, 처리물이 빠져나가는 것을 억제할 수 있어, 처리물의 집진효율이 향상되는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 집진장치를 개념적으로 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 집진장치의 흡입장치가 압연기의 상측에 설치된 예시를 도시한 도면이다.
도 3은 도 2의 덕트 및 흡입장치가 압연기의 상측에 위치된 상태를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 흡입기의 일부 구성 및 가스의 흐름을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 흡입기를 상측에서 바라본 평면도이다.
도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 가스 분사부에 가이드 부재가 설치된 상태를 도시한 입체도이다.
도 7은 복수의 가이드 부재의 곡률을 결정하는 방법에 대해 설명하기 위해, 흡입기의 상측에서 바라본 평면도이다.
도 8은 제1실시예의 제1변형예에 따른 흡입기의 가스 분사부 및 노즐을 도시한 도면이다.
도 9는 제1실시예의 제2변형예에 따른 흡입기의 가스 분사부 및 노즐을 도시한 도면이다.
도 10은 제1실시예의 제3변형예에 따른 흡입기의 가스 분사부 및 노즐을 도시한 도면이다.
도 11은 제1실시예의 제4변형예에 따른 흡입기의 가이드 부재를 설명하기 위한 도면이다.
도 12는 제1실시예의 제5변형예에 따른 흡입기의 하부부재를 설명하기 위한 도시한 도면이다.
도 13은 본 발명의 제2실시예에 따른 흡입기를 상측에서 바라본 평면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 본 발명의 실시예를 설명하기 위하여 도면은 과장될 수 있고, 도면상의 동일한 부호는 동일한 구성요소를 지칭한다.
본원발명은 흡입력이 영향을 미치는 영역을 증가시킴으로써, 집진효율을 향상시킬 수 있는 집진장치에 관한 것이다. 보다 상세하게 본원발명은 후드의 하측공간에 와류(vortex)를 형성시킬 수 있는 집진장치에 관한 것이다.
집진장치는 흡입력을 이용하여 분진 및 흄(fume) 등과 같은 오염물질을 흡입 또는 흡인하여 집진시키는 장치이다. 이러한 집진장치는 예컨대 제철소에 설치될 수 있다. 보다 구체적인 예로, 집진장치는 용강을 응고시켜 제조된 주편(slab)을 압연하는 압연기의 상측에 설치될 수 있다.
물론 집진장치의 설치 위치는 압연기에 한정되지 않고, 제철소 내에서 오염물질을 발생시키는 다양한 장치의 주위 또는 상기 장치가 설치된 구역에 설치될 수 있다.
또한, 집진장치의 설치 위치는 제철소에 한정되지 않고, 집진이 필요한 다양한 작업장에 설치될 수 있다. 예컨대, 집진장치는 석탄 화력발전소, 미곡 종합처리장, 시멘트 공장, 주물공장 등의 작업장에 설치될 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 집진장치를 개념적으로 도시한 도면이다. 도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 집진장치의 흡입장치가 압연기의 상측에 설치된 예시를 도시한 도면이다. 도 3은 도 2의 덕트 및 흡입장치가 압연기의 상측에 위치된 상태를 나타낸 도면이다. 도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 흡입기의 일부 구성 및 가스의 흐름을 도시한 도면이다. 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 흡입기를 상측에서 바라본 평면도이다.
이하, 도 1 내지 도 4를 참조하여 집진장치에 대해 설명한다. 이때, 집진장치를 이용하여 집진하고자 하는 오염물질을 처리물로 명명한다. 이 처리물은 고상의 입자들로 이루어진 분진 및 기체 상태의 흄(fume) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 처리물을 흡입시켜 집진시키고자 하는 구역 또는 영역을 처리구역이라 명명한다. 이에, 처리구역은 집진장치가 설치되는 위치 또는 구역으로 설명될 수 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 집진장치는 처리물이 통과할 수 있는 내부공간을 가지는 덕트(1000), 덕트(1000)에 연결되어 흡입력을 발생시키는 블로어(2000), 가스를 분사하는 복수의 가스 분사부(3210)가 마련된 흡입기(3200)를 구비하며, 덕트(1000)에 연결된 후드(3100)의 하측에 와류(vortex)를 형성시키는 흡입장치(3000)를 포함한다.
그리고, 집진장치는 후드(3100)와 블로어(2000) 사이에 위치하도록 덕트(1000)에 연결되고, 덕트(1000)를 통과하는 가스 또는 기체로부터 처리물을 집진 또는 포집하는 집진부(4000)를 포함한다.
덕트(1000)는 후드(3100) 내로 흡입된 처리물 및 기체를 통과시키는 통로이다. 여기서, 후드(3100) 내로 흡입되는 기체란, 집진장치 주위에 존재하는 대기 및 후술되는 흡입기(3200)로부터 분사된 가스 등의 기체 등을 포함하는 것일 수 있다.
덕트(1000)는 그 일단이 후드(3100)에 연결되고, 상기 후드(3100)로부터 연장 형성된다. 또한, 덕트(1000)는 후드(3100)와 연결된 일단 및 상기 일단의 반대 끝단인 타단이 개구되어 있다. 이에, 후드(3100) 내부로 흡입된 처리물은 덕트(1000)의 일단에 마련된 개구를 통해 유입되며, 집진부(4000)에 의해 처리물이 제거된 기체는 타단의 개구를 통해 외부로 배출된다.
블로어(2000)는 덕트(1000) 및 후드(3100)의 내부에 흡입력을 발생시키는 수단이다. 이러한 블로어(2000)는 덕트(1000)의 타단과 인접하도록 덕트(1000) 내부에 설치될 수 있다. 물론 이에 한정되지 않고, 블로어(2000)는 덕트(1000)의 외부에서 상기 덕트(1000)의 타단과 인접한 위치에 설치될 수 있다. 블로어(2000)는 예컨대, 회전 가능한 회전체, 회전체를 회전시키는 구동부, 회전체의 둘레 방향으로 나열되어 상기 회전체에 설치된 복수의 날개를 포함하는 수단일 수 있다. 여기서, 구동부는 예컨대 모터(motor)일 수 있다. 물론, 블로어(2000)는 상술한 예에 한정되지 않고, 가스를 송풍시킬 수 있는 다양한 수단의 적용이 가능하다.
집진부(4000)는 덕트(1000) 내부로 유입된 기체로부터 처리물을 제거하여 집진하는 수단이다. 즉, 집진부(4000)는 기체로부터 고체 입자인 분진 및 오염을 야기시키는 기체 상태의 흄(fume) 등을 분리시켜, 상기 분진 및 흄(fume)이 제거된 기체만을 통과시키는 수단일 수 있다. 이러한 집진부(4000)는 분진 및 흄이 통과되지 못하도록 하는 여과부를 포함하는 수단일 수 있다. 또한, 집진부(4000)는 이에 한정되지 않고 덕트(1000)로 유입된 기체로 액체 예컨대 물 또는 약액을 분무시켜, 기체로부터 분진 및 흄을 분리시키는 습식 집진부일 수 있다. 다른 예로, 집진부(4000)는 전기장을 이용하여 집진시키는 전기 집진부일 수 있다.
도 3을 참조하면, 흡입장치(3000)는 덕트(1000)의 일단에 연결된 후드(3100) 및 후드(3100)의 하측공간에 가스를 분사하는 복수의 가스 분사부(3210)를 구비하고, 후드(3100)의 하측에 위치된 흡입기(3200)를 포함한다. 또한, 흡입장치(3000)는 후드(3100) 내부에 위치되며 회전 가능한 블레이드(3310)(도 4 참조)를 가지는 팬(fan)(3300), 복수의 가스 분사부(3210) 각각에 가스를 공급하는 가스라인(3400) 및 가스라인(3400)과 가스 분사부를 연결하는 연결부(3500)를 포함한다.
흡입장치(3000)는 집진이 필요한 구역 즉, 처리구역에 위치하며, 덕트(1000)에 연결된다. 이때, 흡입장치(3000)는 도 2 및 3에 도시된 바와 같이 처리구역의 바닥 또는 처리구역에 설치되며 분진 및 흄과 같은 처리물을 발생시키는 장치 예컨대 압연기(30)의 상측으로 이격되게 설치된다. 이를 위해, 흡입장치(3000)는 도 2와 같이 처리구역에 위치하는 구조물(20) 상에 장착될 수 있다.
여기서, 압연기(30)는 제철분야에서 널리 알려진 장치로, 주편(10)의 하부를 지지하는 하부롤 및 하부롤과 마주보게 위치된 상부롤을 포함하는 수단일 수 있다. 그리고, 상부롤과 하부롤 중 적어도 하나가 승하강되어 상호간의 간격을 조절함으로써 주편(10)을 압연시키는 장치일 수 있다.
그리고, 흡입장치(3000)는 처리물을 흡입시키고자 하는 주 타겟 위치의 일측에 위치하도록 설치될 수 있다. 예를 들면, 주 타켓 위치를 압연기(30)라고 할 때, 흡입장치(3000)는 압연기(30)의 상측에서 상기 압연기(30)의 일측에 위치하도록 설치될 수 있다. 이때, 주편(10)이 압연기(30)로 이동하는 방향(Y축 방향)을 전방이라고 할 때, 흡입장치(3000)가 압연기(30)의 후방에 위치하도록 설치하는 것이 바람직하다. 보다 구체적으로, 후술되는 흡입기(3200)에 있어서 Y축 방향의 일 개방부(3240d)(도 3 참조)가 압연기(30)의 후방에 위치하도록 흡입장치(3000)를 설치하는 것이 바람직하다.
후드(3100)는 처리물이 통과할 수 있는 내부공간을 가지며, 덕트(1000)와 연결된 일단 및 흡입기(3200)를 향하는 타단이 개구되어 있다.
후드(3100)는 도 3에 도시된 바와 같이 상하방향으로 그 폭(또는 내경)이 동일한 형상일 수 있다. 즉, 후드(3100)의 일단 및 타단의 폭이 동일하고, 일단과 타단 사이에 폭 변화가 없는 형상일 수 있다. 그리고, 후드(3100)의 일단 및 타단 각각은 덕트(1000)의 일단과 동일하거나, 그 보다 작은 폭으로 마련될 수 있다. 이와 같이, 상하방향으로 그 폭(또는 내경)이 동일한 형상의 후드(3100)를 제1타입 후드라 명명한다.
후드(3100)는 상술한 제1타입 후드에 한정되지 않고, 덕트(1000)의 일단으로 갈수록 그 폭(또는 내경)이 감소하는 형상일 수 있다. 이때, 덕트(1000)와 연결되는 후드(3100)의 일단은 덕트(1000)의 일단과 동일한 크기로 마련될 수 있다. 그리고 덕트(1000)는 후드(3100)의 타단 중심에 위치하도록 상기 후드(3100)의 일단에 연결될 수 있다. 이와 같이, 타단으로부터 일단으로 갈수록 그 폭(또는 내경)이 감소하는 형상의 후드(3100)를 제2타입 후드라 명명한다.
후드(3100)는 상술한 바와 같은 제1타입 후드이거나, 제2타입 후드일 수 있다. 이때, 제1타입 후드를 사용하는 경우 제2타입 후드를 사용하는 경우에 비해 후드(3100)로 흡입되는 처리물의 양을 증가시킬 수 있다.
이는, 제2타입 후드의 경우, 폭 방향을 기준으로 후드(3100) 타단의 중심영역은 덕트(1000) 일단의 직하부 영역이기 때문에 흡입력이 강하지만, 후드(3100) 타단의 가장자리 영역은 덕트(1000) 일단의 외측에 위치된 영역이기 때문에 흡입력이 상대적으로 약하기 때문이다. 이에, 후드(3100) 내부의 중심영역에 있는 처리물은 덕트(1000)로 쉽게 빨려 들어가지만, 후드(3100) 내부의 가장자리 영역에 있는 처리물은 덕트(1000)로 빨려들어가지 못할 수 있다. 보다 구체적으로 설명하면, 후드(3100)의 일단 및 타단의 둘레방향으로 연장된 측벽이 후드(3100) 내부의 가장자리 영역에 있는 처리물의 이동 또는 유동을 방해하는 저항으로 작용한다. 이에, 후드(3100) 내 가장자리로 유입된 처리물이 덕트(1000)로 빨려들어가지 못하고 다시 후드(3100)의 타단을 통해 밖으로 배출될 수 있다.
반면, 제1타입 후드의 경우, 후드(3100) 내부의 중심영역과 가장자리 영역의 흡입력이 균일 또는 동일하다. 이는, 제1타입 후드의 경우, 상하방향으로 그 폭(또는 내경)이 동일한 형상이고, 후드(3100)의 일단 및 타단 각각은 덕트(1000)의 일단과 동일하거나, 그 보다 작은 폭으로 마련되기 때문이다. 따라서, 제1타입 후드를 사용하는 경우 제2타입 후드를 사용하는 경우에 비해 덕트(1000)로 흡입되는 처리물량을 증가시킬 수 있다.
이하에서는 설명의 편의를 위하여 후드(3100)의 타단 개구를 흡입구(3110)(도 3 참조)라 명명한다.
팬(fan)(3300)은 흡입력을 발생시키는 수단이다. 이러한 팬(3300)은 후드(3100) 내부에 위치하도록 설치된다. 보다 구체적으로, 팬(3300)은 후술하는 바디(3240)의 상부부재(3240a)에 마련된 개구(3241)와 동일 높이에 위치하면서 후드(3100) 내부에 수용되도록 설치될 수 있다. 또한, 팬(3300)은 후드(3100) 내경의 중심 및 상부부재(3240a)에 마련된 개구(3241)의 중심에 위치하도록 설치된다. 그리고, 팬(3300)은 그 회전 중심이 후드(3100) 하측에서 복수의 가스 분사부(3210)에 의해 둘러싸이는 공간과 동심을 이루도록 배치된다.
팬(3300)은 덕트(1000) 및 후드(3100) 내부에서 발생되는 흡입력 또는 부압에 의해 회전 동작될 수 있도록 마련될 수 있다. 즉, 블로어(2000)가 동작하면 덕트(1000) 및 후드(3100) 내부에 흡입력이 발생되는데, 이 흡입력에 의해 팬(3300)이 회전 동작할 수 있다. 이때, 팬(3300)의 회전 동작에 의한 흡입력이 추가로 더 발생된다. 즉, 블로어(2000)에 의한 흡입력 외에 팬(3300)에 의한 흡입력이 더 발생된다. 팬(3300)은 도 4와 같이 회전 가능한 회전체(3320) 및 회전체(3320)의 둘레 방향으로 나열되도록 상기 회전체(3320)에 장착된 복수의 블레이드(3310)를 포함하는 수단일 수 있다.
물론, 팬(3300)은 자체적으로 회전 가능하도록 마련될 수 있다. 즉, 팬(3300)은 회전체(3320)를 회전시키는 구동부를 포함할 수 있고, 구동부는 예컨대 모터(motor)를 포함하는 수단일 수 있다.
도 3 내지 도 5를 참조하면, 흡입기(3200)는 각각이 가스를 분사하는 노즐(3211)이 마련되고, 후드(3100)의 둘레방향으로 나열되어 이격 배치된 복수의 가스 분사부(3210) 및 이웃하게 배치된 두 개의 가스 분사부(3210) 사이에 위치하도록 복수의 가스 분사부(3210) 각각에 연결되며, 일측면이 복수의 가스 분사부(3210)에 의해 둘러싸인 공간 마주보도록 마련된 가이드 부재(3230)를 포함한다.
복수의 가스 분사부(3210)에 의해 둘러싸인 공간은 상기 복수의 가스 분사부(3210)로부터 분사되는 가스 및 팬(3300)의 회전에 의해 와류가 생성 또는 발생되는 공간이다. 따라서, 이하에서는 복수의 가스 분사부(3210)에 의해 둘러싸인 빈 공간을 와류 생성부(3220)라 명명한다.
또한, 흡입기(3200)는 후드(3100)의 흡입구(3110)와 마주보는 영역 및 측면에 개방부(이하, 제1개방부(3240d))를 가지고, 복수의 가스 분사부(3210) 및 복수의 가이드 부재(3230)를 수용할 수 있는 내부공간을 가지는 바디(3240)를 포함할 수 있다.
그리고, 바디(3240)의 내부공간 내의 가스 분사부(3210)의 외측에 위치되어 가스 분사부(3210)쪽으로 가스를 분사하는 보조 분사부(3250)를 더 포함할 수 있다.
도 3을 참조하면 바디(3240)는 상하방향으로 이격되어 마주보게 배치된 상부부재(3240a) 및 하부부재(3240b)를 포함한다. 또한, 바디(3240)는 각각이 상하방향으로 연장 형성되어 상부부재(3240a)와 하부부재(3240b) 사이를 연결하도록 설치되며, 상호 마주보게 배치된 한 쌍의 측부부재(3240c)를 포함한다. 이에, 바디(3240)는 상부부재(3240a), 하부부재(3240b) 및 한 쌍의 측부부재(3240c)에 의해 둘러싸인 내부공간을 가지는 형태가 된다. 그리고, 한 쌍의 측부부재(3240c)가 나열된 방향과 교차하는 방향의 양 측면이 개방된 형상이다.
이하에서는, 상부부재(3240a) 및 하부부재(3240b)의 연장방향 또는 한 쌍의 측부부재(3240c)가 나열된 방향을 제1방향(X축 방향)이라 하고, 제1방향과 교차하는 방향을 제2방향(Y축 방향)이라 정의한다. 그리고, 제1방향은 바디(3240), 후드(3100), 와류 생성부(3220)의 길이 방향, 제2방향은 바디(3240), 후드(3100), 와류 생성부(3220)의 폭 방향으로 명명될 수 있다.
상술한 제1 및 제2방향을 반영하여 바디(3240)에 대해 다시 설명하면, 바디(3240)는 각각이 제1방향으로 연장되게 형성되며 상하로 마주보게 배치된 상부부재(3240a) 및 하부부재(3240b)와, 각각이 상하방향(Z축 방향)으로 연장 형성되며, 제1방향으로 나열되어 마주보게 설치된 측부부재(3240c)를 포함한다. 이때, 한 쌍의 측부부재(3240c) 중 하나는 상부부재(3240a)의 일단과 하부부재(3240b)의 일단 사이를 연결하고, 다른 하나의 측부부재(3240c)는 상부부재(3240a)의 타단과 하부부재(3240b)의 타단 사이를 연결한다.
따라서, 바디(3240)는 상부부재(3240a) 및 하부부재(3240b)에 의해 상측 및 하측에 폐쇄되어 있고, 한 쌍의 측부부재(3240c)에 의해 제1방향의 양 측이 폐쇄되어 있다. 또한, 바디(3240)는 제2방향의 양 측이 개방되어 있는 형태가 된다. 이에, 바디(3240)는 제2방향의 양 측이 개방된 내부공간을 가지는 형태로 설명될 수 있다.
흡입장치(3000)는 제2방향을 기준으로 바디(3240)의 양 측 개방부 중, 일측의 개방부(이하, 제1개방부(3240d))가 압연기(30)의 후방에 위치하도록 설치한다. 다른 말로 설명하면, 바디(3240)의 제1개방부(3240d)가 타측의 개방부인 제2개방부(3240e)에 비해 압연기(30)와 인접하도록 설치된다.
이렇게 처리구역 즉, 압연기(30)의 후방에 위치된 바디(3240)의 제1개방부(3240d)는 압연기(30)로부터 발생되는 처리물을 바디(3240)의 내부 또는 와류 생성부(3220)로 유입시키는 입구 역할을 한다. 물론, 바디(3240)의 제2개방부(3240e)를 통해서도 바디(3240)의 내부로 처리물이 유입될 수 있다. 그러나, 제1개방부(3240d)가 처리물이 다량 발생되는 압연기(30)와 마주보면서 상대적으로 인접하게 위치하고 있기 때문에, 제1개방부(3240d)를 통해 바디(3240) 내부로 유입되는 처리물의 양이 제2개방부(3240e)를 통해 유입되는 량에 비해 상대적으로 많다. 따라서, 제1개방부(3240d)가 처리물이 유입되는 메인 입구인 것으로 설명될 수 있다.
상부부재(3240a)는 복수의 가스 분사부(3210)와 후드(3100) 사이에 위치되며, 그 하부에는 복수의 가스 분사부(3210)가 연결되고, 상부에는 후드(3100)가 연결된다. 이러한 상부부재(3240a)는 제1방향으로 연장된 판(plate) 형상일 수 있고, 예컨대 제1방향의 길이가 제2방향의 길이에 비해 긴 직사각형일 수 있다. 그리고, 상부부재(3240a)는 후드(3100)의 흡입구(3110) 및 와류 생성부(3220)에 비해 큰 면적을 가지도록 마련된다. 즉, 상부부재(3240a)는 제1 및 제2방향의 길이가 흡입구(3110) 및 와류 생성부(3220)에 비해 길게 마련된다. 그리고, 상부부재(3240a)는 제1 및 제2방향의 중심에 후드(3100) 및 와류 생성부(3220)가 위치되도록 설치된다. 또한, 상부부재(3240a)에는 후드(3100)가 연결되는 부위에 흡입구(3110)와 연통되는 개구(3241)가 마련되며, 이 개구(3241)는 와류 생성부(3220)의 상측에 마주보게 마련된다. 이에, 바디(3240) 내부공간의 상측은 후드(3100)의 흡입구(3110)가 위치된 영역을 제외한 나머지 영역이 상부부재(3240a)에 의해 폐쇄된다.
그리고, 상술한 바와 같이 후드(3100) 내부에 수용되도록 팬(3300)이 설치되는데, 이때 팬(3300)은 상부부재(3240a) 개구(3241)의 중심에 위치하도록 설치되는 것이 바람직하다. 즉, 상부부재(3240a)의 개구(3241)에 있어서 제1 및 제2방향의 중심에 위치하도록 팬(3300)을 설치한다. 이때, 상부부재(3240a)의 개구(3241)는 그 중심이 후드(3100)의 흡입구(3110) 중심과 일치하도록 마련되므로, 팬(3300)은 후드(3100)의 흡입구(3110) 중심에 위치될 수 있다. 또한, 상부부재(3240a) 및 후드(3100)는 와류 생성부(3220)의 중심과 일치되도록 설치되며, 이에 따라 팬(3300)의 중심 또는 팬(3300)의 회전 중심이 와류 생성부(3220)의 중심과 일치된다.
하부부재(3240b)는 상부부재(3240a)의 하측으로 이격되어 배치되며, 그 상부에 복수의 가스 분사부(3210)가 연결 또는 지지된다. 이러한 하부부재(3240b)는 상부부재(3240a)와 동일한 형상 및 크기로 마련될 수 있다. 즉, 하부부재(3240b)는 제1방향으로 연장된 판(plate) 형상일 수 있고 제1 및 제2방향의 길이가 상부부재(3240a)와 동일할 수 있다. 이에, 바디(3240) 내부공간의 하측은 하부부재(3240b)에 의해 폐쇄된다.
상술한 바와 같은 바디(3240)에 의하면, 바디(3240) 내부공간의 상측은 후드(3100)의 흡입구(3110)가 위치된 영역을 제외한 나머지 영역이 상부부재(3240a)에 의해 폐쇄되고, 내부공간의 하측은 하부부재(3240b)에 의해 폐쇄된다. 또한, 바디(3240)의 내부공간에 있어서 제1방향의 양 측은 한 쌍의 측부부재(3240c)에 의해 폐쇄된다. 이에, 와류 생성부(3220)에서 생성되는 와류는 상부부재(3240a)와 하부부재(3240b) 사이에서 상하방향으로 길게 연장되는 형태로 형성된다. 이때, 와류 생성부(3220)의 상측에는 후드(3100)가 위치되어 흡입력을 발생시키고, 하측에는 하부부재(3240b)가 위치되어 있으므로, 와류는 적어도 상부부재(3240a)와 하부부재(3240b) 사이에 갇히도록 생성될 수 있다. 즉, 와류가 상부부재(3240a)의 상측 또는 하부부재(3240b)의 하측으로 벗어나도록 생성되지 않고, 상부부재(3240a)와 하부부재(3240b) 사이에 생성된다.
하부부재(3240b)에는 처리물이 통과될 수 있는 홀(h)이 마련될 수 있다. 홀(h)은 하부부재(3240b)를 상하방향으로 관통하도록 마련된다. 홀(h)은 복수개로 마련되며, 복수의 홀(h)은 하부부재(3240b)의 전 면적에 걸쳐 고르게 분포하도록 마련되는 것이 바람직하다. 즉, 하부부재(3240b) 중, 와류 생성부(3220)와 마주보는 영역과, 그 나머지 영역 각각에 복수의 홀(h)이 마련된다.
하부부재(3240b)에 마련되는 홀(h)의 내경은 1mm 내지 50mm일 수 있다. 보다 구체적으로 하부부재(3240b) 중 와류 생성부(3220)와 마주보는 영역에 마련된 홀(이하, 제1홀(h1))은 그 내경이 1mm 내지 10mm, 바람직하게는 5mm 내지 10mm일 수 있다. 그리고, 와류 생성부(3220)의 외측에 위치되는 하부부재(3240b) 영역에 마련되는 홀(이하, 제2홀(h2))은 그 내경이 1mm 내지 50mm, 바람직하게는 20mm 내지 40mm 일 수 있다.
한편, 제1홀(h1)의 내경이 10mm를 초과하는 경우, 제1홀(h1)을 통해 외기의 유입이 용이해져 상부부재(3240a)와 하부부재(3240b) 사이에 형성된 와류의 유지가 어려울 수 있다. 또한, 제2홀(h2)의 내경이 50mm를 초과하는 경우 제2홀(h2)을 통한 외기의 유입량이 많고, 이 외기가 와류 생성부(3220)로 유입되어 와류가 유지되는 것을 방해할 수 있다. 제1 및 제2홀(h1, h2)의 내경이 1mm 미만인 경우, 미립자 분진의 유입이 어려울 수 있고, 이에 집진효율이 떨어질 수 있다.
이와 같이, 하부부재(3240b)에 홀(h)이 마련되는 경우, 바디(3240)의 내부공간 하측은 완전하게 폐쇄되지는 않는다. 그러나, 하부부재(3240b)에 마련된 홀(h)은 처리물은 유입시키면서 외기에 의해 와류가 무너지지 않고 유지될 수 있도록, 상술한 바와 같은 내경으로 조절한다. 이에, 상부부재(3240a)와 하부부재(3240b) 사이에 와류를 형성시킬 수 있다.
가스 분사부(3210)는 후드(3100)의 하측 공간에 회전기류 또는 와류(vortex)를 생성시키기 위한 가스를 바디(3240)의 내부공간으로 분사한다. 여기서, 가스는 예컨대 에어(air)일 수 있다. 물론, 가스는 에어(air)에 한정되지 않고, 다양한 기체가 사용될 수 있다.
가스 분사부(3210)는 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 상하방향으로 연장된 형상이며, 가스의 이동 또는 통과가 가능한 내부공간을 가진다. 그리고, 가스 분사부(3210)에는 가스를 외부로 분사하는 노즐(3211)이 마련된다. 노즐(3211)은 복수개 마련되고, 복수의 노즐(3211)은 가스 분사부(3210)의 연장 방향 즉, 상하방향으로 나열되도록 마련된다.
가스 분사부(3210)는 복수개로 마련되며, 복수의 가스 분사부(3210)는 도 3 및 도 5에 도시된 바와 같이 바디(3240)의 내부공간에서 후드(3100)의 둘레방향으로 나열되게 배치된다.
복수의 가스 분사부(3210)가 후드(3100)의 둘레방향으로 나열된다는 것은, 후드(3100)의 형상으로 나열된다는 의미는 아니며, 복수의 가스 분사부(3210)가 후드(3100)의 폭 또는 길이방향 중심의 둘레방향으로 나열된다는 의미일 수 있다. 즉, 가스 분사부(3210)는 도 4 및 도 5와 같이 한 지점(이하, 기준위치(Ps))을 중심으로 하고, 상기 중심으로부터 소정거리 이격되도록 설치된다. 여기서, 기준위치(Ps)은 후드(3100)의 중심 또는 후드(3100) 내에 설치된 팬(3300)의 회전중심 또는 팬(3300)을 구성하는 회전체(3320)의 중심일 수 있다.
이에, 복수의 가스 분사부(3210) 배치의 기준이 되는 기준위치(Ps)와, 후드(3100)의 중심, 팬(3300)의 회전중심에 대해 동일 도면부호 Ps를 사용하여 설명한다.
복수의 가스 분사부(3210)를 후드(3100)의 둘레방향으로 나열되게 배치하는데 있어서, 복수의 가스 분사부 각각과 기준위치(PS) 간의 이격 거리가 동일하도록 배치될 수 있다. 물론, 복수의 가스 분사부 각각과 기준위치(PS) 간의 이격거리가 다르게 마련될 수도 있다.
그리고, 복수의 가스 분사부(3210)는 도 3과 같이 후드(3100)의 흡입구(3110) 수평방향 외측에 위치하도록 설치된다. 즉, 제1 및 제2방향을 기준으로, 복수의 가스 분사부(3210)가 후드(3100)의 흡입구(3110) 외측에 위치된다. 이에, 복수의 가스 분사부(3210)에 의해 둘러싸이는 공간이며, 와류가 생성되는 공간인 와류 생성부(3220)가 후드(3100)의 하측에 마련된다.
와류 생성부(3220)의 전체적인 형태는 복수의 가스 분사부(3210)의 배치 및 간격에 따라 달라질 수 있다. 예컨대, 가스 분사부(3210)는 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이 4 개로 마련될 수 있다. 그리고, 4 개의 가스 분사부(3210: 3210a 내지 3210d)의 배치 형태가 사각형이 되도록 위치시킬 수 있다. 즉, 도 5에 도시된 바와 같이 제1가스 분사부(3210a)와 제2가스 분사부(3210b)가 제2방향(Y축 방향)으로 나열되고, 제1 및 제2가스 분사부(3210a, 3210b)와 제3 및 제4가스 분사부(3210c, 3210d)가 제1방향(X축 방향)으로 나열될 수 있다. 이때, 제3가스 분사부(3210c)와 제4가스 분사부(3210d)는 제2방향(Y축 방향)으로 나열되어 있다. 그리고, 제1방향을 기준으로 제1가스 분사부(3210a)와 제2가스 분사부(3210b)의 위치가 동일하고, 제3가스 분사부(3210c)와 제4가스 분사부(3210d)의 위치가 동일할 수 있다. 또한, 제2방향을 기준으로 제1가스 분사부(3210a)와 제4가스 분사부(3210d)의 위치가 동일하고, 제2가스 분사부(3210b)와 제3가스 분사부(3210c)의 위치가 동일할 수 있다. 그리고, 제1가스 분사부(3210a)와 제2가스 분사부(3210b) 간의 이격거리 및 제3가스 분사부(3210c)와 제4가스 분사부(3210d) 간의 이격거리는 제1가스 분사부(3210a)와 제4가스 분사부(3210d) 간의 이격거리 및 제2가스 분사부(3210b)와 제4가스 분사부(3210d) 간의 이격거리에 비해 짧도록 배치될 수 있다.
이에, 제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d)가 이루는 형태가 도 5에 도시된 바와 같이 직사각형일 수 있다. 보다 구체적으로 기준위치(PS)를 거치치 않게, 제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d) 각각의 상단 중심을 연결한 형태가 직사각형일 수 있다. 따라서, 제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d)에 의해 둘러싸인 공간 즉, 와류 생성부(3220)는 그 단면의 형상이 직사각형이 된다.
이와 같이, 제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d)의 배치 형태가 직사각형이 되도록 하는 것은, 배치 형태가 정사각형일 때에 비해 주위의 장치 또는 구조물과 간섭이 없거나 최소시켜 흡입기(3200)를 설치하는데 유리하기 때문이다.
이하, 복수의 가스 분사부(3210)의 배치에 대해 보다 구체적으로 설명한다. 이때, 4 개의 가스 분사부(3210)를 구비하고, 가스 분사부(3210)의 배치 형태가 직사각형인 경우를 예를 들어 설명한다.
제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d) 각각에는 노즐(3211: 3211a 내지 3211d)이 마련되고, 가이드 부재(3230: 3230a 내지 3230d)가 마련된다. 이하 설명의 편의를 위하여 제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d) 각각에 마련된 노즐을 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)로 명명한다. 그리고, 제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d) 각각에 연결된 가이드 부재를 제1 내지 제4가이드 부재(3230a 내지 3230d)로 명명한다.
제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)은 서로 다른 방향을 향하고, 서로 마주보지 않도록 제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d)를 설치한다. 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각은 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 가스 분사부(3210a 내지 3210d)로부터 외측으로 돌출된 형상의 관 형태일 수 있다. 즉, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각은 가스가 통과할 수 있는 통로가 마련된 파이프(pipe) 형상일 수 있다.
이때, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각의 연장길이는 0mm 초과, 100mm 이하일 수 있고, 바람직하게는 10mm 내지 20mm(10mm 이상, 20mm 이하)일 수 있다.
한편, 예를 들어 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각의 연장길이가 100mm를 초과하는 경우 가이드 부재(3230a 내지 3230d)와 간섭되는 문제가 발생될 수 있다.
그리고, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각의 내경은 3mm 내지 10mm(3mm 이상, 10mm 이하)일 수 있고, 보다 바람직하게는 5mm 내지 8mm(5mm 이상, 8mm 이하)일 수 있다.
한편 예를 들어 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각의 내경이 3mm 미만인 경우 분사되는 가스의 유량이 작아 와류 형성이 어렵거나, 막힘이 발생될 수 있다. 그리고 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각이 복수개로 마련되기 때문에, 이들의 내경을 10mm를 초과하도록 마련할 필요는 없다.
또한, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각은 가스 분사부(3210a 내지 3210d)와 이루는 각도가 수직일 수 있다. 다른 말로 설명하면, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각은 하부부재(3240b)와 평행하게 설치될 수 있다. 이에, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각에서 토출되는 가스는 하부부재(3240b)와 평행 또는 0°일 수 있다. 이에 대해 다른 말로 설명하면 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각은 일단과 타단의 높이가 동일할 수 있다.
또한, 이러한 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각은 가스가 토출되는 끝단(타단)이 가이드 부재(3230a 내지 3230d)와 마주볼 수 있도록 마련된다. 보다 구체적인 설명을 위해, 노즐(3211) 중, 가스 분사부(3210)에 연결된 일단과 상기 일단의 반대 끝단인 타단을 연결한 연장선을 노즐 연장선이라 명명한다. 이를 반영하여 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)의 위치에 대해 다시 설명하면, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각은, 도 5에 도시된 바와 같이, 각 노즐 연장선(L1 내지 L4)이 각 가스 분사부(3210a 내지 3210b)에 설치된 가이드 부재(3230a 내지 3230d)의 내면을 향할 수 있도록 또는 내면에 연결될 수 있도록 마련한다. 보다 더 구체적으로, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각의 노즐 연장선(L1 내지 L4)이 가이드 부재(3230a 내지 3230d) 내면의 선단(또는 타단)과 연결될 수 있도록 한다. 다른 말로 설명하면, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각의 노즐 연장선(L1 내지 L4)이 가이드 부재(3230a 내지 3230d) 내면의 선단과 연결될 수 있도록 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)을 마련한다.
도 5를 참조하여 보다 구체적으로 설명하기 위해, 기준위치(Ps)를 지나지 않도록 제1 내지 제4가스 분사부(3210a 내지 3210d)의 상단을 연결하여 마련된 사각형 도형의 4 개의 변을 제1 내지 제4변(S1 내지 S4)으로 명명한다. 그리고, 제1가스 분사부(3210a)와 제2가스 분사부(3210b)를 연결하는 변을 제1변(S1), 제2가스 분사부(3210b)와 제3가스 분사부(3210c)를 연결하는 변을 제2변(S2), 제3가스 분사부(3210c)와 제4가스 분사부(3210d)를 연결하는 변을 제3변(S3), 제4가스 분사부(3210d)와 제1가스 분사부(3210a)를 연결하는 변을 제4변(S4)이라 명명한다.
도 5를 참조하면, 제1노즐(3211a)은 그 노즐 연장선(L1)이 제1가이드 부재(3230a) 선단의 내면과 연결되면서, 제1변(S1)과 교차하도록 설치되고, 제2노즐(3211b)은 그 노즐 연장선(L2)이 제2가이드 부재(3230b) 선단의 내면과 연결되면서, 제2변(S2)과 교차하도록 설치된다. 또한, 제3노즐(3211c)은 그 노즐 연장선(L3)이 제3가이드 부재(3230c) 선단의 내면과 연결되면서, 제3변(S3)과 교차하도록 설치되고, 제4노즐(3211d)은 그 노즐 연장선(L4)이 제4가이드 부재(3230d) 선단의 내면과 연결되면서, 제4변(S4)과 교차하도록 설치된다. 그리고, 이때 제1노즐(3211a)은 가스를 분사하는 타단이 제2변(S2)을 향하고, 제3노즐(3211c)은 가스를 분사하는 타단이 제4변(S3)을 향하도록 설치될 수 있다.
이와 같이 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)의 배치를 조정하는 것은, 상기 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)로부터 토출되는 가스에 의한 회전기류를 형성하기 위함이다. 보다 구체적으로는, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)로부터 토출되는 가스에 의해 원형 또는 타원형 형태의 회전기류를 형성시키기 위함이다.
한편, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d) 각각을 그 노즐 연장선(L1 내지 L4)이 제1 내지 제4변(S1 내지 S4)과 나란하도록 배치하는 방법이 있을 수 있다. 다시 말해, 제1노즐(3211a)은 그 연장선(L1)이 제1변(S1)과 나란하고, 제2노즐(3211b)은 그 연장선(L2)이 제2변(S2)과 나란하며, 제3노즐(3211c)은 그 연장선(L3)이 제3변(S3)과 나란하고, 제4노즐(3211d)은 그 연장선(L]4)이 제4변(S4)과 나란하도록 할 수 있다.
그러나, 복수의 가스 분사부(3210)가 나열된 배치 형태에 있어서, 이웃하여 배치된 가스 분사부 사이의 이격거리가 일부 다른 다각형인 경우, 제1 내지 제4변(S1 내지 S4)과 나란하도록 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)이 배치되면, 회전기류가 형성될 수 없거나, 형성되기 어렵다.
여기서, 이웃하여 배치된 가스 분사부 사이의 이격거리가 일부 다른 다각형이라는 것은, 가로세로 비(종횡비)가 1 미만 또는 1을 초과한다는 의미일 수 있다.
이에, 복수의 가스 분사부(3210a 내지 3210d) 배치 형태의 가로세로 비가 1 미만 또는 1을 초과하는 다각형인 경우, 그 노즐 연장선(L1 내지 L4) 각각이 제1 내지 제4가이드 부재(3230a 내지 3230d) 부재 내면과 연결될 수 있도록 복수의 노즐(3211a 내지 3211d)의 위치를 조정한다. 이에 따라, 복수의 노즐(3211a 내지 3211d)은 그 노즐 연장선(L1 내지 L4)이 복수의 가스 분사부(3210a 내지 3210d)를 연결하는 변(S1 내지 S4)과 교차될 수 있다.
한편, 상술한 바와 같이 제1노즐(3211a)은 그 타단이 제2변(S2)을 향하고, 제3노즐(3211c)은 그 타단이 제4변(S4)을 향하도록 배치된다. 이에, 제1노즐(3211a)로부터 토출된 가스는 제2노즐(3211b)로부터 토출된 가스와 간섭 또는 충돌될 수 있고, 제3노즐(3211c)로부터 토출된 가스는 제4노즐(3211d)로부터 토출된 가스와 간섭 또는 충돌될 수 있다. 이러한 가스의 간섭은 회전기류 형성을 방해하는 요인으로 작용될 수 있다. 이에, 복수의 가스 분사부(3210)만으로는 안정적인 회전기류의 형성이 어려울 수 있고, 이에 따라 와류의 생성이 어려울 수 있다.
또한, 복수의 가스 분사부(3210)가 상호 이격되어 위치되므로, 와류 생성부(3220)는 가스 분사부(3210) 사이의 이격공간을 통해 노출되어 있다. 이에, 와류 생성부(3220) 외측의 외기가 가스 분사부(3210) 사이의 이격 공간을 통해 와류 생성부(3220) 내부로 유입될 수 있다. 이때, 와류 생성부(3220)에 와류가 생성되어 있는 상태인 경우, 유입된 외기에 의해 와류가 유지되지 않을 수 있다. 즉, 복수의 가스 분사부(3210)로부터 분사된 가스의 흐름이 외기와 충돌하게 되면 가스가 회전 유동하지 않게 되고, 이에 따라 와류가 유지되지 못할 수 있다. 이러한 경우, 와류에 의한 흡입력이 약하여 분진을 흡입시키기 어렵거나, 집진효율이 저하될 수 있다.
따라서, 복수의 가스 분사부(3210)로부터 분사된 가스에 의해 회전기류를 안정적으로 생성시키고, 와류 생성부(3220)로 외기가 유입되는 것을 억제하기 위해, 상술한 바와 같이 복수의 가스 분사부(3210) 각각에 가이드 부재(3230)를 설치한다.
도 6은 본 발명의 제1실시예에 따른 가스 분사부에 가이드 부재가 설치된 상태를 도시한 입체도이다.
가이드 부재(3230)는 도 3, 도 4 및 도 6에 도시된 바와 같이, 가스 분사부(3210)의 연장방향 즉, 상하방향으로 연장 형성된다. 가이드 부재(3230)의 상하방향 연장길이는 다양하게 변경될 수 있다. 도 6의 제1가스 분사부(3210a) 및 제1가이드 부재(3230a)를 예를 들어 설명하면, 제1가이드 부재(3230a)의 상하방향으로의 연장길이는 도 6에 도시된 바와 같이 제1가스 분사부(3210a)에 비해 짧거나, 제1가스 분사부(3210a)와 동일할 수 있다. 즉, 제1가이드 부재(3230a)의 상하방향 길이는 가스 분사부의 100% 이하일 수 있다. 그리고, 제1가이드 부재(3230a)의 상하방향 길이가 제1가스 분사부(3210a)에 비해 짧을 경우, 제1가이드 부재(3230a) 의 상하방향 길이는 제1가스 분사부(3210a)의 30% 이상, 100% 미만일 수 있다. 도 6은 제1가이드 부재(3230a) 의 상하방향 길이가 가스 분사부의 90% 이상, 100% 미만인 예를 도시한 것이다. 이때, 제1가이드 부재(3230a) 는 그 상하방향 중심이 제1가스 분사부(3210a)의 상하방향 중심에 위치하도록 설치될 수 있다. 여기에서는 제1가이드 부재의 상하방향 길이에 대해서만 설명하였지만, 제2 내지 제4가이드 부재(3230b 내지 3230d)의 상하방향의 길이도 제2 내지 제4가스 분사부(3210b 내지 3210d)의 30% 이상, 100% 이하로 마련된다.
이와 같은 가이드 부재(3230)는 도 5에 도시된 바와 같이 이웃하게 배치된 두 개의 가스 분사부 사이의 적어도 일부에 위치하도록 가스 분사부(3210)에 연결된다.
그리고, 가이드 부재(3230)는 곡률을 가지도록 형성될 수 있다. 보다 구체적인 설명하면, 가이드 부재(3230) 중 와류 생성부(3220)와 마주보는 면을 일측면(또는 내면), 상기 일측면의 반대쪽 면을 타측면(또는 외면)이라고 할 때, 일측면이 오목한 형상이 되도록 마련될 수 있다. 즉, 가이드 부재(3230)는 그 일측면이 오목한 형상이 되도록 이웃하게 배치된 두 가스 분사부 사이에서 휘어지게 마련될 수 있다. 가이드 부재(3230)가 곡률을 가지도록 또는 일측면이 오목면이 되도록 마련하는 것은 복수의 가스 분사부(3210)로부터 분사된 가스로 회전기류를 형성하는데 있어서, 회전기류의 형성이 보다 용이하도록 하기 위함이다. 가이드 부재(3230)의 곡률 또는 형상에 대한 상세한 설명은 이후에 다시 하기로 한다.
가이드 부재(3230)는 복수개로 마련되며, 복수의 가스 분사부(3210) 각각에 연결된다. 보다 구체적인 예를 들어 설명하면, 도 5에 도시된 바와 같이 제1가이드 부재(3230a)는 제1가스 분사부(3210a)와 제2가스 분사부(3210b) 사이에 위치하도록 그 일단이 제1가스 분사부(3210a)에 연결되고, 제2가이드 부재(3230b)는 제2가스 분사부(3210b)와 제3가스 분사부(3210c) 사이에 위치하도록 그 일단이 제2가스 분사부(3210b)에 연결된다. 또한, 제3가이드 부재(3230c)는 제3가스 분사부(3210c)와 제4가스 분사부(3210d) 사이에 위치하도록 그 일단이 제3가스 분사부(3210c)에 연결되고, 제4가이드 부재(3230d)는 제4가스 분사부(3210d)와 제1가스 분사부(3210a) 사이에 위치하도록 그 일단이 제4가스 분사부(3210d)에 연결된다.
그리고, 이때 제1 내지 제4가이드 부재(3230a 내지 3230d)는 노즐(3211a 내지 3211d)이 와류 생성부(3220) 외부로 노출되지 않도록 상기 노즐(3211a 내지 3211d)을 커버하도록 위치된다. 즉, 와류 생성부(3220)의 중심 또는 팬(3300)의 중심을 기준으로, 제1 내지 제4가이드 부재(3230a 내지 3230d) 각각의 일단이 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)에 비해 상기 중심과 멀리 위치하도록 마련된다. 다른 말로 설명하면, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)이 제1 내지 제4가이드 부재(3230a 내지 3230d) 각각의 일단에 비해 와류 생성부(3220)의 중심 또는 팬의 중심과 인접하도록 마련된다.
또한, 각 가이드 부재(3230a 내지 3230d)의 타단(선단)은 마주보는 가스 분사부와 이격되게 설치된다. 이에 가이드 부재(3230)와 마주보는 가스 분사부 사이에 틈이 발생된다. 구체적인 예를 들어 설명하면, 도 5와 같이 제1가이드 부재(3230a)의 타단은 제2가스 분사부(3210b)와 이격되고, 제2가이드 부재(3230b)의 타단은 제3가스 분사부(3210c)와 이격되며, 제3가이드 부재(3230c)의 타단은 제4가스 분사부(3210d)와 이격되고, 제4가이드 부재(3230d)의 타단은 제1가스 분사부(3210a)와 이격된다. 따라서, 제1가이드 부재(3230a) 타단과 제2가스 분사부(3210b) 사이, 제2가이드 부재(3230b) 타단과 제3가스 분사부(3210c) 사이, 제3가이드 부재(3230c) 타단과 제4가스 분사부 사이, 제4가이드 부재(3230d) 타단과 제1가스 분사부(3210a) 사이에 틈이 마련된다.
이와 같이, 이웃하게 배치된 두 개의 가스 분사부 사이에 가이드 부재(3230)가 위치됨에 따라, 가스 분사부(3210) 사이의 이격공간의 적어도 일부가 가이드 부재(3230)에 의해 폐쇄된다. 다른 말로 설명하면, 와류 생성부(3220) 중, 적어도 가이드 부재(3230)와 마주보는 영역은 노출되지 않고 상기 가이드 부재(3230)에 의해 커버된다. 이렇게 와류 생성부(3220)를 커버하도록 마련된 복수의 가이드 부재(3230)는 외기가 와류 생성부(3220)로 유입되는 것을 차단 또는 차폐하는 역할을 한다. 즉, 가이드 부재(3230)는 외기의 이동을 저지시켜, 와류 생성부(3220)로 유입되는 것을 억제시킨다. 따라서, 와류 생성부(3220) 내에 와류를 보다 안정적으로 유지시킬 수 있다.
그리고, 상술한 바와 같이, 가이드 부재(3230)를 그 일단 및 타단이 이웃하게 배치된 두 개의 가스 분사부(3210) 각각에 연결시키지 않고, 타단과 가스 분사부(3210) 사이에 틈이 마련되도록 하였다. 이 틈은 와류 생성부(3220) 외측의 처리물이 상기 와류 생성부(3220)로 유입시키기 위한 것이다. 즉, 가이드 부재(3230)가 이웃하게 배치된 두 가스 분사부(3210)를 연결하도록 설치되어, 두 가스 분사부(3210) 사이의 이격 공간을 완전히 폐쇄하는 경우, 외측의 처리물이 와류 생성부(3220)로 유입되기 어렵다. 이에 따라, 처리물의 집진효율이 저하될 수 있다. 따라서, 가이드 부재(3230)와 가스 분사부(3210) 사이에 틈을 마련하여 처리물이 유입될 수 있도록 한다.
이와 같이 가이드 부재(3230)는 회전기류가 보다 쉽게 형성되게 하고, 외측의 처리물을 와류 생성부(3220)로 유입시키면서도 와류가 유지되도록 외기의 유입을 차단한다.
도 7은 복수의 가이드 부재의 곡률을 결정하는 방법에 대해 설명하기 위해, 흡입기의 상측에서 바라본 평면도이다.
가이드 부재(3230)는 그 일측면이 오목한 형상이 되도록 마련될 수 있다. 이렇게 가이드 부재(3230)의 일측면이 곡률을 가지도록 마련하는 것은, 상술한 바와 같이 복수의 가스 분사부(3210)로부터 분사되는 가스에 의해 가스가 원형으로 회전하는 회전기류가 생성되도록 하기 위함이다. 즉, 복수의 가스 분사부(3210) 각각으로부터 분사되는 가스의 흐름을 연결시켰을 때, 그 형상이 원형 또는 타원형이 되도록 하기 위함이다.
복수의 가스 분사부(3210) 각각으로부터 가스가 분사되면, 코안다 효과(coanda effect)에 의해 가스가 가이드 부재(3230)의 일측면을 따라 흐를 수 있다. 이때, 복수의 가이드 부재(3230)는 이웃하게 배치된 두 개의 가스 분사부(3210) 사이에 위치되고, 그 일측면이 곡면으로 마련되므로, 가스가 복수의 가이드 부재(3230)의 일측면을 따라 흐름에 따라 회전기류가 형성된다. 즉, 가스가 원형 또는 타원형으로 선회하는 회전기류가 형성된다.
일측면이 오목면이 되도록 곡률을 가지는 형상으로 가이드 부재(3230: 3230a 내지 3230d)를 마련하는데 있어서, 일측면을 따라 형성되는 원(C21 내지 C24)이 팬(3300)의 회전으로 형성되는 원(C1)과 외접할 수 있는 형상이 되도록 마련한다.
여기서, 팬(3300)의 회전으로 형성되는 원(C1)이란, 팬(3300)의 회전 반경에 의해 결정되는 것일 수 있다. 즉, 팬(3300)의 블레이드(3310) 중 회전체(3320)와 연결된 일단의 반대 끝단인 타단과 팬(3300)의 회전체(3320)의 중심(Ps) 간의 거리를 반지름으로 하는 원(제1원(C1))으로 한다.
또한, 가이드 부재(3230: 3230a 내지 3230d)의 일측면을 따라 원(C21 내지 C24)을 형성한다는 것은, 가이드 부재(3230: 3230a 내지 3230d)의 일측면이 원둘레(원호)의 일부가 되도록 원(이하, 제2원(C21 내지 C24))을 그린다는 의미일 수 있다.
이에, 가이드 부재(3230: 3230a 내지 3230d)를 마련하는데 있어서, 제2원(C21 내지 C24)이 제1원(C1)과 외접될 수 있도록 가이드 부재(3230)의 곡률 또는 형상을 결정한다.
이하, 도 7의 (a) 내지 (d)를 참조하여, 제1 내지 제4가이드 부재(3230a 내지 3230d)를 마련하는 방법에 대해 순차적으로 설명한다.
제1가이드 부재(3230a)는 도 7의 (a)와 같이 그 일측면을 따라 형성되는 제2원(C21)이 제1원(C1)과 외접할 수 있는 형상이 되도록 또는 곡률을 가지도록 마련된다.
그리고, 제3가스 분사부(3210c)에 연결된 제3가이드 부재(3230c)는 제1가이드 부재(3230a)와 대칭을 이루도록 마련될 수 있다. 즉, 제3가이드 부재(3230c)는 도 7의 (b)와 같이 그 일단이 제3가스 분사부(3210c)에 연결되며, 그 일측면을 따라 형성되는 제2원(C23)이 제1원(C1)과 외접할 수 있는 형상이 되도록 마련된다. 이때, 제3가이드 부재(3230c)에 의한 제2원(C23)이 제1원(C1)과 외접하는 위치는 제1가이드 부재(3230a)에 의한 제2원(C21)과 제1원(C1)이 외접되는 위치와 마주보는 위치일 수 있다.
제2가이드 부재(3230b)는 도 7의 (c)와 같이 그 일단이 제2가스 분사부(3210b)에 연결되며, 그 일측면을 따라 형성되는 제2원(C22)이 제1원(C1)과 외접할 수 있는 형상이 되도록 마련된다. 이때, 제2가이드 부재(3230b)에 의한 제2원(C22)과 제1원(C1)이 외접하는 위치는 제1 및 제3 가이드 부재(3230a, 3230c)에 의한 제2원(C21, C23)과 제1원(C1)이 외접하는 위치와 상이할 수 있다.
그리고, 제4가스 분사부(3210d)에 연결된 제4가이드 부재(3230d)는 제2가이드 부재(3230b)와 대칭을 이루도록 마련될 수 있다. 즉, 제4가이드 부재(3230d)는 도 7의 (d)와 같이 그 일단이 제4가스 분사부(3210d)에 연결되며, 그 일측면을 따라 형성되는 제2원(C24)이 제1원(C1)과 외접할 수 있는 형상이 되도록 마련된다. 이때, 제4가이드 부재(3230d)에 의한 제2원(C24)이 제1원(C1)과 외접하는 위치는 제2가이드 부재(3230b)에 의한 제2원(C22)과 제1원(C1)이 외접되는 위치와 마주보는 위치일 수 있다.
그리고 도 7의 (d)에 도시된 바와 같이 복수의 가이드 부재(3230a 내지 3230d)의 길이는 다를 수 있다. 즉, 이격거리가 상대적으로 짧은 가스 분사부(3210) 사이에 설치되는 제1 및 제3 가이드 부재(3230a, 3230c)의 연장 길이는 이격거리가 상대적으로 긴 가스 분사부(3210) 사이에 설치되는 제2 및 제4 가이드 부재(3230b, 3230d)에 비해 길게 마련되는 것이 바람직하다.
이와 같이 이격거리가 상대적으로 짧은 가스 분사부(3210) 사이에 설치되는 가이드 부재(3230)의 연장길이가 길도록 마련하는 것은, 가이드 부재(3230)의 일측면을 따라 가스가 흘러 인접 또는 이웃하여 위치된 다른 가이드 부재(3230)로 전달되는데 있어서, 그 가스의 전달이 상대적으로 용이하기 때문이다. 즉, 이격거리가 긴 가스 분사부(3210) 사이에 마련된 가이드 부재(3230)를 길게 마련하더라도, 가스 분사부(3210) 사이의 이격 거리가 이미 멀기 때문에, 가이드 부재(3230) 간의 거리가 멀다. 예를 들어 설명하면, 제2가이드 부재(3230b)의 길이를 제1가이드 부재(3230a)와 동일하도록 길게 마련 하더라도, 제2가스 분사부(3210b)와 제3가스 분사부(3210c) 사이의 이격거리가 이미 멀고, 이에 제2가이드 부재(3230b)와 제3가이드 부재(3230c) 간의 이격 거리가 멀다. 따라서, 제2가이드 부재(3230b)의 길이를 제1가이드 부재(3230a)의 길이와 동일하게 하더라도, 제2가이드 부재(3230b)를 따라 흐르는 가스가 제3가이드 부재(3230c)로 전달되는 양은 제1가이드 부재(3230a)를 따라 흐르는 가스가 제2가이드 부재(3230b)로 전달되는 양에 비해 작을 수 있다.
하지만, 상호간의 이격거리가 짧은 가스 분사부 사이에 마련된 가이드 부재(3230)를 길게 마련하는 경우, 가이드 부재(3230) 간의 거리가 가깝기 때문에 가스의 전달이 보다 용이하다.
그리고, 제1가스 분사부(3210a)와 제4가스 분사부(3210d) 사이의 이격공간은 바디(3240)의 제1개방부(3240d)와 마주보는 공간이다. 이에, 이격거리가 먼 제1가스 분사부(3210a)와 제4가스 분사부(3210d) 사이에 위치되는 제4가이드 부재(3230d)의 길이를 길게 하는 경우, 처리물의 유입량이 감소되어 집진효율이 저감될 수 있다. 마찬가지로, 이격거리가 먼 제2가스 분사부(3210b)와 제3가스 분사부(3210c) 사이의 이격공간 역시, 바디(3240)의 제2개방부(3240e)와 마주보는 공간이다. 이에, 제2가스 분사부(3210b)와 제3가스 분사부(3210c) 사이에 위치되는 제2가이드 부재(3230b)의 길이를 길게 하는 경우, 처리물의 유입량이 감소되어 집진효율이 저감될 수 있다.
또한, 서로 다른 길이를 가지며 이웃하여 위치된 두 가이드 부재에 있어서, 상기 두 가이드 부재의 위치가 일부 겹치면서, 상호 간의 타단의 위치가 서로 다르도록 마련된다. 즉, 연장길이가 긴 가이드 부재와 연장길이가 짧은 가이드 부재는 그 일부영역의 위치가 겹치도록 마련된다. 또한, 상대적으로 연장길이가 짧은 가이드 부재의 타단이 겹치는 영역 밖으로 돌출되게 연장 형성된다.
보다 구체적인 설명을 위해, 가이드 부재의 일단으로부터 타단으로의 방향을 전방으로 정의한다. 이때, 서로 다른 길이를 가지며 이웃하여 위치된 두 가이드 부재에 있어서, 길이가 긴 가이드 부재의 타단 길이가 짧은 가이드 부재의 타단의 후방에 위치하도록 마련된다.
제1 및 제2가이드 부재(3230a, 3230b)를 예를 들어 설명하면, 제1방향을 기준으로 제1가이드 부재(3230a)의 타단은 제2가이드 부재(3230b)의 타단에 비해 후방에 위치된다. 그리고, 제1가이드 부재(3230a)에 있어서, 그 타단으로부터 제2가이드 부재(3230b)의 일단과 마주보는 위치까지의 영역은 상기 제2가이드 부재(3230b)와 그 위치가 겹친다. 이에, 제1가이드 부재(3230a)의 일측면을 따라 흐르는 가스가 제2가이드 부재(3230b)의 일측면으로 용이하게 전달될 수 있다.
제3 및 제4가이드 부재(3230c, 3230d)를 예를 들어 설명하면, 제1방향을 기준으로 제3가이드 부재(3230c)의 타단은 제4가이드 부재(3230d)의 타단에 비해 후방에 위치된다. 그리고, 제3가이드 부재에 있어서, 그 타단으로부터 제4가이드 부재(3230d)의 일단과 마주보는 위치까지의 영역은 상기 제4가이드 부재와 그 위치가 겹친다. 이에, 제3가이드 부재(3230c)의 일측면을 따라 흐르는 가스가 제4가이드 부재(3230d)의 일측면으로 용이하게 전달될 수 있다.
이와 같이, 가이드 부재(3230)를 마련하는데 있어서, 그 일측면을 따라 형성된 제2원(C21 내지 C24)이 제1원(C1)과 외접할 수 있는 형상으로 마련한다. 또한, 이웃하여 위치되며 서로 다른 길이를 가지는 두 가이드 부재에 있어서, 길이가 긴 가이드 부재 타단이 길이가 짧은 가이드 부재의 타단의 후방에 위치하며, 일부 영역의 위치가 겹치도록 한다. 이로 인해, 복수의 가스 분사부(3210)로부터 토출된 가스가 복수의 가이드 부재(3230)의 일측면을 따라 흘러 형성되는 기류가 회전기류가 되도록 할 수 있다.
또한, 이렇게 형성된 회전기류는 팬(3300)의 회전에 의해 발생된 흡입력에 의해 소용돌이 또는 토네이도와 같은 와류가 된다. 즉, 복수의 가스 분사부(3210)에 의해 둘러싸인 공간인 와류 생성부(3220)에 와류가 생성된다. 그리고, 복수의 가이드 부재(3230)에 의해 가스가 원형으로 이동하는 회전이동이 원활해 지고, 안정적인 회전기류가 형성됨에 따라, 와류의 생성 및 유지가 용이해지는 효과가 있다. 이에 따라 원심력이 증가된 와류를 형성할 수 있다. 이에, 후드(3100)의 직하 영역뿐만 아니라, 후드(3100)의 폭 방향 및 길이방향 외측 영역으로, 흡입력이 작용하는 또는 흡입력이 영향을 미치는 영역이 증가된다. 따라서, 후드(3100)의 직하부 영역뿐만 아니라, 후드(3100)의 폭 방향 및 길이방향 외측의 처리물도 함께 흡입시킬 수 있어, 집진효율이 향상된다.
보조 분사부(3250)는 바디(3240) 내부공간의 외부로 처리물이 빠져 나가는 것을 차단하고, 와류 생성부(3220)로부터 빠져나온 처리물이 다시 와류 생성부(3220)로 유입될 수 있도록 하는 기류를 형성하기 위한 가스를 분사한다. 이러한 보조 분사부(3250)는 상술한 가스 분사부(3210)와 동일한 형상으로 마련될 수 있다. 즉, 보조 분사부(3250)는 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 상하방향으로 연장되게 마련된다. 그리고, 보조 분사부(3250)에는 각각에서 가스를 분사하는 복수의 노즐(이하, 보조노즐(3251))이 마련된다. 복수의 보조노즐(3251)은 보조 분사부(3250)의 연장방향 즉, 상하방향으로 나열되도록 마련된다. 또한, 복수의 보조노즐(3251: 3251a 내지 3251d) 각각은 도 4에 도시된 바와 같이 가스 분사부로부터 외측으로 돌출된 형상의 관 형태일 수 있다.
보조 분사부(3250)는 바디(3240) 내부에서, 가스 분사부(3210)의 외측에 설치된다. 즉, 보조 분사부(3250)는 제1방향을 기준으로 가스 분사부(3210)의 외측에 위치된다. 그리고, 보조 분사부(3250)는 제2방향의 한쪽으로 치우치도록 위치될 수 있으며, 도 3에 도시된 바와 같이 제1 및 제2개방부(3240d, 3240e) 중 제2개방부(3240e)와 상대적으로 이웃하도록 배치되는 것이 바람직하다.
보조 분사부(3250)는 복수개로 마련되는데, 복수의 보조 분사부(3250)는 제1방향으로 이격되도록 설치된다. 보다 구체적인 예를 들어 설명하면, 2 개의 보조 분사부(3250a, 3250b)가 마련되고, 제2가스 분사부(3210b)의 외측에 제1보조 분사부(3250a)가 위치되고, 제3가스 분사부(3210c)의 외측에 제2보조 분사부(3250b)가 위치될 수 있다.
보조 분사부(3250)에는 보조노즐(3251)이 마련되는데 있어서, 보조노즐(3251)이 가스 분사부(3210)와 마주볼 수 있도록 마련한다. 즉, 제1보조 분사부(3250a)에 마련된 제1보조노즐(3251a)은 제2가스 분사부(3210b)와 마주보고, 제2보조 분사부(3250b)에 마련된 제2보조노즐(3251b)은 제3가스 분사부(3210c)와 마주보도록 마련한다. 다른 말로 설명하면, 제1 및 제2보조 분사부(3250a, 3250b) 각각을 설치하는데 있어서, 제1보조노즐(3251a)이 제2가스 분사부(3210b)와 마주보고, 제2보조노즐(3251b)이 제3가스 분사부(3210c)와 마주볼 수 있도록 설치한다.
이러한 제1 및 제2보조 분사부(3250a, 3250b)로부터 가스가 분사되면, 그 가스는 가이드 부재(3230)와 가스 분사부(3210) 사이의 틈을 통해 와류 생성부(3220)로 유입된다. 즉, 제1보조 분사부(3250a)로부터 가스가 토출되면, 그 가스는 제1가이드 부재(3230a)와 제2가스 분사부(3210b) 사이의 틈으로 유입되고, 제2보조 분사부(3250b)로부터 가스가 토출되면, 그 가스는 제3가이드 부재(3230c)와 제4가스 분사부(3210d) 사이의 틈으로 유입된다. 이에, 제1 및 제2보조 분사부(3250a, 3250b)로부터 분사된 가스가 와류 생성부(3220)로 유입되는 가스 흐름 또는 기류가 발생된다. 이는 와류 생성부(3220)에 생성된 와류가 가이드 부재(3230)와 가스 분사부(3210) 사이의 틈을 통해 보조 분사부(3250)로부터 토출된 가스를 끌어 당기기 때문이다.
이렇게 와류 생성부(3220) 외측 공간의 가스가 상기 와류 생성부(3220)로 유입될 때, 상기 와류 생성부(3220) 외측에 있는 처리물이 함께 이동한다. 이에, 와류 생성부(3220) 외측에 있는 처리물을 와류 생성부(3220)로 유입시킬 수 있다. 또한, 이에 따라 와류 생성부(3220) 밖으로 빠져나온 처리물을 상기 와류 생성부(3220)로 다시 유입시킬 수 있다.
그리고, 보조 분사부(3250)로부터 분사된 가스가 가스 분사부(3210)와 가이드 부재(3230) 사이의 틈을 향해 흐르는 기류에 의한 에어커튼이 형성된다. 이 에어커튼은 처리물의 이동을 저지시켜 처리물의 바디(3240)의 외측으로 빠져나가는 것을 차단시킬 수 있다.
도 8은 제1실시예의 제1변형예에 따른 흡입기의 가스 분사부 및 노즐을 도시한 도면이고, 도 9는 제2변형예에 따른 흡입기의 가스 분사부 및 노즐을 도시한 도면이다. 여기서 도 9의 (a)는 제2변형예에 따른 가스 분사부 및 노즐의 정면도이고, (b)는 측면도이다. 도 10은 제1실시예의 제3변형예에 따른 흡입기의 가스 분사부 및 노즐을 도시한 도면이다.
상술한 제1실시예에서는 노즐(3211)이 하부부재(3240b)와 평행하게 설치되어, 토출되는 가스가 하부부재(3240b)와 평행 또는 0°를 이루는 것을 설명하였다. 하지만, 이에 한정되지 않고 노즐(3211)이 후드(3100)를 향해 상향 경사지도록 마련될 수 있다. 도 8의 제1가스 분사부(3210a) 및 제1노즐(3211a) 예를 들어 설명하면, 제1노즐(3211a)의 노즐 연장선(L1)이 후드(3100)를 향하도록 상향 경사지게 설치될 수 있다. 이때, 제1노즐(3211a)은 그 노즐 연장선(L1)이 하부부재(3240b)의 상부면을 따라 연장한 연장선(LU)과 이루는 각도(θ)가 15°이하(0°초과)가 되도록 경사지게 설치된다.
도 8에서는 제1가스 분사부(3210a)에 마련된 제1노즐(3211a)이 상향 경사지게 설치되는 것을 설명하였지만, 제2 내지 제3가스 분사부(3210b 내지 3210d)에 마련된 제2 내지 제4노즐(3211b 내지 3211d) 각각이 상향 경사지게 마련될 수 있다. 또한, 그 경사진 각도가 15°이하(0°초과) 일 수 있다..
이와 같이 노즐(3211)을 상향 경사지게 마련함으로써, 처리물을 후드(3100)쪽으로 보다 용이하게 유입 또는 흡입시킬 수 있는 효과가 있다.
한편, 노즐(3211)이 상향 경사진 각도가 15°를 초과하는 경우 하부부재(3240b) 쪽에서 와류가 약할 수 있다. 이에 하부부재(3240b)에 근접한 처리물이 후드쪽으로 흡입되는 것이 어려울 수 있다.
상술한 제1실시예에서는 가스 분사부(3210)로부터 노즐(3211)이 외측으로 돌출된 파이프(pipe) 형상인 것을 설명하였다. 하지만, 이에 한정되지 않고 노즐(3211)이 슬릿 형태일 수 있다. 도 9를 들어 설명하면, 제1가스 분사부(3210a)에는 가스가 이동하는 그 내부 통로와 연통되며, 외부로 노출되도록 상하방향으로 연장 형성된 슬릿이 마련될 수 있고, 이 슬릿이 제1노즐(3211a)이다.
이때, 슬릿 형태의 제1노즐(3211a)에 있어서 그 폭(W)은 1mm 내지 10mm(1mm 이상, 10mm 이하)로 마련되는 것이 바람직하다. 한편, 슬릿 형태인 제1노즐(3211a)의 폭(W)이 1mm 미만인 경우 토출되는 가스의 유량이 작아 와류 형성이 어려울 수 있고, 막힘이 발생될 수 있다. 그리고, 폭을 10mm 이하로 하는 것은, 와류를 형성하기 위해 10mm를 초과하도록 크게 하는 것은 불필요하기 때문이다.
도 9에서는 제1노즐(3211a)이 슬릿 형태로 마련되는 것을 설명하였지만, 제2 내지 제4노즐(3211b 내지 3211d)도 슬릿 형태로 마련될 수 있다.
또한, 상술한 제1실시예에서는 가스가 토출되는 노즐(3211)의 타단이 가이드 부재(3230) 내면의 타단(선단)과 마주보도록 마련하는 것을 설명하였다. 즉, 제1실시예에 따른 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)은 그 노즐 연장선(L1 내지 L4)이 제1 내지 제4가이드 부재(3230a 내지 3230d) 내면의 선단과 연결되도록 마련되었다.
하지만 이에 한정되지 않고, 노즐(3211)은 그 타단이 가이드 부재(3230)의 일단과 타단 사이의 내면과 마주보도록 마련될 수 있다. 도 10을 예를 들어 설명하면, 제1노즐(3211a)은 그 타단이 제1가이드 부재(3230a)의 일단과 타단 사이의 내면과 마주보도록 설치된다. 즉, 제1노즐(3211a)은 그 노즐 연장선(L1)이 제1가이드 부재(3230a)의 일단과 타단 사이의 내면과 연결되도록 마련될 수 있다. 그리고 도시되지는 않았지만, 제2 내지 제4노즐(3211b 내지 3211d) 역시, 그 노즐 연장선(L2 내지 L4)이 제2 내지 제4가이드 부재(3230b 내지 3230d)의 일단과 타단 사이의 내면과 연결되도록 마련될 수 있다.
도 11은 제1실시예의 제4변형예에 따른 흡입기의 가이드 부재를 설명하기 위한 도면이다.
상술한 제1실시예에서는 가이드 부재(3230)의 상하방향 길이가 가스 분사부(3210)에 비해 짧을 때, 가이드 부재(3230)는 그 상하방향 중심이 가스 분사부(3210)의 상하방향 중심에 위치하도록 설치되는 것을 설명하였다. 하지만 이에 한정되지 않고 가이드 부재(3230)가 하부부재(3240b)쪽으로 치우치게 설치될 수 있다. 도 11의 제1가이드 부재(3230a)를 예를 들어 설명하면, 제1가이드 부재(3230a)의 상하방향 길이가 제1가스 분사부(3210a)의 30% 이상, 100% 미만으로 짧게 마련될 때, 제1가이드 부재(3230a) 는 도 11과 같이 하부부재(3240b)가 위치된 하측으로 치우치도록 설치될 수 있다. 보다 구체적으로 제1가이드 부재(3230a)의 상하방향 길이가 제1가스 분사부(3210a)의 30% 이상, 70% 이하로 마련될 수 있는데, 이때 제1가이드 부재(3230a)가 하부부재(3240b)가 위치된 하측으로 치우치도록 설치될 수 있다. 즉, 제1가이드 부재(3230a)의 하단이 하부부재(3240b)의 상면에 연결되도록 설치될 수 있다. 그리고 도시되지는 않았지만, 제2 내지 제4가이드 부재(3230b 내지 3230d) 역시 하부부재(3240b)가 위치된 하측으로 치우치도록 설치될 수 있다.
이와 같이, 가이드 부재(3230)의 상하방향 길이가 가스 분사부(3210)에 비해 짧을 때, 상기 가이드 부재(3230)를 하부부재(3240b)쪽으로 치우치게 설치함으로써, 후드(3100)와 멀리 떨어진 하부부재(3240b) 쪽에서의 와류를 보다 강하게 만들 수 있다.
도 12는 제1실시예의 제5변형예에 따른 흡입기의 하부부재를 설명하기 위해 도시한 도면이다.
상술한 제1실시예에서는 하부부재(3240b)가 하나의 부재로 마련되는 것을 설명하였다. 하지만 이에 한정되지 않고 도 12에 도시된 바와 같이 하부부재(3240b)가 복수의 판로 마련될 수 있다. 즉, 하부부재(3240b)는 도 12와 같이 복수의 가스 분사부(3210a 내지 3210d)가 지지되는 제1하부판(3240b-1), 제1하부판(3240b-1)을 중심으로 양쪽에 배치된 제2 및 제3하부판(3240b-2, 3240b-3)을 포함한다. 이때, 제1하부판(3240b-1)은 상술한 제1실시예에서의 하부부재와 동일한 구성일 수 있다. 그리고 제2하부판(3240b-2)과 제3하부판(3240b-3)은 제1개방부(3240d)와 제2개방부(3240e)의 나열방향인 제2방향으로 나열된다.
이에 따라, 제5변형예에 따른 하부부재(3240b)는 도 12와 같이 제1하부판(3240b-1)에 연결된 제2 및 제3하부판(3240b-2, 3240b-3) 만큼 제2방향으로의 면적이 증가된다. 이렇게 제1하부판(3240b-1)의 양측에 제2 및 제3하부판(3240b-2, 3240b-3)을 연결하여 하부부재(3240b)의 면적을 증가시키면, 와류를 보다 강하게 생성할 수 있다. 이는, 제1 내지 제4노즐(3211a 내지 3211d)로부터 토출된 가스가 연장된 제2 및 제3하부판(3240b-2, 3240b-3)에 의해 하측으로 빠지는 또는 누설되는 량을 줄일 수 있기 때문이다. 따라서, 제5변형예에 따른 하부부재(3240b)를 포함하는 흡입기(3200)에 의하면 제1실시예에 비해 와류를 보다 강하게 형성할 수 있다.
그리고, 제5변형예에 따른 하부부재(3240b)는 필요시에 제2 및 제3하부판(3240b-2, 3240b-3)이 제1하부판(3240b-1)의 하측에 위치하도록 슬라이딩 되거나, 접힐 수 있는 구조로 마련될 수 있다. 여기서 필요시라는 것은 예를 들어 집진을 실시하지 않을 때 일 수 있다.
도 13은 본 발명의 제2실시예에 따른 흡입기를 상측에서 바라본 평면도이다.
상술한 제1실시예에서는 복수의 가스 분사부(3210)의 배치에 따른 가로세로 비가 1 미만 또는 1을 초과하는 경우를 설명하였다. 하지만, 이에 한정되지 않고 가로 세로비가 1, 예컨대 도 8의 제2실시예와 정사각형을 이루도록 복수의 가스 분사부(3210)가 배치될 수 있다.
도 8과 같이 제1 내지 제4가스 분사부(3210: 3210a 내지 3210d)가 정사각형이 되도록 배치되는 경우, 각각의 노즐(3211: 3211a 내지 3211d)이 제1 내지 제4변(S1 내지 S4)과 나란하도록 복수의 가스 분사부 각각을 배치시킨다. 즉, 제1노즐(3211a)의 노즐 연장선(L1)이 제1변(S1)과 나란하고, 제2노즐(3211b)의 노즐 연장선(L2)이 제2변(S2)과 나란하며, 제3노즐(3211c)의 노즐 연장선(L3)이 제3변(S3)과 나란하고, 제4노즐(3211d)의 노즐 연장선(L4)이 제4변(S4)과 나란하도록 배치될 수 있다.
이와 같이, 복수의 가스 분사부(3210a 내지 3210d)의 배치 형태가 정사각형인 경우, 노즐(3211a 내지 3211d)이 제1 내지 제4변(S1 내지 S4)과 나란하게 배치되더라도 가스가 원형으로 회전하는 회전기류의 형성이 용이하다. 즉, 가로 세로비가 1이 되도록 복수의 가스 분사부(3210)가 배치된 경우, 각 노즐(3211a 내지 3211d)의 노즐 연장선(L1 내지 L4)이 각 변(S1 내지 S4)과 교차하지 않고 나란하도록 배치시키더라도 선회류를 형성하는데 문제가 없다.
또한, 복수의 가스 분사부(3210: 3210a 내지 3210d) 각각이 가이드 부재(3230: 3230a 내지 3230d)가 설치된다. 이 가이드 부재(3230)는 외기가 와류 생성부(3220)로 유입되는 것을 차단 또는 차폐하는 역할을 한다. 이에, 와류 생성부(3220) 내에 와류를 보다 안정적으로 유지시킬 수 있다.
이하, 도 1 내지 도 5를 참조하여, 본 발명의 제1실시예에 따른 집진장치의 동작을 설명한다. 이때, 압연기의 후방에 흡입장치가 위치된 경우를 예를 들어 설명한다.
압연기(30)를 동작시켜 주편(10)을 압연시키는 동안 집진장치를 동작시켜, 압연 중 발생되는 처리물을 집진한다. 이를 위해, 블로어(2000)를 동작시키고 복수의 가스 분사부(3210) 및 복수의 보조 분사부(3250) 각각으로부터 가스를 분사한다.
블로어(2000)가 동작하면, 덕트(1000) 및 후드(3100)에 흡입력이 발생되며, 후드(3100) 내부의 팬(3300)이 회전한다. 이에, 블로어(2000)에 의한 흡입력 및 팬(3300)에 의한 흡입력이 발생된다.
복수의 가스 분사부(3210) 각각의 노즐(3211)로부터 분사된 가스는 가이드 부재(3230)의 일측면을 따라 이동하면서 흐른다. 이에, 각각의 노즐(3211)로부터 분사된 가스가 원형 또는 타원형으로 회전하게 된다. 즉, 가스에 의한 회전기류 또는 선회류가 형성된다.
그리고, 복수의 가스 분사부(3210)의 상측에 위치된 팬(3300)이 회전하고 있으므로, 팬(3300)의 회전에 의한 흡입력이 발생된다. 이에, 후드(3100)에는 블로어(2000)에 의한 흡입력과 팬(3300)의 회전에 의한 흡입력이 발생되다. 그리고 이 후드(3100)의 흡입력은 그 하측 공간 즉, 와류 생성부(3220)에 작용한다. 따라서, 후드(3100)의 흡입력에 의해 와류 생성부(3220)에 형성된 회전기류가 후드(3100)쪽으로 당겨지고, 이에 따라 토네이도 또는 소용돌이와 같은 와류가 형성된다. 즉, 후드(3100) 하측에 위치된 와류 생성부(3220)에 와류가 형성된다. 그리고, 와류에 의한 흡입력이 발생된다.
이때, 블로어(2000) 및 팬(3300)의 동작에 의해 후드(3100)에 발생된 흡입력과, 와류의 원심력에 의한 흡입력 의해 바디(3240) 및 와류 생성부(3220) 내부로 처리물이 유입된다. 즉, 바디(3240)의 제1 및 제2개방부(3240e), 하부부재(3240b)에 마련된 복수의 홀(h)을 통해 와류 생성부(3220)로 처리물이 흡입 또는 유입된다. 와류 생성부(3220)로 유입된 처리물은 후드(3100)로 유입된다. 후드(3100)로 유입된 처리물은 덕트(1000) 내부를 통과한 후 집진부(4000)로 집진된다. 그리고, 처리물이 제거된 기체만이 덕트(1000)의 외부로 배출된다.
이때, 후드(3100)의 하측에 와류가 형성되어 있기 때문에, 와류가 없을 때에 비해 흡입력이 작용하는 영역이 넓어진다. 이에 따라, 후드(3100)의 바로 하측 공간뿐만 아니라, 후드(3100)의 폭 및 길이방향의 외측 공간까지도 후드(3100) 및 와류에 의한 흡입력이 작용하게 된다. 따라서, 후드(3100)의 직하부 영역뿐만 아니라, 후드(3100)의 폭 방향 및 길이방향 외측의 처리물도 함께 집진시킬 수 있어, 집진효율이 향상된다.
또한, 복수의 가스 분사부(3210) 각각에 설치된 가이드 부재(3230)에 의해 회전기류 및 와류의 형성이 용이하고, 강한 원심력을 가지는 와류를 형성시킬 수 있다. 그리고, 가이드 부재(3230)에 의해 외기가 와류 생성부로 유입되는 것을 차단할 수 있다. 이에, 와류에 의한 원심력에 따른 흡입력으로 처리물을 후드(3100)로 용이하게 흡입시킬 수 있고, 이로 인해 집진효율이 향상된다.
또한, 보조 분사부(3250)로부터 분사된 가스 흐름에 의해 와류 생성부(3220) 외측의 처리물을 상기 와류 생성부(3220)로 유입시킬 수 있다. 그리고, 보조 분사부(3250)로부터 분사된 가스에 의해 에어커튼이 형성되는데, 이 에어커튼은 처리물의 이동을 저지시켜 처리물이 바디(3240)의 외측으로 빠져나가는 것을 차단시킬 수 있다. 이와 같이, 보조 분사부(3250)에 의한 기류에 의해 와류 생성부로 흡입되는 처리물의 양을 증가시킬 수 있고, 처리물이 빠져나가는 것을 억제할 수 있어, 처리물의 집진효율이 향상된다.
1000: 덕트 3000: 흡입장치
3100: 후드 3210: 가스 분사부
3220: 와류 생성부 3230: 가이드 부재
3240: 바디 3250: 보조 분사부

Claims (15)

  1. 처리물을 흡입시키도록 내부에 흡입력을 발생시킬 수 있는 후드; 및
    상기 후드의 하측공간에 와류를 발생시킬 수 있는 흡입기; 를 포함하고,
    상기 흡입기는,
    상기 후드의 하측공간에 가스를 분사하도록, 상기 후드의 하측에 설치된 복수의 가스 분사부; 및
    이웃하여 배치된 두 개의 가스 분사부 사이의 적어도 일부에 위치하도록 설치되며, 일측면이 상기 복수의 가스 분사부에 의해 둘러싸인 공간인 와류 생성부를 향하도록 설치된 복수의 가이드 부재;
    를 포함하고,
    상기 복수의 가스 분사부가 나열된 배치 형태는, 이웃하여 배치된 가스 분사부 사이의 이격거리가 일부 다른 다각형이고,
    이격거리가 상대적으로 짧은 두 개의 가스 분사부 사이에 위치된 가이드 부재의 연장길이가 이격거리가 상대적으로 긴 두 개의 가스 분사부 사이에 위치된 가이드 부재에 비해 길게 마련되며,
    상대적으로 연장길이가 긴 가이드 부재와 상대적으로 연장길이가 짧은 가이드 부재는 일부영역의 위치가 겹치고,
    상대적으로 연장길이가 짧은 가이드 부재의 단부는 겹치는 영역 밖으로 돌출되게 위치된 집진장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 복수의 가스 분사부 및 상기 복수의 가이드 부재 각각은 상하방향으로 연장된 형상이고,
    상기 복수의 가스 분사부 각각에는 가스를 분사하는 노즐이 마련되며,
    상기 가이드 부재는 상기 노즐을 커버하도록 상기 가스 분사부에 연결된 집진장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 가이드 부재는 상기 일측면이 오목한 곡면을 포함하는 집진장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 와류 생성부의 상측에 위치하도록 상기 후드 내부에 설치되며, 회전 가능한 팬을 포함하고,
    상기 가이드 부재는, 상기 일측면을 따라 형성되는 제2원이 상기 팬의 회전으로 형성되는 제1원과 외접할 수 있는 형상으로 마련된 집진장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 청구항 2에 있어서,
    상기 가이드 부재의 상하방향 연장 길이는 상기 가스 분사부의 상하방향 연장 길이에 비해 짧고,
    상기 가이드 부재가 상기 가스 분사부의 하단쪽으로 치우치도록 설치된 집진장치.
  8. 청구항 2에 있어서,
    상기 노즐은 상기 가스 분사부로부터 연장되게 설치되고,
    상기 노즐은 상기 가스 분사부로부터 그 연장방향으로 연장한 연장선이 상기 가이드 부재의 내면을 향하도록 마련된 집진장치.
  9. 청구항 2에 있어서,
    상기 노즐은 상기 가스 분사부와 연결된 일단과 상기 일단의 반대 끝단이며 가스가 토출되는 타단의 높이가 동일하거나, 상기 일단에 비해 타단이 높은 집진장치.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 흡입기는,
    상기 후드와 연통되도록 상기 후드의 하부에 연결되며, 상기 복수의 가스 분사부 및 복수의 가이드 부재가 수용되는 내부공간을 가지는 바디를 포함하고,
    상기 바디는 일측에 마련된 제1개방부 및 타측에 마련된 제2개방부를 포함하고,
    상기 바디는,
    상기 후드와 연통되는 개구를 구비하며, 상기 후드의 하부에 연결된 상부부재;
    상기 상부부재의 하측으로 이격 배치된 하부부재; 및
    상기 제1개방부와 제2개방부가 나열된 방향과 교차하는 방향으로 나열 배치되어, 상기 상부부재와 하부부재를 연결하는 측부부재;를 포함하며,
    상기 복수의 가스 분사부는 상기 상부부재와 하부부재 사이에 위치하도록 설치된 집진장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 하부부재에는 복수의 홀이 마련되고,
    상기 하부부재에 마련된 복수의 홀 중, 상기 와류 생성부와 마주보는 영역에 마련된 홀의 내경이 상기 와류 생성부의 외측과 마주보는 영역에 마련된 홀의 내경에 비해 작은 집진장치.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 하부부재는,
    상기 상부부재와 마주보도록 하측으로 이격 배치되며, 상기 복수의 홀이 마련된 제1하부판;
    상기 제1개방부와 제2개방부의 나열 방향으로, 상기 제1하부판의 양측에 연결된 제2 및 제3하부판;을 포함하는 집진장치.
  13. 청구항 10에 있어서,
    상기 흡입기는, 상기 바디의 내부에서 가스 분사부 외측에 설치되어, 가스를 분사하는 보조 분사부를 포함하는 집진장치.
  14. 후드의 하측공간에서 서로 다른 위치에 설치된 복수의 가스 분사부를 이용하여 가스를 토출시켜 분사하는 단계;
    상기 후드 내부에 위치된 팬을 회전시키는 단계;
    상기 복수의 가스 분사부에 연결되게 설치된 가이드 부재를 이용해 상기 분사된 가스를 가이드하여 회전기류를 형성하는 단계;
    상기 회전기류를 흡입하여, 상기 후드의 하측공간에 와류를 생성하는 단계;
    상기 팬의 회전에 의한 흡입력 및 상기 와류의 원심력에 의한 흡입력으로 처리물을 상기 후드로 흡입시키는 단계; 및
    상기 와류가 생성되는 와류 생성 영역의 외측에 배치된 상기 가이드 부재로, 상기 와류 생성 영역으로 외기가 유입되는 것을 차단하는 단계;
    를 포함하고,
    상기 복수의 가스 분사부를 이용하여 가스를 토출시켜 분사하는데 있어서,
    상기 복수의 가스 분사부가 나열된 배치 형태가 이웃하여 배치된 가스 분사부 사이의 이격거리가 일부 다른 다각형이 되도록 하여 분사하고,
    이격거리가 상대적으로 짧은 두 개의 가스 분사부 사이에 위치된 가이드 부재의 연장길이가 이격거리가 상대적으로 긴 두 개의 가스 분사부 사이에 위치된 가이드 부재에 비해 길게 마련하여 분사하며,
    상대적으로 연장길이가 긴 가이드 부재와 상대적으로 연장길이가 짧은 가이드 부재가 일부영역의 위치가 겹치고, 상대적으로 연장길이가 짧은 가이드 부재의 단부는 겹치는 영역 밖으로 돌출되게 위치시켜 분사하는 집진방법.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 와류 생성 영역쪽으로 가스를 분사하는 단계; 및
    상기 와류 생성 영역쪽으로 흐르는 기류를 이용하여, 외측의 처리물을 상기 와류 생성 영역으로 유입시키거나, 에어커튼을 형성하는 단계;
    를 포함하는 집진방법.
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2088377A2 (en) 2006-07-27 2009-08-12 Electrolux Professional S.P.A. Improvement in the ventilation arrangement of a fume extractor hood
CN102954514A (zh) 2011-08-27 2013-03-06 博西华电器（江苏）有限公司 抽油烟机及其龙卷风产生装置
KR101395187B1 (ko) * 2012-12-28 2014-05-15 한국생산기술연구원 와류식 배출 후드
JP2014227577A (ja) 2013-05-23 2014-12-08 株式会社Ihi 高炉の集塵装置
JP2015504508A (ja) 2012-12-28 2015-02-12 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー 渦流式排出フード
KR101779549B1 (ko) 2016-03-08 2017-09-18 주식회사 포스코 스카핑 장치 및 스카핑 방법
KR101918406B1 (ko) * 2017-06-20 2018-11-13 이원희 집진 기능을 구비한 후드 장치
CN109028429A (zh) 2018-08-10 2018-12-18 西安建筑科技大学 一种适用于高大空间建筑的涡旋通风系统及方法
KR101957879B1 (ko) 2018-04-05 2019-07-04 윤승원 와류식 배출 후드

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3493684B2 (ja) * 1993-05-25 2004-02-03 Ｊｆｅスチール株式会社 高炉の溶銑／溶滓落口部回り集塵装置
JP2939861B2 (ja) * 1995-03-06 1999-08-25 東陶機器株式会社 レンジフード
JPH09316508A (ja) * 1996-05-29 1997-12-09 Kawasaki Steel Corp 高炉の傾注樋部の集塵方法
KR101712827B1 (ko) 2015-09-04 2017-03-07 주식회사 포스코 집진장치

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2088377A2 (en) 2006-07-27 2009-08-12 Electrolux Professional S.P.A. Improvement in the ventilation arrangement of a fume extractor hood
CN102954514A (zh) 2011-08-27 2013-03-06 博西华电器（江苏）有限公司 抽油烟机及其龙卷风产生装置
KR101395187B1 (ko) * 2012-12-28 2014-05-15 한국생산기술연구원 와류식 배출 후드
JP2015504508A (ja) 2012-12-28 2015-02-12 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー 渦流式排出フード
JP2014227577A (ja) 2013-05-23 2014-12-08 株式会社Ihi 高炉の集塵装置
KR101779549B1 (ko) 2016-03-08 2017-09-18 주식회사 포스코 스카핑 장치 및 스카핑 방법
KR101918406B1 (ko) * 2017-06-20 2018-11-13 이원희 집진 기능을 구비한 후드 장치
KR101957879B1 (ko) 2018-04-05 2019-07-04 윤승원 와류식 배출 후드
CN109028429A (zh) 2018-08-10 2018-12-18 西安建筑科技大学 一种适用于高大空间建筑的涡旋通风系统及方法

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