KR102440212B1 - Electronic substrates and photocurable compositions - Google Patents

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Abstract

유연성과 경도의 밸런스가 우수한 플렉시블 부위를 가지는 전자 기판을 제공한다. 리지드 기판(12)과, 상기 리지드 기판(12)의 단부(端部)로부터 연장되고 도통 가능하게 접속되는 플렉시블 기판(14)과, 상기 리지드 기판(12)으로부터 상기 플렉시블 기판(14)에 이르는 배선을 구비하고, 상기 플렉시블 기판(14)에, 상기 리지드 기판(12)의 단부로부터 돌출하고 상기 리지드 기판(12)의 한쪽 면 측을 향하여 구부러진 절곡부(16)를 가지는 전자 기판(10)에 있어서, 상기 리지드 기판(12)의 단부로부터 상기 절곡부(16)에 이르는 상기 리지드 기판(12)과 상기 플렉시블 기판(14)의 경계 부분에서, 상기 플렉시블 기판(14) 중 적어도 한쪽 면에 탄성 보호 부재(18)가 설치되어, 상기 탄성 보호 부재(18)의 나노인덴테이션 시험으로 측정되는 마르텐스 경도가 0.35∼3.0 N/mm2이며, 인장파단신장이 100% 이상인 것을 특징으로 하는 전자 기판(10)으로 만들었다.An electronic substrate having a flexible portion having an excellent balance between flexibility and hardness is provided. A rigid substrate (12), a flexible substrate (14) extending from an end portion of the rigid substrate (12) and connected so as to be conductive, and a wiring from the rigid substrate (12) to the flexible substrate (14) In the electronic substrate 10 having a bent portion 16 protruding from the end of the rigid substrate 12 and bent toward one side of the rigid substrate 12 in the flexible substrate 14 , an elastic protective member on at least one surface of the flexible substrate 14 at the boundary between the rigid substrate 12 and the flexible substrate 14 from the end of the rigid substrate 12 to the bent portion 16 . (18) is installed, the Martens hardness measured by the nano-indentation test of the elastic protective member 18 is 0.35 to 3.0 N/mm 2 , and the tensile elongation at break is 100% or more ( 10) was made.

Description

전자 기판 및 광경화성 조성물Electronic substrates and photocurable compositions

본 발명은, 내굴곡성이 우수한 플렉시블 부위를 가지는 전자 기판, 및 유연성 및 내굴곡성이 우수한 광경화성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an electronic substrate having a flexible portion excellent in bending resistance, and a photocurable composition excellent in flexibility and bending resistance.

유연성을 가지는 플렉시블 부위를 가지는 전자 기판은, 일반적으로, 그 플렉시블 부위로서, 플렉시블 기판(플렉시블 배선 기판(Flexible Printed Circuits, 이하 「플렉시블 기판」이라고도 함)을 포함함)이 사용된다. 플렉시블 기판은, 통상, 폴리이미드 수지나 폴리에스테르 수지 등의 필름에 동박(銅箔) 등의 금속 도체 회로가 형성되고, 여기에 폴리이미드 수지나 폴리에스테르 수지 등의 커버 필름이 보호층으로서 설치된 구부림 가능한 기판으로서 알려져 있다. 예를 들면, 일본공개특허 평7-106728호 공보(특허문헌 1)에서는, 리지드(rigid) 부위와 플렉시블 부위를 가지는 기판에 있어서, 리지드 부위와 플렉시블 부위의 접속 부분의 보호 부재로서 수지 조성물을 사용하고 있다.BACKGROUND ART In an electronic substrate having a flexible portion having flexibility, a flexible substrate (including flexible printed circuits (hereinafter, also referred to as "flexible substrate")) is generally used as the flexible portion. In a flexible substrate, a metal conductor circuit such as copper foil is usually formed on a film such as polyimide resin or polyester resin, and a cover film such as polyimide resin or polyester resin is provided as a protective layer. known as possible substrates. For example, in Japanese Patent Laid-Open No. 7-106728 (Patent Document 1), in a substrate having a rigid portion and a flexible portion, a resin composition is used as a protective member for the connection portion between the rigid portion and the flexible portion. are doing

또한, 리지드 기판과 상기 리지드 기판의 단부(端部)에 설치된 플렉시블 기판을 가지는 전자 기판은, 예를 들면, 액정 모니터 장치나 플라즈마 디스플레이 장치, 유기 EL 디스플레이 장치, RGB 무기 LED 실장형의 디스플레이 장치 등의 화상 표시 장치에도 사용된다. 이 화상 표시 장치는, 리지드 기판으로서 화상 표시 부위인 패널이 사용되고, 패널에 전압 또는 신호를 인가하기 위하여, 패널의 단부에 전기적으로 접속된 플렉시블 기판이 설치되어 있다. 여기서, 패널과 플렉시블 기판의 접속에는 이방(異方)도전막이 일반적으로 사용되고 있고, 이 접속부의 절연보호나 접착보강을 위한 보호 부재가 도포되어 있다. 그리고, 상기 플렉시블 기판의 타단부는, 전자 회로 기판(머더보드 등)에 전기적으로 접속된다. 일반적으로, 전자 회로 기판은, 패널 이면(裏面)에 배치되어 있으므로, 패널로부터 연장되는 플렉시블 기판은, 구부러져서 전자 회로 기판에 접속된다. 또한, 최근, 화상 표시 장치의 소형화 및 협(狹)프레임화의 요청이 높아지고 있고, 비화상 표시부위의 공간절약화를 위하여, 드라이버 IC를 종래의 패널 상이 아닌 플렉시블 기판 상에 실장한 칩 온 필름 구조 등도 채용되고 있다.Further, the electronic substrate having a rigid substrate and a flexible substrate provided at the end of the rigid substrate is, for example, a liquid crystal monitor device, a plasma display device, an organic EL display device, an RGB inorganic LED mounted display device, etc. It is also used in image display devices of In this image display apparatus, the panel which is an image display site|part is used as a rigid board|substrate, and in order to apply a voltage or a signal to the panel, the flexible board|substrate electrically connected to the edge part of the panel is provided. Here, an anisotropic conductive film is generally used for the connection between the panel and the flexible substrate, and a protective member for insulation protection or adhesion reinforcement of the connection portion is applied. And the other end of the said flexible board|substrate is electrically connected to an electronic circuit board (motherboard etc.). Generally, since an electronic circuit board is arrange|positioned on the back surface of a panel, the flexible board|substrate extended from a panel is bent and connected to an electronic circuit board. In addition, in recent years, there has been a growing demand for downsizing and narrowing the frame of image display devices, and in order to save space in non-image display parts, a chip-on-film in which driver ICs are mounted on a flexible substrate instead of on a conventional panel. Rescue, etc. are also employed.

여기서, 플렉시블 기판의 절곡성을 제어하기 위하여, 일본공개특허 제2008-26528호 공보(특허문헌 2)에는, 전극 인출부를 가지는 패널과, 상기 전극 인출부에 접속된 플렉시블 기판과, 상기 플렉시블 기판과 상기 전극 인출부의 접속 부분을 덮는 보호층을 가지는 화상 표시 장치에 있어서, 상기 플렉시블 기판 상의 수지재료에 대한 젖음성을 변경하는 것이 개시되어 있다. 상기한 구성으로 함으로써, 수지재료를 상기 플렉시블 기판에 도포했을 때, 수지재료가 안정적으로 보호층이 형성되는 영역과, 수지재료를 튕겨서 보호층이 안정적으로 형성되지 않는 영역이 생기고, 그 결과, 보호층이 형성된 상기 플렉시블 기판에서의 보호층의 선단(先端)을 기점으로 하여, 플렉시블 기판이 구부러지므로, 보호층이 형성되는 영역을 소정 폭으로 제어할 수 있다. 이로써, 패널 단부로부터 외측으로 돌출하는 플렉시블 기판의 절곡부의 돌출 폭을 작게 제어할 수 있다.Here, in order to control the bendability of a flexible substrate, in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-26528 (patent document 2), the panel which has an electrode lead-out part, the flexible substrate connected to the said electrode lead-out part, the said flexible substrate, In an image display device having a protective layer covering a connecting portion of the electrode lead-out portion, it is disclosed to change the wettability to a resin material on the flexible substrate. With the above configuration, when the resin material is applied to the flexible substrate, a region in which the resin material is stably formed with a protective layer and a region in which the protective layer is not stably formed by repelling the resin material are created, as a result, the protection Since the flexible substrate is bent from the tip of the protective layer in the layered flexible substrate as a starting point, the region in which the protective layer is formed can be controlled to a predetermined width. Thereby, the protrusion width of the bent part of the flexible board|substrate which protrudes outward from the panel edge part can be controlled small.

일본공개특허 평7-106728호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 7-106728 일본공개특허 제2008-26528호 공보Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-26528

그런데, 화상 표시 장치에 대해서는 새로운 소형화 및 협프레임화가 기대되고, 화상 표시 장치 등을 구성하는 리지드 기판의 단부에서 구부린 플렉시블 기판에 대하여, 상기 절곡부의 돌출 폭을, 더욱 축소하고자 하는 강한 요청이 있다. 그러나, 무리하게 돌출 폭을 축소하려고 하면 과도하게 구부러지고, 배선의 접속부의 접착력이 부족하게 되면 박리될 우려가 있다. 또한, 플렉시블 기판이 리지드 기판 근방에서 급격하게 구부러져, 플렉시블 기판과 리지드 기판의 경계 부분에 응력이 집중하여, 배선이 파단(破斷)할 우려가 있다.However, new miniaturization and narrower frames are expected for image display devices, and there is a strong demand for further reducing the protrusion width of the bent portion for a flexible substrate bent at the end of a rigid substrate constituting an image display device or the like. However, if the protrusion width is forcibly reduced, it may be bent excessively, and if the adhesive force of the connecting portion of the wiring is insufficient, there is a risk of peeling. Further, the flexible substrate is bent abruptly in the vicinity of the rigid substrate, stress is concentrated at the boundary portion between the flexible substrate and the rigid substrate, and there is a fear that the wiring may break.

또한, 일본공개특허 평7-106728호 공보(특허문헌 1)에 기재된 기술에서는, 사용되고 있는 보호 부재의 수지 조성물의 굽힘탄성율이 880kg/mm2(=8630MPa)(실시예)으로 단단하기 때문인지, 리지드 기판과 플렉시블 기판의 경계 부분에서 배선 파단을 방지할 수 있지만, 보호 부재가 형성되어 있는 부분과 보호 부재가 형성되어 있지 않은 부분의 경계 부분에서, 급격하게 플렉시블 기판이 절곡되어, 배선이 파단하기 쉬운 것도 알았다.In addition, in the technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-106728 (Patent Document 1), the flexural modulus of the resin composition of the protective member used is 880 kg/mm 2 (=8630 MPa) (Example), which is hard because, Breakage of wiring can be prevented at the boundary between the rigid substrate and the flexible substrate, but at the boundary between the portion where the protection member is formed and the portion where the protection member is not formed, the flexible substrate is abruptly bent and the wiring is broken. I found it easy too.

본 발명은, 상기한 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이다. 즉, 내구성이 우수한 플렉시블 부위를 가지는 전자 기판, 및 플렉시블 부위에 사용하는 유연성 및 내굴곡성이 우수한 광경화성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in order to solve the above problems. That is, an object of the present invention is to provide an electronic substrate having a flexible portion having excellent durability, and a photocurable composition having excellent flexibility and flex resistance for use in the flexible portion.

상기 목적을 달성하는 본 발명의 전자 기판, 및 광경화성 조성물은, 이하와 같다.The electronic board|substrate of this invention which achieves the said objective, and a photocurable composition are as follows.

본 발명의 전자 기판은, 리지드 기판과, 상기 리지드 기판의 단부로부터 연장되고 도통 가능하게 접속되는 플렉시블 기판과, 상기 리지드 기판으로부터 상기 플렉시블 기판에 이르는 배선을 구비하고, 상기 플렉시블 기판은, 상기 리지드 기판의 단부로부터 돌출하고 상기 리지드 기판의 한쪽 면 측을 향하여 구부러진 절곡부를 가지는 전자 기판에 대하여, 상기 리지드 기판의 단부로부터 상기 절곡부에 이르는 상기 리지드 기판과 상기 플렉시블 기판의 경계 부분에서, 상기 플렉시블 기판 중 적어도 한쪽 면에 탄성 보호 부재가 설치되고, 상기 탄성 보호 부재는, 나노인덴테이션 시험(nanoindentation test)으로 측정되는 마르텐스 경도(Martens hardness)가 0.35∼3.0 N/mm2이며, 인장파단신장(tensile breaking elongation)이 100% 이상인 것을 특징으로 하는 전자 기판이다.An electronic substrate of the present invention includes a rigid substrate, a flexible substrate extending from an end of the rigid substrate and connected so as to be electrically conductive, and wiring from the rigid substrate to the flexible substrate, wherein the flexible substrate includes: With respect to an electronic substrate having a bent portion protruding from the end of the rigid substrate and bent toward one side of the rigid substrate, at the boundary between the rigid substrate and the flexible substrate from the end of the rigid substrate to the bent portion, among the flexible substrates An elastic protective member is installed on at least one surface, and the elastic protective member has a Martens hardness measured by a nanoindentation test of 0.35 to 3.0 N/mm 2 , and a tensile rupture elongation ( It is an electronic substrate, characterized in that tensile breaking elongation) is 100% or more.

리지드 기판과, 상기 리지드 기판의 단부로부터 연장되고 도통 가능하게 접속되는 플렉시블 기판과, 상기 리지드 기판으로부터 상기 플렉시블 기판에 이르는 배선을 구비하고, 상기 플렉시블 기판에, 상기 리지드 기판의 단부로부터 돌출하고 상기 리지드 기판의 한쪽 면 측을 향하여 구부러진 절곡부를 가지는 전자 기판은, 상기 리지드 기판의 단부로부터 상기 절곡부에 이르는 상기 리지드 기판과 상기 플렉시블 기판의 경계 부분에서, 상기 플렉시블 기판 중 적어도 한쪽 면에 탄성 보호 부재가 설치되고, 상기 탄성 보호 부재는, 나노인덴테이션 시험으로 측정되는 마르텐스 경도가 0.35∼3.0 N/mm2이며, 인장파단신장이 100% 이상인 것으로서 구성했기 때문에, 리지드 기판과 절곡된 플렉시블 기판의 경계 부분, 및 탄성 보호 부재가 형성되어 있는 부분과 형성되어 있지 않은 부분의 경계 부분에서 배선의 단선이 쉽게 생기지 않아, 도통의 확실성을 높일 수 있다.A rigid substrate, a flexible substrate extending from an end of the rigid substrate and connected in a conductive manner, and a wiring extending from the rigid substrate to the flexible substrate, the flexible substrate protruding from the end of the rigid substrate and extending from the rigid substrate An electronic substrate having a bent portion bent toward one side of the substrate has an elastic protective member on at least one surface of the flexible substrate at a boundary between the rigid substrate and the flexible substrate extending from the end of the rigid substrate to the bent portion installed, and the elastic protective member has a Martens hardness measured by a nanoindentation test of 0.35 to 3.0 N/mm 2 and a tensile rupture elongation of 100% or more, so that of a rigid substrate and a bent flexible substrate Disconnection of wiring does not easily occur at the boundary portion and at the boundary portion between the portion where the elastic protection member is formed and the portion where the elastic protection member is not formed, so that the reliability of conduction can be improved.

상기 탄성 보호 부재는, 나노인덴테이션 시험으로 측정되는 마르텐스 경도가, 0.35∼3.0 N/mm2인 것으로 하였으므로, 리지드 기판의 단부로부터 플렉시블 기판에 걸쳐서 상기 탄성 보호 부재가 가요성을 가지면서 소정의 경도를 가지는 것이 되고, 플렉시블 기판을 구부렸을 때의 굴곡 반경을, 종래에 비교하여 작게 하면서도 지나치게 작아지지 않도록 할 수 있다. 이로써, 상기 리지드 기판의 단부로부터 외측으로 돌출하는 상기 플렉시블 기판의 절곡부의 돌출 폭(즉, 리지드 기판의 단부로부터의 플렉시블기판의 돌출량)을, 종래에 비해 작게 하면서도, 리지드 기판과 플렉시블 기판의 경계 부분 및 탄성 보호 부재가 형성되어 있는 부분과 형성되어 있지 않은 부분의 경계 부분이 극단적으로 구부러지는 것을 회피할 수 있다.The elastic protective member has a Martens hardness measured by the nanoindentation test of 0.35 to 3.0 N/mm 2 It becomes a thing with hardness of , and it can make it small compared with the prior art, and the bending radius at the time of bending a flexible board|substrate, it can be made not to become small too much. Thereby, while making the protrusion width of the bent portion of the flexible substrate protruding outward from the end of the rigid substrate (that is, the amount of protrusion of the flexible substrate from the end of the rigid substrate) smaller than that of the prior art, the boundary between the rigid substrate and the flexible substrate It is possible to avoid extreme bending of the portion and the boundary portion between the portion in which the elastic protective member is formed and the portion in which the elastic protective member is not formed.

상기 탄성 보호 부재는, 인장파단신장이 100% 이상인 것으로 하였으므로, 리지드 기판의 단부로부터 플렉시블 기판에 걸쳐서 상기 탄성 보호 부재가 신장성을 가지고, 플렉시블 기판을 구부렸을 때의 변형에 추종할 수 있으므로, 플렉시블 기판이 극단적으로 구부러지는 것을 회피할 수 있고, 또한 굴곡 시의 탄성 보호 부재의 박리를 방지할 수 있으므로, 내구성이 우수하다.Since the elastic protective member has a tensile rupture elongation of 100% or more, the elastic protective member has extensibility from the end of the rigid substrate to the flexible substrate and can follow the deformation when the flexible substrate is bent, so it is flexible Since it is possible to avoid extreme bending of the substrate and to prevent peeling of the elastic protective member at the time of bending, it is excellent in durability.

또한, 상기 탄성 보호 부재의 영률은, 40∼250 MPa로 할 수 있다. 영률을 40∼250 MPa로 하면 적절한 유연성을 가지고, 이로써, 종래에 비해, 플렉시블 기판의 굴곡 반경을 작게 하면서도 지나치게 작지 않도록 할 수 있다. 그 결과, 상기 리지드 기판의 단부로부터 외측으로 돌출하는 상기 플렉시블 기판의 절곡부의 돌출 폭을, 종래에 비하여, 작게 하면서도, 리지드 기판과 플렉시블 기판의 경계 부분 및 보호 부재의 형성되어 있는 부분과 보호 부재가 형성되어 있지 않은 부분의 경계 부분이 극단적으로 구부러지는 것을 회피할 수 있다.In addition, the Young's modulus of the elastic protective member may be 40 to 250 MPa. When the Young's modulus is set to 40 to 250 MPa, adequate flexibility is obtained, and thus, the bending radius of the flexible substrate can be reduced compared to the prior art, but not too small. As a result, while the protrusion width of the bent portion of the flexible substrate protruding outward from the end of the rigid substrate is made smaller than in the prior art, the boundary portion between the rigid substrate and the flexible substrate and the portion where the protection member is formed and the protection member Extreme bending of the boundary portion of the unformed portion can be avoided.

그리고, 탄성 보호 부재는, 상기 리지드 기판과 상기 플렉시블 기판의 경계 부분에 설치하고 있으므로, 탄성 보호 부재가 리지드 기판과 플렉시블 기판의 양쪽에 밀착하고, 리지드 기판과 플렉시블 기판의 박리를 방지하는 동시에, 리지드 기판과 플렉시블 기판의 경계에 습기나 이물질이 침입하는 것을 방지할 수 있다.And, since the elastic protection member is provided at the boundary portion between the rigid substrate and the flexible substrate, the elastic protection member is in close contact with both the rigid substrate and the flexible substrate to prevent peeling of the rigid substrate and the flexible substrate, It is possible to prevent moisture or foreign substances from entering the boundary between the substrate and the flexible substrate.

본 발명은, 상기 탄성 보호 부재가, 상기 리지드 기판과 상기 플렉시블 기판의 접촉면에 교차하는 상기 리지드 기판의 단면 중 적어도 일부를 덮는 전자 기판으로 할 수 있다. 상기 탄성 보호 부재는, 상기 리지드 기판과 상기 플렉시블 기판의 접촉면에 교차하는 상기 리지드 기판의 단면 중 적어도 일부를 덮는 것으로 하였으므로, 탄성 보호 부재의 리지드 기판과의 고착성(固着性)을 높이고, 탄성 보호 부재를 리지드 기판으로부터 박리하기 어려운 것으로 할 수 있다.The present invention can be an electronic substrate in which the elastic protection member covers at least a part of an end surface of the rigid substrate that intersects the contact surfaces of the rigid substrate and the flexible substrate. Since the elastic protection member covers at least a part of an end surface of the rigid substrate that intersects the contact surfaces of the rigid substrate and the flexible substrate, the elastic protection member improves the adhesion of the rigid substrate to the rigid substrate, and the elastic protection member can be made difficult to peel from the rigid substrate.

본 발명은, 상기 절곡부를 협지하고, 상기 리지드 기판과는 반대 측에 위치하는 상기 플렉시블 기판이 상기 리지드 기판에 대하여 대략 180도 구부러져 있는 전자 기판으로 할 수 있다. 상기 절곡부를 협지하여, 상기 리지드 기판과는 반대 측에 위치하는 상기 플렉시블 기판이 상기 리지드 기판에 대하여 대략 180도 구부러져 있으므로, 리지드 기판에 대한 근방에 플렉시블 기판을 배치할 수 있고, 플렉시블 기판을 컴팩트하게 수용할 수 있다.The present invention can be an electronic substrate in which the flexible substrate positioned on the opposite side to the rigid substrate is bent by approximately 180 degrees with respect to the rigid substrate by sandwiching the bent portion. Since the flexible substrate positioned on the opposite side to the rigid substrate by holding the bent portion is bent by approximately 180 degrees with respect to the rigid substrate, it is possible to arrange the flexible substrate in the vicinity of the rigid substrate, thereby making the flexible substrate compact can be accepted

상기 플렉시블 기판은, 15∼200 μm의 두께를 가지는 수지 필름이며, 상기 플렉시블 기판을 구부렸을 때, 상기 플렉시블 기판의 구부러진 내면에 상기 탄성 보호 부재가 설치되어 있는 것으로 구성할 수 있다. 상기 플렉시블 기판의 수지 필름의 두께가 15∼200 μm라도, 상기 플렉시블 기판 절곡부의 돌출 폭을, 종래에 비해 작게 할 수 있고 또한 지나치게 작아지지 않도록 할 수 있다. 또한, 플렉시블 기판의 구부러진 내면에 탄성 보호 부재를 설치하였으므로, 굴곡 반경을 작게 하도록 구부렸을 때 배선의 손상을 억제할 수 있다.The flexible substrate is a resin film having a thickness of 15 to 200 μm, and when the flexible substrate is bent, the elastic protection member is provided on the bent inner surface of the flexible substrate. Even if the thickness of the resin film of the said flexible board|substrate is 15-200 micrometers, the protrusion width of the said flexible board|substrate bending part can be made small compared with the prior art, and it can be made not to become small too much. Further, since the elastic protection member is provided on the bent inner surface of the flexible substrate, damage to the wiring can be suppressed when bent so as to reduce the bending radius.

또한, 본 발명은 전자 기판에 도포한 후에 광을 조사(照射)하여 경화시킴으로써, 탄성 보호 부재를 형성하는 광경화성 조성물이며, 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와, 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와, 열가소성 엘라스토머와, 라디칼 중합개시제를 포함하고, 상기 경화 후의 경화체는, 나노인덴테이션 시험으로 측정되는 마르텐스 경도가, 0.35∼3.0 N/mm2이며, 인장파단신장이 100% 이상인 광경화성 조성물로서 구성할 수 있다.In addition, the present invention is a photocurable composition for forming an elastic protective member by curing by irradiating light after application to an electronic substrate, a monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, and a monofunctional aliphatic (meth) An acrylic acid ester monomer, a thermoplastic elastomer, and a radical polymerization initiator, wherein the cured product after curing has a Martens hardness measured by a nanoindentation test of 0.35 to 3.0 N/mm 2 and a tensile elongation at break of 100% It can be comprised as the above photocurable composition.

본 발명의 광경화성 조성물은, 전자 기판에 도포한 후에 광을 조사하여 경화시킴으로써, 탄성 보호 부재를 형성하는 광경화성 조성물이며, 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와, 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와, 열가소성 엘라스토머와, 라디칼 중합개시제를 포함하고, 상기 경화 후의 경화체가 나노인덴테이션 시험으로 측정되는 마르텐스 경도가, 0.35∼3.0 N/mm2이며, 인장파단신장이 100% 이상인 것으로 하였으므로, 플렉시블 기판에 설치한 경화체가 플렉시블 기판의 절곡을 방해할 우려가 없고, 작은 굴곡 반경이면서 지나치게 작지 않은 굴곡 반경으로 플렉시블 기판을 구부릴 수 있다. 또한, 경화체는 신장성을 가지고, 플렉시블 기판을 구부렸을 때의 변형에 추종할 수 있으므로, 플렉시블 기판이 극단적으로 구부러지는 것을 회피할 수 있고, 또한 굴곡 시의 박리를 방지할 수 있다. 또한 내구성이 우수하다.The photocurable composition of the present invention is a photocurable composition that forms an elastic protective member by curing it by irradiating light after application to an electronic substrate, and includes a monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer and a monofunctional aliphatic (meth) An acrylic acid ester monomer, a thermoplastic elastomer, and a radical polymerization initiator, wherein the cured product after curing has a Martens hardness measured by a nanoindentation test of 0.35 to 3.0 N/mm 2 and a tensile elongation at break of 100% or more Therefore, there is no fear that the cured body provided on the flexible substrate interferes with the bending of the flexible substrate, and the flexible substrate can be bent with a small bending radius but not too small. Moreover, since a hardening body has extensibility and can follow the deformation|transformation at the time of bending a flexible substrate, it can avoid extreme bending of a flexible substrate, and also can prevent peeling at the time of bending. It also has excellent durability.

본 발명은, 또한량 극성(極性) 모노머를 포함하는 광경화성 조성물로 할 수 있다. 또한 고극성 모노머를 포함하는 광경화성 조성물은, 플렉시블 기판으로의 밀착성이 높고, 플렉시블 기판의 변형에 대한 추종성이 높아진다.The present invention can also be made into a photocurable composition containing an amount polar monomer. Moreover, the photocurable composition containing a high polarity monomer has high adhesiveness to a flexible substrate, and the followability|trackability with respect to the deformation|transformation of a flexible substrate becomes high.

본 발명은, 미경화 시의 점도가, 10∼5000 mPa·s의 범위인 광경화성 조성물로 할 수 있다. 미경화 시의 점도가 10∼5000 mPa·s의 범위이므로, 전자 기판으로의 도포량을 정밀하게 제어하기 쉽고, 도포의 작업성이 우수하다. 그 결과, 전자 기판에 과잉으로 도포될 우려가 낮다.The present invention can be a photocurable composition having a viscosity in the uncured range of 10 to 5000 mPa·s. Since the viscosity at the time of uncuring is the range of 10-5000 mPa*s, it is easy to precisely control the amount of application to an electronic board|substrate, and it is excellent in the workability|operativity of application|coating. As a result, there is a low possibility that it is applied excessively to the electronic substrate.

본 발명의 전자 기판은, 리지드 기판과 플렉시블 기판의 경계 부분 및 탄성 보호 부재가 형성되어 있는 부분과 형성되어 있지 않은 부분의 경계 부분에서의 배선의 파단을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명의 광경화성 조성물은, 미경화 시의 점도가 낮으므로, 도포하기 쉽고, 작업성이 우수하고, 또한, 경화 후의 경화체가 원하는 경도와 내굴곡성과 적절한 유연성을 발현할 수 있다.The electronic board of the present invention can prevent breakage of wiring in the boundary portion between the rigid substrate and the flexible substrate and the boundary portion between the portion in which the elastic protection member is formed and the portion in which the elastic protection member is not formed. In addition, since the photocurable composition of the present invention has a low viscosity when uncured, it is easy to apply and has excellent workability, and the cured body after curing can exhibit desired hardness, flex resistance, and appropriate flexibility.

도 1은 본 발명의 일실시형태에서의 전자 기판의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일실시형태에서의 전자 기판의 모식단면도이다.
도 3은 시험 방법의 하나를 설명하는 설명도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a perspective view of the electronic board|substrate in one Embodiment of this invention.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view of an electronic substrate according to an embodiment of the present invention.
It is explanatory drawing explaining one of the test methods.

본 발명의 전자 기판(10)에 대하여 실시형태에 기초하여 상세하게 설명한다. 전자 기판(10)은, 도 1에 나타낸 바와 같이, 리지드 기판(12)과, 리지드 기판(12)의 단부로부터 연장되고 도통 가능하게 접속되는 플렉시블 기판(14)을 구비하고, 리지드 기판(12)으로부터 플렉시블 기판(14)에는 이들 기판(12, 14) 위에 배치되는 배선(도시하지 않음)을 가지고 있다. 플렉시블 기판(14)은, 도 2에서 나타낸 바와 같이, 리지드 기판(12)의 단부로부터 돌출하고 리지드 기판(12)의 한쪽 면 측(도 2에서는 하측)을 향하여 구부러진 절곡부(16)를 가지고 있고, 리지드 기판(12)의 단부로부터 절곡부(16)에 걸쳐서, 그 적어도 한쪽 면에는 탄성 보호 부재(18)가 설치되어 있다. 이 절곡부(16)는 리지드 기판(12)으로부터 돌출 폭(40)을 가지고 돌출하고 있다.The electronic board 10 of this invention is demonstrated in detail based on embodiment. As shown in FIG. 1 , the electronic substrate 10 includes a rigid substrate 12 and a flexible substrate 14 extending from an end of the rigid substrate 12 and connected so as to be conductive, the rigid substrate 12 . The flexible substrate 14 has wirings (not shown) arranged on these substrates 12 and 14 . As shown in Fig. 2, the flexible substrate 14 has a bent portion 16 that protrudes from the end of the rigid substrate 12 and is bent toward one side side (lower side in Fig. 2) of the rigid substrate 12, , from the end of the rigid substrate 12 to the bent portion 16 , an elastic protection member 18 is provided on at least one surface thereof. The bent portion 16 protrudes from the rigid substrate 12 with a protruding width 40 .

리지드 기판(12)에는, 도 2의 확대 부분에서 나타낸 바와 같이, 예를 들면, 유리 기판에 각종 기능층을 적층한 액정 모니터 패널이나 LED 실장 패널로 할 수 있다. 더욱 상세하게 설명하면, 액정 모니터 패널의 경우에는, 리지드 기판(12)은, 편광판(12a)과, 제1 투명 전극 부착 유리 기판(12b)과, 제2 투명 전극 부착 유리 기판(12d)과, 상기 제(1) 유리 기판(12b)과 상기 제(2) 유리 기판(12d)에 협지되어 있는 액정층(12c)과, 액정을 봉지(封止)하는 봉지재(도시하지 않음)와, 제2 유리 기판(12d) 측의 배면에 배치된 편광판(12e)과 백라이트 유닛(12f)이 순차적으로 적층되어 이루어진다.As shown in the enlarged part of FIG. 2, the rigid substrate 12 can be set as the liquid crystal monitor panel or LED mounting panel which laminated|stacked various functional layers on the glass substrate, for example. More specifically, in the case of a liquid crystal monitor panel, the rigid substrate 12 includes a polarizing plate 12a, a first glass substrate 12b with a transparent electrode, a glass substrate 12d with a second transparent electrode, A liquid crystal layer 12c sandwiched between the (1) glass substrate 12b and the (2) glass substrate 12d, a sealing material (not shown) for sealing the liquid crystal; 2 A polarizing plate 12e and a backlight unit 12f disposed on the rear surface of the glass substrate 12d are sequentially stacked.

그리고, 전자 기판(10)의 구조는, 전술한 구조에 한정되지 않고, 리지드 기판(12)이 플렉시블 기판(14)에 비교하여 경질의 기판이면, 어떠한 구성이라도 된다. 일례를 나타내면, 예를 들면, 유리 에폭시 수지 기판, 페놀 수지 기판, 실리콘 기판, 세라믹스 기판 등이라도 된다. 또한, TFT 액정 모니터의 경우에는, 제1 투명 전극 부착 유리 기판(12b)은, 제1 투명 전극 및 컬러 필터 부착 유리 기판이 되고, 제2 투명 전극 부착 유리 기판(12d)은, 제2 투명 전극 및 TFT 부착 유리 기판이 된다. 유리 기판(12d)에 배치된 배선과 플렉시블 기판(14)에 배치된 배선은, 이방도전성 접착제(15)에 의해 접속되어 있다.In addition, the structure of the electronic board|substrate 10 is not limited to the structure mentioned above, As long as the rigid board|substrate 12 is a board|substrate which is hard compared with the flexible board|substrate 14, any structure may be sufficient. If an example is shown, a glass epoxy resin board|substrate, a phenol resin board|substrate, a silicon board|substrate, a ceramic board|substrate etc. may be sufficient, for example. In addition, in the case of a TFT liquid crystal monitor, the 1st glass substrate 12b with a transparent electrode becomes a 1st transparent electrode and a glass substrate with a color filter, The 2nd glass substrate 12d with a transparent electrode is a 2nd transparent electrode and a glass substrate with TFT. The wiring arranged on the glass substrate 12d and the wiring arranged on the flexible substrate 14 are connected by an anisotropic conductive adhesive 15 .

탄성 보호 부재(18)는, 리지드 기판(12)과 플렉시블 기판(14)의 경계 부분에서 절곡부(16)의 내측 또는 외측 중 적어도 한쪽에, 후술하는 광경화성 조성물을 도포하고, 자외선 등에 의해 경화하여 형성된다. 그리고, 탄성 보호 부재(18)는 리지드 기판(12)과 플렉시블 기판(14)의 접촉면에 교차하는 리지드 기판(12)의 단면(端面)(12g) 중 적어도 일부를 덮는 것이 바람직하다.In the elastic protective member 18, a photocurable composition described later is applied to at least one of the inner side or the outer side of the bent portion 16 at the boundary between the rigid substrate 12 and the flexible substrate 14, and cured by ultraviolet rays or the like. is formed by And, it is preferable that the elastic protection member 18 covers at least a part of the end surface 12g of the rigid substrate 12 which intersects the contact surface of the rigid substrate 12 and the flexible substrate 14.

플렉시블 기판(14)은, 폴리이미드 필름이나 폴리에스테르 필름 등의 수지 필름이 되는 기판이며, 통상은 수지 필름의 표면에 적어도 배선이 형성되어 있다. 본 발명에서는, 폴리이미드 필름 위에 배선이 설치되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 플렉시블 기판(14)의 두께는, 15∼200 μm인 것이 보다 바람직하다. 15μm보다 얇으면 필름 자체가 굴곡하기 쉽고, 적절한 커브를 그린 구부러짐이 아니라, 예각적(銳角的)인 절곡이 생길 우려가 있다. 한편 200μm보다 두꺼우면 구부러진 산(山) 측이 지나치게 신장되고 골(谷) 측이 지나치게 축소되므로, 배선의 보호가 곤란하게 된다.The flexible substrate 14 is a board|substrate used as resin films, such as a polyimide film and a polyester film, Usually, wiring is formed in the surface of a resin film at least. In this invention, it is preferable that wiring is provided on a polyimide film. Moreover, as for the thickness of the flexible substrate 14, it is more preferable that it is 15-200 micrometers. When it is thinner than 15 micrometers, the film itself is easy to bend|fold, and there exists a possibility that acute-angle bending may arise instead of the bending which drew an appropriate curve. On the other hand, when the thickness is greater than 200 μm, the bent mountain side is stretched excessively and the valley side is excessively reduced, making it difficult to protect the wiring.

또한, 상기 플렉시블 기판(14)은, 배선 이외에 레지스트층(도시하지 않음)을 구비하는 것으로 할 수 있다. 또한, 나아가서는 전자 소자가 구현되어 있는, 소위 칩 온 필름으로 해도 된다. 그 경우에는, 상기 전자 소자는 절곡부의 가장 굴곡되는 부분을 피하여 배치하는 것이 바람직하다.In addition, the said flexible board|substrate 14 can be provided with a resist layer (not shown) in addition to wiring. Furthermore, it is good also as a so-called chip-on film in which an electronic element is implemented. In that case, it is preferable to arrange|position the said electronic element avoiding the most curved part of a bending part.

탄성 보호 부재(18)는, 리지드 기판(12)의 단부로부터 플렉시블 기판(14)에 걸쳐서 설치함으로써 배선을 보호하는 것이며, 후술하는 광경화성 조성물을 경화시켜서 이루어진다. 탄성 보호 부재(18)는, 우수한 가요성에 더하여, 신장성 및 압축성도 가짐으로써 플렉시블 기판(14)이 급각도로 구부러지는 것을 방지하고 있다. 보다 구체적으로는, 탄성 보호 부재(18)가 플렉시블 기판(14)의 내측에 배치되어 있는 경우에는, 구부렸을 때 탄성 보호 부재(18)가 압축됨으로써 굴곡 반경을 작게 할 수 있지만 지나치게 작아지지도 않는다. 한편, 탄성 보호 부재(18)가 플렉시블 기판(14)의 외측에 배치되어 있는 경우에는, 구부렸을 때 탄성 보호 부재(18)가 비교적 약한 응력으로 신장됨으로써 굴곡 반경을 작게 할 수 있지만 지나치게 작아지지도 않는다.The elastic protection member 18 protects wiring by providing it from the edge part of the rigid board|substrate 12 to the flexible board|substrate 14, It hardens|cures the photocurable composition mentioned later. The elastic protective member 18 is preventing the flexible substrate 14 from bending at an acute angle by having extensibility and compressibility in addition to excellent flexibility. More specifically, when the elastic protective member 18 is disposed inside the flexible substrate 14, the bending radius can be reduced by compressing the elastic protective member 18 when bent, but it is not too small. On the other hand, when the elastic protective member 18 is disposed on the outside of the flexible substrate 14, when the elastic protective member 18 is bent with a relatively weak stress, the bending radius can be reduced, but it is not too small. .

탄성 보호 부재(18)는, 나노인덴테이션 시험으로 측정되는 마르텐스 경도를 0.35∼3.0 N/mm2의 범위로 하고 있고, 바람직하게는 0.4∼2.5 N/mm2이다. 탄성 보호 부재(18)의 마르텐스 경도를, 0.35∼3.0 N/mm2의 범위로 하고, 인장파단신장도 소정 범위로 함으로써 리지드 기판(12)과 플렉시블 기판(14)의 경계 부분 및 탄성 보호 부재가 형성되어 있는 부분과 형성되어 있지 않은 부분의 경계 부분의 배선의 파단을 방지할 수 있다. 한편, 마르텐스 경도가 0.35N/mm2보다 작으면, 탄성 보호 부재(18)가 지나치게 부드러워지고, 또한 3.0N/mm2보다 크면 지나치게 단단하게 되어, 어느 경우라도 배선의 보호가 불충분하게 된다.The elastic protective member 18 has a Martens hardness measured by the nanoindentation test in the range of 0.35 to 3.0 N/mm 2 , and preferably 0.4 to 2.5 N/mm 2 . The boundary portion between the rigid substrate 12 and the flexible substrate 14 and the elastic protection member by setting the Martens hardness of the elastic protective member 18 in the range of 0.35 to 3.0 N/mm 2 and the tensile rupture elongation in a predetermined range. It is possible to prevent breakage of the wiring at the boundary between the portion in which is formed and the portion in which is not formed. On the other hand, when the Martens hardness is smaller than 0.35 N/mm 2 , the elastic protective member 18 becomes too soft, and when it is larger than 3.0 N/mm 2 , it becomes too hard, and the protection of the wiring becomes insufficient in any case.

탄성 보호 부재(18)의 영률은, 40∼250 MPa로 할 수 있고, 바람직하게는 60∼200 MPa이다. 탄성 보호 부재(18)의 영률을, 40∼250 MPa의 범위로 하면, 마르텐스 경도와 인장파단신장에 대해서도 소정 범위로 하기 쉽고, 리지드 기판(14)과 플렉시블 기판(16)의 경계 부분 및 탄성 보호 부재가 형성되어 있는 부분과 형성되어 있지 않은 부분의 경계 부분의 배선의 파단을 방지할 수 있다.The Young's modulus of the elastic protective member 18 can be 40 to 250 MPa, preferably 60 to 200 MPa. When the Young's modulus of the elastic protective member 18 is in the range of 40 to 250 MPa, it is easy to set the Martens hardness and tensile elongation at break within a predetermined range, and the boundary portion between the rigid substrate 14 and the flexible substrate 16 and the elasticity It is possible to prevent breakage of the wiring at the boundary between the portion in which the protection member is formed and the portion in which the protection member is not formed.

상기 영률은 상기 마르텐스 경도와는 일정한 상관성이 있지만, 반드시 비례하는 것은 아니다. 보다 구체적으로는, 영률은 경화물 전체가 인장되었을 때의 경도의 성질을 나타내고, 마르텐스 경도는 경화물 표면이 압축되었을 때의 경도의 영향을 보다 반영한 값이라고 할 수 있다. 리지드 기판에 접속된 플렉시블 기판의 내굴곡성에 대해서는, 경화물의 압축되었을 때의 경도의 영향이 보다 중요하므로, 본 발명에서는 마르텐스 경도를 중시하고 있다. 한편, 동일한 마르텐스 경도일 경우에는, 영률이 작은 경화물인 것이 바람직하다. 그러면, 표면경화성이 우수하고, 유연성과 표면의 내구성이 우수하기 때문이다.The Young's modulus has a certain correlation with the Martens hardness, but is not necessarily proportional. More specifically, it can be said that the Young's modulus represents the property of hardness when the entire cured product is stretched, and the Martens hardness is a value that more reflects the effect of hardness when the surface of the cured product is compressed. About the bending resistance of the flexible board|substrate connected to a rigid board|substrate, since the influence of the hardness at the time of compression of hardened|cured material is more important, in this invention, the Martens hardness is considered as important. On the other hand, in the case of the same Martens hardness, it is preferable that the cured product has a small Young's modulus. This is because the surface hardenability is excellent, and the flexibility and durability of the surface are excellent.

탄성 보호 부재(18)의 인장파단신장은 100% 이상이다. 탄성 보호 부재(18)의 인장파단신장을 100% 이상으로 하고, 마르텐스 경도를 소정 범위로 함으로써 리지드 기판(14)과 플렉시블 기판(16)의 경계 부분 및 탄성 보호 부재가 형성되어 있는 부분과 형성되어 있지 않은 부분의 경계 부분의 배선의 파단을 방지할 수 있다. 한편, 인장파단신장이 100%보다 작으면, 플렉시블 기판의 변형에 추종하기 어려워 배선의 보호가 불충분하게 된다.The tensile rupture elongation of the elastic protective member 18 is 100% or more. By setting the tensile breaking elongation of the elastic protection member 18 to 100% or more and the Martens hardness to a predetermined range, the boundary portion between the rigid substrate 14 and the flexible substrate 16 and the portion where the elastic protection member is formed and formed It is possible to prevent breakage of the wiring at the boundary of the unfinished part. On the other hand, when the tensile rupture elongation is less than 100%, it is difficult to follow the deformation of the flexible substrate, and the protection of the wiring becomes insufficient.

광경화성 조성물은, 기판(12, 14)에 도포한 후에 광을 조사하여 경화시킴으로써, 탄성 보호 부재(18)를 형성하는 광경화성 조성물로서, 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와, 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와, 열가소성 엘라스토머와, 라디칼 중합개시제를 포함하는 것이다. 그리고, 경화체의 성질로서, 나노인덴테이션 시험으로 측정되는 마르텐스 경도가, 0.35∼3.0 N/mm2이며, 인장파단신장이 100% 이상이다. 그리고, 이 광경화성 조성물의 경화체를 간단히 경화체라고도 한다.The photocurable composition is a photocurable composition that forms the elastic protective member 18 by irradiating light after being applied to the substrates 12 and 14 and curing it, and includes a monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer and a monofunctional It contains an aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, a thermoplastic elastomer, and a radical polymerization initiator. And, as a property of the hardened body, the Martens hardness measured by the nanoindentation test is 0.35 to 3.0 N/mm 2 , and the tensile elongation at break is 100% or more. In addition, the hardening body of this photocurable composition is also simply called a hardening body.

여기서, 「단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머」는, 단관능 지환식 아크릴산 에스테르 모노머 및 단관능 지환식 메타크릴산 에스테르 모노머를 포함하는 의미이다. 「단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머」는, 단관능 지방족 아크릴산 에스테르 모노머 및 단관능 지방족 메타크릴산 에스테르 모노머를 포함하는 의미이다. 마찬가지로, 「고극성 모노머」는, 극성기를 포함하는 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 또는 아크릴아미드기를 가지는 모노머, 말레이미드기를 가지는 모노머를 포함하는 의미이다.Here, "monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer" is a meaning including a monofunctional alicyclic acrylic acid ester monomer and a monofunctional alicyclic methacrylic acid ester monomer. "Monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer" is a meaning including a monofunctional aliphatic acrylic acid ester monomer and a monofunctional aliphatic methacrylic acid ester monomer. Similarly, a "high polarity monomer" is a meaning including the (meth)acrylic acid ester monomer containing a polar group, the monomer which has an acrylamide group, and the monomer which has a maleimide group.

광경화성 조성물은 도포성의 관점에서, 미경화 시의 점도는 23℃에서, 10∼5000 mPa·s의 범위이며, 바람직하게는 50∼2000 mPa·s의 범위이며, 보다 바람직하게는 90∼1000 mPa·s의 범위이다. 특히 요철을 가지는 도포 대상의 소정 영역에, 소정 두께로 되도록 제트 디스펜서 등의 비접촉형의 도포 장치를 사용하여 광경화성 조성물을 도포하는 경우에는, 도포량을 고정밀도로 제어하기 위하여, 점도를 90∼1000 mPa·s로 하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of applicability of the photocurable composition, the uncured viscosity at 23°C is in the range of 10 to 5000 mPa·s, preferably 50 to 2000 mPa·s, and more preferably 90 to 1000 mPa·s. It is the range of s. In particular, when the photocurable composition is applied to a predetermined area of an application target having irregularities to a predetermined thickness using a non-contact application apparatus such as a jet dispenser, the viscosity is set to 90 to 1000 mPa in order to control the application amount with high precision. It is preferable to set it as s.

광경화성 조성물은, 전술한 각 성분을 포함하고, 전술한 범위의 미경화 시의 점도를 가지는 것에 의해, 도포하기 쉽고 작업성이 우수하며, 경화체가 상기 소정의 성질을 가지는 것에 의해, 적절한 경도와 유연성, 및 내굴곡성을 가지고, 전자 기판(10)의 탄성 보호 부재(18)로서 사용할 수 있다.The photocurable composition contains each of the components described above, and by having an uncured viscosity within the above range, it is easy to apply and has excellent workability. It has flexibility and bending resistance, and can be used as the elastic protection member 18 of the electronic board 10.

다음으로, 광경화성 조성물의 함유 성분에 대하여 설명한다.Next, the components contained in the photocurable composition will be described.

단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머: 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머는, 액상(液狀) 조성물이며, 열가소성 엘라스토머를 용해하는 성분이다. 또한, 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머를 배합함으로써, 광경화성 조성물의 경화 후에서의 경화체의 접착력을 높이면서, 피착물(被着物)에 대하여 경화체를 박리할 때 접착제가 남는 것을 적게 할 수 있다. 또한, 경화체를 강인(强靭)하게 하여 영률을 높이는 효과가 있다. 부가하여, 이 성분의 비율을 많게 하면 방습성을 높일 수 있다.Monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer: A monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer is a liquid composition, and is a component which melt|dissolves a thermoplastic elastomer. In addition, by blending a monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, the adhesive strength of the cured product after curing of the photocurable composition is increased, and the adhesive remains when the cured product is peeled from the adherend. can In addition, there is an effect of increasing the Young's modulus by making the hardening body tough. In addition, when the ratio of this component is increased, moisture resistance can be improved.

단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머로서 구체적으로는, 이소보르닐아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 3,3,5-트리메틸시클로헥실아크릴레이트, 4-tert-부틸시클로헥실아크릴레이트 등을 예로 들 수 있다.Specific examples of the monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer include isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, 3,3,5-trimethylcyclohexyl acrylate, and 4-tert-butylcyclo hexyl acrylate and the like.

단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머: 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머는, 액상 조성물이며, 전술한 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와 함께 열가소성 엘라스토머를 용해하기 위한 성분이다. 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머를 배합함으로써, 광경화성 조성물의 경화 후에 얻어지는 경화체의 유연성을 높이고, 영률을 낮출 수 있다.Monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer: The monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer is a liquid composition, and is a component for dissolving the thermoplastic elastomer together with the aforementioned monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer. By mix|blending a monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, the flexibility of the hardening body obtained after hardening of a photocurable composition can be improved, and a Young's modulus can be low.

단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머로서 구체적으로는, 에톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-에틸헥실디글리콜아크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트 등의 지방족 에테르계 (메타)아크릴산 에스테르 모노머나, 라우릴아크릴레이트, 스테아릴아크릴레이트, 이소스테아릴아크릴레이트, 데실아크릴레이트, 이소데실아크릴레이트, 이소노닐아크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트 등의 지방족 탄화 수소계 (메타)아크릴산 에스테르 모노머를 예로 들 수 있다. 지방족 탄화 수소계 (메타)아크릴산 에스테르 모노머를 사용함으로써, 열가소성 엘라스토머의 소프트 세그먼트와의 상용성(相溶性)을 높이고, 광경화성 조성물의 점도를 낮출 수 있다.As a monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, specifically, aliphatic ether-type (meth)acrylic acid ester monomers, such as ethoxydiethylene glycol acrylate, 2-ethylhexyl diglycol acrylate, butoxyethyl acrylate, and lauryl and aliphatic hydrocarbon-based (meth)acrylic acid ester monomers such as acrylate, stearyl acrylate, isostearyl acrylate, decyl acrylate, isodecyl acrylate, isononyl acrylate, and n-octyl acrylate. . By using the aliphatic hydrocarbon-based (meth)acrylic acid ester monomer, compatibility with the soft segment of the thermoplastic elastomer can be improved, and the viscosity of the photocurable composition can be lowered.

단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머의 혼합비(질량%)는, 15:85∼20:80으로 하는 것이 바람직하다. 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머의 혼합비가 15질량%보다 적으면, 탄성 보호 부재(18)가 지나치게 딱딱해져, 고무 탄성이 손상될 우려가 있다. 한편, 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머의 혼합비가 20질량%를 초과하면, 탄성 보호 부재(18)가 지나치게 부드러워질 우려가 있다.The mixing ratio (mass %) of the monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer and the monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer is preferably 15:85 to 20:80. When the mixing ratio of the monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer is less than 15% by mass, the elastic protective member 18 becomes too hard, and there is a possibility that the rubber elasticity may be impaired. On the other hand, when the mixing ratio of the monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer exceeds 20% by mass, there is a fear that the elastic protective member 18 becomes too soft.

본 발명의 광경화성 조성물은, 또한 다관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머, 또는 고극성 모노머 등을 적절하게 포함해도 된다.The photocurable composition of this invention may also contain suitably a polyfunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, a highly polar monomer, etc. further.

상기 다관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머로서 구체적으로는, 2관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머를 예로 들 수 있다. 상기 2관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머로서는, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 3-메틸-1,5-펜탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸지오루디(메타)아크릴레이트 등을 예로 들 수 있다. 열가소성 엘라스토머의 소프트 세그먼트와의 상용성이 비교적 높으므로, 양 말단에 반응성기를 가지는 2관능 지방족 탄화 수소계 디(메타)아크릴산 에스테르 모노머가 바람직하다.Specific examples of the polyfunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer include a bifunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer. Examples of the bifunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, Polypropylene glycol di(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanedioldi(meth)acrylate, etc. have. Since compatibility with the soft segment of the thermoplastic elastomer is relatively high, a difunctional aliphatic hydrocarbon-based di(meth)acrylic acid ester monomer having reactive groups at both terminals is preferable.

상기 고극성 모노머로서는, 다관능 고극성 모노머와 단관능 고극성 모노머를 예로 들 수 있다. 상기 다관능 고극성 모노머로서는, 극성기를 가지는 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와 비스말레이미드가 포함된다. 극성기를 가지는 (메타)아크릴산 에스테르 모노머의 구체적으로는, 에톡시화 이소시아누르산 디/트리(메타)아크릴레이트, ε-카프로락톤 변성 트리스-(2-아크릴옥시에틸)이소시아누레이트 등을 예로 들 수 있다. 밀착성 향상의 관점에서, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트계 (메타)아크릴산 에스테르 모노머가 바람직하다.Examples of the high polarity monomer include a polyfunctional high polarity monomer and a monofunctional high polarity monomer. As said polyfunctional highly polar monomer, the (meth)acrylic acid ester monomer and bismaleimide which have a polar group are contained. Specific examples of the (meth)acrylic acid ester monomer having a polar group include ethoxylated isocyanuric acid di/tri(meth)acrylate, ε-caprolactone-modified tris-(2-acryloxyethyl)isocyanurate, and the like. can be heard From a viewpoint of an adhesive improvement, a tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate type (meth)acrylic acid ester monomer is preferable.

또한, 비스말레이미드의 구체적으로는, 4,4'-디페닐메탄비스말레이미드, 4-메틸-1,3-페닐렌비스말레이미드, 2,2-비스[4-(4-말레이미드페녹시)페닐]프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 1,6-비스(말레이미드)헥산, 1,6'-비스 말레이미드-(2,2,4-트리메틸)헥산을 예로 들 수 있다. 이들 중에서도 광경화성 조성물의 상용성이나 광경화성을 저해하기 어려운 점에서, 1,6-비스(말레이미드)헥산, 1,6'-비스말레이미드-(2,2,4-트리메틸)헥산 등의 지방족 비스말레이미드가 바람직하다.Further, specific examples of the bismaleimide include 4,4'-diphenylmethanebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, and 2,2-bis[4-(4-maleimidephenoxy). Cy)phenyl]propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane, 1,6-bis(maleimide)hexane, 1,6'-bismaleimide-(2,2,4 -trimethyl)hexane is exemplified. Among these, from the viewpoint of difficulty in inhibiting the compatibility and photocurability of the photocurable composition, 1,6-bis(maleimide)hexane, 1,6'-bismaleimide-(2,2,4-trimethyl)hexane, etc. Aliphatic bismaleimides are preferred.

상기 단관능 고극성 모노머로서 구체적으로는, 하이드록실기 함유 (메타)아크릴산 에스테르 모노머, 글리시딜기 함유 (메타)아크릴산 에스테르 모노머, 아크릴아미드기 함유 모노머, 제3급 아미노기 함유 (메타)아크릴산 에스테르 모노머, 이미드기 함유 (메타)아크릴산 에스테르 모노머를 예로 들 수 있다. 광경화성 조성물 중에서의 보관 안정성과 밀착 향상의 관점에서, 아크릴아미드기 함유 모노머, 제3급 아미노기 함유 (메타)아크릴산 에스테르 모노머, 이미드기 함유 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 등의 질소 함유 모노머가 바람직하다. 예를 들면, 아크릴로일모르폴린, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N-아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈이미드를 예로 들 수 있다. 또한, 플렉시블 기판으로서 폴리이미드를 사용하는 경우에는, N-아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈이미드로 대표되는 이미드아크릴레이트를 사용하는 것이 특히 바람직하다.Specifically, as the monofunctional high polarity monomer, hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester monomer, glycidyl group-containing (meth)acrylic acid ester monomer, acrylamide group-containing monomer, tertiary amino group-containing (meth)acrylic acid ester monomer , an imide group-containing (meth)acrylic acid ester monomer. Nitrogen-containing monomers such as acrylamide group-containing monomers, tertiary amino group-containing (meth)acrylic acid ester monomers, and imide group-containing (meth)acrylic acid ester monomers are preferable from the viewpoint of storage stability and adhesion improvement in the photocurable composition. For example, acryloylmorpholine, dimethylaminoethyl(meth)acrylate, and N-acryloyloxyethylhexahydrophthalimide are exemplified. Moreover, when using a polyimide as a flexible substrate, it is especially preferable to use the imide acrylate represented by N-acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide.

열가소성 엘라스토머: 상기 열가소성 엘라스토머로서는, 스티렌계 열가소성 엘라스토머, 올레핀계 열가소성 엘라스토머, 에스테르계 열가소성 엘라스토머, 우레탄계 열가소성 엘라스토머, 아미드계 열가소성 엘라스토머, 염화 비닐 열가소성 엘라스토머, 불소수지계 열가소성 엘라스토머, 이온 가교계 열가소성 엘라스토머 등을 예로 들 수 있다. 본 발명에서의 열가소성 엘라스토머로서는, 스티렌계 열가소성 엘라스토머가 바람직하다.Thermoplastic elastomer: Examples of the thermoplastic elastomer include styrene-based thermoplastic elastomer, olefin-based thermoplastic elastomer, ester-based thermoplastic elastomer, urethane-based thermoplastic elastomer, amide-based thermoplastic elastomer, vinyl chloride thermoplastic elastomer, fluororesin-based thermoplastic elastomer, ion-crosslinked thermoplastic elastomer, and the like. can be heard As the thermoplastic elastomer in the present invention, a styrenic thermoplastic elastomer is preferable.

스티렌계 열가소성 엘라스토머는, 광경화성 조성물 중에서는, 상기 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 상기 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 상기 단관능 고극성 모노머 중 어느 하나에 용해하고 있다. 그리고, 스티렌계 열가소성 엘라스토머는, 상기 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 상기 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 상기 단관능 고극성 모노머가 경화한 후의 경화체를 박리했을 때의 접착제가 남는 것을 적게 할 수 있고 또한 투습도를 낮춘다. 또한, 스티렌계 열가소성 엘라스토머는, 상기 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 상기 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 상기 단관능 고극성 모노머 중 어느 하나에 용해하고 또한, 경화체에 고무 탄성(유연성과 신장성)을 부여하는 성분이다. 그리고, 본 발명에 있어서, 용해하고 있는 상태는, 전체로서 균일한 액상이 되어 있는 상태이면 되고, 무색 투명인 경우 이외에, 백탁이나 그 외의 색으로 흐려져 있어도 되는 것으로 한다.The styrenic thermoplastic elastomer is dissolved in any one of the monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, the monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, and the monofunctional high polarity monomer in the photocurable composition. And, in the styrenic thermoplastic elastomer, the monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, the monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, and the monofunctional high polarity monomer are cured. The adhesive remains when the cured product is peeled off. You can do less and also lower the moisture permeability. In addition, the styrenic thermoplastic elastomer is dissolved in any one of the monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, the monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, and the monofunctional high polarity monomer, and the rubber elastic ( It is a component that provides flexibility and extensibility). In addition, in this invention, what is necessary is just to be the state which has become a uniform liquid state as a whole, and it shall be clouded by cloudiness or another color except the case where it is colorless and transparent.

스티렌계 열가소성 엘라스토머 단독으로는 고체이므로, 상온(常溫)에서는 접착성을 가지지 않지만, 상기 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 상기 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 상기 단관능 고극성 모노머 중 어느 하나에 용해함으로써, 광경화성 조성물 및 그의 경화체 중에 균일하게 분산시킴으로써, 밀착성을 가지는 광경화성 조성물의 1성분으로서 포함시킬 수 있다.Since the styrenic thermoplastic elastomer alone is a solid, it does not have adhesion at room temperature, but the monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, the monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, and the monofunctional high polarity monomer By dissolving in any one, it can be contained as one component of the photocurable composition which has adhesiveness by disperse|distributing uniformly in the photocurable composition and its hardening body.

스티렌계 열가소성 엘라스토머의 첨가량은, 광경화성 조성물 중 5∼35 질량%인 것이 바람직하고, 10∼20 질량%인 것이 보다 바람직하다. 스티렌계 엘라스토머의 배합이 10질량% 미만인 경우에는, 투습성(透濕性)이 낮고, 고무 탄성도 손상될 우려가 있다. 한편 35질량%를 초과하면, 광경화성 조성물의 점도가 높아지고, 도포가 곤란하게 될 우려가 있다. 20질량% 이하이면 유동성이 바람직하여 도포하기 쉽다.It is preferable that it is 5-35 mass % in the photocurable composition, and, as for the addition amount of a styrenic thermoplastic elastomer, it is more preferable that it is 10-20 mass %. When the mixing|blending of a styrene-type elastomer is less than 10 mass %, moisture permeability is low and there exists a possibility that rubber elasticity may also be impaired. On the other hand, when it exceeds 35 mass %, the viscosity of a photocurable composition may become high, and there exists a possibility that application|coating may become difficult. If it is 20 mass % or less, fluidity|liquidity is preferable and it is easy to apply|coat.

스티렌계 열가소성 엘라스토머의 구체예로서는, 스티렌-부타디엔-스티렌 블록 공중합체(SBS), 스티렌-이소프렌-스티렌 블록 공중합체(SIS), 스티렌-에틸렌-부틸렌-스티렌 블록 공중합체(SEBS), 스티렌-에틸렌-프로필렌-스티렌 블록 공중합체(SEPS), 스티렌-이소부틸렌-스티렌 블록 공중합체(SIBS), 스티렌-에틸렌-에틸렌-프로필렌-스티렌 블록 공중합체(SEEPS), 및 이들의 변성체를 들 수 있다. 이들 중에서도, 소프트 세그먼트에 불포화 결합을 가지지 않는 SEBS, SEPS, SIBS, SEEPS를 사용하면, 광경화성 조성물의 경화체가 내후성이 우수하게 되므로, 바람직하다.Specific examples of the styrene-based thermoplastic elastomer include styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS), styrene-ethylene -propylene-styrene block copolymer (SEPS), styrene-isobutylene-styrene block copolymer (SIBS), styrene-ethylene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEEPS), and these modified products are mentioned. . Among these, it is preferable to use SEBS, SEPS, SIBS, or SEEPS which do not have an unsaturated bond in the soft segment, since the cured body of the photocurable composition has excellent weather resistance.

본 명세서에 있어서, 스티렌계 열가소성 엘라스토머의 중량평균분자량은, GPC법(Gel Permeation Chromatography; 겔 투과 크로마토그래피)을 사용하고, 또한, 표준 폴리스티렌에 의해 측정된 교정 곡선(검량선)을 바탕으로 측정했다. 본 발명에서는, 중량평균분자량이 20만 미만인 스티렌계 열가소성 엘라스토머를 사용하는 것이, 도포에 적합한 점도로 조정하기 쉬운 점에서 바람직하다.In the present specification, the weight average molecular weight of the styrenic thermoplastic elastomer was measured using the GPC method (Gel Permeation Chromatography), and based on a calibration curve (calibration curve) measured with standard polystyrene. In the present invention, it is preferable to use a styrenic thermoplastic elastomer having a weight average molecular weight of less than 200,000 from the viewpoint of easy adjustment to a viscosity suitable for application.

라디칼 중합개시제: 라디칼 중합개시제로서, 구체적으로는, 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머 및 단관능 고극성 모노머를, 예를 들면, 광선에 의해 광반응시켜 경화시키는, 광 라디칼 중합개시제가 바람직하다. 광경화성 조성물이 광 라디칼 중합개시제를 포함함으로써, 광경화성 조성물에 광선을 조사함으로써, 예를 들면, 도막 형성 대상물 위에 도포한 광경화성 조성물을 광경화시켜, 도막을 형성할 수 있다. 광 라디칼 중합개시제로서는, 벤조페논계, 티옥산톤계, 아세토페논계, 아실포스핀계, 옥심에스테르계, 알킬페논계 등의 광중합개시제를 예로 들 수 있다. 광 라디칼 중합개시제의 첨가량은, 단관능 및 다관능을 포함시킨 전체 모노머의 합계량 100질량부에 대하여, 0.1∼15 질량부가 바람직하고, 0.5∼10 질량부가 보다 바람직하다.Radical polymerization initiator: As a radical polymerization initiator, specifically, a monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, a monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, and a monofunctional high polarity monomer are photoreacted with light, for example. A radical photopolymerization initiator, which is cured by making it, is preferable. When the photocurable composition contains a radical photopolymerization initiator, by irradiating the photocurable composition with a light beam, for example, the photocurable composition applied on the coating film formation object can be photocured to form a coating film. As a radical photopolymerization initiator, photoinitiators, such as a benzophenone type, a thioxanthone type, an acetophenone type, an acyl phosphine type, an oxime ester type, an alkylphenone type, are mentioned. 0.1-15 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total amounts of all the monomers in which monofunctionality and polyfunctionality were included, and, as for the addition amount of a radical photopolymerization initiator, 0.5-10 mass parts is more preferable.

또한, LED 광원으로 경화시키는 경우에는, 300nm 이상의 파장에 흡수를 가지는 알킬페논계 광 라디칼 중합개시제가 바람직하다. 또한, 이들 중에서도 경화 속도의 향상 및 박막경화성의 향상시킬 있으므로, 모르폴린 골격을 가지는 알킬페논계 광 라디칼 중합개시제를 사용하는 것이 특히 바람직하다.In the case of curing with an LED light source, an alkylphenone-based radical photopolymerization initiator having absorption at a wavelength of 300 nm or more is preferable. Moreover, among these, it is especially preferable to use the alkylphenone-type radical photopolymerization initiator which has a morpholine backbone since the improvement of a curing rate and thin film curability can be improved.

그 외의 성분: 본 발명의 광경화성 조성물은, 또한 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위에서, 다양한 첨가제 등의 그 외의 성분을 적절하게 배합할 수 있다. 예를 들면, 실리카, 산화 알루미늄 등의 틱소트로피성 부여제, 올레핀계 오일, 파라핀계 오일 등의 가소제, 실란커플링제나 중합금지제, 소포제(消泡劑), 광안정제, 산화방지제, 대전(帶電)방지제, 충전제 등이 있다.Other components: The photocurable composition of this invention can mix|blend other components, such as various additives, as appropriate in the range which does not deviate from the meaning of this invention. For example, thixotropy imparting agents such as silica and aluminum oxide, plasticizers such as olefinic oils and paraffinic oils, silane coupling agents and polymerization inhibitors, antifoaming agents, light stabilizers, antioxidants, electrification ( There are anti-corrosion agents and fillers.

상기 실시형태는 본 발명의 예시이며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 실시형태의 변경 또는 공지 기술의 부가나, 조합 등을 행할 수 있는 것이며, 이들 기술도 또한 본 발명의 범위에 포함되는 것이다.The above embodiment is an illustration of the present invention, and changes in the embodiment or addition or combination of known techniques can be made without departing from the spirit of the present invention, and these techniques are also included in the scope of the present invention. will become

실시예Example

다음으로, 실시예(비교예)에 기초하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 하기 시료 1∼시료 19의 광경화성 조성물 및 그의 경화체를 제작하고, 이하에 나타내는 평가 방법에 의해 평가했다.Next, based on an Example (comparative example), this invention is demonstrated in more detail. The photocurable composition of the following Samples 1 - Sample 19 and its hardening body were produced, and the evaluation method shown below evaluated.

<시료의 제작><Production of sample>

이하에 나타낸 바와 같이, 시료를 제작했다.As shown below, the sample was produced.

시료 1: 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머로서 라우릴아크릴레이트를, 단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머로서 이소보르닐아크릴레이트를, 단관능 고극성 모노머로서 N-아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈이미드를, 다관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머로서 1,9-노난디올디아크릴레이트를, 준비했다. 다음으로, 전술한 모노머에, 열가소성 엘라스토머로서 엘라스토머A(상품명 「시브스타062T」, SIBS(스티렌-이소부틸렌-스티렌 블록 공중합체), 가부시키가이샤가네카 제조)를 첨가하고, 24시간 교반함으로써, 열가소성 엘라스토머를 전술한 모노머에 용해했다. 이 때의 배합 비율은, 표 1에 나타낸 바와 같다. 그리고, 전술한 모노머와 열가소성 엘라스토머로 이루어지는 「수지 성분」을 100질량부로 했을 때, 광 라디칼 중합개시제인 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논을 4.0질량부 첨가하여 시료 1의 광경화성 조성물을 얻었다.Sample 1: Lauryl acrylate as a monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, isobornyl acrylate as a monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, and N-acryloyloxyethyl as a monofunctional high polarity monomer 1,9-nonanediol diacrylate was prepared for hexahydrophthalimide as a polyfunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer. Next, to the above-mentioned monomer, elastomer A (trade name "Sibstar 062T", SIBS (styrene-isobutylene-styrene block copolymer), manufactured by Ganeka Corporation) as a thermoplastic elastomer was added and stirred for 24 hours. , the thermoplastic elastomer was dissolved in the above-mentioned monomer. The compounding ratio at this time is as showing in Table 1. Then, when the "resin component" consisting of the above-mentioned monomer and thermoplastic elastomer was 100 parts by mass, 4.0 parts by mass of 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, which is a radical photopolymerization initiator, was added to prepare the photocurable composition of Sample 1 got it

얻어진 시료 1의 광경화성 조성물은 후술하는 각종 특성의 측정, 또는 각종 시험을 행하기 위하여, 소정의 기재(基材)에 도포하고, 후술하는 조건으로 자외선을 조사하여 시료 1의 경화체인 탄성 보호 부재를 형성했다.The obtained photocurable composition of Sample 1 is applied to a predetermined substrate in order to measure various properties or perform various tests to be described later, and irradiated with ultraviolet rays under the conditions described below to obtain an elastic protective member that is the cured body of Sample 1 has formed

시료 2∼19: 시료 1의 열가소성 엘라스토머와 각 모노머 등을 이하에 나타내는 표 1 및 표 2에 기재한 종류와 배합(질량부)으로 변경한 점 이외에는 시료 1과 동일하게 행하여 시료 2∼19의 광경화성 조성물을 제작했다. 시료 2∼19의 광경화성 조성물 대해서도, 시료 1과 마찬가지로 자외선을 조사하여 시료 2∼19의 탄성 보호 부재를 형성했다.Samples 2 to 19: Examples of Samples 2 to 19 in the same manner as in Sample 1 except that the thermoplastic elastomer and each monomer of Sample 1 were changed to the types and formulations (parts by mass) shown in Tables 1 and 2 shown below. A chemical composition was prepared. The photocurable compositions of Samples 2 to 19 were also irradiated with ultraviolet rays in the same manner as in Sample 1 to form elastic protective members of Samples 2 to 19.

[표 1][Table 1]

Figure 112021124800901-pct00001
Figure 112021124800901-pct00001

[표 2][Table 2]

Figure 112021124800901-pct00002
Figure 112021124800901-pct00002

[조성]: [Furtherance]:

표 1∼표 2에 나타내는 원료의 상세를, 이미 설명한 것을 제외하고 이하에 나타낸다.The details of the raw materials shown in Tables 1 to 2 are shown below except for those already described.

다관능고극성 모노머로서는, 에톡시화 이소시아누르산 디/트리(메타)아크릴레이트를 사용했다.As the polyfunctional and highly polar monomer, ethoxylated isocyanuric acid di/tri(meth)acrylate was used.

열가소성 엘라스토머에 대해서는 하기와 같다.The thermoplastic elastomer is as follows.

엘라스토머 B: SEPS(스티렌-에틸렌-프로필렌-스티렌 블록 공중합체), 상품명 「셉톤2002」, 가부시키가이샤 크라레 제조Elastomer B: SEPS (styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer), trade name "Septon 2002", manufactured by Crayon Corporation

엘라스토머 C: SEEPS(스티렌-에틸렌-에틸렌-프로필렌-스티렌 블록 공중합체), 상품명 「셉톤4055」, 가부시키가이샤 크라레 제조Elastomer C: SEEPS (styrene-ethylene-ethylene-propylene-styrene block copolymer), trade name "Septon 4055", manufactured by CRALE Corporation

광 라디칼 중합개시제로서는, 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논 이외에 2- 디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온을 사용했다.As the radical photopolymerization initiator, in addition to 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one is used. did.

다관능 폴리머는, 비교를 위해 열가소성 엘라스토머의 대체 성분으로서 사용한 것이며, 하기와 같다.The polyfunctional polymer was used as an alternative component of the thermoplastic elastomer for comparison, and is as follows.

폴리머 A: 말단 메타크릴기 도입 폴리부타디엔(아크릴 당량 2000), 상품명 「TE-2000」, 닛폰소다(日本曹達)가부시키가이샤 제조Polymer A: polybutadiene introduced with a terminal methacrylic group (acrylic equivalent 2000), trade name "TE-2000", manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.

폴리머 B: 말단 메타크릴기 도입 수소화 폴리부타디엔(아크릴 당량 1400), 상품명 「TEAI-1000」, 닛폰소다가부시키가이샤 제조Polymer B: Hydrogenated polybutadiene introduced with a terminal methacrylic group (acrylic equivalent 1400), trade name "TEAI-1000", manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.

그리고, 시료 19는 비교를 위해 성분이 다른 시료와는 완전히 다른 것을 사용하고 있고, 그러므로, 시료 19의 배합란은 *1로 표기했다. 구체적으로는, 열가소성 엘라스토머를 포함하지 않고, 폴리우레탄 메타크릴레이트 수지와 (메타)아크릴 모노머를 주체로 하는 광경화성 조성물인 헨켈 재팬 가부시키가이샤에서 제조한 상품명 「Loctite3523」을 사용했다.Incidentally, for sample 19, for comparison, a sample having a completely different composition from that of the other samples was used. Specifically, the brand name "Loctite3523" manufactured by Henkel Japan Co., Ltd., which is a photocurable composition mainly containing a polyurethane methacrylate resin and a (meth)acrylic monomer without containing a thermoplastic elastomer, was used.

[특성]:[characteristic]:

상기 표 1∼표 2에서는, 얻어진 각 시료의 탄성 보호 부재 또는 광경화성 조성물의 각종 특성에 대해서도 기재하였다. 각 표에 나타낸 특성의 상세한 것은 하기와 같다.In Tables 1 to 2, various properties of the elastic protective member or the photocurable composition of each obtained sample were also described. Details of the properties shown in each table are as follows.

마르텐스 경도(N/mm2:Martens hardness (N/mm 2 :

나노인덴터(ELIONIX 제조, ENT-2100)를 사용하여, 경화체의 나노인덴테이션 시험을 실시했다. 시험편은, 두께 50μm의 폴리이미드 필름에, 두께 100μm가 되도록 광경화성 조성물을 도포하고, 파장 365nm의 LED를 사용하여, 조도 200mW/cm2로 15초간 자외선을 조사함으로써 경화시켜 제작한 경화체를 사용했다. 그리고, 상기 나노인덴터로, 압입 최대하중 0.1mN, 압입 속도 0.01mN/초의 조건으로 경화체의 마르텐스 경도를 측정했다.The nanoindentation test of the hardened body was implemented using the nanoindenter (the ELIONIX make, ENT-2100). For the test piece, a photocurable composition was applied to a polyimide film having a thickness of 50 μm to a thickness of 100 μm, and a cured product prepared by curing by irradiating an ultraviolet ray with an illuminance of 200 mW/cm 2 for 15 seconds using an LED having a wavelength of 365 nm was used. . Then, with the nanoindenter, the Martens hardness of the cured body was measured under the conditions of a maximum indentation load of 0.1 mN and an indentation rate of 0.01 mN/sec.

인장파단신장(%), 인장 강도(MPa), 100% 신장인장응력(MPa) 및 영률(MPa):Tensile Elongation at Break (%), Tensile Strength (MPa), 100% Elongation Tensile Stress (MPa) and Young’s Modulus (MPa):

경화체의 기계적 강도는, JIS K 6251:2010을 일부 변경하여 실시했다. 실리콘 이형(離型) 처리된 폴리에스테르 필름 위에 두께 1mm로 광경화성 조성물을 도포하고, 파장 365nm의 LED를 사용하여 200mW/cm2로 15초간 자외선 조사함으로써, 광경화성 조성물을 경화시켜, 얻어진 경화체를 덤벨형 8호형으로 타발(打拔)하고, 덤벨형 시료의 봉형부에 16mm의 간극을 두고 표시선(marked line)을 부여하고, 시험편을 제작했다. 속도 200mm/분으로 인장 시험을 행하고, 인장파단신장(절단 시 신장), 인장 강도(최대 인장응력), 100% 신장 인장 응력, 영률(탄성율)을 측정했다. 이 때, 시료 6은 두께 1mm에서는 경화가 불충하므로, 두께 100μm로 변경하여, 동일하게 측정했다. 각각 하기 식(1), 식(2), 식(3)에 적용하여, 인장파단신장, 인장 강도, 100% 신장인장응력을 산출했다. 영률은 인장 비례 한도 내의 인장 응력을 편차로 나눔으로써 구하였다.The mechanical strength of the hardening body was implemented by changing a part of JISK6251:2010. A photocurable composition is applied to a thickness of 1 mm on a silicone release-treated polyester film, and the photocurable composition is cured by UV irradiation at 200 mW/cm 2 using an LED having a wavelength of 365 nm for 15 seconds. It punched out by dumbbell type No. 8 type|mold, and the marked line (marked line) was provided with the space|interval of 16 mm in the bar-shaped part of a dumbbell type sample, and the test piece was produced. A tensile test was performed at a speed of 200 mm/min, and the tensile elongation at break (elongation at cut), tensile strength (maximum tensile stress), 100% elongation tensile stress, and Young's modulus (modulus of elasticity) were measured. At this time, since the sample 6 had insufficient curing at a thickness of 1 mm, it was changed to a thickness of 100 µm and measured in the same manner. Tensile breaking elongation, tensile strength, and 100% tensile tensile stress were calculated by applying the following formulas (1), (2), and (3), respectively. The Young's modulus was obtained by dividing the tensile stress within the tensile proportionality limit by the deviation.

TS=Fm/S…식(1)TS=Fm/S… Formula (1)

Eb=(L1-L0)/L0×100…식(2)Eb=(L1-L0)/L0×100… Equation (2)

TS100=F100/S…식(3)TS100=F100/S… Equation (3)

TS: 인장 강도(MPa)TS: Tensile strength (MPa)

Fm: 최대 인장력(N)Fm: Maximum tensile force (N)

S: 시험편의 초기 단면적(mm2 S: Initial cross-sectional area of the specimen (mm 2

Eb: 인장파단신장(%)Eb: Elongation at break (%)

L0: 초기의 표시선간 거리(mm)L0: Initial distance between display lines (mm)

L1: 파단 시의 표시선간 거리(mm)L1: Distance between marks at break (mm)

TS100: 100% 신장인장응력(MPa)TS100: 100% tensile stress (MPa)

F100: 100% 신장인장력(N)F100: 100% tensile tensile force (N)

박리력(N/m):Peel force (N/m):

JIS K 6852-2:1999의 180도 박리 시험 방법을 일부 변경하여 측정했다. 두께 50μm의 폴리이미드 필름, 또는 두께 1mm의 유리 위에 두께 1mm로 광경화성 조성물을 도포하고, 파장 365nm의 LED를 사용하여 200mW/cm2로 15초간 자외선 조사함으로써 경화시킨 후, 폭 25mm로 잘라내고, 박리 속도 300mm/분, 박리 각도 180도로 박리함으로써 박리력(접착 강도)을 측정했다. 이 때, 시료 6는 두께 1mm에서는 경화가 불충분하므로, 두께 100μm로 변경하여, 동일하게 측정했다.It was measured by partially changing the 180 degree peeling test method of JISK6852-2:1999. A polyimide film having a thickness of 50 μm, or a photocurable composition having a thickness of 1 mm is applied on a glass having a thickness of 1 mm, and cured by UV irradiation at 200 mW/cm 2 using an LED having a wavelength of 365 nm for 15 seconds, and then cut to a width of 25 mm, Peeling force (adhesive strength) was measured by peeling at a peeling rate of 300 mm/min and a peeling angle of 180 degrees. At this time, since the sample 6 had insufficient curing at a thickness of 1 mm, it was changed to a thickness of 100 µm and measured in the same manner.

투습도(g/m2·24hr): Water vapor permeability (g/m 2 ·24hr):

JIS Z0208:1976에 따라, 실리콘 이형 처리된 폴리에스테르 필름 위에 두께 100μm로 수지 조성물을 도포하고, 파장 365nm의 LED를 사용하여, 200mW/cm2로 15초간 자외선 조사함으로써 경화시킨 경화체의 투습도(수증기 투과율)를, 온도 40℃, 상대 습도 90%RH에서 측정했다. 투습도의 측정 중에 시료의 중량 감소가 있는 경우에는 감소분을 보정했다.According to JIS Z0208: 1976, a resin composition with a thickness of 100 μm is applied on a polyester film subjected to silicone release treatment, and using an LED having a wavelength of 365 nm, UV light is irradiated at 200 mW/cm 2 for 15 seconds. ) was measured at a temperature of 40°C and a relative humidity of 90%RH. When there was a decrease in the weight of the sample during the measurement of the water vapor transmission rate, the decrease was corrected.

점도(mPa·s): Viscosity (mPa s):

미경화 시의 광경화성 조성물의 점도를 측정했다.The viscosity of the photocurable composition at the time of non-hardening was measured.

회전식 점도계(Bohlin Instruments사 제조, Bohlin V88 Viscometer, 콘 플레이트 「CP5°/30」)를 사용하여, 23℃, 107rpm에서의 점도를 측정했다.Viscosity in 23 degreeC and 107 rpm was measured using the rotational viscometer (The Bohlin Instruments make, Bohlin V88 Viscometer, cone plate "CP5°/30").

보관 안정성:Storage stability:

보관 안정성은, 광경화성 조성물을 25℃의 환경 하에서 2주일 정치(靜置)했을 때의 성상(性狀)을 나타낸 것이다. 육안 관찰에 의해, 침전이나 분리를 확인할 수 없는 것을 「A」, 침전이나 분리를 확인할 수 있는 것을 「B」로 각각 표시했다.Storage stability shows the properties when the photocurable composition is left still for 2 weeks in an environment of 25°C. Those in which precipitation or separation could not be confirmed by visual observation were denoted by "A", and those in which precipitation or separation could be confirmed were denoted by "B", respectively.

[시험]:[exam]:

상기 표 1∼표 2에서는, 얻어진 각 시료의 탄성 보호 부재에 대하여 이하에서 설명하는 각종 시험을 행하였다. 그리고, 그 결과에 대하여 각 표에 나타내었다.In the said Tables 1 - 2, various tests demonstrated below about the elastic protection member of each obtained sample were done. And the results are shown in each table.

내굴곡 시험(배선): Bend resistance test (wiring):

플렉시블 기판과 리지드 기판의 접속 부분에 설치한 탄성 보호 부재에 의한 배선의 보호 상태를 조사하기 위하여 하기 내굴곡성 시험을 행하였다. 도 2에서 나타낸 바와 같이, 플렉시블 기판과 리지드 기판의 경계 부분에, 리지드 기판의 선단으로부터 비어져 나온 부분의 안길이 방향의 길이 400∼800 μm, 리지드 기판의 선단의 단면을 덮는 높이 50∼100 μm의 범위에 제트 디스펜서로 광경화성 조성물을 도포하고, 파장 365nm의 LED를 사용하여 200mW/cm2로 15초간 자외선 조사하여 광경화성 조성물을 경화했다. 제트 디스펜서로 도포할 수 없었던 것은 에어식 디스펜서를 사용하여 동일하게 도포했다. 이와 같이 하여 내굴곡 시험용 시험편을 제작했다. 그리고, 광경화성 조성물을 도포한 플렉시블 기판의 상기 안길이 방향으로 형성되어 있는 선폭 10μm의 구리 배선 10개를 평가 대상으로 했다.In order to investigate the protection state of the wiring by the elastic protection member provided in the connection part of a flexible board|substrate and a rigid board|substrate, the following bending resistance test was done. As shown in Fig. 2, at the boundary portion between the flexible substrate and the rigid substrate, the length of the portion protruding from the tip of the rigid substrate in the depth direction is 400 to 800 μm, and the height of 50 to 100 μm covering the end face of the tip of the rigid substrate is 50 to 100 μm. The photocurable composition was applied with a jet dispenser in the range of , and the photocurable composition was cured by UV irradiation at 200mW/cm 2 for 15 seconds using an LED having a wavelength of 365nm. Those that could not be applied with a jet dispenser were similarly applied using an air dispenser. In this way, the test piece for a bending resistance test was produced. And 10 copper wirings with a line|wire width of 10 micrometers formed in the said depth direction of the flexible board|substrate which apply|coated the photocurable composition were made into evaluation object.

다음으로, 도 3에서 나타낸 바와 같이, 플렉시블 기판의 선단에 200g의 추(W)를 부착하고, 경화체가 내측으로 되도록, 리지드 기판 측을 파지 부재(H)로 파지하여 180도 구부린 후, 원상태로 되돌리는 동작을 행하고, 이것을 1사이클로 했을 때 100사이클 후의 배선에 보이는 모습을 관찰했다.Next, as shown in FIG. 3, attach a 200 g weight (W) to the tip of the flexible substrate, hold the rigid substrate side with a holding member (H) so that the hardening body is inside, and bend it 180 degrees, then return to the original state A reversing operation was performed, and when this was set to 1 cycle, the appearance of the wiring after 100 cycles was observed.

그리고, 어느 하나의 배선에 파단이 보이는 경우를 「B」로 평가하고, 배선에 형성된 파단이 보이지 않을 경우를 「A」로 각각 평가했다.And the case where a fracture|rupture was seen in any one wiring was evaluated as "B", and the case where the fracture|rupture formed in the wiring was not seen was evaluated as "A", respectively.

내굴곡 시험(재료): Flexural Resistance Test (Material):

탄성 보호 부재의 내굴곡성을 조사하기 위해 내굴곡성 시험을 행하였다. 두께 50μm의 폴리이미드 필름에, 두께 100μm가 되도록 광경화성 조성물을 도포하고, 파장 365nm의 LED를 사용하여 200mW/cm2로 15초간 자외선 조사함으로써 경화시켰다. 폴리이미드 필름마다 경화체를 20mm×100mm로 잘라내고, 경화체가 내측으로 되도록 하고, 굴곡각 180도, 굴곡 반경 1mm이하로 접어 구부린 후, 경화체가 외측으로 되도록 반대 측에 굴곡각 180도, 굴곡 반경 1mm 이하로 구부린 상태를 1사이클로 하고, 10사이클 후의 굴곡 부분의 모습을 육안에 의해 관찰했다.In order to investigate the bending resistance of the elastic protective member, a bending resistance test was conducted. The photocurable composition was apply|coated to the polyimide film of thickness 50 micrometers so that it might become 100 micrometers in thickness, and it hardened by UV irradiation at 200 mW/cm< 2 > for 15 second using the LED of wavelength 365nm. For each polyimide film, the cured body is cut to 20 mm × 100 mm, the cured body is inside, and the bending angle is 180 degrees and the bending radius is 1 mm or less, and then bent to the opposite side so that the cured body is outward, 180 degrees bending angle, 1 mm bending radius The state bent below was made into 1 cycle, and the state of the bending part after 10 cycles was observed visually.

그리고, 탄성 보호 부재가 폴리이미드 필름으로부터 박리하지 않고 탄성 보호 부재에 파단이 생기지 않는 경우를 「A」, 폴리이미드 필름으로부터 박리는 하였지만 파단이 보이지 않은 경우를 「B」, 박리가 생겨 파단이 보인 경우를 「C」로 각각 평가했다.The case where the elastic protective member did not peel from the polyimide film and breakage did not occur in the elastic protective member was “A”; Each case was evaluated as "C".

UV-LED 경화 시험: UV-LED Curing Test:

두께 50μm의 폴리이미드 필름에, 두께 100μ로 되도록 광경화성 조성물을 도포하고, 파장 365nm의 LED를 사용하여 200mW/cm2로 15초간 자외선 조사함으로써 경화시켰다. 경화체의 대기 측의 면을 손가락으로 만져서 전이물(轉移物)을 확인할 수 없는 경우를 「A」, 전이물을 인정한 경우를 「B」로 각각 평가했다.The photocurable composition was apply|coated to the polyimide film of thickness 50 micrometers so that it might become 100 micrometers thick, and it hardened by UV irradiation at 200 mW/cm< 2 > for 15 second using the LED of wavelength 365nm. The case where the surface on the atmospheric side of the hardening body was touched with a finger and a transition material could not be confirmed was evaluated as "A", and the case where the transition material was recognized was evaluated as "B", respectively.

제트 디스펜서 도포 시험: Jet Dispenser Application Test:

광경화성 조성물의 제트 디스펜서에 의한 도포 적정을 조사하여 평가했다. Nordson EFD에서 제조한 제트 디스펜서 Pico Pulse를 사용하여, 노즐 온도 40℃로 각시료의 광경화성 조성물을 도포할 때의 도포 적정(도포성)을 확인하고, 평가했다.The application titration by a jet dispenser of the photocurable composition was investigated and evaluated. Using the jet dispenser Pico Pulse manufactured by Nordson EFD, the application|coating titration (applicability) at the time of apply|coating the photocurable composition of each sample at the nozzle temperature of 40 degreeC was confirmed and evaluated.

이 제트 디스펜서로 도포할 수 있는 경우를 「A」, 도포할 수 없는 경우를 「B」로 각각 평가했다.The case where it could apply|coat with this jet dispenser was evaluated as "A", and the case where it could not apply|coat was evaluated as "B", respectively.

리워크 시험: Rework Test:

탄성 보호 부재의 기판으로부터의 박리의 용이성을 평가했다. 상기 「박리력」의 측정 시에, 폴리이미드 필름으로부터 탄성 보호 부재가 박리되는 모습을 확인하고, 평가했다.Ease of peeling of the elastic protective member from the substrate was evaluated. At the time of the measurement of the said "peel force", the mode that an elastic protective member peels from a polyimide film was confirmed and evaluated.

폴리이미드 필름으로부터 탄성 보호 부재가 조각으로 끊어지지 않고 박리한 경우를 「A」, 탄성 보호 부재가 조각으로 끊어진 경우를 「B」로 각각 평가했다.The case where the elastic protective member was peeled from the polyimide film without breaking into pieces was evaluated as "A", and the case where the elastic protective member broke into pieces was evaluated as "B", respectively.

절연신뢰성 시험: Insulation Reliability Test:

탄성 보호 부재가 안정적으로 배선을 보호할 수 있는 지의 여부를, 탄성 보호 부재로 보호된 배선에 발생하는 마이그레이션의 유무와 배선에 발생하는 변색의 유무로부터 평가했다.Whether or not the elastic protective member can stably protect the wiring was evaluated from the presence or absence of migration occurring in the wiring protected by the elastic protection member and the presence or absence of discoloration occurring in the wiring.

배선 폭 0.318mm, 배선 간격 0.318mm의 구리 배선을 표면에 가지는 유리 에폭시 기판 상에, 두께 100μm로 되도록 광경화성 조성물을 도포하고, 파장 365nm의 LED를 사용하여 200mW/cm2로 15초간 자외선 조사함으로써 경화시켰다. 85℃, 85%RH에서 50V 인가하고, 300시간 후의 마이그레이션 유무를 확인했다.By applying a photocurable composition to a thickness of 100 μm on a glass epoxy substrate having copper wires having a wiring width of 0.318 mm and a wiring spacing of 0.318 mm on the surface, and irradiating with ultraviolet rays at 200 mW/cm 2 for 15 seconds using an LED having a wavelength of 365 nm. hardened. 50V was applied at 85 degreeC and 85%RH, and the presence or absence of migration was confirmed after 300 hours.

배선에 마이그레이션이 없고, 변색도 없는 경우를 「A」, 마이그레이션은 없었지만 변색이 생긴 경우를 「B」, 마이그레이션이 발생한 경우를 「C」로 각각 평가했다.The case where there was no migration and no discoloration in the wiring was evaluated as "A", the case where there was no migration but discoloration occurred was evaluated as "B", and the case where migration occurred was evaluated as "C", respectively.

<시험 결과의 고찰><Consideration of test results>

상기 내굴곡 시험(배선)의 결과로부터, 시료 1∼시료 6에 대해서는 배선에 파단이 생기지 않고, 평가가 「A」인 것에 대하여, 시료 7∼시료 19에 대해서는 배선에 파단이 생기고, 평가가 「B」였다. 그리고, 배선에 파단이 생기지 않은 시료 1∼시료 6에 대해서는, 그 외의 모든 시험, 즉 내굴곡 시험(재료), UV-LED 경화 시험, 제트 디스펜서 도포 시험, 리워크 시험, 절연신뢰성 시험 모두 평가가 「A」로 되었다. 그런 한편, 배선에 파단이 생긴 시료 7∼시료 19의 몇 개에 대해서는, 그 이외의 시험에 대해서도 「B」나 「C」의 평가로 되었다.From the results of the bending resistance test (wiring), no breakage occurred in the wiring for Samples 1 to 6, and for the sample 7 to Sample 19, the wiring did not break, and the evaluation was "A". It was B. In addition, for Samples 1 to 6 in which no breakage occurred in the wiring, all other tests, i.e., bending resistance test (material), UV-LED curing test, jet dispenser coating test, rework test, and insulation reliability test were all evaluated. It became "A". On the other hand, for some of Samples 7 to 19 in which the wiring was broken, evaluations of "B" or "C" were made for other tests as well.

시료 1∼시료 6에 대해서는, 그 모두가, 마르텐스 경도에서는 0.35∼3.0 N/mm2의 범위 내에 있고, 인장파단신장에서는 100% 이상인 것을 알았다.For Samples 1 to 6, it was found that all of them were in the range of 0.35 to 3.0 N/mm 2 in Martens hardness and 100% or more in tensile elongation at break.

10: 전자 기판
12: 리지드 기판
12a: 편광판
12b: 제1 투명 전극 부착 유리 기판
12c: 액정층
12d: 제2 투명 전극 부착 유리 기판
12e: 편광판
12f: 백라이트 유닛
12g: 단면
14: 플렉시블 기판
15: 이방도전성 접착제
16: 절곡부
18: 탄성 보호 부재
40: 돌출 폭
W: 추
H: 파지 부재
10: electronic board
12: Rigid substrate
12a: polarizer
12b: Glass substrate with 1st transparent electrode
12c: liquid crystal layer
12d: Glass substrate with 2nd transparent electrode
12e: polarizer
12f: backlight unit
12g: single side
14: flexible substrate
15: anisotropic conductive adhesive
16: bend
18: elastic protection member
40: protrusion width
W: weight
H: no gripping

Claims (6)

리지드(rigid) 기판과,
상기 리지드 기판의 단부(端部)로부터 연장되고 도통(導通) 가능하게 접속되는 플렉시블 기판과,
상기 리지드 기판으로부터 상기 플렉시블 기판에 이르는 배선을 구비하고,
상기 플렉시블 기판은, 상기 리지드 기판의 단부로부터 돌출하고 상기 리지드 기판의 한쪽 면 측을 향하여 구부러진 절곡부를 가지는 전자 기판에 있어서,
상기 리지드 기판의 단부로부터 상기 절곡부에 이르는 상기 리지드 기판과 상기 플렉시블 기판의 경계 부분에서, 상기 플렉시블 기판 중 적어도 한쪽 면에 탄성 보호 부재가 설치되고,
상기 탄성 보호 부재는, 나노인덴테이션 시험(nanoindentation test)으로 측정되는 마르텐스 경도(Martens hardness)가 0.35∼3.0 N/mm2이며, 인장파단신장(tensile breaking elongation)이 100% 이상인, 전자 기판.
a rigid substrate;
a flexible substrate extending from an end of the rigid substrate and connected so as to be conductive;
A wiring from the rigid substrate to the flexible substrate is provided;
The flexible substrate is an electronic substrate having a bent portion that protrudes from an end of the rigid substrate and is bent toward one side of the rigid substrate,
An elastic protection member is provided on at least one surface of the flexible substrate at a boundary portion between the rigid substrate and the flexible substrate extending from the end of the rigid substrate to the bent portion,
The elastic protective member has a Martens hardness measured by a nanoindentation test of 0.35 to 3.0 N/mm 2 , and a tensile breaking elongation of 100% or more, an electronic substrate .
제1항에 있어서,
상기 탄성 보호 부재가, 상기 리지드 기판과 상기 플렉시블 기판의 접촉면에 교차하는 상기 리지드 기판의 단면(端面) 중 적어도 일부를 덮는, 전자 기판.
According to claim 1,
The electronic substrate, wherein the elastic protection member covers at least a part of an end surface of the rigid substrate intersecting the contact surfaces of the rigid substrate and the flexible substrate.
제1항에 있어서,
상기 절곡부를 협지하고, 상기 리지드 기판과는 반대 측에 위치하는 상기 플렉시블 기판이 상기 리지드 기판에 대하여 180도 구부러져 있는, 전자 기판.
According to claim 1,
The electronic substrate, wherein the flexible substrate positioned on the opposite side to the rigid substrate is bent by 180 degrees with respect to the rigid substrate, sandwiching the bent portion.
제1항에 있어서,
상기 플렉시블 기판은, 15∼200 μm의 두께를 가지는 수지 필름이며,
상기 플렉시블 기판을 구부렸을 때, 상기 플렉시블 기판의 구부러진 내면에, 상기 탄성 보호 부재가 설치되어 있는, 전자 기판.
According to claim 1,
The flexible substrate is a resin film having a thickness of 15 to 200 μm,
The electronic board with which the said elastic protection member is provided in the curved inner surface of the said flexible board|substrate when the said flexible board|substrate is bent.
전자 기판에 도포한 후에 광을 조사(照射)하여 경화시킴으로써, 탄성 보호 부재를 형성하는 광경화성 조성물로서,
단관능 지환식 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와, 단관능 지방족 (메타)아크릴산 에스테르 모노머와, 열가소성 엘라스토머와, 라디칼 중합개시제를 포함하고,
상기 경화 후의 경화체는, 나노인덴테이션 시험으로 측정되는 마르텐스 경도가, 0.35∼3.0 N/mm2이며, 인장파단신장이 100% 이상인, 광경화성 조성물.
A photocurable composition for forming an elastic protective member by curing by irradiating light after application to an electronic substrate, the photocurable composition comprising:
A monofunctional alicyclic (meth)acrylic acid ester monomer, a monofunctional aliphatic (meth)acrylic acid ester monomer, a thermoplastic elastomer, and a radical polymerization initiator,
The cured body after curing has a Martens hardness measured by a nanoindentation test of 0.35 to 3.0 N/mm 2 , and a tensile elongation at break of 100% or more, a photocurable composition.
제5항에 있어서,
미경화 시의 점도가, 10∼5000 mPa·s의 범위인, 광경화성 조성물.
6. The method of claim 5,
The photocurable composition whose viscosity at the time of uncuring is the range of 10-5000 mPa*s.
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