KR102460114B1 - 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060055939A (ko) * 2004-11-19 2006-05-24 (주)알투스 열 인가 스트레칭 마스크 제조 방법 및 장치
KR20090077697A (ko) * 2008-01-11 2009-07-15 상에이 기켄 가부시키가이샤 노광에 이용되는 포토마스크
KR100927518B1 (ko) * 2009-08-12 2009-11-17 이종오 유리기판에 포토마스크용 필름을 자동으로 부착하는 포토 마스크 제조방법 및 이를 통해 제조되는 포토마스크
KR20110003627A (ko) * 2009-07-06 2011-01-13 (주)세현 엑스레이 검출기 및 이의 제조 방법
KR20170031488A (ko) * 2015-09-11 2017-03-21 엘지디스플레이 주식회사 유기발광 표시장치
KR20200112468A (ko) * 2019-03-22 2020-10-05 주식회사 오럼머티리얼 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7829248B2 (en) * 2007-07-24 2010-11-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Pellicle stress relief
CN112088334B (zh) * 2018-03-05 2024-08-27 三井化学株式会社 防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法
US10768534B2 (en) * 2018-08-14 2020-09-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Photolithography apparatus and method and method for handling wafer
CN112639156B (zh) * 2018-08-16 2023-04-18 悟劳茂材料公司 框架一体型掩模的制造方法及框架
KR102207853B1 (ko) * 2019-06-27 2021-01-27 주식회사 에프에스티 펠리클용 벤트 필터 및 이를 포함하는 펠리클
CN112415856B (zh) * 2019-08-23 2022-04-22 上海微电子装备（集团）股份有限公司 柔性吸附装置及光刻设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060055939A (ko) * 2004-11-19 2006-05-24 (주)알투스 열 인가 스트레칭 마스크 제조 방법 및 장치
KR20090077697A (ko) * 2008-01-11 2009-07-15 상에이 기켄 가부시키가이샤 노광에 이용되는 포토마스크
KR20110003627A (ko) * 2009-07-06 2011-01-13 (주)세현 엑스레이 검출기 및 이의 제조 방법
KR100927518B1 (ko) * 2009-08-12 2009-11-17 이종오 유리기판에 포토마스크용 필름을 자동으로 부착하는 포토 마스크 제조방법 및 이를 통해 제조되는 포토마스크
KR20170031488A (ko) * 2015-09-11 2017-03-21 엘지디스플레이 주식회사 유기발광 표시장치
KR20200112468A (ko) * 2019-03-22 2020-10-05 주식회사 오럼머티리얼 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법

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